KR20110110462A - 도금액의 활성도 측정 장치 및 방법 - Google Patents

도금액의 활성도 측정 장치 및 방법 Download PDF

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류영구
김태호
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Abstract

본 발명은 도금액의 활성도 측정 장치 및 방법을 개시한다. 도금액의 활성도 측정 장치는 도금 대상체의 도금을 위한 도금액을 수용하는 도금조; 상기 도금액에 함침되어 몸체에 도금이 이루어지며, 인가된 신호전압에 따라 상기 도금액 및 상기 몸체의 표면에 흐르는 전류를 측정하는 제 1 전극; 상기 도금액에 함침되어 상기 제 1 전극으로부터 전류를 유입하거나 상기 제 1 전극으로 전류를 유출하는 제 2 전극; 상기 제 1 전극에 인가되는 상기 신호전압을 일정하게 유지하도록 제어하는 제 3 전극; 상기 제 1 전극에 측정된 전류로부터 임피던스 값을 산출하는 임피던스 측정부; 및 상기 산출된 임피던스값의 변화를 시간에 따라 표시하는 처리부;를 포함할 수 있다.

Description

도금액의 활성도 측정 장치 및 방법{Apparatus and method for activity of plating solution}
본 발명은 도금액의 활성도 측정 장치에 관한 것으로, 시간에 따른 임피던스값의 변화를 측정하여 도금액의 활성도를 측정하는 도금액의 활성도 측정 장치 및 방법에 관한 것이다.
도금액이 처음 제조되었을 경우나 도금액이 도금조에 장시간 대기 상태에 있을 경우, 제품에 도금되는 정도가 낮아져 제품의 불량을 야기할 수 있다.
이를 개선하기 위해, 적절한 도금 상태를 유지하기 위해 도금조에 일정 양의 더미 도금액를 흘려 주는 더미 작업이 진행되고 있다. 이때, 적절한 더미 작업의 횟수를 정하기 위해 또는 제품에 도금되는 정도를 실시간으로 파악하기 위해, 도금액의 활성도를 측정하였다.
기존 도금액의 활성도의 측정방법은 도금 전후의 무게를 측정하여 간접적으로 도금 두께를 추정하는 무게측정법이나 측정기기를 이용한 도금두께 측정법을 이용할 수 있다. 그러나, 이와 같은 방법들은 도금액의 활성도를 실시간으로 측정할 수 없고 측정 시간 동안의 변화를 관찰할 수 없을 뿐만 아니라 작업자가 직접 도금된 시편을 채취해야 하는 문제점이 있었다.
활성도의 다른 측정방법은 순환전압 전류법과 같은 전기적인 방법을 이용할 수 있다. 그러나, 이와 같은 방법은 전극에 강제적으로 전위를 걸어 성분의 변화를 측정하므로 직접적으로 도금액의 활성도와 연관되지 않을 뿐만 아니라, 전위에 따라 도금액에 원치 않는 변화를 줄 수 있다는 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 도금액의 활성도 측정 장치 및 방법에서 발생될 수 있는 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 구체적으로 도금액에 직접적으로 변화를 주지 않으며 실시간으로 활성도를 측정할 수 있는 도금액의 활성도 측정 장치 및 방법을 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명의 목적은 도금액의 활성도 측정 장치를 제공하는 것이다. 상기 도금액의 활성도 측정 장치는 도금 대상체의 도금을 위한 도금액을 수용하는 도금조; 상기 도금액에 함침되어 몸체에 도금이 이루어지며, 인가된 신호전압에 따라 상기 도금액 및 상기 몸체의 표면에 흐르는 전류를 측정하는 제 1 전극; 상기 도금액에 함침되어 상기 제 1 전극으로부터 전류를 유입하거나 상기 제 1 전극으로 전류를 유출하는 제 2 전극; 상기 제 1 전극에 인가되는 상기 신호전압을 일정하게 유지하도록 제어하는 제 3 전극; 상기 제 1 전극에 측정된 전류로부터 임피던스 값을 산출하는 임피던스 측정부; 및 상기 산출된 임피던스값의 변화를 시간에 따라 표시하는 표시부;를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 처리부는 상기 측정된 임피던스 값으로부터 활성도를 변환하는 변환부를 포함할 수 있다.
