KR20120021198A

KR20120021198A - 노광장치

Info

Publication number: KR20120021198A
Application number: KR1020110082319A
Authority: KR
Inventors: 히로유키 와시야마; 타카시 오쿠야마
Original assignee: 가부시키가이샤 오크세이사쿠쇼
Priority date: 2010-08-30
Filing date: 2011-08-18
Publication date: 2012-03-08
Also published as: CN102385256A; TW201209525A; JP2012049433A; US20120050705A1

Abstract

노광 얼룩짐 없이 오버랩 노광을 실시해, 고정밀도의 패턴을 형성한다. 노광 에리어를 주주사 방향으로 경사시킨 상태로 오버랩 노광 동작을 실행할 때, DMD의 유효 영역의 설정에 수반해 노광 피치가 산출된다. 노광 피치를 조정할 수 있기 때문에 노광 조건, 노광 장치 기구의 문제 등이 생겨도, 노광점 분포를 균일하게 분산시킨 분포 상태로 만드는 것이 가능하고, 노광 얼룩짐 없게 고정밀도의 패턴을 형성할 수 있다.

Description

노광장치{Exposure Apparatus}

본 발명은, D M D (Digital Micro-mirror Device) 등 공간 광변조 소자에 의해 패턴을 직접 묘화(描畵)하는 마스크리스 노광 장치에 관한 것으로, 특히, 다중 노광 동작에 관한 것이다.

DMD 등을 갖춘 마스크리스 노광 장치에서는, 마이크로 미러(Micro Mirror) 등의 광변조 소자를 매트릭스 상(狀)으로 2차원 배열시킨 변조 디바이스를 제어하여 노광 동작이 수행되고, 기판의 피묘(被描) 화면에 패턴이 직접 형성된다. DMD의 각 마이크로 미러는, 패턴 데이터를 근거로 하여 2 차원 배열된 라스타(raster) 데이터에 근거하여 ON/OFF 제어된다. 이에 의해, 패턴 상(像)에 대응한 빛이 기판에 조사된다.

또, 고정밀도의 2 차원 패턴을 형성하기 위해, 각 마이크로 미러에 의한 노광을 서로 오버랩 시키는 다중 노광 동작이 수행된다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조). 거기에서는, 노광 피치(노광 간격)를 1 마이크로 미러의 조사 에리어(단위 노광 에리어) 사이즈의 정수 배부터 제외해, 노광 시의 투영 위치(쇼트(shot) 위치)를, 주사 방향에 따라 오버랩 시킨다.

그와 동시에, 기판 또는 DMD의 배열 방향을, 주사 방향에 대해 상대적으로 미소 경사시킨 상태로 주사한다. 이에 의해, 부주사(副走査) 방향에 관해서도 노광 시의 쇼트 위치가 오버랩 하면서 서서히 시프트 한다.

이러한 2 방향에 관해서 서로 오버랩 시키는 다중 노광 처리에 의해서, 기판의 조사대상영역에 대한 노광량을 고르게 균일화시킬 수 있어 고해상도의 패턴 형성이 가능해진다. 노광 피치, 및 경사 각도는, 오버랩 간격, 노광 동작의 적산(積算) 회수 등에 근거해 정해진다.

특개 2 0 0 3 - 5 7 8 3 6호 공보

노광 장치의 기구상의 문제, 또는 노광 조건 등을 이유로 마이크로 미러 전체 영역을 사용하지 않고, 일부를 유효 영역으로서 노광 동작을 실시하는 경우가 있다. 이 경우, 마이크로 미러의 배열 전체에 근거하여 설정되어 있는 노광 피치를 그대로 사용하여 다중 노광 동작을 실행하면, 노광 쇼트 위치가 동일 대상 영역에 대해 편재되고, 노광에 얼룩짐이 생긴다.

