KR20110085969A - Thermosetting resin composition - Google Patents

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Abstract

[과제]
접착층의 점착성(tack성)에 의해 전자 부품을 접착층에 고정하고, 당해 접착층을 열경화시킨 경우에, 부품의 고정 위치 정밀도 및 절연 신뢰성이 높은 부품 내장 기판을 제조할 수 있는 열경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
[해결 수단]
액상 에폭시 수지, 페놀계 경화제, 무기 필러 및 아크릴 수지를 함유하는 특정한 열경화 수지 조성물을 사용한다.
[assignment]
When the electronic component is fixed to the adhesive layer by the tack of the adhesive layer and the adhesive layer is thermoset, the thermosetting resin composition which can manufacture the component-embedded board | substrate with which the component fixed position and high insulation reliability of a component are high can be provided. will be.
[Workaround]
Specific thermosetting resin compositions containing liquid epoxy resins, phenolic curing agents, inorganic fillers and acrylic resins are used.

Description

열경화성 수지 조성물 {Thermosetting resin composition}Thermosetting resin composition

본 발명은, 부품 내장(部品 內藏) 기판의 제조에 유용한 열경화성 수지 조성물, 및 당해 열경화성 수지 조성물을 사용한 접착층을 갖는 접착 필름, 및 당해 접착 필름을 사용한 부품 내장 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a thermosetting resin composition useful for the production of a component embedded substrate, an adhesive film having an adhesive layer using the thermosetting resin composition, and a method for producing a component embedded substrate using the adhesive film.

프린트 배선판에 있어서는 경박단소화(輕薄短小化)에 의한 고밀도화가 요구되고 있다. 부품 내장 기판에 있어서도 매립(

Figure pct00001
) 부품이 작아져, 매립시에 높은 위치 정밀도가 필요하게 된다. 또한, 기판 전체의 크기를 작게 할 필요가 있기 때문에, 매립 부품과 부품 주변의 회로의 사이에는, 높은 절연성을 갖는 재료가 필요하게 된다. In printed wiring boards, high density is required due to light and small size reduction. Also embedded in component embedded boards
Figure pct00001
) The parts become smaller, and high positional accuracy is required at the time of embedding. In addition, since the size of the entire substrate needs to be reduced, a material having high insulation is required between the buried component and the circuit around the component.

부품 내장 기판의 제조 방법으로서는, 시트제와 점착제가 있는 시트제에 의해, 부품을 가고정(假固定)하고, 부품을 수지로 봉지(封止)한 후, 시트를 제거하는 방법(특허문헌 1)이 개시되어 있지만, 구체적인 조성은 개시되지 않았다. 또한, 부품을 봉지한 후에 점착제를 제거할 필요가 있기 때문에 공정의 수가 증대된다.As a manufacturing method of a board | substrate with a component, the method of removing a sheet after temporarily fixing a component and sealing a component with resin by the sheet agent and the sheet agent with an adhesive (patent document 1) ) Is disclosed, but no specific composition is disclosed. Moreover, since it is necessary to remove an adhesive after sealing a component, the number of processes increases.

또한, 코어 기판의 전자 부품 실장면(實裝面)에 점착재로 부품을 가고정하고, 부품을 수지로 봉지하는 방법(특허문헌 2)이 개시되어 있다. 점착재로서는, 전기적으로 절연성을 갖고, 또한 고열을 가했을 때에, 증발 또는 기체가 되는 재료가 바람직하다고 하여, 사용하는 고분자의 구체적인 예로서, 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 말레인화유 수지, 폴리부타엔 수지, 에폭시 수지 등을 단독으로, 또는 임의의 조합에 의한 혼합물로서 사용할 수 있다고 되어 있다. 또한, 이들 고분자 수지에 점착성을 부여하기 위해서 로진계, 테르펜계, 석유 수지계 등의 점착 부여 수지를 필요에 따라서 첨가할 수 있다고 되어 있다. 그렇지만, 점착재의 구체적인 조성은 개시되지 않았다. Moreover, the method (patent document 2) which temporarily fixes a component with an adhesive material to the electronic component mounting surface of a core board | substrate, and seals a component with resin is disclosed. As an adhesive material, since it is electrically insulating and when a high heat is added, it is preferable that the material which becomes evaporation or a gas is preferable, As a specific example of the polymer used, an acrylic resin, a polyester resin, a maleinized oil resin, a polybutene It is said that resin, an epoxy resin, etc. can be used individually or as a mixture by arbitrary combinations. Moreover, in order to provide adhesiveness to these polymer resins, it is said that tackifying resins, such as rosin type, a terpene type, a petroleum resin type, can be added as needed. However, the specific composition of the adhesive was not disclosed.

또한, 접착층을 전자 부품의 접착 개소(箇所)뿐만 아니라, 전체면에 구비한 절연성 기재 위에 부품을 가고정하고, 부품을 수지로 봉지하는 방법(특허문헌 3)이 개시되어 있다. 접착층으로서는, 에폭시 수지계, 폴리우레탄계, 반응성 아크릴계, 자외선 경화형이나 실리콘계가 예시되고, 예로서, 에폭시 수지계나 실리콘계 등에, 페놀 수지, 유기산 무수물, 아민이나 경화 촉진제 등의 경화제를 혼합하여 사용된다고 개시되어 있다. 그리고, 부품 고정을 위해서, 경화 온도에서의 가열 또는 자외선의 조사 등에 의해 경화시키는 수법이 개시되어 있다. 그러나, 접착층의 구체적인 조성은 개시되지 않았다. 또한, 접착층의 열경화에 의해 전자 부품을 고정할 경우, 접착층의 용융에 의해 부품의 고정 위치 정밀도가 저하된다고 하는 문제가 있다. 또한, 자외선에 의한 경화는 공정이 복잡해지는 문제가 있다.
Moreover, the method (patent document 3) which temporarily fixes a component on the insulating base material provided in the whole surface as well as the adhesion point of an electronic component, and seals a component with resin is disclosed. Examples of the adhesive layer include epoxy resins, polyurethanes, reactive acrylics, ultraviolet curables and silicones. For example, epoxy resins, silicones, and the like are used in combination with curing agents such as phenol resins, organic acid anhydrides, amines and curing accelerators. . And the method of hardening by heating at the hardening temperature, irradiation of an ultraviolet-ray, etc. for fixing a component is disclosed. However, the specific composition of the adhesive layer has not been disclosed. Moreover, when fixing an electronic component by thermosetting of an adhesive layer, there exists a problem that the fixing position precision of a component falls by melting of an adhesive layer. In addition, curing with ultraviolet rays has a problem that the process is complicated.

[특허문헌 1] 일본 공개특허공보 2002-204045호[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-204045 [특허문헌 2] 일본 공개특허공보 2004-296562호[Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-296562 [특허문헌 3] 일본 공개특허공보 2007-42829호[Patent Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-42829

본원 발명의 과제는, 접착층의 점착성(tack성)에 의해 전자 부품을 접착층에 고정하고, 당해 접착층을 열경화시킨 경우에, 부품의 고정 위치 정밀도 및 절연 신뢰성이 높은 부품 내장 기판을 제조할 수 있는 열경화성 수지 조성물을 제공하는 것이다. An object of the present invention is to manufacture a component-embedded substrate having high fixing position accuracy and insulation reliability of a component when the electronic component is fixed to the adhesive layer by the adhesiveness of the adhesive layer and the adhesive layer is thermoset. It is to provide a thermosetting resin composition.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 액상 에폭시 수지, 페놀계 경화제, 무기 필러 및 아크릴 수지를 함유하는 특정한 열경화성 수지 조성물을 사용함으로써, 본 발명을 완성시켰다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, the present inventors completed this invention by using the specific thermosetting resin composition containing a liquid epoxy resin, a phenolic hardening | curing agent, an inorganic filler, and an acrylic resin.

즉, 본 발명은 이하의 내용을 포함하는 것이다. That is, this invention includes the following content.

[1] 부품 내장 기판의 부품 고정 및 절연층 형성에 사용되는 열경화성 수지 조성물로서, 열경화성 수지 조성물의 불휘발분을 100중량%로 한 경우에, 25℃에서 액상인 에폭시 수지를 25 내지 40중량%, 아크릴 수지를 0.1 내지 5중량%, 페놀계 경화제를 5 내지 30중량% 및 무기 필러를 20 내지 70중량% 함유하는 열경화성 수지 조성물.[1] A thermosetting resin composition used for fixing parts and forming insulating layers of component embedded substrates, wherein the non-volatile content of the thermosetting resin composition is 100 wt%, 25 to 40 wt% of the liquid epoxy resin at 25 ° C; A thermosetting resin composition containing 0.1 to 5% by weight of an acrylic resin, 5 to 30% by weight of a phenolic curing agent and 20 to 70% by weight of an inorganic filler.

[2] 아크릴 수지가 아크릴산에스테르 공중합체인 상기 [1]에 기재된 열경화성 수지 조성물.[2] The thermosetting resin composition according to the above [1], wherein the acrylic resin is an acrylic acid ester copolymer.