또한, 상기 도금액의 활성도는 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형 시간으로 판단할 수 있다.
또한, 상기 도금액의 활성도는 상기 제 1 전극의 도금시작시간에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형시간의 범위에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율로 판단할 수 있다.
또한, 상기 제 1 전극은 로드 형태 또는 평판 형태를 가질 수 있다.
또한, 상기 제 1 전극 표면의 일정 면적을 노출하며 상기 제 1 전극을 피복하는 절연체를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 1 전극의 진동을 위한 진동부재를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 1 전극은 상기 도금조의 바닥면에 대해 일정 각도를 가지도록 함침될 수 있다.
또한, 상기 제 1 전극은 상기 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제 1 전극은 상기 도금 대상체와 다른 재질로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 처리부는 상기 제 1 전극과 상기 도금 대상체의 재질 차이로 인한 임피던스 값의 변화를 보정하기 위한 보정부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 도금액의 활성도 측정 방법을 제공하는 것이다. 상기 도금액의 활성도 측정 방법은 도금액 및 도금액에 함침된 전극의 몸체의 표면에서 시간에 따른 임피던스 값을 측정하는 단계; 및 상기 측정된 임피던스 값의 변화율을 통해 상기 도금액의 활성도를 변환하는 단계;를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 도금액의 활성도는 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형 시간으로 판단될 수 있다.
또한, 상기 도금액의 활성도는 상기 전극의 도금시작시간에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형시간의 범위에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율로 판단될 수 있다.
또한, 상기 임피던스 값을 측정하는 단계에서 상기 전극에 진동을 인가할 수 있다.
또한, 상기 전극은 상기 도금액에 도금되는 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 전극은 상기 도금액에 도금되는 도금 대상체와 다른 재질로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 임피던스 값을 측정하는 단계 이후에 상기 도금 대상체와 상기 전극의 재질 차이로 발생하는 임피던스 값을 보정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 도금액의 활성도 측정방법은 시간에 따른 임피던스 값의 변화율을 측정함으로써 도금액의 활성도를 판단할 수 있어, 도금액의 조성에 직접적으로 영향을 미치지 않을 뿐만 아니라 실시간으로 도금액의 활성도를 측정할 수 있다.
또한, 도금액의 활성도를 측정하기 위해, 별도로 측정용 기판을 제작할 필요가 없을 뿐만 아니라, 보정을 통해 도금액의 활성도를 파악할 수 있어, 측정용 기판의 재질에 대한 선택 자유도가 높을 수 있다.
또한, 별도로 기판을 채취할 필요가 없이 용이하게 활성도를 측정할 수 있을 뿐만 아니라, 측정 시간을 단축할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 대한 개략도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 채용될 수 있는 제 1 전극의 사시도들이다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 대한 개략도이다.
이하, 본 발명의 실시예들은 도금액의 활성도 측정 장치의 도면을 참고하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되어지는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 장치의 크기 및 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 대한 개략도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 채용될 수 있는 제 2 전극의 사시도들이다.
도 1, 도 2a 내지 도 2c를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정장치(100)는 도금조(110)를 포함할 수 있다. 도금조(110)는 도금될 금속이온을 포함한 도금액(120)을 수용한다. 여기서, 도금액(120)은 무전해 도금액일 수 있다. 여기서, 도금액(120)에 도금대상체를 함침함에 따라 도금대상체에 도금이 이루어질 수 있다.
또한, 도금액의 활성도 측정장치(100)는 도금조(110)의 도금액에 서로 이격되어 함침되어 있는 제 1 전극(130), 제 2 전극(140) 및 제 3 전극(150)을 포함할 수 있다.
여기서, 제 1 전극(130)은 신호전압에 따라 도금액(120) 및 제 1 전극(120)의 몸체에 흐르는 전류를 측정할 수 있다. 이때, 제 1 전극(130)의 몸체에 도금이 이루어진다.