본 발명의 노광 장치는, 패턴을 직접 형성하는 노광 장치이며, 마이크로 미러 등 광원으로부터의 빛을 변조하는 복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이와, 광변조 소자 어레이에 의해서 규정되는 투영 에리어(이하, 노광 에리어라고 한다)를 피묘화체(被描畵體)에 대해 상대적으로 이동시키는 주사 수단과, 노광 데이터에 근거해, 소정의 노광 피치에 따라서 복수의 광변조 소자를 제어해 오버랩 노광을 실행하는 노광 동작 처리 수단을 구비한다.

DMD, LCD 등의 광변조 소자 어레이는, 광원으로부터의 조명광을 패턴에 따라 피묘화체에 유도하며, 조명광을 피묘화체 또는 피묘화체 외에 선택적으로 유도하는 마이크로 미러, 액정 소자 등 복수의 광변조 소자에 의해서 구성된다. 주사수단(走査手段)은, 예를 들면, 간헐적으로 노광 에리어를 상대 이동시키는 스텝 앤드 리피트(step and repeat) 방식, 혹은 연속 이동시키는 스텝 앤드 스캔(step and scan)방식(연속이동 방식) 등이 적용 가능하다.

노광 에리어는, 주주사(主走査) 방향에 대하여 상대적으로 경사진 상태로 상대 이동한다. 예를 들면, 주사수단은, 주주사 방향에 따른 광변조 소자 배열 방향에 대해서 기판 등의 피묘화체를 기울어진 방향에 따라 상대 이동시키는 것이 가능하고, 혹은, 광변조 소자 배열 방향을 주주사 방향에 대해서 비스듬하게 배치해, 피묘화체를 주주사 방향에 따라 상대 이동시키는 것도 가능하다.

노광 동작 처리 수단은, 주주사 방향에 따라서 광변조 소자에 의한 조사 위치(여기에서는, 노광 쇼트 위치라고 한다)를 오버랩 되도록, 소정의 노광 타이밍에 맞추어 노광 동작을 실행한다. 노광 에리어가 주주사 방향에 대해 경사되어 있기 때문에, 부주사 방향에 따라서 각 마이크로 미러의 노광 쇼트 위치가 오버랩 되면서 시프트 한다.

그리고 본 발명의 노광 장치는, 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 대응하여 노광 대상 영역에 대하는 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 노광 피치 조정 수단을 구비하고 있다. 다만, 유효 영역은, 노광 시에 제어되는 광변조 소자의 영역을 가리킨다.

예를 들면, 광변조 소자 어레이의 주변 영역을 이용하지 않는 경우, 이용되는 중심부의 광변조 소자군에 근거해 노광 피치가 산출된다. 이것에 의해서, 오버랩 되는 노광 쇼트 위치의 배치 간격을 조정, 수정하면서, 조사 대상 영역 전체로부터 봐서 주주사 방향, 부주사 방향에 대하여 노광 분포가 균일화된다.

노광 에리어 전체를 고려하여 노광 피치를 산출하면 된다. 예를 들면 노광 피치 조정 수단은, 유효 영역에 상당하는 유효 노광 에리어의 주주사 방향 길이를 노광 적산 횟수로 나누어서 노광 피치를 산출하는 것이 가능하다.

본 발명의 노광 피치 조정 장치는, 복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이의 유효 영역을 설정하는 설정 수단과, 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 대응하여 노광 대상영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 노광 피치 산출수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 노광 피치 조정 방법은, 복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이의 유효 영역을 설정하고, 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 대응하여, 노광 대상 영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 프로그램은, 노광 장치를, 복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이의 유효 영역을 설정하는 설정 수단과, 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 대응하여, 노광 대상 영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 노광 피치 산출수단으로서 기능시키는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 노광 얼룩짐 없이 오버랩 노광을 실시해, 고정밀도의 패턴을 형성하는 것이 가능하다.