[3] 아크릴 수지가 아크릴산메틸, 아크릴산부틸, 아크릴로니트릴을 함유하는 아크릴산에스테르 공중합체인 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 열경화성 수지 조성물.[3] The thermosetting resin composition according to the above [1] or [2], wherein the acrylic resin is an acrylate ester copolymer containing methyl acrylate, butyl acrylate, and acrylonitrile.

[4] 아크릴 수지가 에폭시기, 하이드록실기, 카르복실기로부터 선택되는 1종 이상의 기를 함유하는 상기 [1] 내지 [3]에 기재된 열경화성 수지 조성물.[4] The thermosetting resin composition according to the above [1] to [3], in which the acrylic resin contains at least one group selected from an epoxy group, a hydroxyl group, and a carboxyl group.

[5] 아크릴 수지가 하이드록실기 및 카르복실기를 함유하는 상기 [1] 내지 [4]에 기재된 열경화성 수지 조성물.[5] The thermosetting resin composition according to the above [1] to [4], wherein the acrylic resin contains a hydroxyl group and a carboxyl group.

[6] 지지체 위에, 상기 [1] 내지 [5]에 기재된 열경화성 수지 조성물에 의해 형성된 접착층을 갖는, 부품 내장 기판의 부품 고정 및 절연층 형성에 사용되는 접착 필름.[6] An adhesive film used for component fixing and insulating layer formation of a component-embedded substrate, having an adhesive layer formed of the thermosetting resin composition according to the above [1] to [5] on a support.

[7] 접착층의 두께가 5 내지 100㎛인 상기 [6]에 기재된 접착 필름.[7] The adhesive film according to the above [6], wherein the adhesive layer has a thickness of 5 to 100 µm.

[8] 지지체가 플라스틱 필름인 상기 [6] 또는 [7]에 기재된 접착 필름.[8] The adhesive film according to the above [6] or [7], wherein the support is a plastic film.

[9] 지지체의 접착층측의 면이 이형(離型) 처리되어 있는 상기 [6] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 접착 필름.[9] The adhesive film according to any one of the above [6] to [8], in which the surface on the adhesive layer side of the support is subjected to a release treatment.

[10] 상기 [1] 내지 [9] 중 어느 하나에 기재된 접착 필름의 접착층 위에 전자 부품을 고정하는 공정 및 당해 접착층을 열경화시켜 절연층을 형성하는 공정을 포함하는 부품 내장 기판의 제조 방법.
[10] A method for manufacturing a component-embedded substrate comprising the step of fixing the electronic component on the adhesive layer of the adhesive film according to any one of [1] to [9], and the step of thermally curing the adhesive layer to form an insulating layer.

본 발명에 따르면, 액상 에폭시 수지, 페놀계 경화제, 무기 필러 및 아크릴 수지를 함유하는 특정한 열경화성 수지 조성물을 사용함으로써, 접착층의 점착성(tack성)에 의해 전자 부품을 접착층에 고정하고, 당해 접착층을 열경화시킨 경우에, 부품의 고정 위치 정밀도 및 절연 신뢰성이 높은 부품 내장 기판을 제조할 수 있는 열경화성 수지 조성물을 제공할 수 있게 되었다.
According to the present invention, by using a specific thermosetting resin composition containing a liquid epoxy resin, a phenolic curing agent, an inorganic filler, and an acrylic resin, the electronic component is fixed to the adhesive layer by tack of the adhesive layer, and the adhesive layer is heated. When hardened | cured, it became possible to provide the thermosetting resin composition which can manufacture the board | substrate with a high component fixed position accuracy and insulation reliability.

도 1은 부품 고정성 평가 시험에 있어서의 평가 방법의 개념도이다.
도 2는 부품 위치 이탈 평가 시험에 있어서의 평가 방법의 개념도이다.
1 is a conceptual diagram of an evaluation method in a part fixation evaluation test.
It is a conceptual diagram of the evaluation method in a component position deviation evaluation test.

[25℃에서 액상인 에폭시 수지][Epoxy Resin Liquid at 25 ° C]

본 발명에 있어서 「25℃에서 액상인 에폭시 수지」는, 주로, 경화물의 내열성 및 절연성을 높이는 동시에, 열경화성 수지 조성물의 점착성에 기여한다. 25℃에서 액상인 에폭시 수지로서는, 구체적으로는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락 페놀형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 3급 부틸카테콜형 에폭시 수지, 부타디엔 구조를 갖는 에폭시 수지, 지방족계 글리시딜에테르, 알코올류의 글리시딜에테르화물, 및 이들의 에폭시 수지의 할로겐화물 및 수소 첨가물 등이 있다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In this invention, "a liquid epoxy resin at 25 degreeC" mainly improves the heat resistance and insulation of hardened | cured material, and contributes to the adhesiveness of a thermosetting resin composition. Specific examples of the epoxy resin liquid at 25 ° C include bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, novolac phenol epoxy resin, naphthalene epoxy resin, tertiary butylcatechol epoxy resin, and epoxy having butadiene structure. Resins, aliphatic glycidyl ethers, glycidyl ethers of alcohols, and halides and hydrogenated products of these epoxy resins. These can be used by 1 type or in combination of 2 or more types.

이들 중에서도, 내열성, 절연 신뢰성의 관점에서 비스페놀 A형 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 나프탈렌형 에폭시 수지, 지방족계 글리시딜에테르, 부타디엔 구조를 갖는 에폭시 수지가 바람직하다. 이와 같은 에폭시 수지의 구체적인 예로서는, 액상 비스페놀 A형 에폭시 수지(재팬에폭시레진(주) 제조 「에피코트828EL」), 액상 비스페놀 F형 에폭시 수지(재팬에폭시레진(주) 제조 「에피코트807」), 나프탈렌형 2관능 에폭시 수지(다이닛폰잉크가가쿠고교(주) 제조 「HP4032」, 「HP4032D」), 지방족계 글리시딜에테르(토토가세이(주) 제조 「ZX-1658」), 부타디엔 구조를 갖는 에폭시 수지(다이셀가가쿠고교(주) 제조 「PB-3600」) 등을 들 수 있다. 「25℃에서 액상인 에폭시 수지」는 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.Among them, epoxy resins having a bisphenol A epoxy resin, a naphthol type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, an aliphatic glycidyl ether, and a butadiene structure are preferable from the viewpoint of heat resistance and insulation reliability. As a specific example of such an epoxy resin, liquid bisphenol A-type epoxy resin (Japan Epi Resin Co., Ltd. product "Epicoat 828EL"), liquid bisphenol F type epoxy resin (Japan Epi Resin Co., Ltd. product "Epicoat 807"), Naphthalene type bifunctional epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. product "HP4032", "HP4032D"), aliphatic glycidyl ether (Totogase Co., Ltd. product "ZX-1658"), butadiene structure Epoxy resin (Deicel Chemical Co., Ltd. product "PB-3600") to have, etc. are mentioned. "Epoxy resin liquid at 25 degreeC" may be used in combination of 2 or more type.

열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 25℃에서 액상인 에폭시 수지의 함유량의 상한치는, 점착력이 커져 커버 필름의 박리성이 나빠지는 것을 방지하고, 또한 필름 경화시에 부품의 위치 이탈이 생기기 쉬워지는 것을 방지한다는 관점에서, 40중량%가 바람직하고, 35중량%가 더욱 바람직하다. 한편, 열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 25℃에서 액상인 에폭시 수지의 함유량의 하한치는, 접착필름에 부품이 고정되기 어려워지는 것을 방지한다는 관점에서, 25중량%가 바람직하고, 30중량%가 더욱 바람직하다.
When the non-volatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the upper limit of the content of the liquid epoxy resin at 25 ° C prevents the adhesiveness from increasing and the peelability of the cover film deteriorates, and at the time of film curing, From the viewpoint of preventing the positional deviation from occurring easily, 40% by weight is preferable, and 35% by weight is more preferable. On the other hand, when the non-volatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the lower limit of the content of the liquid epoxy resin at 25 ° C is preferably 25% by weight from the viewpoint of preventing the parts from being hardly fixed to the adhesive film. 30 weight% is more preferable.