제 1 전극(130)은 도금조(110)의 바닥면에 대해 일정한 기울기를 가지며 도금액(120)에 함침될 수 있다. 예컨대, 제 1 전극(130)은 도금조(110)의 바닥면에 대해 수직하게 함침될 수 있다. 이는, 도금과정에서 발생된 수소 기포가 제 1 전극(130)의 표면에 흡착되는 것을 줄이기 위함이다. 여기서, 수소 기포는 제 1 전극(130)에서 이루어지는 도금공정에 영향을 미치게 되어, 도금액(120)의 활성도 측정에 오류를 일으킬 수 있다.
제 1 전극(130)은 다양한 형태를 가질 수 있다. 예컨대, 도 2a에서와 같이, 제 1 전극(131)은 로드의 형태를 가질 수 있다. 또는 도 2b에서와 같이 제 1 전극(142)은 평판의 형태를 가질 수 있다. 여기서, 평탄 형태의 제 1 전극(132)은 구리로 이루어질 수 있다. 또는 평탄 형태의 제 1 전극(132)은 기판 및 기판의 표면에 도금된 구리로 이루어질 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예에서 제 1 전극(130)의 형태를 한정하는 것은 아니다.
이에 더하여, 도 2c에서와 같이, 제 1 전극(133)은 몸체(133a)의 표면의 일정 면적을 노출하는 제 1 개구(133c)를 가지며 몸체를 피복하는 절연체(133b)를 더 포함할 수 있다. 이때, 도금은 제 1 개구(133c)에 의해 노출된 제 1 전극(133)의 몸체(133a) 표면에서 이루어질 수 있다. 이에 따라, 제 1 전극(133)은 절연체(133b)의 제 1 개구(133c)의 면적을 조절함으로써, 실제 도금되는 도금 대상체와 동일한 도금 면적을 가지도록 조절할 수 있다.
이에 더하여, 절연체(133b)는 신호선(W1)과 접촉하기 위해 제 1 전극(133)의 몸체(133a) 일부가 노출된 제 2 개구(133d)를 더 포함할 수 있다.
다시, 도 1을 참조하면, 제 1 전극(130)은 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어질 수 있다. 이에 더하여, 제 1 전극(130)은 도금액(120)의 활성도를 더욱 정확하게 측정하기 위해, 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어질 수 있을 뿐만 아니라, 동일한 형태를 가질 수도 있다.
그러나, 본 발명의 실시예에서 이를 한정하는 것은 아니며, 제 1 전극(130)은 도금 대상체와 다른 재질, 예컨대 니켈, 구리, 금, 백금, 은, 흑연, 유리 및 세라믹 등을 이용할 수 있다.
제 2 전극(140)은 도금액(120)에 함침되어 인가된 전위에 따라 제 1 전극(130)으로부터 전류를 유입하거나 제 1 전극(130)으로 전류를 유출하는 역할을 할 수 있다.
제 3 전극(150)은 제 1 전극(130)에 인가된 신호전압을 일정하게 유지하는 역할을 할 수 있다. 즉, 제 3 전극(150)은 제 1 전극(130)에 신호전압이 정확하게 인가되었는지를 체크 및 제어하는 역할을 할 수 있다.
또한, 도금액의 활성도 측정장치(100)는 제 1 전극(130), 제 2 전극(140) 및 제 3 전극(150)과 전기적으로 연결되어 신호전압을 인가하며 인가된 신호전압과 제 1 전극에 측정된 전류로부터 임피던스 값을 산출하는 임피던스 측정부(160)를 포함할 수 있다.
여기서, 제 1 전극(130), 제 2 전극(140) 및 제 3 전극(150)과 임피던스 측정부(160)는 신호선(W1, W2, W3)에 의해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 도금액의 활성도 측정장치(100)는 임피던스 측정부(160)로부터 측정된 임피던스 값을 표시하는 처리부(170)를 포함할 수 있다. 여기서, 처리부(170)는 측정된 임피던스 값을 도금액의 활성도로 변환하는 변환부를 더 포함할 수 있다. 이때, 처리부는 도금액의 활성도 정보를 작업자게 표시할 수도 있다. 또한, 처리부(170)를 통해 작업자는 도금액의 활성도 측정장치(100)를 용이하게 조작할 수도 있다. 이때, 도금액의 활성도는 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형 시간으로 판단할 수 있다. 또는, 도금액의 활성도는 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형시간에 대한 측정된 임피던스값의 변화율로 판단할 수 있다.
