KR20120049025A - 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 - Google Patents

컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 Download PDF

Info

Publication number
KR20120049025A
KR20120049025A KR1020100110578A KR20100110578A KR20120049025A KR 20120049025 A KR20120049025 A KR 20120049025A KR 1020100110578 A KR1020100110578 A KR 1020100110578A KR 20100110578 A KR20100110578 A KR 20100110578A KR 20120049025 A KR20120049025 A KR 20120049025A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
formula
group
substituted
Prior art date
Application number
KR1020100110578A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101453771B1 (ko
Inventor
이창민
이길성
김재현
김준석
조상원
한규석
Original Assignee
제일모직주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제일모직주식회사 filed Critical 제일모직주식회사
Priority to KR1020100110578A priority Critical patent/KR101453771B1/ko
Priority to CN201110185304.6A priority patent/CN102466972B/zh
Priority to TW100125281A priority patent/TWI509351B/zh
Priority to US13/238,424 priority patent/US8303862B2/en
Publication of KR20120049025A publication Critical patent/KR20120049025A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101453771B1 publication Critical patent/KR101453771B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/23Photochromic filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

본 발명은 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터에 관한 것으로, 상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위 및 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; (B) 아크릴계 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 안료; 및 (E) 용제를 포함한다.
[화학식 1]
Figure pat00024

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)
[화학식 2]
Figure pat00025

(상기 화학식 2에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)