도 1은 본 실시 형태인 묘화 장치를 모식적으로 나타내 보인 사시도이다.
도 2는 노광 헤드의 내부 구성을 나타낸 도면이다.
도 3은 묘화 장치에 설치된 묘화 제어부의 블럭도이다.
도 4는 노광 에리어의 주주사 방향에 대한 경사를 나타낸 도면이다.
도 5는 단위 노광 에리어와 동사이즈의 조사 대상 영역에 있어서의 노광 분포를 나타낸 도면이다.
도 6은 마이크로 미러의 사용 영역을 설정 변경했을 때의 노광 분포를 나타낸 도면이다
도 7은 마이크로 미러의 사용 영역을 설정 변경했을 때의 노광 분포를 나타낸 도면이다
도 8은 노광 피치를 조정한 후의 노광점 분포를 나타낸 도면이다.
도 9는 노광 제어부에 있어 실행되는 노광 피치 산출의 흐름도(flow chart)이다.

이하에서는, 도면을 참조해 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다.

도 1은 본 실시 형태인 노광 장치(묘화 장치)를 모식적으로 나타낸 사시도이다. 도 2는, 광원 램프, 노광 헤드의 내부 구성을 나타낸 도면이다.

노광 장치(10)는, 포토레지스트(photoresist) 등의 감광 재료를 도포 혹은 붙인 기판(SW)에 직접 패턴을 형성하는 마스크리스 노광 장치이며, 게이트상 구조체(12), 기판대(14)를 갖춘다. 묘화 장치(10)에서는, 묘화 제어부(여기에서는 도시하지 않음)에 의해서 노광 동작이 실행, 제어된다. 묘화 제어부에는, 모니터, 키보드 등의 입력장치(여기에서는 도시하지 않음)가 접속되고 있어 오퍼레이터의 조작에 따라서 묘화 처리를 한다.

게이트상 구조체(12) 에는, 광원 램프(20a, 20b)와 노광 헤드(20c, 20d)가 배설되어 있다. 소정간격을 띄어서 배치되는 노광 헤드(20c, 20d) 는, 광원 램프(20a, 20b)로부터의 빛에 의해 기판(SW)을 조사해, 기판(SW)의 표면에 패턴을 형성한다. 노광 헤드(20c)는, DMD(24c)을 구비하며(도 2 참조), 노광 헤드(20d)도 마찬가지의 구성으로 되어 있다. 게이트상 구조체(12)의 가이드(31)에 설치되어 있는 관찰 수단 AC(CCD 카메라 등)은, 기판 변형 검출을 위해, 기판(SW)에 형성된 얼라이먼트 마크를 촬영한다.

기판대(14)에는, 묘화 테이블(18)을 지지하는 X-Y 스테이지 기구(56)가 탑재되며, 묘화 테이블(18) 상에는 기판(SW)이 설치된다. 기판(SW)은, 예를 들면 실리콘 웨이퍼, 유리기판, 전자 회로용 기판이며, 여기에서는 구형 모양의 전자 회로용 기판이 이용되고 있다. 기판(SW)은, 프리베이크 처리, 포토레지스트(photoresist)의 도포나 드라이 필름의 붙이기 등의 처리가 실시된 브랭크스(blanks) 상태로 묘화 테이블(18)에 탑재된다.

묘화 테이블(18)에는, 서로 직교인 X-Y-Z 좌표계가 규정되고 있으며, 묘화 테이블(18)은 X, Y방향에 따라서 이동 가능하다. 또한, 묘화 테이블(18)은 Z축 주위를 회전 가능하고, 기판을 보내는 방향이 조정된다. 여기에서는, X방향을 주주사 방향(주사 방향), Y방향을 부주사 방향으로 규정한다.