[아크릴 수지][Acrylic resin]

본 발명에 있어서 「아크릴 수지」는, 주로, 열경화성 수지 조성물의 점착성에 기여한다. 아크릴 수지로서는, 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 폴리아크릴산에스테르, 폴리메타크릴산에스테르, 폴리아크릴산에스테르 공중합체, 폴리메타크릴산에스테르 공중합체 등을 들 수 있다. 또한, 아크릴 수지는 특히 점착성이 우수한 아크릴산에스테르 공중합체가 바람직하고, 또한 아크릴산메틸에스테르 공중합체, 아크릴산에틸에스테르 공중합체가 바람직하다. 공중합 화합물로서는, 아크릴산메틸, 아크릴산부틸, 아세트산비닐, 아크릴로니트릴, 아크릴아미드 등을 들 수 있고, 이 중에서도 아크릴산메틸, 아크릴산부틸, 아크릴로니트릴이 바람직하다. 또한, 아크릴산메틸에스테르 공중합체 또는 아크릴산에틸에스테르 공중합체는, 또한 에폭시기, 하이드록시기, 카르복실기로부터 선택되는 1종 이상의 기를 함유하는 것이 바람직하고, 특히 하이드록실기 및/또는 카르복실기를 함유하는 것이 바람직하다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. In this invention, "acrylic resin" mainly contributes to the adhesiveness of a thermosetting resin composition. Examples of the acrylic resin include polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, polyacrylic acid ester copolymer, polymethacrylic acid ester copolymer and the like. The acrylic resin is particularly preferably an acrylic ester copolymer having excellent adhesiveness, and further preferably an acrylic acid methyl ester copolymer and an acrylic acid ethyl ester copolymer. Examples of the copolymer compound include methyl acrylate, butyl acrylate, vinyl acetate, acrylonitrile and acrylamide. Among these, methyl acrylate, butyl acrylate and acrylonitrile are preferable. In addition, the acrylic acid methyl ester copolymer or acrylic acid ethyl ester copolymer preferably further contains at least one group selected from an epoxy group, a hydroxyl group, and a carboxyl group, and particularly preferably contains a hydroxyl group and / or a carboxyl group. . These can be used by 1 type or in combination of 2 or more types.

열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 아크릴 수지의 함유량의 상한치는, 점착력이 커져 커버 필름의 박리성이 나쁘고, 취급성이 떨어지는 것을 방지한다는 관점에서, 5중량%가 바람직하고, 3중량%가 더욱 바람직하다. 한편, 열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 아크릴 수지의 함유량의 하한치는, 점착성의 저하에 의해 부품 고정이 곤란해지는 것을 방지한다는 관점에서, 0.1중량%가 바람직하고, 0.5중량%가 더욱 바람직하다. In the case where the nonvolatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the upper limit of the content of the acrylic resin is preferably 5% by weight from the viewpoint of preventing the cover film from being poor in peelability and poor handleability. , 3% by weight is more preferable. On the other hand, in the case where the nonvolatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the lower limit of the content of the acrylic resin is preferably 0.1% by weight, and 0.5% by weight from the viewpoint of preventing the fixing of the parts by difficulty in adhesion. % Is more preferred.

아크릴 수지의 중량 평균 분자량의 상한치는, 용제 및 에폭시 수지에 대한 용해성이 저하되고, 균일한 열경화성 수지 조성물을 작성하는 것이 곤란해지는 것을 방지한다는 관점에서, 1,200,000이 바람직하고, 900,000이 더욱 바람직하다. 한편, 아크릴 수지의 중량 평균 분자량의 하한치는, 조성물의 점착성이 저하되고, 부품 고정이 곤란해지는 것을 방지한다는 관점에서, 400,000이 바람직하고, 500,000이 더욱 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)법(폴리스티렌 환산)으로 측정된다. GPC법에 의한 중량 평균 분자량은, 구체적으로는, 측정 장치로서 (주)시마즈세이사쿠쇼 제조 LC-9A/RID-6A를, 칼럼으로서 쇼와덴코(주) 제조 Shodex K-800P/K-804L/K-804L을, 이동상으로서 클로로포름 등을 사용하여, 칼럼 온도 40℃에서 측정하고, 표준 폴리스티렌의 검량선(檢量線)을 사용하여 산출할 수 있다.1,200,000 is preferable and 900,000 are more preferable from a viewpoint that the upper limit of the weight average molecular weight of an acrylic resin prevents the solubility to a solvent and an epoxy resin falling, and making it difficult to produce a uniform thermosetting resin composition. On the other hand, 400,000 are preferable and 500,000 are more preferable from a viewpoint that the lower limit of the weight average molecular weight of an acrylic resin prevents adhesiveness of a composition from falling and it becomes difficult to fix components. In addition, the weight average molecular weight in this invention is measured by the gel permeation chromatography (GPC) method (polystyrene conversion). As for the weight average molecular weight by GPC method, the Shodex K-800P / K-804L made by Showa Denko Co., Ltd. as LC as a measuring instrument by LC-9A / RID-6A made by Shimadzu Corporation / K-804L can be measured at a column temperature of 40 ° C. using chloroform or the like as a mobile phase, and can be calculated using a calibration curve of standard polystyrene.

시판되고 있는 아크릴 수지로서는, 구체적으로는, 아론택 S-1511L, S-1511X, S-1515, S-1517(토아가세이(주) 제조) 토아아크론 AR-601, AR-602, AR-603((주)토페사 제조) 니폴AR-31, AR-51, AR-54(니혼제온(주) 제조), 녹스타이트PA-301, PA-501, PA-502(NOK(주) 제조), 테이산레진 WS-022, WS-023, SG-51, SG-70L, SG-80(나가세캠텍스(주) 제조), KH-LT, KH-CT(히타치가세이고교(주) 제조) 등을 들 수 있다. 「아크릴 수지」는 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.
As a commercially available acrylic resin, specifically, Aarontech S-1511L, S-1511X, S-1515, S-1517 (Toagasei Co., Ltd. product) Toacron AR-601, AR-602, AR-603 Nippon AR-31, AR-51, AR-54 (manufactured by Nihon Xeon Co., Ltd.), Knoxite PA-301, PA-501, PA-502 (manufactured by NOK Corporation), Teisan resin WS-022, WS-023, SG-51, SG-70L, SG-80 (manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd.), KH-LT, KH-CT (manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.) Can be mentioned. "Acrylic resin" may be used in combination of 2 or more type.

[페놀계 경화제][Phenol Curing Agent]

본 발명에 있어서 「페놀계 경화제」는, 주로 에폭시 수지의 경화제로서 기능한다. 페놀계 경화제로서는 페놀성 하이드록실기를 갖고 에폭시 수지의 경화제로서 기능하면 특별히 한정되지 않는다. 일반적으로는, 분자 내에 2개 이상의 페놀성 하이드록실기를 갖는 페놀 화합물이 사용되고, 구체적으로는, 페놀노볼락 수지, 크레졸노볼락 수지 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 페놀계 경화제로서는, 예를 들면 MEH-7700, MEH-7810, MEH-7851(메이와가세이(주) 제조), NHN, CBN, GPH(니혼카야쿠(주) 제조), SN170, SN180, SN190, SN475, SN485, SN495, SN375, SN395(토토가세이(주) 제조), TD2090, TD2093, KA1160, KA1163, LA7052, LA7054, LA3018, LA1356(다이닛폰잉크가가쿠고교(주) 제조) 등을 들 수 있다. 「페놀계 경화제」는 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. In this invention, a "phenolic hardening | curing agent" functions mainly as a hardening | curing agent of an epoxy resin. It will not specifically limit, if it has a phenolic hydroxyl group and functions as a hardening | curing agent of an epoxy resin as a phenolic hardening | curing agent. Generally, the phenol compound which has a 2 or more phenolic hydroxyl group in a molecule | numerator is used, Specifically, a phenol novolak resin, a cresol novolak resin, etc. are mentioned. As a commercially available phenolic hardener, for example, MEH-7700, MEH-7810, MEH-7851 (made by Meiwa Kasei Co., Ltd.), NHN, CBN, GPH (manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd.), SN170, SN180, SN190, SN475, SN485, SN495, SN375, SN395 (manufactured by Totogasei Co., Ltd.), TD2090, TD2093, KA1160, KA1163, LA7052, LA7054, LA3018, LA1356 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Etc. can be mentioned. You may use a "phenolic hardening | curing agent" in combination of 2 or more type.

열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 페놀계 경화제의 함유량의 상한치는, 점착력의 저하의 방지나 경화제 성분이 과잉이 되고, 내열성, 절연성 등의 절연 재료로서 중요한 특성의 저하를 일으키는 것을 방지한다는 관점에서, 30중량%가 바람직하고, 25중량%가 더욱 바람직하고, 20중량%가 더욱더 바람직하고, 15중량%가 특히 바람직하다. 한편, 열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 페놀계 경화제의 함유량의 하한치는, 경화제 성분이 과소(過少)가 되고, 수지의 경화가 대단히 늦어지는 것 이외에, 내열성, 절연성 등의 절연 재료로서 중요한 특성의 저하를 일으키는 것을 방지한다는 관점에서, 5중량%가 바람직하고, 10중량%가 더욱 바람직하다.
When the non-volatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the upper limit of the content of the phenolic curing agent is to prevent the reduction of adhesive force and the curing agent component to be excessive, and to reduce the deterioration of important properties as an insulating material such as heat resistance and insulation. From the viewpoint of preventing the occurrence, 30% by weight is preferable, 25% by weight is more preferable, 20% by weight is even more preferable, and 15% by weight is particularly preferable. On the other hand, in the case where the nonvolatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the lower limit of the content of the phenolic curing agent is excessively low and the curing of the resin is extremely slow. From the standpoint of preventing the deterioration of important properties as the insulating material, 5% by weight is preferable, and 10% by weight is more preferable.