Description

컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR COLOR FILTER AND COLOR FILTER USING SAME}
본 발명은 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터에 관한 것이다.
컬러필터는 액정표시장치(LCD), 카메라의 광학필터 등에 사용되는 것으로서, 3종 이상의 색상으로 착색된 미세한 영역을 고체촬영소자 또는 투명 기판 상에 도포하여 제조된다.  이와 같은 착색 박막은 통상 염색법, 인쇄법, 전착법, 안료 분산법 등에 의하여 형성된다.  
염색법의 경우, 기판 상에 미리 젤라틴 등의 천연 감광성 수지, 아민 변성 폴리비닐 알코올, 아민 변성 아크릴 수지 등의 염색 기재를 가진 화상을 형성시킨 후, 직접염료 등의 염료로 염색하여 착색 박막을 형성하지만, 다색 박막을 동일 기판 상에 형성시키기 위해서는 색상을 변화시킬 때마다 방염가공을 해야 하기 때문에, 공정이 매우 복잡하고, 시간이 지연되는 단점이 있다.  또한, 일반적으로 사용하는 염료 및 수지 자체의 선명성과 분산성은 양호하나, 내광성, 내습성 및 가장 중요한 특성인 내열성이 나쁘다는 단점이 있다.  예컨대, 염료로서 아조계 화합물과 아지드계 화합물을 사용하고 있지만, 안료형에 비하여 내열성 및 내구성이 떨어지는 단점이 있다.  
인쇄법에서는 열경화성 또는 광경화성 수지에 안료를 분산시킨 잉크를 인쇄한 후, 열 또는 광으로 경화시킴으로써 착색 박막이 형성된다.  인쇄법은 다른 방법에 비하여 재료비를 절감할 수 있지만, 고도로 정밀하고 세밀한 화상 형성이 곤란하고, 박막층이 균일하지 못하다는 단점이 있다.  대한민국 공개특허공보 제1995-7003746호에서는 잉크젯 방식을 이용한 컬러필터의 제조방법을 제안하고 있는데, 섬세하고 정확한 색소의 인쇄를 이하여 노즐에서 분사되는 컬러필터용 감광성 수지 조성물이 염료형으로 되어 있기 때문에, 염색법과 마찬가지로 내구성 및 내열성이 떨어지는 단점이 있다.  
이와 달리, 대한민국 공개특허공보 제1993-7000858호 및 대한민국 공개특허공보 제1996-0029904호에서는 전기침전법을 이용한 전착법을 제안하고 있는데, 전착법은 정밀한 착색 박막을 형성할 수 있고, 안료를 사용하므로 내열성 및 내광성이 우수한 특성을 가지고 있으나, 향후 화소크기 및 전극패턴이 더욱 세밀하게 되면, 양쪽 끝에 전기저항으로 인한 착색 얼룩이 나타나거나 착색 박막의 두께가 두꺼워져서, 고도의 정밀성을 요구하는 컬러필터의 제조에 적용하기는 곤란하다는 단점이 있다.  
한편, 안료 분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 도포, 노광, 현상 및 열경화시키는 일련의 공정을 반복함으로써 착색 박막이 형성되도록 하는 방법이다.  안료 분산법은 컬러필터의 가장 중요한 성질인 내열성 및 내구성을 향상시킬 수 있고, 필름의 두께를 균일하게 유지할 수 있다는 장점을 가지고 있다.  예컨대, 대한민국 공개특허공보 제1992-7002502호, 대한민국 공개특허공보 제1995-7000359호, 대한민국 특허공고공보 제1994-0005617호 및 대한민국 공개특허공보 제1995-0011163호 등에서는 안료 분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물의 제조방법이 제안되고 있다.  
안료 분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 바인더 수지, 광중합성 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제 및 기타 첨가제 등으로 이루어진다.  상기 바인더 수지로서, 예컨대 일본 공개특허공보 평7-140654호 및 일본 공개특허공보 평10-254133호에서는 카르복시기 함유 아크릴계 공중합체를 사용하고 있다.  
컬러필터의 제조 공정은 많은 약품 처리 단계를 포함한다.  이러한 조건에서 형성된 패턴을 유지하기 위해서는 현상 마진을 확보하면서도 우수한 내화학약품성으로 컬러필터의 수율 향상을 기할 수 있는 컬러필터용 감광성 수지가 요구되고 있다.  
특히 기존의 컬러 LCD는 통상 컬러 화상을 표시하기 위한 컬러 필터 기판을 TFT이 배치되는 구동용 기판과는 다르게 제작하고, 이 컬러필터 기판을 그 구동용 기판과 접합하여 제조하고 있다.  그러나 이러한 방식에서는 접합 정밀도가 낮아 차광층의 폭을 크게 만들어야 했다.  이 때문에 개구율(빛을 투과하는 개구부의 비율)을 높이는 것이 곤란하였다.  또, 근래 LCD의 유리(glass) 기판 및 LCD 화면이 대형화 되면서, 액정을 진공 주입시 액정 조성물이 기판의 전면에 배치되는 시간이 길어지고 있다.  이 때문에 새로운 기술로서 실(seal)재를 인쇄하고 액정을 적하함으로써 접합 시간을 현격히 단축하는 제조 방법이 제안되고 있지만, 이와 같은 방법을 채용한 경우는 정렬 정밀도가 저하된다는 문제가 있었다.  
이에 대해 TFT 방식 컬러 LCD의 구동용 TFT 어레이 기판 상에 컬러필터를 형성하는 방법이 제안되고 있는데, 이에 따라 대면의 컬러필터 기판이 불필요해지면서 대면은 투명 전극을 단순한 스퍼터링(sputtering)으로 형성한 후, 두 기판을 접합하여 제조함으로써 정렬을 용이하게 하고 개구율을 높일 수 있는 등의 장점이 있다.  
그러나 TFT 어레이 기판에 컬러필터를 형성하는 경우에는 통상의 포지티브형 감광성 수지 조성물을 사용한 포토리소그래피 방식으로 픽셀 전극을 컬러필터 상에 형성하므로, 전극 형성 이후 감광성 수지막을 박리할 필요가 있다.  즉 투명 전극막을 컬러필터의 착색 픽셀 위에 형성하고, 그 투명 전극막 상에 포지티브형 감광성 수지 조성물을 도포하고, 그 위에 패턴, 노광 및 현상 공정을 하여 픽셀 전극을 형성한다.  픽셀 전극을 형성한 후 픽셀 전극 상에 잔존하고 있는 감광성 수지 막을 박리액으로 제거하므로, 감광성 수지 조성물은 박리액에 대한 내성이 필요하다.  종래의 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 이와 같은 박리액 내성이 약하다는 문제가 있었다.  
따라서, 종래는 컬러필터 위에 박리액 내성이 있는 투명막(픽셀 보호막)을 형성하고 픽셀 전극을 형성하였다.  또 픽셀 보호막을 도포하지 않은 방법으로는 박리액의 컬러필터 중에 미치게 하는 영향을 경감하기 위해 박리액을 저온 조건 하에서 시간을 길게 처리하였다.  
그러나 이러한 종래의 방법에서는 공정 수나 시간이 늘어나게 되어 양품화율이 저하되거나 생산효율이 저하되는 문제가 있었다.  이러한 문제를 해소하도록 COA 방식의 착색층을 형성하는 경화 피막의 박리액에 대한 팽창율이 5 % 이하인 감방사선성 조성물을 이용한 컬러필터가 제안되었다.  또 열중합 가교제에 다관능지환식 에폭시 화합물을 사용하고, 열중합 개시제로서 벤조페논계 과산화물을 사용하여 열중합 가교효과를 높인 컬러필터가 제안되었다.  이에 따르면 저온 및 단시간에 경화가 가능해져 내구성이 우수하고 밀착성이 양호한 컬러필터가 얻어질 수 있다.  그러나 최근에는 기존 보다 고화질 대화면의 요구가 증가하고 있으므로, 개구율이 높고 고성능의 컬러필터의 개발이 요망되고 있는 실정이다.
본 발명의 일 측면은 내열성 및 내화학성이 우수한 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.  
본 발명의 다른 측면은 상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 이용한 컬러필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면은, (A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위 및 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; (B) 아크릴계 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 안료; 및 (E) 용제를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 제공한다.  
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 식에서, X1은 H 또는 탄소수 1 내지 20 알킬기이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20 알킬, 탄소수 5 내지 20 아릴, 탄소수 7 내지 20 알킬아릴, 탄소수 3 내지 20 시클로알킬 또는 탄소수 5 내지 20 멀티시클로알킬이다. p는 0 내지 20의 정수이다.
 [화학식 2]
Figure pat00002
상기 식에서, R1은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
R2는 카르복시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 COR'COOH(여기서, R'은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕실렌기임)이다.
 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 함량은 상기 아크릴계 공중합체 (A) 전체 중에서 0.05 내지 70 중량%일 수 있으며, 상기 화학식 2로 표시 표시되는 구조단위 함량은 5중량% 내지 40중량% 일 수 있다.
상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 (A) 상기 화학식 1의 구조단위 및 상기 화학식 2를 포함하는 아크릴계 공중합체 1 내지 60 중량%; (B) 상기 아크릴계 광중합성 단량체 0.5 내지 20 중량%; (C) 상기 광중합 개시제 0.1 내지 10 중량%; (D) 상기 안료 0.1 내지 40 중량%; 및 잔부의 (E) 상기 용제의 함량비로서 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체(A)의 중량평균분자량(Mw)은 3,000 내지 150,000일 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체(A)의 산가는 20 내지 180 mgKOH/g일 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체(A)는 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.  
[화학식 2-1]
Figure pat00003
[화학식 2-2]
Figure pat00004
[화학식 2-3]
Figure pat00005
[화학식 2-4]
Figure pat00006
[화학식 2-5]
Figure pat00007
상기 화학식 2-1 내지 2-5에서,
R6, R7, R9, R11, R13 및 R15는 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
R8은 수소 원자, 할로겐 원자 또는 히드록시기이고,
R10은 카르복시기 또는 CONHR''(여기서, R''은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기임)이고, R12는 카르복시기이고, R10 및 R12는 서로 융합되어 고리를 이루고,
R14는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고,
R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고,
m은 1 내지 5의 정수이다.
상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나 이상의 함량은 상기 아크릴계 공중합체(A) 총량에 대하여 5 내지 80 중량%일 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 분산제; 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 갖는 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 첨가제를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 측면은, 상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공한다.  
기타 본 발명의 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 내열성 및 내화학성이 우수하여, 고개구율 및 고명암비 구현을 위하여 컬러필터를 TFT 어레이 기판에 형성하는 경우에 홀 및 패턴성이 뛰어나 유용하게 사용될 수 있다.
이하에서 본 발명의 구현예를 보다 상세하게 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.  
본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, “알킬기”란 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 의미하고, "아릴기"란 탄소수 6 내지 30의 아릴기를 의미하고, “아릴알킬기”란 탄소수 7 내지 30의 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 탄소수 1 내지 20의 알킬렌기를 의미하고, “알콕실렌기”란 탄소수 1 내지 20의 알콕실렌기를 의미한다.  
또한 본 명세서에서 “치환된”이란, 별도의 정의가 없는 한, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br, 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 이미노기(=NH, =NR, R은 탄소수 1 내지 10의 알킬기임), 아미노기(-NH2, -NH(R'), -N(R")(R"'), R' 내지 R"'는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 알킬기임), 아미디노기, 히드라진 또는 히드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 30의 헤테로아릴기 및 치환 또는 비치환 탄소수 2 내지 30의 헤테로사이클로알킬기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.  
또한, 본 명세서에서 헤테로란, 별도의 정의가 없는 한, 탄소 원자가 N, O, S 및 P로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 원자로 치환된 것을 의미한다.
 