도 2에 도시된 바와 같이, 광원 램프(20a)는 자외선 등의 조명광을 방사하는 방전 램프(21)를 구비하며 방사된 빛은 리플렉터(22)에 의해서 조명 광학계(23)에 유도된다. 조명 광학계(23)에 의해서 평행광으로 성형된 조명광은, 평면 미러(25), 반투명경(27)을 거쳐 DMD(24c)에 유도된다. DMD(24c)는, 수 ㎛ ~ 수십 ㎛의 미소(微小) 구형상(矩形狀)의 마이크로 미러를 메트릭스 상(狀)에 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이이며, 여기에서는 1024 X 768 개의 마이크로 미러에 의해서 구성된다.

DMD(24c)에서는, 노광 데이터에 기초하여, 각 마이크로 미러가 각각 선택적으로 ON/OFF 제어된다. ON 상태의 마이크로 미러에 의해 반사된 빛은, 미러(27)를 매개하여 투영 광학계(28)에 도달한다. 그리고, ON 상태의 미러로부터의 반사광에 의해 형성된 광속(光束), 즉 패턴상(像)의 빛이 기판(SW)에 조사된다.

기판(SW)이 주주사 방향(X 방향)을 따라 이동함에 따라, DMD(24c)에 의해서 규정되는 투영 영역(이하, 노광 에리어라고 한다)이 기판(SW)에 대해서 상대적으로 이동한다. 여기에서는, 노광 방식으로서 다중 노광 방식이 적용되고 있고, 묘화 테이블(18)이 이동하는 동안, 오버랩 노광하는 노광 피치로 마이크로 미러가 0N/0FF 제어된다.

또, 기판(SW)은, 주주사 방향(X방향)에 대해 미소 각도만 경사 방향을 향한 상태로 묘화 테이블(18)에 배치되어 있다. 그 때문에, 묘화 테이블(18)이 주사 방향에 따라서 이동할 때, 노광 에리어는 기판(SW)의 장방향에 대해 경사 방향으로 상대 이동한다.

기판(SW)을 부주사 방향(Y방향)으로 시프트 시키면서 노광 헤드(20c, 20d)에 의한 노광 동작이 주사 방향(X방향)에 따라 계속됨에 따라, 기판 전체에 패턴이 형성되어 간다. 묘화 처리가 종료되면, 현상 처리, 에칭 또는 도금, 레지스터 박리 처리 등의 후처리가 실시되어 패턴이 형성된 기판이 제조된다.

도 3은 묘화 장치에 설치된 묘화 제어부의 블럭도이다.

묘화 제어부(50)는, 외부의 워크스테이션(도시하지 않음)과 접속되어 있고, 노광 제어부(52)를 구비한다. 노광 제어부(52)는, 키보드(50C)로부터의 조작 신호에 근거해 묘화 처리 전체를 제어하며, DMD 구동 회로(59), 어드레스 제어 회로(57), 묘화 테이블 제어 회로(53), 광원(20a, 20b)의 발광을 제어하는 광원 제어부(61) 등의 회로에 제어 신호를 출력한다. 묘화 처리를 제어하는 프로그램은, 미리 노광 제어부(52) 내의 ROM (도시하지 않음)에 저장되어 있다.

워크스테이션(도시하지 않음)으로부터 노광 제어부(52)에 입력되는 패턴 데이터는, 묘화 패턴의 위치 정보를 가지는 벡터(vector) 데이터(CAD / CAM 데이터)이며, 기판(SW)에 규정되는 X-Y 좌표계에 근거한 위치 좌표 데이터로서 나타내진다. 라스타 변환부(51)에 입력된 벡터 데이터는, 2 차원 도트 데이터(0N/0FF 데이터)인 라스타 데이터로 변환된다.

생성된 라스타 데이터는, 버퍼 메모리(58)에 저장된다. 일시적으로 저장된 라스타 데이터는, 어드레스 제어 회로(57)로부터의 제어 신호에 따라 읽어내어 DMD 구동회로(59)에 보내진다.