[무기 필러][Weapon filler]

본 발명에 있어서 「무기 필러」는, 주로 형성되는 절연층의 열팽창율을 저하시킬 목적으로 사용된다. 무기 충전재로서는, 구체적으로는, 실리카, 알루미나, 황산바륨, 탈크, 클레이, 운모분, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 산화마그네슘, 질화붕소, 붕산알루미늄, 티탄산바륨, 티탄산스트론튬, 티탄산칼슘, 티탄산마그네슘, 티탄산비스머스, 산화티탄, 지르콘산바륨, 지르콘산칼슘 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 무정형 실리카, 용융 실리카, 결정 실리카, 합성 실리카 등의 실리카가 특히 적합하다. 실리카로서는 구상(球狀)의 것이 바람직하다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the "inorganic filler" is mainly used for the purpose of reducing the thermal expansion coefficient of the insulating layer formed. Specific examples of the inorganic fillers include silica, alumina, barium sulfate, talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, strontium titanate, and titanic acid. Calcium, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, calcium zirconate, etc. are mentioned, Among these, silica, such as amorphous silica, fused silica, crystalline silica, synthetic silica, is especially suitable. As silica, a spherical thing is preferable. These can be used by 1 type or in combination of 2 or more types.

무기 필러의 평균 입자 직경의 상한치는, 절연 신뢰성의 관점에서, 3㎛ 이하가 바람직하고, 1.5㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 한편, 무기 필러의 평균 입자 직경의 하한치는, 열경화성 수지 조성물을 수지 바니시로 한 경우에, 바니시의 점도가 상승하고, 취급성이 저하되는 것을 방지한다는 관점에서, 0.05㎛ 이상이 바람직하다. 무기 필러의 최대 입자 직경은, 절연성의 관점에서, 5㎛ 이하가 바람직하다.3 micrometers or less are preferable from a viewpoint of insulation reliability, and, as for the upper limit of the average particle diameter of an inorganic filler, 1.5 micrometers or less are more preferable. On the other hand, the lower limit of the average particle diameter of the inorganic filler is preferably 0.05 µm or more from the viewpoint of preventing the viscosity of the varnish from rising and the handleability from deteriorating when the thermosetting resin composition is used as the resin varnish. As for the largest particle diameter of an inorganic filler, 5 micrometers or less are preferable from an insulating viewpoint.

무기 필러의 평균 입자 직경은 미(Mie) 산란 이론에 기초한 레이저 회절·산란법에 의해 측정할 수 있다. 구체적으로는 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치에 의해, 무기 충전재의 입도 분포를 체적 기준으로 작성하고, 그 메디안 직경을 평균 입자 직경으로 하는 것으로 측정할 수 있다. 측정 샘플은, 무기 충전재를 초음파에 의해 수중에 분산시킨 것을 바람직하게 사용할 수 있다. 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치로서는, (주)호리바세이사쿠쇼 제조 LA-500 등을 사용할 수 있다.The average particle diameter of an inorganic filler can be measured by the laser diffraction scattering method based on the Mie scattering theory. Specifically, the particle size distribution of the inorganic filler can be prepared on the basis of volume by a laser diffraction particle size distribution measuring device, and the median diameter can be measured as the average particle diameter. The measurement sample can use preferably what disperse | distributed the inorganic filler in water according to the ultrasonic wave. As a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus, LA-500 manufactured by Horiba Seisakusho, etc. can be used.

열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 무기 필러의 함유량의 상한치는, 접착 필름의 유동성이 저하되고, 진공 라미네이터 등에서의 적층이 곤란해지는 것을 방지하고, 접착 필름 경화물의 유연성이 크게 손상되어, 본래의 경화물 특성의 저하를 일으키는 것을 방지한다는 관점에서, 7O중량%가 바람직하고, 6O중량%가 더욱 바람직하다. 한편, 열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 무기 필러의 함유량의 하한치는, 수지 바니시의 유동성이 지나치게 높아져, 핸들링성이 악화되는 동시에, 필름화가 곤란해지는 것을 방지한다는 관점에서, 30중량%가 바람직하고, 2O중량%가 더욱 바람직하다. When the non-volatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the upper limit of the content of the inorganic filler prevents the fluidity of the adhesive film from deteriorating, making it difficult to laminate in a vacuum laminator or the like, and greatly increases the flexibility of the cured adhesive film. In terms of preventing damage and deterioration of the original cured product properties, 70% by weight is preferable, and 60% by weight is more preferable. On the other hand, in the case where the nonvolatile component of the thermosetting resin composition is 100% by weight, the lower limit of the content of the inorganic filler is from the viewpoint that the fluidity of the resin varnish becomes too high, the handling properties deteriorate and the filming becomes difficult. 30 weight% is preferable and 20 weight% is more preferable.

또한, 무기 충전재는 내습성을 향상시키기 위해서, 에폭시실란 커플링제, 아미노실란 커플링제, 티타네이트계 커플링제 등의 표면 처리제로 표면 처리한 것이 바람직하다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.
Moreover, in order that an inorganic filler may improve moisture resistance, it is preferable to surface-treat with surface treating agents, such as an epoxy silane coupling agent, an aminosilane coupling agent, and a titanate coupling agent. You may use these 1 type or in combination of 2 or more types.

[25℃에서 고형상인 에폭시 수지][Epoxy Resin Solid at 25 ° C]

본 발명의 열경화성 수지 조성물에는, 수지 경화물의 가교 밀도의 향상에 따르는 경화물의 Tg, 파단 강도의 향상 등의 목적으로, 25℃에서 고형상인 에폭시 수지를 배합해도 좋다. 25℃에서 고형상인 에폭시 수지로서는, 예를 들면, 4관능 나프탈렌형 에폭시 수지, 2관능 디사이클로펜타딘엔형 에폭시 수지, 트리스페놀에폭시 수지 등을 들 수 있다. 시판되고 있는 것으로서는, 다이닛폰잉크가가쿠고교(주) 제조 EXA4700, EXA7200, 니혼카야쿠(주) 제조 EPPN-502H 등을 들 수 있다. 「25℃에서 고형상인 에폭시 수지」는 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. 25℃에서 고형상인 에폭시 수지를 배합할 경우의 함유량은, 열경화성 수지 조성물의 불휘발 성분을 100중량%로 한 경우, 바람직하게는 3O중량% 이하이며, 바람직하게는 2O중량% 이하다. 함유량이 지나치게 크면 접착 필름이 상온에서 물러지고, 핸들링성이 악화된다.
You may mix | blend the epoxy resin which is solid at 25 degreeC with the thermosetting resin composition of this invention for the purpose of Tg of hardened | cured material accompanying the improvement of the crosslinking density of hardened | cured material of resin, improvement of breaking strength, etc. As an epoxy resin solid at 25 degreeC, a tetrafunctional naphthalene type epoxy resin, a bifunctional dicyclopentadiene type epoxy resin, a trisphenol epoxy resin, etc. are mentioned, for example. As what is marketed, Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd. EXA4700, EXA7200, Nippon Kayaku Co., Ltd. EPPN-502H etc. are mentioned. "The epoxy resin solid at 25 degreeC" may be used in combination of 2 or more type. Content in the case of mix | blending an epoxy resin which is solid at 25 degreeC, when the non volatile component of a thermosetting resin composition is 100 weight%, Preferably it is 30 weight% or less, Preferably it is 20 weight% or less. When content is too large, an adhesive film will fall at normal temperature and handling property will deteriorate.

[열가소성 수지][Thermoplastic resin]

본 발명의 열경화성 수지 조성물에는, 경화 후의 열경화성 수지 조성물에 적당한 가요성을 부여하는 것 등을 목적으로 하여, 열가소성 수지를 배합할 수 있다. 이와 같은 열가소성 수지로서는, 예를 들면, 페녹시 수지, 폴리비닐아세탈 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에테르설폰 수지, 폴리설폰 수지 등을 들 수 있다. 「열가소성 수지」는 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. 열경화성 수지 조성물 중의 열가소성 수지의 함유량은, 0.5 내지 60중량%의 비율로 배합하는 것이 바람직하고, 3 내지 50중량%의 비율로 배합하는 것이 더욱 바람직하다. The thermoplastic resin can be mix | blended with the thermosetting resin composition of this invention for the purpose of providing suitable flexibility to the thermosetting resin composition after hardening, etc. Examples of such thermoplastic resins include phenoxy resins, polyvinyl acetal resins, polyimide resins, polyamideimide resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, and the like. You may use "thermoplastic resin" in combination of 2 or more type. It is preferable to mix | blend content of the thermoplastic resin in a thermosetting resin composition in the ratio of 0.5-60 weight%, and it is more preferable to mix | blend in the ratio of 3-50 weight%.