본 발명의 일 구현예에 따른 컬러필터용 감광성 수지 조성물은, (A) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위 및 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하는 아크릴계 공중합체; (B) 아크릴계 광중합성 단량체; (C) 광중합 개시제; (D) 안료; 및 (E) 용제를 포함한다.
Figure pat00008
상기 식에서, X1은 H 또는 탄소수 1 내지 20 알킬기이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20 알킬, 탄소수 5 내지 20 아릴, 탄소수 7 내지 20 알킬아릴, 탄소수 3 내지 20 시클로알킬 또는 탄소수 5 내지 20 멀티시클로알킬이다. p는 0 내지 20의 정수이다.
Figure pat00009
상기 식에서, R1은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
R2는 카르복시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 COR'COOH(여기서, R'은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕실렌기임)이다.
또한, 기타 첨가제(F)를 더욱 포함할 수 있다.  
상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 내열성 및 내화학성이 우수하여, 고휘도 및 고명암비 및 홀 및 패턴 형성이 훌륭하여 컬러필터를 TFT 어레이 기판에 형성하는 경우에 유용하게 사용될 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 포함되는 각 성분에 대하여 구체적으로 살펴본다.
(A) 아크릴계 공중합체
상기 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위 및 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함한다.
[화학식 1]
Figure pat00010
상기 식에서, X1은 H 또는 탄소수 1 내지 20 알킬기이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20 알킬, 탄소수 5 내지 20 아릴, 탄소수 7 내지 20 알킬아릴, 탄소수 3 내지 20 시클로알킬 또는 탄소수 5 내지 20 멀티시클로알킬이다. p는 0 내지 20의 정수이다.
상기 화학식 1의 구조단위는 중합 사슬이 2 곳으로 형성된 것이다.
본 발명의 다른 구현예에서, 상기 아크릴계 공중합체 내에서 화학식 1의 구조단위의 함량은 단량체 총량의 0.05 내지 70 중량%로 포함될 수 있고, 구체적으로는 0.1 내지 50 중량%의 함량으로 포함될 수 있다.  상기 화학식 1로 표시되는 구조단위가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 패턴성을 가질 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00011
상기 식에서, R1은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
R2는 카르복시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 COR'COOH(여기서, R'은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕실렌기임)이다.
본 발명의 다른 구현예에서, 상기 아크릴계 공중합체 내에서 화학식 2의 구조단위의 함량은 단량체 총량의 5 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.  상기 화학식 2로 표시되는 구조단위가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 현상성을 가질 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체는 하기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.
[화학식 2-1]
Figure pat00012
[화학식 2-2]
Figure pat00013
[화학식 2-3]
Figure pat00014
[화학식 2-4]
Figure pat00015
[화학식 2-5]
Figure pat00016
상기 화학식 2-1 내지 2-5에서,
R6, R7, R9, R11, R13 및 R15는 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
R8은 수소 원자, 할로겐 원자 또는 히드록시기이고,
R10은 카르복시기 또는 CONHR''(여기서, R''은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기임)이고, R12는 카르복시기이고, R10 및 R12는 서로 융합되어 고리를 이루고,
R14는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고,
R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고,
m은 1 내지 5의 정수이다.
상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나는, 후술하는 광중합성 단량체에 함유된 광반응 작용기와 유사한 구조로서, 후술하는 광중합 개시제에 의해 유도되는 라디칼이 첨가되어 아크릴계 공중합체(A) 내에서 광중합 반응에 의해 가교결합을 일으킬 수 있다.  
상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나의 가교 정도는 후술하는 광중합성 단량체 및 광중합 개시제의 비율에 따라 조절될 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체는 상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나를 더 포함함으로써, COA 방식 등으로 제조되는 컬러필터에서 중요시되는 미세패턴 구현과 우수한 내열성 및 내화학성을 얻을 수 있다.
상기 아크릴계 공중합체가 상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 적어도 하나를 포함할 경우, 상기 아크릴계 공중합체(A) 총량에 대하여 5 내지 80 중량%로 포함될 수 있고, 구체적으로는 10 내지 70 중량%로 포함될 수 있다.  상기 범위 내로 포함될 경우 내화학성 및 내약품성이 우수하고, 패턴의 안정성이 우수하며, 빛 투과 특성을 저하시키지 않는다.
상기 아크릴계 바인더 수지가 상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위를 모두 포함하고 각 구조단위가 각각  n1, n2, n3, n4, n5몰을 포함하는 것으로 표시되는 경우, 0≤n1≤50, 0≤n2≤50, 0≤n3≤50, 0≤n4≤50, 1≤n5≤50 의 범위를 가질 수 있고, 구체적으로는 1≤n1≤40, 1≤n2≤40, 1≤n3≤40, 1≤n4≤40, 3≤n5≤40의 범위를 가질 수 있다.  상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위가 상기 비율 범위를 가질 경우 적정 현상성 및 내열성, 내화학성 확보에 유리하다.
상기 아크릴계 공중합체의 중량평균 분자량은 3,000 내지 150,000 g/mol일 수 있고, 구체적으로는 5,000 내지 50,000 g/mol 일 수 있다.  상기 아크릴계 공중합체의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 감광성 수지 조성물의 현상성이 우수하다.
상기 아크릴계 공중합체의 산가는 20 내지 180 mgKOH/g 일 수 있고, 구체적으로는 50 내지 140 mgKOH/g 일 수 있다.  상기 아크릴계 공중합체의 산가가 상기 범위 내일 경우 감광성 수지 조성물의 현상성이 우수하다. 
상기 아크릴계 공중합체는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 내지 60 중량%로 포함될 수 있고, 구체적으로는 3 내지 30 중량%로 포함될 수 있다.  상기 아크릴계 공중합체가 상기 범위 내로 포함되는 경우 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하고, 가교성이 좋아 표면 거칠기가 감소하고, 내화학성이 우수하여 패턴 뜯김이 발생하지 않는다.
 