이에 더하여, 처리부(170)는 제 1 전극(140)과 도금 대상체의 재질 차이로 인한 임피던스 값의 변화를 보정하기 위한 보정부를 더 포함할 수 있다.
이하, 도 3을 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 대해 설명하기로 한다. 본 발명의 제 2 실시예에서 진동부재를 제외하고 앞서 설명한 본 발명의 제 1 실시예와 동일한 기술적 구성 요소를 가진다. 따라서, 본 발명의 제 2 실시예에서 본 발명의 제 1 실시예와 반복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 기술적 구성에 대해서 동일한 참조 번호를 부여하기로 한다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정 장치에 대한 개략도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 다른 도금액의 활성도 측정장치(100)는 도금조(110), 제 1 전극(130), 제 2 전극(140), 제 3 전극(150), 임피던스 측정부(160) 및 처리부(170)를 포함할 수 있다.
여기서, 도금액의 활성도 측정장치(100)는 제 1 전극(130) 및 도금조(110)에 수용된 도금액(120)에서 시간에 따른 임피던스 값을 측정함으로써 도금액(120)의 활성도를 파악할 수 있다.
이에 더하여, 도금액의 활성도 측정장치(100)는 제 1 전극(130)에 진동을 인가하기 위한 진동부재(180)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 진동부재(180)는 제 1 전극(143)의 표면으로 도금과정에서 발생된 수소 기포의 흡착을 방지하는 역할을 할 수 있다.
이에 따라, 수고 기포의 흡착으로 인해 도금액의 활성도 측정에 오류를 범하는 것을 방지할 수 있어, 도금액의 활성도에 대한 정확도를 높일 수 있다.
이하, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 도금액의 활성도 측정법에 대해서 구체적으로 설명하기로 한다. 여기서, 도금액의 활성도 측정법은 상술한 도 1 내지 도 3을 참조하여 설명하기로 한다.
도금액(120)의 활성도를 측정하기 위해, 먼저 제 1 전극(130), 제 2 전극(140) 및 제 3 전극(150)을 도금액(120)에 함침한다. 여기서, 제 1 전극(130)은 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어질 수 있다. 이에 더하여, 제 1 전극(130)은 도금 대상체와 동일한 형태를 가질 수 있다. 또한, 제 1 전극(130)은 도금 대상체와 동일한 전처리 공정을 진행한 후 도금액의 활성도 측정에 이용될 수 있다. 예컨대, 무전해 동도금일 경우, 제 1 전극(130)은 기판의 표면에 도금된 구리를 포함하며, 구리 표면에 촉매로써 팔라듐 이온이 흡착되어 있을 수 있다. 그러나, 본 발명의 실시예에서, 도금의 재질에 한정되는 것은 아니며, 예컨대 무전해 금도금 및 무전해 니켈 도금일 수도 있다.
제 1 전극(130)이 함침되는 순간부터 제 1 전극(130)의 몸체의 표면에서 도금이 진행될 수 있다. 이때, 제 1 전극(130) 주변의 도금 용액에서 농도 변화가 이루어질 수 있다. 예컨대, 무전해 동도금일 경우, 도금이 진행되면서 제 1 전극(130)의 주변의 도금 용액에서 구리 이온이 점점 감소되며 수소 이온등이 발생하게 될 수 있다. 또한, 제 1 전극(130) 주변의 용액의 환원제 역시 구리 이온을 환원시킬 수 있다.
도금 용액의 농도 변화는 제 1 전극(130)의 표면과 제 1 전극(130) 주변의 도금 용액의 임피던스 값을 변화시킬 수 있다. 여기서, 임피던스 값의 변화는 도금 공정의 진행시간 변화에 따라 점점 감소하게 된다. 이때, 제 1 전극(130)의 표면에 도금이 일정하게 도금되기 시작하면 임피던스 값의 변화는 평형에 도달할 수 있다. 이에 따라, 도금액의 활성도는 평형에 도달하는 시간으로 판단할 수 있다. 또는 도금액의 활성도는 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형시간의 범위에서 측정된 임피던스값의 변화율, 즉 시간당 임피던스 값의 변화로 판단할 수 있다.