페녹시 수지의 시판품으로서는, 예를 들면, 토토가세이(주) 제조 FX280, FX293, 재팬에폭시레진(주) 제조 YX8100, YL6954, YL6974 등을 들 수 있다. As a commercial item of the phenoxy resin, Totogasei Co., Ltd. FX280, FX293, Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product YX8100, YL6954, YL6974, etc. are mentioned, for example.

폴리비닐아세탈 수지로서는, 폴리비닐부티랄 수지가 바람직하고, 이러한 폴리비닐아세탈 수지의 시판품으로서는, 예를 들면, 덴키가가쿠고교(주) 제조, 전화(電化)부티랄4000-2, 5000-A, 6000-C, 6000-EP, 세키스이가가쿠고교(주) 제조 에스렉 BH 시리즈, BX 시리즈, KS 시리즈, BL 시리즈, BM 시리즈 등을 들 수 있다.As polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin is preferable, As a commercial item of such a polyvinyl acetal resin, Denki Chemical Co., Ltd. make, telephone butyral 4000-2, 5000-A , 6000-C, 6000-EP, and Sekisuga Chemical Co., Ltd. Esrek BH series, BX series, KS series, BL series, BM series, etc. are mentioned.

폴리이미드의 시판품으로서는, 예를 들면, 신닛폰리카(주) 제조의 폴리이미드 「리카코트 SN20」 및 「리카코트 PN20」을 들 수 있다. 또한, 2관능성 하이드록실기 말단 폴리부타디엔, 디이소시아네이트 화합물 및 4염기산 무수물을 반응시켜 수득되는 선상(線狀) 폴리이미드(일본 공개특허공보 2006-37083호에 기재된 것), 폴리실록산 골격 함유 폴리이미드(일본 공개특허공보 2002-12667호, 일본 공개특허공보 2000-319386호 등에 기재된 것) 등의 변성 폴리이미드를 들 수 있다.As a commercial item of a polyimide, the polyimide "Rika coat SN20" and "Rika coat PN20" by Shin-Nippon Rica Co., Ltd. are mentioned, for example. Furthermore, linear polyimides (as described in JP 2006-37083) and polysiloxane skeleton-containing polyimides obtained by reacting a bifunctional hydroxyl group-terminated polybutadiene, a diisocyanate compound and a tetrabasic anhydride The modified polyimide, such as mead (thing of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-12667, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-319386, etc.) is mentioned.

폴리아미드이미드의 시판품으로서는, 예를 들면, 토요호세키(주) 제조의 폴리아미드이미드 「바이로맥스 HR11NN」 및 「바이로맥스 HR16NN」을 들 수 있다. 또한, 히타치가세이고교(주) 제조의 폴리실록산 골격 함유 폴리아미드이미드 「KS9100」, 「KS9300」 등의 변성 폴리아미드이미드를 들 수 있다. As a commercial item of a polyamide imide, the polyamide imide "Biromax HR11NN" and "Biromax HR16NN" by Toyo Joseki Co., Ltd. are mentioned, for example. Moreover, modified polyamideimide, such as polysiloxane frame | skeleton containing polyamideimide "KS9100" and "KS9300" by Hitachi Chemical Co., Ltd., is mentioned.

폴리에테르설폰의 시판품으로서는, 예를 들면, 스미토모가가쿠(주) 제조의 폴리에테르설폰 「PES5003P」 등을 들 수 있다. As a commercial item of polyether sulfone, the polyether sulfone "PES5003P" by Sumitomo Chemical Co., Ltd. is mentioned, for example.

폴리설폰의 시판품으로서는, 예를 들면, 솔벤어드밴스트폴리머즈(주) 제조의 폴리설폰 「P1700」, 「P3500」 등을 들 수 있다.
As a commercial item of polysulfone, the polysulfone "P1700", "P3500", etc. made by Solvent Advanced Polymers Co., Ltd. are mentioned, for example.

[경화 촉진제][Hardening accelerator]

본 발명의 열경화성 수지 조성물에는, 경화제 이외에, 경화 시간의 단축 등의 목적으로, 경화 촉진제를 추가로 함유시킬 수 있다. 이와 같은 경화 촉진제로서는, 예를 들면, 이미다졸계 화합물, 유기포스핀계 화합물 등을 들 수 있고, 구체적인 예로서는, 2-메틸이미다졸, 트리페닐포스핀 등을 들 수 있다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다. 경화 촉진제를 사용할 경우, 경화 촉진제는 에폭시 수지에 대하여 0.1 내지 3.0질량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
In addition to a curing agent, the thermosetting resin composition of the present invention may further contain a curing accelerator for the purpose of shortening the curing time. As such a hardening accelerator, an imidazole compound, an organic phosphine compound, etc. are mentioned, for example, 2-methylimidazole, a triphenyl phosphine, etc. are mentioned as a specific example. You may use these 1 type or in combination of 2 or more types. When using a hardening accelerator, it is preferable to use a hardening accelerator in 0.1-3.0 mass% with respect to an epoxy resin.

[첨가제][additive]

본 발명의 열경화성 수지 조성물에는, 필요에 따라서 기타 성분을 함유시킬 수 있다. 기타 성분으로서는, 예를 들면, 유기 인계 난연제, 유기계 질소 함유 인 화합물, 질소 화합물, 실리콘계 난연제, 금속 수산화물 등의 난연제; 실리콘 파우더, 나일론 파우더, 불소 파우더 등의 유기 충전제; 올벤, 펜톤 등의 증점제; 실리콘계, 불소계 등의 고분자계 소포제 또는 레벨링제; 이미다졸계, 티아졸계, 트리아졸계, 실란계 커플링제 등의 밀착성 부여제; 프탈로시아닌 블루, 프탈로시아닌 그린, 아이오딘 그린, 디스아조 옐로, 카본 블랙 등의 착색제 등을 들 수 있다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.
The thermosetting resin composition of this invention can be made to contain another component as needed. As other components, For example, flame retardants, such as an organic phosphorus flame retardant, an organic nitrogen containing phosphorus compound, a nitrogen compound, a silicone flame retardant, a metal hydroxide; Organic fillers such as silicone powder, nylon powder and fluorine powder; Thickeners such as olben and fenton; Polymeric antifoaming agents or leveling agents such as silicone-based and fluorine-based; Adhesion imparting agents such as imidazole series, thiazole series, triazole series, and silane coupling agents; And coloring agents such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodine green, disazo yellow, and carbon black. You may use these 1 type or in combination of 2 or more types.

[유기 용제][Organic Solvent]

바니시를 조제할 경우의 유기 용제로서는, 예를 들면, 아세톤, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 카르비톨아세테이트 등의 아세트산에스테르류, 셀로솔브, 부틸카르비톨 등의 카르비톨류, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다. 이들은 1종으로 사용하거나 2종 이상을 조합하여 사용하여도 좋다.
As an organic solvent in preparing a varnish, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and carbitol acetate Carbitols such as esters, cellosolves and butyl carbitol, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like. You may use these 1 type or in combination of 2 or more types.

[접착 필름][Adhesive Film]

본 발명의 접착 필름은, 지지체층, 및 당해 지지체층 위에 열경화성 수지 조성물에 의해 형성된 점착성을 갖는 접착층으로 구성된다. 접착층은 지지체층의 양면에 형성되어도 좋다. The adhesive film of this invention is comprised from a support body layer and the adhesive layer which has adhesiveness formed by the thermosetting resin composition on this support layer. The adhesive layer may be formed on both sides of the support layer.