(B) 아크릴계 광중합성 단량체
본 발명에 사용된 아크릴계 광중합성 단량체의 예로는, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 비스페놀A 디아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 노볼락에폭시 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜  디메타크릴레이트, 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트 등이 있다.  
상기 아크릴계 광중합성 단량체의 사용량은 컬러필터용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.5 내지 20 중량%인 것이 바람직하다.  상기 아크릴계 광중합성 단량체의  함량이 상기 범위일 때, 패턴의 모서리가 깨끗하게 형성되고, 알칼리 현상액에의 현상성이 좋다.  
 
(C) 광중합 개시제
본 발명에 사용되는 광중합 개시제의 예로는, 트리아진계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.  
상기 트리아진계 화합물로는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시 스티릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시 나프틸)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시 페닐)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진,  비스(트리클로로 메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시 나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2,4-트리클로로 메틸(피페로닐)-6-트리아진, 2,4-(트리클로로 메틸(4'-메톡시 스티릴)-6-트리아진 등이 있다.  
상기 아세토페논계 화합물로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸 프로피오페논, p-t-부틸 트리클로로 아세토페논, p-t-부틸 디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노 프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸 아미노-1-(4-모폴리노 페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물로는 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-디클로로 벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시 벤조페논 등이 있다.
상기 티오크산톤계 화합물로는 티오크산톤, 2-메틸 티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로 티오크산톤 등이 있다.  
상기 벤조인계 화합물로는 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질 디메틸 케탈 등이 있다.  
상기 옥심계 화합물로는 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온 및 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온이 광중합 개시제로 바람직하다.  
본 발명에서는 상기 광중합 개시제 이외에 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 설포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등도 광중합 개시제로 사용이 가능하다.  
상기 광중합 개시제는 컬러필터용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 내지 10 중량%로 사용되는 것이 바람직하다.  상기 광중합 개시제의 함량이 상기 범위일 때, 패턴 형성 공정에서 노광시 광중합이 충분히 일어나고, 광중합 후 남은 미반응 개시제로 인한 투과율 저하를 발생시키지 않는다.  
 
(D) 안료
상기 안료로는, 레드(Red), 그린(Green), 블루(Blue), 옐로우(Yellow), 바이올렛(Vilot) 등의 색상을 갖는 안료를 사용할 수 있다.  이들은 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료 등의 축합다환 안료, 프탈로시아닌계 안료, 아조계 안료 등으로, 이들 중 어느 한 종을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.  최대 흡광 파장 조정 및 크로스 포인트(Cross point) 및 크로스 토크(Cross talk) 등 조정을 위해 2종 이상 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.  
상기 안료는 용제에 분산된 안료 분산액으로 제조되어 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 포함될 수도 있다.  
또한 상기 안료 성분이 안료 분산액 중에 균일하게 분산되도록 필요에 따라 분산제를 사용할 수도 있는데, 이러한 목적으로는 비이온성, 음이온성 또는 양이온성 분산제가 모두 사용 가능하며, 예를 들면 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가 알콜 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산염, 카르복시산 에스테르, 카르복시산염, 알킬아미드알킬렌옥사이드 부가물, 알킬아민 등이 사용될 수 있다.  이들 분산제는 1종을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 적절히 조합하여 사용할 수 있다.  
또한 상기 분산제와 더불어 상기한 카르복시기를 함유한 아크릴계 수지를 추가로 사용함으로써 안료 분산액의 안정성을 향상시킬 수 있을 뿐더러 픽셀의 패턴성도 개선시킬 수 있다.  
상기 안료의 1차 입경은 10 내지 80 nm일 수 있으며, 10 내지 70 nm인 것이 바람직하다.  1차 입경이 상기 입경 범위 내에 포함될 때 안료 분산액에서의 안정성이 우수하고, 픽셀의 해상성 저하의 우려가 없어 바람직하다.  
상기 안료의 사용량은 컬러필터용 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 내지 40 중량%인 것이 바람직하다.  상기 안료의 함량이 상기 범위일 때, 착색 효과 및 현상 성능이 적절하다.  
 