여기서, 도금액의 활성도를 측정하기 위해, 먼저 인가된 신호전압에 따른 제 1 전극(130)의 표면에 흐르는 전류를 측정한다. 이후, 임피던스 측정부(160)는 측정된 전류와 인가된 신호전압에 따라 임피던스값을 산출할 수 있다.
처리부(170)는 시간에 따라 측정된 임피던스 값을 표시할 수 있어, 작업자는 시간에 따른 임피던스값의 변화를 모니터할 수 있다. 이때, 처리부(170)는 산출된 임피던스 값을 활성도로 변환하여 표시할 수도 있다.
여기서, 도금액의 활성도는 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형 시간으로 판단될 수 있다. 또는, 도금액의 활성도는 일정 시간 범위 내, 즉 도금시작하는 시간에서부터 평형시간까지의 임피던스값의 변화율로 판단될 수 있다.
이후, 처리부(170)에서 도금액의 활성도와 간접적인 무게측정법이나 직접적인 분석기기를 통해 측정된 도금의 두께값을 비교 및 보정함으로써, 도금액의 활성도에 따른 도금 두께를 테이블화하여 저장할 수 있다.
이후, 도금액의 활성도를 측정한 후 저장된 테이블을 이용함으로써, 도금 정도, 도금 두께 및 도금 소요 시간등을 예측할 수 있어, 도금 공정 셋팅 조절에 이용할 수 있다.
이때, 제 1 전극이 도금대상체와 상이할 경우, 예비실험을 통해 제 1 전극의 재질이나 형태의 차이에 따른 임피던스값의 오차율에 대한 데이터를 구축한다. 이후, 구축된 데이터를 통해 측정된 임피던스 값을 보정하여 도금액의 활성도 측정에 이용할 수 있다.
또한, 임피던스 값을 측정하는 과정에서 제 1 전극(130)의 표면에 수소 기포가 흡착되는 것을 방지하기 위해, 제 1 전극(130)에 진동을 인가할 수 있다.
이에 따라, 본 발명의 실시예들에서와 같이, 도금액의 활성도는 시간에 따른 임피던스 값의 변화율을 측정함으로써 판단될 수 있어, 도금액의 조성에 직접적으로 영향을 미치지 않으며 실시간으로 도금액의 활성도를 측정할 수 있다.
또한, 도금액의 활성도를 측정하기 위해, 별도로 측정용 기판을 제작할 필요가 없을 뿐만 아니라, 측정용 기판의 재질에 대한 선택 자유도가 높을 수 있다.
또한, 별도로 기판을 채취할 필요가 없이 용이하게 활성도를 측정할 수 있을 뿐만 아니라, 측정 시간을 단축할 수 있다.
100 : 도금액 활성도 측정장치
110 : 도금조
120 : 도금액
130 : 제 1 전극
140 : 제 2 전극
150 : 제 3 전극
160 : 임피던스 측정부
170 : 처리부
180 : 진동부재

Claims (18)

  1. 도금 대상체의 도금을 위한 도금액을 수용하는 도금조;
    상기 도금액에 함침되어 몸체에 도금이 이루어지며, 인가된 신호전압에 따라 상기 도금액 및 상기 몸체의 표면에 흐르는 전류를 측정하는 제 1 전극;
    상기 도금액에 함침되어 상기 제 1 전극으로부터 전류를 유입하거나 상기 제 1 전극으로 전류를 유출하는 제 2 전극;
    상기 제 1 전극에 인가되는 상기 신호전압을 일정하게 유지하도록 제어하는 제 3 전극;
    상기 제 1 전극에 측정된 전류로부터 임피던스 값을 산출하는 임피던스 측정부; 및
    상기 산출된 임피던스값의 변화를 시간에 따라 표시하는 처리부;
    를 포함하는 도금액의 활성도 측정장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 처리부는 상기 측정된 임피던스 값으로부터 활성도를 변환하는 변환부를 포함하는 도금액의 활성도 측정장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 도금액의 활성도는 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형 시간으로 판단하는 도금액의 활성도 측정장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 도금액의 활성도는 상기 제 1 전극의 도금시작시간에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형시간의 범위에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율로 판단하는 도금액의 활성도 측정 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 로드 형태 또는 평판 형태를 갖는 도금액의 활성도 측정장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극 표면의 일정 면적을 노출하며 상기 제 1 전극을 피복하는 절연체를 더 포함하는 도금액의 활성도 측정장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극의 진동을 위한 진동부재를 더 포함하는 도금액의 활성도 측정장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 상기 도금조의 바닥면에 대해 일정 각도를 가지도록 함침된 도금액의 활성도 측정장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 상기 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어진 도금액의 활성도 측정장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 전극은 상기 도금 대상체와 다른 재질로 이루어진 도금액의 활성도 측정장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 처리부는 상기 제 1 전극과 상기 도금 대상체의 재질 차이로 인한 임피던스 값의 변화를 보정하기 위한 보정부를 더 포함하는 도금액의 활성도 측정장치.