DMD 구동 회로(59)는, 노광 데이터로서 보내져 오는 라스터 데이터에 근거해, 노광 제어부(52)로부터의 타이밍 신호에 맞추어 DMD (24c, 24d)의 각 마이크로 미러를 0N / OFF 제어한다. 묘화 테이블(18)이 이동하는 동안, 노광 에리어의 상대 위치에 대응한 라스타 데이터에 따라서 DMD (24c, 24d)가 제어된다.

묘화 테이블 제어 회로(53)는, 구동 회로(54)를 개입하여 모터(도시하지 않음)를 갖춘 X-Y 스테이지 기구(56)을 제어하고, 이것에 의해서 묘화 테이블(18)의 이동 속도, 기판을 보내는 방향 등이 제어된다. 위치 검출 센서(55)는, 묘화 테이블(18)의 위치, 즉 기판(SW)에서의 노광 에리어의 상대 위치를 검출한다.

CCD 센서(AC)에 의해서 얻어진 화상 신호는, 화상 처리부(62)에 의해 화상 처리 된 후, 노광 제어부(52)에 보내진다. 노광 제어부(52)는, 화상 신호에 근거해 얼라이먼트 마크의 위치를 검출한다. 관찰 수단 제어부(60)은, CCD 센서(AC)를 구동한다.

이하에서는, 도 4 내지 9를 이용하여, 오버랩 노광 시의 노광 분포 및 노광 피치 산출에 대해 설명한다.

도 4는, 노광 에리어의 주주사 방향에 대한 경사를 나타낸 도면이다.

노광 에리어(EA)는, 미소 각도 θ만큼 경사한 상태로 주주사 방향(X방향)에 따라서 기판 위를 상대 이동해 나간다. 다만, 도 4에서는, 경사 각도를 과장해 그리고 있다. 기판(SW)이 이동하는데 따라 노광 에리어(EA)가 상대 이동한다. 그 사이, 노광 에리어(EA) 사이즈에 비해 훨씬 미소한 거리 간격의 노광 피치(PP)에 따라, 노광 동작이 실행된다.

노광 에리어(EA)는, 각 마이크로 미러의 조사 영역(이하, 단위 노광 에리어라고 한다) (EUA)로부터 구성된다. 단위 노광 에리어(EUA)의 배열 방향이 주주사 방향에 대해서 경사져 있어서, 동일한 주사 라인상을, 같은 열의 마이크로 미러뿐만이 아니라, 복수열에 걸친 마이크로 미러에 대한 단위 노광 에리어(EUA)가 통과해 나간다. 이것에 의해, 각 마이크로 미러에 의한 조사 위치(노광 쇼트 위치)가 주주사 방향, 부주사 방향에 따라서 서로 오버랩 한다.

기판(SW)의 경사 각도는, 부주사 방향(Y방향)에 관해서 어느 정도 오버랩 시킬까에 의해서 정해진다. 노광 에리어의 주사 방향 길이를 「L」, 단위 노광 에리어(EUA)의 동사이즈의 조사 대상 영역을 통과할 경우에 오버랩 하는 조사 에리어 수를 「A」로 하면, 경사각도 θ는, A/L 에 의해서 나타내진다.

도 5는, 단위 노광 에리어와 동사이즈의 조사 대상 영역에 있어서의 노광 분포를 나타낸 도면이다. 도 5를 이용하여, 오버랩 노광에 의한 균일한 노광 분포에 대해 설명한다.

주주사 방향의 오버랩 간격에 대해서는, 노광 피치(PP)를 단위 노광 에리어 사이즈보다 작게 함으로써 실현된다. 노광 동작이 있을 때마다, 패턴 형성에 기여하는 마이크로 미러의 노광 쇼트 위치가 서서히 시프트 해, 조사 대상 영역(CA)에 대해서 노광점(C) (노광 동작시의 단위 노광 에리어의 중심 위치)가 주사 방향에 따라서 점재한다.