(E) 용제
상기 용제로는  에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸 셀로솔브, 에틸 에톡시 프로피오네이트,  에틸 락테이트, 폴리에틸렌글리콜 등이 있으며, 또한 상기 용제로는 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 등의 에틸렌 글리콜류 화합물; 에틸렌글리콜 모노메틸에테르,  디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 디에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르 등의 글리콜 에테르류 화합물; 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트 등의 글리콜 에테르 아세테이트류 화합물; 프로필렌글리콜 등의 프로필렌글리콜류; 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 디프로필렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디에틸에테르, 디프로필렌글리콜 디에틸에테르 등의 프로필렌글리콜 에테르류 화합물; 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트 등의 프로필렌글리콜 에테르 아세테이트류 화합물; N-메틸 피롤리돈, 디메틸 포름아미드, 디메틸 아세트아미드 등의 아미드류 화합물; 메틸 에틸 케톤(MEK), 메틸 이소부틸 케톤(MIBK), 시클로헥사논 등의 케톤류 화합물; 톨루엔, 크실렌, 솔벤트 나프타(solvent naphtha) 등의 석유류 화합물; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 유산 에틸 등의 에스테르류 화합물 등을 들 수 있다.  본 발명의 용제로는 이들 중 어느 한 종을 단독으로 사용하거나 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.  
상기 용제의 사용량은 잔부의 양으로 사용되며, 바람직하게는 20 내지 90 중량%의 양으로 사용된다.  상기 용제의 함량이 상기 범위 내에서는 감광성 수지 조성물의 도포성이 우수하고, 두께 1 ㎛ 이상의 막에서 평탄성을 유지할 수 있어 바람직하다.  
 
(F) 기타 첨가제
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 상기 (A) 내지 (F)의 성분 외에 안료(D) 성분이 용제(E) 중에 균일하게 분산되도록 앞서 설명한 바와 같은 분산제를 더 포함할 수도 있다.  
또한, 도포 시 얼룩이나 반점을 방지하고 레벨링 특성이나 미현상에 의한 잔사의 생성을 방지하기 위하여, 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 갖는 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제 등과 같은 기타 첨가제를 더 포함할 수 있다.  이들 첨가제의 사용량은 원하는 물성에 따라 용이하게 조절될 수 있다.  
 
본 발명의 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 아무 것도 도포되지 않은 유리기판 및 SiNx(보호막)가 500 내지 1500 Å의 두께로 도포되어 있는 유리기판 위에 스핀 도포, 슬릿 도포 등의 적당한 방법을 사용하여, 3.1 내지 3.4 um의 두께로 도포된다.  도포 후에는 컬러필터에 필요한 패턴을 형성하도록 광을 조사한다.  광을 조사한 다음, 도포층을 알칼리 현상액으로 처리하면 도포층의 미조사 부분이 용해되고 컬러필터에 필요한 패턴이 형성된다.  이러한 과정을 필요한 R, G, B 색의 수에 따라 반복 수행함으로써, 원하는 패턴을 갖는 컬러필터를 수득할 수 있다.  또한 상기 과정에서, 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 다시 가열하거나 또는 활성선 조사 등에 의해 경화시킴으로써 내크랙성, 내용제성 등을 더욱 향상시킬 수 있다.  
일반적으로 네가티브형 감광성 수지는 유기 용제에 쉽게 박리(strip)되지 않기 때문에 잔류물에 의해 하부막을 오염시킬 수 있다.  또한 포지티브형 감광성 수지에 비하여 하부막과의 밀착성(adhesion)이 약하여 언더컷(under-cut)이 커질 수 있다.  본 발명의 컬러필터용 감광성 수지 조성물은 이러한 네가티브형 감광성 수지의 박리액에 대한 내성이 우수하고, 하부막의 오염을 방지하며, 하부막과의 밀착성이 개선된 것이다.  
 
이하, 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하고자 한다.  그러나, 하기의 실시예들은 단지 설명의 목적을 위한 것이며, 본 발명을 제한하는 것은 아니다.  
 