  12. 도금액 및 도금액에 함침된 전극의 몸체의 표면에서 시간에 따른 임피던스 값을 측정하는 단계; 및
    상기 측정된 임피던스 값의 변화율을 통해 상기 도금액의 활성도를 변환하는 단계;
    를 포함하는 도금액의 활성도 측정 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 도금액의 활성도는 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형 시간으로 판단되는 도금액의 활성도 측정 방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 도금액의 활성도는 상기 전극의 도금시작시간에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율이 일정해지는 평형시간의 범위에서 상기 측정된 임피던스값의 변화율로 판단되는 도금액의 활성도 측정 방법.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 임피던스 값을 측정하는 단계에서 상기 전극에 진동을 인가하는 도금액의 활성도 측정 방법.
  16. 제 12 항에 있어서,
    상기 전극은 상기 도금액에 도금되는 도금 대상체와 동일한 재질로 이루어진 도금액의 활성도 측정 방법.
  17. 제 12 항에 있어서,
    상기 전극은 상기 도금액에 도금되는 도금 대상체와 다른 재질로 이루어진 도금액의 활성도 측정 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 임피던스 값을 측정하는 단계 이후에 상기 도금 대상체와 상기 전극의 재질 차이로 발생하는 임피던스 값을 보정하는 단계를 더 포함하는 도금액의 활성도 측정 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4755744A (en) * 1986-01-21 1988-07-05 Rohrback Corporation Plated sensor for monitoring corrosion or electroplating
US4692346A (en) * 1986-04-21 1987-09-08 International Business Machines Corporation Method and apparatus for controlling the surface chemistry on objects plated in an electroless plating bath
US4707378A (en) * 1986-07-11 1987-11-17 International Business Machines Corporation Method and apparatus for controlling the organic contamination level in an electroless plating bath
US4808431A (en) * 1987-12-08 1989-02-28 International Business Machines Corp. Method for controlling plating on seeded surfaces
US4882537A (en) * 1988-05-09 1989-11-21 Rohrback Cosasco Systems, Inc. Method and apparatus for reducing interference in an electrical resistance probe during electrolytic plating
JPH04221080A (ja) * 1990-12-21 1992-08-11 Nippon Chemicon Corp 無電解めっき厚膜制御方法
JPH0548267A (ja) * 1991-08-15 1993-02-26 Mitsubishi Electric Corp プリント基板の無電解めつき方法
JPH0798296A (ja) * 1993-09-30 1995-04-11 Hitachi Chem Co Ltd 無電解銅めっき液中の添加剤の濃度測定法
US5391285A (en) * 1994-02-25 1995-02-21 Motorola, Inc. Adjustable plating cell for uniform bump plating of semiconductor wafers
JP2000256865A (ja) * 1999-03-09 2000-09-19 Nikon Corp 無電解めっき方法およびその装置
JP2001247996A (ja) * 2000-03-06 2001-09-14 Ebara Corp めっき装置
EP1176403A3 (en) * 2000-07-28 2003-03-19 Seiko Epson Corporation Detector of liquid consumption condition
JP4672189B2 (ja) * 2001-06-11 2011-04-20 凸版印刷株式会社 配線基板または半導体回路の製造方法
JP2009076553A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Hitachi Aic Inc プリント配線板の無電解めっき方法
JP4774032B2 (ja) * 2007-12-05 2011-09-14 三菱重工業株式会社 めっき方法及びめっき装置
US8962279B2 (en) * 2009-12-30 2015-02-24 Intel Corporation Solid-phase chelators and electronic biosensors

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