한편, 노광 에리어가 주주사 방향에 대해 경사되어 있기 때문에, 노광 동작이 있을 때마다 노광 쇼트 위치는 부주사 방향에 따라서 서서히 시프트 해 나간다. 그 결과, 노광 에리어(EA) 전체가 조사 대상 영역(CA)을 통과했을 때, 노광점(C)이 조사 대상 영역(CA)에 대해 전체적으로 분포하는 상태로 된다.

도 5에는, 기판의 조사대상 영역상에서 보았을 때의 노광 분포를 나타내고 있다. 여기에서는, 정사각형 형태의 영역인 조사대상영역(CA) (AB X AB)에 대해, 주주사 방향, 부주사 방향으로 16 X 16 = 256 개의 노광점(C)이 균일하게 분산한 상태로 분포하고 있다. 노광점(C)의 거리간격(P)는 주주사 방향, 부주사 방향에 따라서 대략 일정하며, 인접 노광점 간의 부주사 방향에 따른 거리(Q)도 대략 일정하게 되어 있다. 이러한 16 X 16 = 256 의 노광점 배열을 실현하도록, 경사 각도(θ) 및 노광 피치(PP)가 정해져 있다.

도 6, 7은, 마이크로 미러의 사용 영역을 설정 변경했을 때의 노광 분포를 나타낸 도면이다.

도 5에서는, 마이크로 미러 전체를 사용했을 때의 노광점 분포를 나타내고 있는데, 경사 각도(θ), 노광 피치(PP)도, 모든 마이크로 미러를 사용하는 것을 전제로 해서 산출된다. 하지만, 노광 조건 등에 의해서 마이크로 미러의 사용 영역을 일부 영역으로 정한 경우, 노광점 분포가 균일하게 안 되는 경우가 생긴다.

도 6에서는, 조사 대상 영역(CA)에 대한 불균일한 노광점 분포를 나타내고 있다. 도 4에서 나타낸 오버랩 수 조정, 경사 각도 변경 등의 이유에 의해서 조사 대상 영역(CA) 내로부터 노광점이 벗어나는(인접하는 조사 대상 영역에 노광점이 편재한다) 것을 막기 위해, 마이크로 미러의 사용영역을 일부 제한하고 있다. 구체적으로는, 마이크로 미러의 열(列)방향(주사 방향)에 따라서 최후미(最後尾)로부터의 방형(方形) 영역에 있는 마이크로 미러군이 이용되지 않는다.

그 결과, 도 7에 도시된 바와 같이, 조사 대상 영역(CA) 내의 노광점 분포가, 일부 영역(Z)에 위치한 노광점 부존재에 의해, 균일하게 분산되어 있지 않는 분포 상태가 된다. 거기서 본 실시 형태에서는, 마이크로 미러의 유효 영역에 맞추어, 노광점 분포를 균일화하는 노광 피치를 산출한다.

도 8은, 노광 피치를 조정한 후의 노광점 분포를 나타낸 도면이다.

도 8에서는, 노광 피치 조정 후의 노광점 분포가 도시되고 있다. 노광점(C')의 배치, 및 노광점 간의 거리 P 를 P＇로 바꾸는 것에 따라 노광점(C')의 분포 상태가 변화해, 주사 방향에 따라서 노광점 분포가 엇갈림 배열(千鳥配列, staggered arrangement)이 된다. 그렇지만, 조사 대상 영역(CA) 전체에서 보면, 노광점(C＇)은 실질적으로 균일하게 분산된 일정 밀도의 분포가 된다.

도 9는, 노광 제어부에 있어 실행되는 노광 피치 산출의 흐름도(flow chart)이다.