( 실시예 )
합성예 1 ~ 10: 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위를 포함하는  공중합체의 합성   
냉각관과 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로 니트릴)(개시제)는 모노머 합의 10 중량%를 및 표 1의 모노머들을 각각의 중량비대로 투입하고 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA, 용매)를 상기 개시제와 단량체의 총량 100 중량부에 대하여 200 중량부를 투입한 후, 질소 분위기 하에서 서서히 교반을 시작하였다.  반응 용액을 75 ℃까지 승온시켜 8 시간 동안 교반하여, 지방족 탄화수소를 함유하는 아크릴계 바인더 수지를 중합하였다.  상기와 같은 방법으로 얻어진 아크릴계 바인더 수지 용액의 고형분 농도는 30 중량%이었다.  이때, 중량평균분자량은 GPC(Gel Permeation Chromatography)를 사용하여 측정한 폴리스타이렌 환산평균분자량이다.
  합성예1 합성예2 합성예3 합성예4 합성예5 합성예6 합성예7 합성예8 합성예9 합성예10
메타크릴산 15 15 20 20 20 15 15 15 20 20
N-페닐 말레이미드   15 15 12.5     10     30
스타이렌   15 5 12.5     10 25    
벤질 메타크릴레이트 85 35 60 35 80 70 30   30  
폴리발레로락톤 메타크릴레이트   10   10     10      
글리콜메타크릴레이트   10   10     10 10    
시나밀메타크릴레이트           15 15 50 50 50
합성된 공중합체의 중량평균 분자량(Mw) 14500 13500 14000 12500 14000 14500 14200 15000 15100 15500
    
컬러필터용 감광성 수지 조성물의 제조
[ 실시예 1 ~ 5]
표 2에 기재된 하기 성분들을 사용하여 다음과 같이 감광성 수지 조성물을 제조하였다.  먼저, 용제에 광중합 개시제를 용해시킨 후, 2 시간 동안 상온에서 교반하였다.  이어서, 합성예 6 ~ 10에서 중합된 아크릴계 공중합체 및 아크릴계 광중합성 단량체를 첨가하고, 2 시간 동안 상온에서 교반하였다.  여기에 안료 분산액을 투입한 후, 1 시간 동안 상온에서 교반하여 본 발명에 따른 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.  상기 용액을 3 회 여과하여 불순물을 제거하였다.
조성 함량[g]
(A) 아크릴 공중합체  (합성예 6 ~ 10에서 중합된 공중합체) 8.0
(B) 아크릴계 광중합성 단량체  
    디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 6.9
(C) 광중합 개시제  
    IGACURE OXE02(Ciba Specialty Chemicals社) 0.2
(D) 안료 분산액 46.8
    BT-CF(Ciba Specialty Chemicals社, 적색 안료)     (6.2)
    2RP-CF(Ciba Specialty Chemicals社, 황색 안료)     (2.8)
    BYK21208(BYK社, 분산제)     (2.4)
    상기 (A)의 아크릴계 바인더 수지     (5.4)
    PGMEA(용제)     (30.0)
(E) 용제  
    PGMEA 24.0
    에틸에톡시 프로피오네이트 14.0
(F) 첨가제  
    F-475(DIC社, 불소계 계면활성제) 0.1
 
[ 비교예 1 ~ 5]
(A) 아크릴 공중합체를 합성예 1 ~ 5에서 합성한 것을 제외하고는 상기 실시예 1 ~ 5와 동일한 방법으로 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 제조하였다.  
 
박리액 내성 평가
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5에서 제조된 감광성 수지 조성물을 이용하여 박리액 내성 평가를 다음과 같이 실시하였다.  
스핀-코터(spin-coater, KDNS社의 K-Spin8)를 이용하여, 아무 것도 도포되지 않은 투명한 원형 유리기판(bare glass) 및 실리콘 나이트라이드(SiNx)가 500 Å의 두께로 도포되어 있는 유리기판 위에, 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5 감광성 수지 조성물을 3 ㎛의 두께로 도포하였다.  열판(hot-plate)을 이용하여 80 ℃에서 150 초 동안 소프트-베이킹(soft-baking)을 하고, 노광기(Nikon社의 I10C)를 이용하여 60 mJ의 출력(power)으로 노광을 한 후, 현상기를 이용하여 현상온도 25 ℃, 현상시간 60 초, 수세시간 60 초 및 스핀건조(spin-dry)를 25 초간 실시하여 현상하였다.  이때, 현상액으로는 1 중량% 농도의 수산화칼륨 수용액을 사용하였다.  그 후, 230 ℃의 오븐(oven)에서 30 분간 하드-베이킹(hard-baking)을 하여, 70 ℃의 박리액(J.T.Baker社의 PRS-2000)에 10 분간 침지시킨 후 탈이온수(DIW; deionized warer)로 세척 및 건조하였다.  
상기와 같은 방법으로 제조한 감광성 수지 조성물 도막의 박리상태를 광학현미경을 이용하여 관찰하여, 그 결과를 다음과 같이 구분하여 하기 표 3에 나타내었다.  
<박리상태>
- 감광성 수지 조성물 도막의 박리가 없으면: 우수
- 감광성 수지 조성물 도막이 일부 박리되면: 미흡
- 감광성 수지 조성물 도막이 대부분 박리되면: 불량
 
내열성 평가
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 5에서 제조된 감광성 수지 조성물을 이용하여 박리액 내성 평가를 다음과 같이 실시하였다.  
스핀-코터(spin-coater, KDNS社의 K-Spin8)를 이용하여, 아무 것도 도포되지 않은 투명한 원형 유리기판(bare glass) 및 실리콘 나이트라이드(SiNx)가 500 Å의 두께로 도포되어 있는 유리기판 위에, 실시예 1 내지 5및 비교예 1 내지 5 감광성 수지 조성물을 3 ㎛의 두께로 도포하였다.  열판(hot-plate)을 이용하여 80 ℃에서 150 초 동안 소프트-베이킹(soft-baking)을 하고, 노광기(Nikon社의 I10C)를 이용하여 60 mJ의 출력(power)으로 노광을 한 후, 현상기를 이용하여 현상온도 25 ℃, 현상시간 60 초, 수세시간 60 초 및 스핀건조(spin-dry)를 25 초간 실시하여 현상하였다.  이때, 현상액으로는 1 중량% 농도의 수산화칼륨 수용액을 사용하였다.  그 후, 230 ℃의 오븐(oven)에서 30 분간 하드-베이킹(hard-baking)을 한 후 색을 측정하고, 다시 230 ℃의 오븐(oven)에서 2시간 동안 베이킹 후 색변화를 색도계(분광광도계, Otsuka Electronics社의 MCPD3000)를 이용하여 측정하여 하기 표 3에 나타내었다.
<내열성>
- 색변화(△E)가 3미만 이면 : 우수
- 색변화(△E)가 3이상 5미만 이면: 미흡
- 색변화(△E)가 5이상이면 : 불량
 