지지체층으로서는, 플라스틱 필름이 적합하게 사용된다. 플라스틱 필름 이외에는, 이형지나 동박, 알루미늄박 등의 금속박 등도 지지체층으로서 사용할 수 있다. 플라스틱 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(이하 「PET」라고 약칭하는 경우가 있음), 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 아크릴, 환상 폴리올레핀, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에테르설파이드, 폴리에테르케톤, 폴리이미드 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름이 바람직하고, 특히 저가의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 바람직하다. 지지체에 있어서, 특히 플라스틱 필름을 사용할 경우, 열경화성 수지 조성물의 경화물층으로부터 박리 가능하게 하기 위해서, 그 열경화성 수지 조성물층의 피형성면(被形成面)이 이형 처리된 이형층을 갖는 지지체를 사용하는 것이 바람직하다. 금속박은 에칭 용액에 의해 제거할 수도 있지만, 플라스틱 필름을 지지체로 하여 열경화성 수지 조성물을 열경화시킨 경우, 이형층이 없으면, 경화물로부터 플라스틱 필름을 박리하는 것이 곤란해진다. 이형 처리에 사용하는 이형제로서는, 경화물이 지지체로부터 박리 가능하면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 실리콘계 이형제, 알키드 수지계 이형제 등을 들 수 있다. 또한, 시판되고 있는 이형층이 있는 플라스틱 필름을 사용하여도 좋고, 바람직한 것으로서는, 예를 들면, 알키드 수지계 이형제를 주성분으로 하는 이형층을 갖는 PET 필름인 린테크(주) 제조의 SK-1, AL-5, AL-7 등을 들 수 있다. 또한, 플라스틱 필름은 매트 처리, 코로나 처리를 실시해도 좋고, 당해 처리면 위에 이형층을 형성하여도 좋다. 또한, 동박을 지지체로서 사용한 경우에는, 박리하지 않고 당해 동박을 도체층으로서 이용해도 좋다. 지지체의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 10 내지 150㎛가 바람직하고, 25 내지 50㎛가 바람직하게 사용할 수 있다. As the support layer, a plastic film is suitably used. In addition to the plastic film, metal foils such as release paper, copper foil, and aluminum foil can also be used as the support layer. Examples of the plastic film include polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as "PET"), polyesters such as polyethylene naphthalate, polycarbonate, acrylic, cyclic polyolefin, triacetyl cellulose, polyether sulfide, polyether ketone, and polyimide. Etc. can be mentioned. Among these, a polyethylene terephthalate film and a polyethylene naphthalate film are preferable, and a low cost polyethylene terephthalate film is especially preferable. In the support body, in particular, when a plastic film is used, in order to be able to peel from the hardened | cured material layer of a thermosetting resin composition, the support body which has a mold release layer to which the to-be-formed surface of this thermosetting resin composition layer was mold-released was used. It is desirable to. Although metal foil can also be removed by an etching solution, when a thermosetting resin composition is thermosetted using a plastic film as a support body, when there is no mold release layer, it will become difficult to peel a plastic film from hardened | cured material. As a mold release agent used for a mold release process, if a hardened | cured material can peel from a support body, it will not specifically limit, For example, a silicone type mold release agent, an alkyd resin type mold release agent, etc. are mentioned. Moreover, you may use the plastic film with a mold release layer marketed, As a preferable thing, SK-1 of the Lintech Co., Ltd. product which is a PET film which has a mold release layer which has an alkyd resin type mold release agent as a main component, AL-5, AL-7, etc. are mentioned. In addition, a plastic film may perform a mat process and a corona treatment, and may form a release layer on the said process surface. In addition, when copper foil is used as a support body, you may use this copper foil as a conductor layer, without peeling. Although the thickness of a support body is not specifically limited, 10-150 micrometers is preferable and 25-50 micrometers can be used preferably.

열경화성 수지 조성물의 접착층의 두께는 1 내지 200㎛가 바람직하고, 박형화에 적합한 절연 수지 시트로 하기 위해서는, 5 내지 100㎛의 범위가 더욱 바람직하고, 5 내지 40㎛의 범위가 더욱 바람직하고, 5 내지 30㎛의 범위가 특히 바람직하다. 접착층의 두께가 지나치게 얇으면 전자 부품의 외부단자와 회로의 절연이 불충분해지는 경향이 있고, 또한 제조도 곤란해지는 경향이 있다. 또한, 접착층의 두께가 지나치게 두꺼우면, 다층 프린트 배선판의 박형화가 곤란해지는 경향이 있다. 1-200 micrometers is preferable, as for the thickness of the adhesive layer of a thermosetting resin composition, in order to make it the insulating resin sheet suitable for thinning, the range of 5-100 micrometers is more preferable, The range of 5-40 micrometers is more preferable, The range of 30 micrometers is especially preferable. When the thickness of the adhesive layer is too thin, there is a tendency that the insulation between the external terminal of the electronic component and the circuit becomes insufficient, and the manufacturing also tends to be difficult. Moreover, when the thickness of an adhesive layer is too thick, there exists a tendency for thickness reduction of a multilayer printed wiring board to become difficult.

본 발명의 접착 필름은, 우선 열경화성 수지 조성물을 유기 용제에 용해시켜 수지 바니시로 한 후, 이것을 지지체층 위에 도포하고, 열풍 송풍 등에 의해 용제를 건조시켜, 상기한 소정의 두께로 형성할 수 있다. The adhesive film of this invention can melt | dissolve a thermosetting resin composition in the organic solvent first, and makes it a resin varnish, then apply it on a support layer, dry a solvent by hot air blowing, etc., and can form it to said predetermined thickness.

접착층의 보호 필름은 접착층 표면에 대한 먼지 등의 부착이나 상처를 방지할 수 있고, 이러한 절연 수지 시트를 사용하여 제조되는 프린트 배선판의 신뢰성 향상에도 유효하다. 여기서, 보호 필름으로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리염화비닐 등의 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 또한 이형지, 알루미늄박 등을 들 수 있다. 또한, 보호 필름은 매트 처리, 코로나 처리, 실리콘계 이형 필름층을 형성하는 등의 이형 처리를 실시해도 좋다. 또한, 보호 필름의 두께는 1 내지 4O㎛로 하는 것이 바람직하다.
The protective film of an adhesive layer can prevent adhesion | attachment and a wound | wound to the surface of an adhesive layer, and it is effective also in improving the reliability of the printed wiring board manufactured using such an insulating resin sheet. Here, as a protective film, polyester, such as polyolefin, such as polyethylene, a polypropylene, and polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, a polycarbonate, a polyimide, a release paper, aluminum foil, etc. are mentioned. In addition, the protective film may perform mold release processing, such as forming a mat process, a corona treatment, and a silicone type release film layer. Moreover, it is preferable that the thickness of a protective film shall be 1-40 micrometers.

[부품 내장 기판의 제조 방법] [Method of Manufacturing Component-embedded Substrate]

본 발명의 접착 필름에 의해 부품 내장 기판을 제조하는 방법은, 적어도, (A) 접착 필름의 접착층 위에 전자 부품을 고정하는 공정, (B) 당해 접착층을 열경화시켜 절연층을 형성하는 공정을 포함한다. 본 발명의 접착 필름은, 부품의 고정을 강고(强固)하게 실시할 수 있는 점착력을 갖는 것을 특징으로 한다.The method of manufacturing a component-embedded board | substrate with the adhesive film of this invention includes the process of fixing an electronic component on the adhesive layer of (A) adhesive film at least, and (B) the process of thermosetting the said adhesive layer and forming an insulating layer. do. The adhesive film of this invention has the adhesive force which can fix a part firmly, It is characterized by the above-mentioned.

구체적으로는, (A) 접착 필름의 접착층 위에 전자 부품 또는 전자 부품과 회로 기판을 고정하는 공정, (B) 당해 접착층을 열경화시켜 절연층을 형성하는 공정, (C) 봉지용 수지 조성물, 접착 필름 또는 프리프레그에 의해 전자 부품 또는 전자 부품과 회로 기판을 봉지하는 공정을 거쳐, 부품 내장 기판이 제조된다. Specifically, (A) process of fixing an electronic component or an electronic component and a circuit board on the adhesive layer of an adhesive film, (B) process of thermosetting the said adhesive layer to form an insulating layer, (C) resin composition for sealing, adhesion The board | substrate with a component is manufactured through the process of sealing an electronic component or an electronic component, and a circuit board with a film or a prepreg.

우선, (A) 접착 필름의 접착층 위에 전자 부품, 또는 전자 부품과 회로 기판을 고정하는 공정에 있어서, 전자 부품 및 필요에 따라 추가로 회로 기판이, 점착성을 갖는 접착층 표면의 소정의 위치에 고정된다. 고정시의 온도의 상한치는, 효율적으로 작업을 한다는 점에서, 70℃가 바람직하고, 60℃가 보다 바람직하고, 55℃가 더욱 바람직하고, 50℃가 더한층 바람직하고, 45℃가 매우 더 바람직하고, 40℃가 특히 바람직하다. 한편, 고정시의 온도의 하한치는, 점착성을 저하시키지 않는다고 하는 점에서, -20℃가 바람직하고, -10℃가 보다 바람직하고, -5℃가 더욱 바람직하고, 0℃가 더한층 바람직하고, 5℃가 매우 더 바람직하고, 10℃가 특히 바람직하다. First, in the process of fixing an electronic component, or an electronic component, and a circuit board on the adhesive layer of (A) adhesive film, an electronic component and a circuit board are further fixed to the predetermined position on the adhesive layer surface which has adhesiveness as needed. . Since the upper limit of the temperature at the time of fixation works efficiently, 70 degreeC is preferable, 60 degreeC is more preferable, 55 degreeC is still more preferable, 50 degreeC is still more preferable, 45 degreeC is much more preferable, , 40 ° C is particularly preferred. On the other hand, since the lower limit of the temperature at the time of fixation does not reduce adhesiveness, -20 degreeC is preferable, -10 degreeC is more preferable, -5 degreeC is still more preferable, 0 degreeC is still more preferable, and 5 C is even more preferred, and 10 ° C. is particularly preferred.