우선, 노광 조건 등에 근거하여, 마이크로 미러가 이용되는 DMD 유효 영역이 설정된다(S1). DMD 유효 영역의 설정에 대해서는, 예를 들면, 오퍼레이터의 입력 조작 등에 의해 실행된다. 이것에 수반해, 유효 영역에 의한 노광 에리어(유효 노광 에리어)의 주주사 방향에 따른 길이가 산출된다(S2). 유효 노광 에리어의 길이는, DMD의 유효 영역의 주주사 방향에 따른 L0, 및 투영 광학계(28)의 투영 배율 m으로부터 정해진다.

유효 노광 에리어의 길이 L가 산출되면, 노광 피치(PP)를 이하의 식에 의해서 구할 수 있다(S3). 다만, N는 적산 노광 회수를 나타낸다.

PP = (m x LO) / N .......(1)

노광 피치(PP)는, 노광 동작 거리 간격이기 때문에, 유효 노광 에리어의 길이를 노광 회수로 나누어서 구할 수 있다. 노광 피치(PP)가 설정되면(S4), 거기에 근거하여 오버랩 노광 동작 처리가 실행된다.

이와 같이 본 실시 형태에 의하면, 노광 에리어를 주주사 방향으로 경사시킨 상태로 오버랩 노광 동작을 실행할 때, DMD의 유효 영역의 설정에 수반해 노광 피치가 산출된다. 노광 피치를 조정할 수 있기 때문에, 노광 조건, 노광 장치 기구의 문제 등이 생겨도, 노광점 분포를 균일하게 분산시킨 분포 상태를 유지하는 것이 가능하고, 노광 얼룩짐 없이, 고정밀도의 패턴을 형성할 수 있다.

DMD의 유효 노광 영역의 설정은, 최후미로부터 몇 개의 마이크로 미러군을 제외하는 방법 외도 가능하고, DMD의 주변 영역의 마이크로 미러군을 제외한 유효 영역을 설정해도 좋다. 또, 투영 배율 변경에 맞추어 조사 대상 영역을 설정해, 그 영역 내에서 노광점 분포를 균일화시켜도 좋다.

본 발명의 실시예들은 다양한 컴퓨터로 구현되는 동작을 수행하기 위한 프로그램 명령을 포함하는 컴퓨터 판독 가능 매체를 포함한다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체는 프로그램 명령은 본 발명을 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다.

10: 노광장치(묘화장치)
24: DMD (광변조소자 어레이)
EA: 노광에리어
SW: 기판(피묘화체)
PP: 노광피치

Claims

복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이와,
상기 광변조 소자 어레이에 의한 노광 에리어를, 주주사 방향에 대해서 소정 각도 경사진 상태로 주주사 방향에 따라 상대 이동시키는 주사 수단과,
노광 데이터에 근거해, 소정의 노광 피치에 따라서 상기 복수의 광변조 소자를 제어해, 주주사 방향, 부주사 방향에 관해서 오버랩 노광을 실행하는 노광 동작 처리 수단과,
상기 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 따라 노광 대상 영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 노광 피치 조정 수단,
을 구비한 것을 특징으로 하는 노광 장치.
제1항에 있어서,
상기 노광 피치 조정 수단이, 상기 유효 영역에 상당하는 유효 노광 에리어의 주주사 방향 길이를 노광 적산 회수로 나누어서, 노광 피치를 산출하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이의 유효 영역을 설정하는 설정 수단과,
상기 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 따라 노광 대상 영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 노광 피치 산출 수단,
을 갖춘 것을 특징으로 하는 노광 피치 조정 장치.
복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이의 유효 영역을 설정해, 상기 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 따라, 노광 대상 영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 것을 특징으로 하는 노광 피치 조정 방법.
노광 장치를,
복수의 광변조 소자를 2 차원 배열시킨 광변조 소자 어레이의 유효 영역을 설정하는 설정 수단과,
상기 광변조 소자 어레이의 유효 영역에 따라 노광 대상 영역에 대한 노광 쇼트 위치를 균일하게 분산시키는 노광 피치를 산출하는 노광 피치 산출 수단으로서 기능시키는 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능 기록매체.