구분 박리상태 내열성
베어 글라스(Bare glass) SiNx 베어 글라스(Bare glass) SiNx
실시예 1 미흡 우수 우수 우수
실시예 2 미흡 우수 우수 우수
실시예 3 미흡 우수 미흡 미흡
실시예 4 우수 우수 우수 우수
실시예 5 우수 우수 우수 우수
비교예 1 우수 우수 미흡 우수
비교예 2 불량 우수 미흡 미흡
비교예 3 불량 미흡 미흡 불량
비교예 4 미흡 미흡 미흡 불량
비교예 5 불량 우수 미흡 불량
상기 표 3을 참조하면, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 5의 감광성 수지 조성물 도막은 홀 및 라인 패턴의 특성이 매우 뛰어나며, 박리액 처리에 대하여 색변화가 적으면서도 도막의 박리가 없고, 내열성이 우수하여 본 발명에 따른 감광성 수지 조성물이 패턴성이 좋고, 박리액 및 열에 대한 내성이 우수하다는 것을 확인할 수 있다.
 
본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims (10)

  1. (A) 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 아크릴계 공중합체 
    (B) 아크릴계 광중합성 단량체;
    (C) 광중합 개시제;
    (D) 안료; 및
    (E) 용제
    를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00017

    상기 식에서, X1은 H 또는 탄소수 1 내지 20 알킬기이고, X2 및 X3은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20 알킬, 탄소수 5 내지 20 아릴, 탄소수 7 내지 20 알킬아릴, 탄소수 3 내지 20 시클로알킬 또는 탄소수 5 내지 20 멀티시클로알킬이고, p는 0 내지 20의 정수이며,
    [화학식 2]
    Figure pat00018

    상기 식에서, R1은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
    R2는 카르복시기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 COR'COOH(여기서, R'은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕실렌기임)이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 구조단위의 함량은 상기 아크릴계 공중합체(A) 전체 중에서 0.05 내지 70 중량%인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 2로 표시되는 구조단위의 함량은 상기 아크릴계 공중합체(A) 전체 중에서 5 내지 40 중량%인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 컬러필터용 감광성 수지 조성물은,
    (A) 상기 아크릴계 공중합체 1 내지 60 중량%;
    (B) 상기 아크릴계 광중합성 단량체 0.5 내지 20 중량%;
    (C) 상기 광중합 개시제 0.1 내지 10 중량%;
    (D) 상기 안료 0.1 내지 40 중량%; 및
    (E) 상기 용제 잔부
    를 포함하는 것인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.  
  5. 제1항에 있어서,
    상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 아크릴계 공중합체(A)의 중량평균분자량(Mw)은 3,000 내지 150,000인 것인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 아크릴계 공중합체(A)의 산가는 20 내지 180 mgKOH/g인 것인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 아크릴계 공중합체(A)가 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나 이상을 더 포함하는 것인 컬러필터용 감광성 수지 조성물:  
    [화학식 2-1]
    Figure pat00019

    [화학식 2-2]
    Figure pat00020

    [화학식 2-3]
    Figure pat00021

    [화학식 2-4]
    Figure pat00022

    [화학식 2-5]
    Figure pat00023

    (상기 화학식 2-1 내지 2-5에서,
    R6, R7, R9, R11, R13 및 R15는 서로 동일하거나 상이하며, 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기이고,
    R8은 수소 원자, 할로겐 원자 또는 히드록시기이고,
    R10은 카르복시기 또는 CONHR''(여기서, R''은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기임)이고, R12는 카르복시기이고, R10 및 R12는 서로 융합되어 고리를 이루고,
    R14는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고,
    R16은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C30 아릴기이고,
    m은 1 내지 5의 정수이다.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 구조단위 중 어느 하나 이상의 함량은 상기 아크릴계 공중합체(A) 총량에 대하여 5 내지 80 중량%로 포함되는 것인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 감광성 수지 조성물은 분산제; 말론산; 3-아미노-1,2-프로판디올; 비닐기 또는 (메타)아크릴옥시기를 갖는 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 라디칼 중합 개시제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 첨가제를 더 포함하는 것인 컬러필터용 감광성 수지 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터.
KR1020100110578A 2010-11-08 2010-11-08 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 KR101453771B1 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100110578A KR101453771B1 (ko) 2010-11-08 2010-11-08 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
CN201110185304.6A CN102466972B (zh) 2010-11-08 2011-07-04 用于彩色滤光片的光敏树脂组合物和应用其的彩色滤光片
TW100125281A TWI509351B (zh) 2010-11-08 2011-07-18 用於濾色器之光敏性樹脂組成物以及使用該光敏性樹脂組成物之濾色器(一)
US13/238,424 US8303862B2 (en) 2010-11-08 2011-09-21 Photosensitive resin composition for color filter and color filter using same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100110578A KR101453771B1 (ko) 2010-11-08 2010-11-08 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120049025A true KR20120049025A (ko) 2012-05-16
KR101453771B1 KR101453771B1 (ko) 2014-10-23