다음에, (B) 당해 접착층을 열경화시켜 절연층을 형성하는 공정에 의해, 전자 부품이나 회로 기판이, 형성되는 절연층 위에 더욱 강고하게 고정된다. 열경화는 경화 온도가 140 내지 200℃가 바람직하고, 150 내지 180℃가 더욱 바람직하다. 또한, 경화 시간이 15분 내지 2시간이 바람직하고, 30 내지 90분의 범위가 더욱 바람직하다. Next, the electronic component and the circuit board are more firmly fixed on the insulating layer to be formed by the step of (B) thermosetting the adhesive layer to form an insulating layer. The curing temperature is preferably 140 to 200 ° C, more preferably 150 to 180 ° C. In addition, the curing time is preferably 15 minutes to 2 hours, more preferably 30 to 90 minutes.

그 후, (C) 봉지용 수지 조성물, 접착 필름 또는 프리프레그에 의해 전자 부품 또는 전자 부품과 회로 기판이 봉지된다. 봉지는 당업자에게 공지된 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 지지체 위에 열경화성 수지 조성물층이 형성된 접착 필름을 진공 라미네이터 등의 라미네이터에 의해 적층하여 열경화시키는 방법, 프리프레그를 적층 프레스에 의해 적층하여 열경화시키는 방법 등을 들 수 있다.Thereafter, the electronic component or the electronic component and the circuit board are sealed by the resin composition (C) for sealing, an adhesive film or a prepreg. Encapsulation may employ methods known to those skilled in the art. For example, the method of laminating | stacking and thermosetting the adhesive film in which the thermosetting resin composition layer was formed on the support body by laminators, such as a vacuum laminator, the method of laminating | stacking and precuring a prepreg by a lamination press, etc. are mentioned.

본 발명의 접착 필름을 사용함으로써 (A) 공정, (B) 공정, (C) 공정에 있어서, 진동을 수반할 수 있는 벨트 컨베이어를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 접착 필름을 사용함으로써, 접착층을 그대로 열경화층으로서 사용하는 것이 가능해진다. 또한, 본 발명의 접착 필름을 사용함으로써, 높은 위치 정밀도로 전자 부품을 봉지하는 것이 가능해진다. 또한, 공정의 수도 삭감되기 때문에, 더욱 저가로 부품 내장 기판을 제조하는 것이 가능해진다.
By using the adhesive film of this invention, it is preferable to use the belt conveyor which can be accompanied with a vibration in a process (A), a process (B), and a process (C). Moreover, by using the adhesive film of this invention, it becomes possible to use an adhesive layer as a thermosetting layer as it is. Moreover, by using the adhesive film of this invention, it becomes possible to seal an electronic component with high positional precision. In addition, since the number of steps is reduced, it becomes possible to manufacture the component embedded substrate at a lower cost.

[실시예][Example]

이하, 실시예를 개시하고 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 이들은 본 발명을 어떠한 의미에 있어서도 제한하는 것은 아니다. 또한, 이하의 기재에 있어서, 「부」는 「중량부」를 의미한다.
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is disclosed and this invention is demonstrated in more detail, these do not limit this invention in any meaning. In addition, in the following description, "part" means a "weight part."

(실시예 1)(Example 1)

비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165) 20중량부, 에폭시화폴리부타디엔(다이셀가가쿠(주) 제조 「PB3600M」, 불휘발분 80중량%의 MEK 용액) 8중량부, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」) 14중량부, 노볼락형 페놀 수지(다이닛폰잉크(주) 제조 「LA7054」, 하이드록실기 당량 약125, 불휘발분 60중량%의 메틸에틸케톤(이하 MEK라고 생략함) 용액) 25중량부, 구형(球形) 실리카((주)애드마텍스 제조 「SO-C4」) 40중량부, 난연 필러(산코(주) 제조 「HCA-HQ」) 6중량부, 유기 필러(간츠가세이(주) 제조 「AC3816N」) 3중량부, 부티랄 수지(세키스이가가쿠(주) 제조 「BL-1」을 톨루엔과 메탄올 1:1로 희석하여 불휘발분 15%의 용액으로 한 것) 10중량부, 및 아크릴 수지로서 아크릴산에스테르 공중합 수지((주)나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액) 0.85중량부를, 석유 나프타(준세이가가쿠(주) 제조 「이프졸150」) 5중량부, 및 MEK 21중량부와 함께 혼합하여, 고속회전 믹서로 균일하게 분산시켜, 열경화성 수지 조성물 바니시(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 25중량%, 페놀계 경화제 14.2중량%, 아크릴 수지 0.10중량%)를 제작했다. 다음에, 이러한 수지 조성물 바니시를, 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께 38㎛)(린테크(주) 제조 AL-5)(이하, 38㎛ 이형 PET라고 함) 위에, 건조 후의 수지 조성물층(접착층)의 두께가 40㎛가 되도록 바코터로 균일하게 도포하고, 65 내지 120℃(평균 100℃)에서 10분간 건조시켰다(수지 조성물층 중의 잔류 용제량: 약 1중량%). 건조시킨 후의 수지 조성물 층 표면에 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께 25㎛; 린테크(주) 제조 AL-5; 이하, 25㎛ 이형 PET라고 함)을 접합하여, 시트상의 3층 구조를 갖는 접착 필름을 제작했다.
20 weight part of bisphenol-type epoxy resins (the Totogassei Co., Ltd. make "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165), epoxidized polybutadiene (the Daisk Chemical Co., Ltd. make "PB3600M", MEK solution of 80% of non volatile matters) 8 parts by weight, 14 parts by weight of naphthalene-type tetrafunctional epoxy (the Dainippon Ink, Inc. make "HP-4700"), novolak-type phenol resin (the Dainippon Ink, Inc. make "LA7054", hydroxyl group equivalent approximately 125 , 25 parts by weight of a methyl ethyl ketone (hereinafter referred to as MEK) solution containing 60% by weight of nonvolatile matter, 40 parts by weight of spherical silica (`` SO-C4 '' manufactured by Admatex Co., Ltd.), flame retardant filler (Sanko 6 parts by weight of manufactured `` HCA-HQ '', 3 parts by weight of an organic filler (Kantsu Chemical Co., Ltd. product `` AC3816N ''), butyral resin (Sekisui Chemical Co., Ltd. product "BL-1") 10 parts by weight diluted with toluene and methanol 1: 1 to form a non-volatile 15% solution) and acrylic ester copolymer resin (Nagase Camtex Co., Ltd.) as an acrylic resin. ) 5 parts by weight of petroleum naphtha (Junsei Chemical Co., Ltd. "Ipsol 150") 0.85 parts by weight of manufactured "SG-70L", 12.5% by weight of nonvolatile matter and 1.3: 1 mixed solution of toluene), and MEK The mixture is mixed with 21 parts by weight and uniformly dispersed by a high speed rotary mixer to prepare a thermosetting resin composition varnish (25% by weight of liquid epoxy resin, 14.2% by weight of phenolic curing agent, and 0.10% by weight of acrylic resin) in the resin composition (non-volatile content). Made. Next, the resin composition layer after drying this resin composition varnish on the release-processed polyethylene terephthalate film (38 micrometers in thickness) (Lintech Co., Ltd. AL-5) (henceforth 38 micrometer mold release PET) ( The thickness of the adhesive layer) was uniformly applied with a bar coater so as to be 40 μm, and dried at 65 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 10 minutes (amount of residual solvent in the resin composition layer: about 1% by weight). The polyethylene terephthalate film (thickness 25 micrometers; Lin-5 Co., Ltd. AL-5; hereafter referred to as 25 micrometers mold release PET) which carried out the release process was bonded to the resin composition layer surface after drying, and has a sheet-like 3-layer structure. An adhesive film was produced.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 21중량부로 변경하고, 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 17.2중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 25.0중량%, 페놀계 경화제 13.9중량%, 아크릴 수지 2중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent about 165) was changed to 21 weight part, and acrylic ester copolymer resin (Nagase Camtex Co., Ltd. product "SG-70L", The 12.5 weight% of non-volatile content of MEK and toluene 1.3: 1 mixed solution) was changed to 17.2 weight part (25.0 weight% of liquid epoxy resin, 13.9 weight% of phenolic hardeners, and 2 weight% of acrylic resin in resin composition (non-volatile content)) Except), an adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1.

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 22중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 13중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 44.5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 25.0중량%, 페놀계 경화제 13.5중량%, 아크릴 수지 5중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 22 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (the Dai Nippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") was changed. ) Was changed to 13 parts by weight, and the acrylic ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., a 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 44.5 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (25.0 wt% of liquid epoxy resin, 13.5 wt% of phenolic curing agent, and 5 wt% of acrylic resin) in the resin composition (nonvolatile content).

(실시예 4) (Example 4)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 26중량부로 변경하고, 또한 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 9중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 30중량%, 페놀계 경화제 14.2중량%, 아크릴 수지 0.1중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent about 165) was changed to 26 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dai Nippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700"'') To 9 parts by weight (except for 30% by weight of liquid epoxy resin, 14.2% by weight of phenolic curing agent, and 0.1% by weight of acrylic resin) in the resin composition (non-volatile content), an adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1. did.