Family

ID=46018728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100110578A KR101453771B1 (ko) 2010-11-08 2010-11-08 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8303862B2 (ko)
KR (1) KR101453771B1 (ko)
CN (1) CN102466972B (ko)
TW (1) TWI509351B (ko)

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0350271A (ja) 1989-07-17 1991-03-04 Sharp Corp 感光性塗料組成物
US5612360A (en) 1992-06-03 1997-03-18 Eli Lilly And Company Angiotensin II antagonists
WO1994014892A1 (en) 1992-12-24 1994-07-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Photosensitive resin composition for color filter
JP3455915B2 (ja) 1993-09-24 2003-10-14 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびカラーフィルタ
KR950011163A (ko) 1993-10-11 1995-05-15 전성원 바아형 스테빌라이저
DE69612630T2 (de) 1995-01-25 2001-10-11 Nippon Paint Co Ltd Fotoempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Feinstrukturen damit
JP3824285B2 (ja) 1997-03-14 2006-09-20 富士写真フイルム株式会社 感放射線性着色組成物
KR100417080B1 (ko) 2001-02-12 2004-02-05 주식회사 엘지화학 패턴 스페이서용 감광성 수지 조성물
JP2003149810A (ja) * 2001-08-28 2003-05-21 Sumitomo Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP2004302015A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料、着色画像形成体及びその製造方法
CN1705913B (zh) * 2003-09-25 2011-11-30 日本合成化学工业株式会社 负型青紫色激光感光性组合物、图像形成材料、图像形成元件和图像形成方法
JP4351519B2 (ja) 2003-11-26 2009-10-28 東洋インキ製造株式会社 感光性組成物およびカラーフィルタ
KR101341262B1 (ko) * 2004-10-15 2013-12-13 캐보트 코포레이션 높은 저항률 조성물
CN101044433A (zh) * 2004-10-20 2007-09-26 三菱化学株式会社 感光性组合物、成像材料、成像件以及成像方法
CN101921375B (zh) * 2005-04-27 2012-12-05 三菱化学株式会社 固化性组合物、固化物以及使用该固化物的液晶显示装置
KR20090010158A (ko) * 2006-05-18 2009-01-29 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 경화성 조성물, 경화물, 컬러 필터, 및 액정 표시 장치
JP4752649B2 (ja) * 2006-07-12 2011-08-17 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5191201B2 (ja) * 2006-10-26 2013-05-08 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
JP5178081B2 (ja) * 2007-01-15 2013-04-10 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ形成用硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5056025B2 (ja) * 2007-01-22 2012-10-24 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ
US20110123929A1 (en) * 2007-01-23 2011-05-26 Fujifilm Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, production method for the color filter, and liquid crystal display element
JP2008216801A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Fujifilm Corp 感光性樹脂組成物、感光性樹脂転写フイルム及びフォトスペーサーの製造方法並びに液晶表示装置用基板、及び液晶表示装置
JP2008268751A (ja) * 2007-04-24 2008-11-06 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
JP2008292549A (ja) * 2007-05-22 2008-12-04 Fujifilm Corp 塗布膜付き基板の製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
JP2009031778A (ja) * 2007-06-27 2009-02-12 Mitsubishi Chemicals Corp 感光性組成物、方法、硬化物及び液晶表示装置
KR100904068B1 (ko) 2007-09-04 2009-06-23 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP5191194B2 (ja) * 2007-09-06 2013-04-24 富士フイルム株式会社 加工顔料、それを用いた顔料分散組成物、着色感光性組成物、及び、カラーフィルタ
CN101407641B (zh) * 2007-10-12 2014-04-09 富士胶片株式会社 加工颜料及使用其的颜料分散组合物、着色感光性组合物
KR100930671B1 (ko) 2007-12-20 2009-12-09 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
JP5147490B2 (ja) * 2008-03-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び液晶表示装置
JP5438942B2 (ja) * 2008-09-19 2014-03-12 富士フイルム株式会社 水不溶性化合物の微粒子およびその分散物、その微粒子及び分散物の製造方法、それらを用いたカラーフィルタ
JP5021046B2 (ja) 2009-02-26 2012-09-05 エルジー ケム. エルティーディ. 感光性樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TWI509351B (zh) 2015-11-21
US20120112141A1 (en) 2012-05-10
TW201219974A (en) 2012-05-16
CN102466972A (zh) 2012-05-23
US8303862B2 (en) 2012-11-06
KR101453771B1 (ko) 2014-10-23
CN102466972B (zh) 2014-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101400193B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101344786B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101466147B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20130002789A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20100078845A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터
KR20090066242A (ko) 박리액 내성이 우수한 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100924010B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20120059929A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140046840A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101413074B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101355070B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20100098882A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20120030887A (ko) 컬러필터용 황색 수지 조성물 및 이를 이용한 황색 컬러필터
KR101344789B1 (ko) 컬러필터용 청색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101333701B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101443757B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100930671B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20130060036A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20120049025A (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101623501B1 (ko) 신규한 아크릴계 수지및 이를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물
US20090155717A1 (en) Photosensitive Resin Composition with Good Stripper-Resistance for Color Filter and Color Filter Formed Using the Same
KR20130037695A (ko) 신규한 아크릴계 수지및 이를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물
KR20130018439A (ko) 인을 포함하는 아크릴계 수지의 새로운 제조방법및 이를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물
KR20130037233A (ko) 인을 포함하는 아크릴계 수지의 새로운 제조방법및 이를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물
KR20230073892A (ko) 고굴절 아크릴 현상바인더를 사용하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170920

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180917

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191001

Year of fee payment: 6