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 26중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 8중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 17.3중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 30중량%, 페놀계 경화제 13.9중량%, 아크릴 수지 2중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent about 165) was changed to 26 weight part, and the naphthalene type tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") was changed to 26 parts by weight. ) Was changed to 8 parts by weight, and the acrylic ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., a 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 17.3 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (30 wt% of the liquid epoxy resin, 13.9 wt% of the phenolic curing agent, and 2 wt% of the acrylic resin) in the resin composition (nonvolatile content).

(실시예 6)(Example 6)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 27중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 7중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 44.5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 30중량%, 페놀계 경화제 13.5중량%, 아크릴 수지 5중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 27 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ) Was changed to 7 parts by weight, and the acrylic ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., a 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 44.5 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (30 wt% of the liquid epoxy resin, 13.5 wt% of the phenolic curing agent, and 5 wt% of the acrylic resin) in the resin composition (nonvolatile content).

(실시예 7)(Example 7)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 35중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 제외하고, 구형 실리카((주)애드마텍스제 「SO-C4」)를 37중량부로 변경하고, 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 0.83중량부로 변경하고, 또한 MEK를 5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 39.8중량%, 페놀계 경화제 14.5중량%, 아크릴 수지 0.1중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 35 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ), And changed spherical silica ("SO-C4" made by ADMATEX Co., Ltd.) to 37 weight part, and acrylic ester copolymer resin ("SG-70L" made by Nagase Camtex Co., Ltd., 12.5 weight of non volatile matter) Changed 1.3% mixed solution of MEK and toluene to 0.83 parts by weight, and changed MEK to 5 parts by weight (39.8% by weight of liquid epoxy resin in resin composition (non-volatile content), 14.5% by weight of phenolic curing agent) An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for 0.1 wt% of an acrylic resin).

(실시예 8)(Example 8)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 35중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 제외하고, 구형 실리카((주)애드마텍스제 「SO-C4」)를 35중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 16.4중량부로 변경하고, 또한 MEK를 5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 39.8중량%, 페놀계 경화제 14.6중량%, 아크릴 수지 1.99중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 35 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ), And changed the spherical silica ("SO-C4" made by ADMATEX Co., Ltd.) to 35 weight part, and acrylic ester copolymer resin ("SG-70L" made by Nagase Camtex Co., Ltd., non-volatile content 12.5) Changed 1% by weight of MEK and toluene 1.3: 1 mixed solution) to 16.4 parts by weight, and changed MEK to 5 parts by weight (39.8% by weight of liquid epoxy resin in resin composition (non-volatile content), 14.6% by weight of phenolic curing agent) And 1.99% by weight of acrylic resin), an adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1.

(실시예 9)(Example 9)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 35중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 제외하고, 구형 실리카((주)애드마텍스제 「SO-C4」)를 32중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 41중량부로 변경하고, 또한 MEK를 5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 40중량%, 페놀계 경화제 14.6중량%, 아크릴 수지 4.99중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 35 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ), And changed the spherical silica ("SO-C4" made by ADMATEX Co., Ltd.) to 32 weight part, and also acrylic ester copolymer resin ("SG-70L" by Nagase Camtex Co., Ltd., non-volatile content 12.5). Changed the weight% MEK and toluene 1.3: 1 mixed solution) to 41 parts by weight, and changed the MEK to 5 parts by weight (40% by weight of the liquid epoxy resin in the resin composition (non-volatile content), 14.6% by weight of the phenol-based curing agent) And 4.99% by weight of acrylic resin), an adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1의 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 0.43중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 25중량%, 페놀계 경화제 14.2중량%, 아크릴 수지 0.05중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
What changed the acrylic ester copolymer resin (Nagase Camtex Co., Ltd. product "SG-70L" of Example 1, the 1.3: 1 mixed solution of MEK and toluene of 12.5 weight% of non volatile matters) to 0.43 weight part (resin composition (Fire The adhesive film was obtained by the method similar to Example 1 except 25 weight% of liquid epoxy resins in a volatile matter), 14.2 weight% of phenolic hardening agents, and 0.05 weight% of acrylic resins).

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 22중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 13중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 53.9중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 25중량%, 페놀계 경화제 13.4중량%, 아크릴 수지 6중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 22 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (the Dai Nippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") was changed. ) Was changed to 13 parts by weight, and acrylic acid ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 53.9 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (25 wt% of the liquid epoxy resin in the resin composition (non-volatile content), 13.4 wt% of the phenolic curing agent, and 6 wt% of the acrylic resin).

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 26중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 9중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 0.43중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 30중량%, 페놀계 경화제 14.2중량%, 아크릴 수지 0.05중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent about 165) was changed to 26 weight part, and the naphthalene type tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") was changed to 26 parts by weight. ) Was changed to 9 parts by weight, and the acrylic acid ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., a 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 0.43 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (30 wt% of the liquid epoxy resin, 14.2 wt% of the phenolic curing agent, and 0.05 wt% of the acrylic resin) in the resin composition (nonvolatile content).

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 28중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 7중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 54중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 30중량%, 페놀계 경화제 13.3중량%, 아크릴 수지 6중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 28 weight part, and the naphthalene type tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink, Co., Ltd. product "HP-4700") was changed to 28 parts by weight. ) Was changed to 7 parts by weight, and acrylic acid ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 54 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (30 wt% of the liquid epoxy resin, 13.3 wt% of the phenolic curing agent, and 6 wt% of the acrylic resin) in the resin composition (nonvolatile content).

(비교예 5)(Comparative Example 5)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 35중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 제외하고, 구형 실리카((주)애드마텍스제 「SO-C4」)를 37중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 0.4중량부로 변경하고, 또한 MEK를 5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 40중량%, 페놀계 경화제 14.6중량%, 아크릴 수지 0.05중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 35 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ), And changed the spherical silica ("SO-C4" made by ADMATEX Co., Ltd.) to 37 weight part, and also acrylic ester copolymer resin ("SG-70L" by Nagase Camtex Co., Ltd., non-volatile content 12.5). Changed the weight% MEK and the toluene 1.3: 1 mixed solution to 0.4 parts by weight, and further changed the MEK to 5 parts by weight (40% by weight of the liquid epoxy resin in the resin composition (non-volatile content), 14.6% by weight of the phenolic curing agent) , Except for 0.05% by weight of acrylic resin), an adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1.

(비교예 6)(Comparative Example 6)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 35중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 제외하고, 구형 실리카((주)애드마텍스제 「SO-C4」)를 30중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 49.2중량부로 변경하고, 또한 MEK를 5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 40중량%, 페놀계 경화제 14.6중량%, 아크릴 수지 6중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 35 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ), And changed the spherical silica ("SO-C4" made by ADMATEX Co., Ltd.) to 30 weight part, and also acrylic ester copolymer resin ("SG-70L" by Nagase Camtex Co., Ltd., non-volatile content 12.5). Changed the weight% MEK and toluene 1.3: 1 mixed solution) to 49.2 parts by weight, and changed the MEK to 5 parts by weight (40% by weight of the liquid epoxy resin in the resin composition (non-volatile content), 14.6% by weight of the phenolic curing agent) And the adhesive film was obtained by the method similar to Example 1 except 6 weight% of acrylic resins.

(비교예 7)(Comparative Example 7)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 16중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 19중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 17.2중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 20중량%, 페놀계 경화제 13.9중량%, 아크릴 수지 2중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (the Totogassei Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent about 165) was changed to 16 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") ) Was changed to 19 parts by weight, and the acrylic ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd., a 1.3: 1 mixed solution of 12.5% by weight of nonvolatile matter and toluene) was changed to 17.2 parts by weight. An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except for (20 wt% of the liquid epoxy resin in the resin composition (non-volatile content), 13.9 wt% of the phenolic curing agent, and 2 wt% of the acrylic resin).

(비교예 8)(Comparative Example 8)

실시예 1의 비스페놀형 에폭시 수지(토토가세이(주) 제조 「ZX1059」, 에폭시 당량 약 165)를 35중량부로 변경하고, 나프탈렌형 4관능 에폭시(다이닛폰잉크(주) 제조 「HP-4700」)를 제외하고, 구형 실리카((주)애드마텍스제 「SO-C4」)를 23중량부로 변경하고, 또한 아크릴산에스테르 공중합 수지(나가세캠텍스(주) 제조 「SG-70L」, 불휘발분 12.5중량%의 MEK와 톨루엔의 1.3:1 혼합 용액)를 14.5중량부로 변경하고, 또한 MEK를 5중량부로 변경한 것(수지 조성물(불휘발분) 중의 액상 에폭시 수지 45중량%, 페놀계 경화제 16.6중량%, 아크릴 수지 2중량%) 이외에는, 실시예 1과 같은 방법으로 접착 필름을 수득했다.
The bisphenol-type epoxy resin (The Totogase Co., Ltd. product "ZX1059", epoxy equivalent approximately 165) was changed to 35 weight part, and naphthalene type | mold tetrafunctional epoxy (The Dainippon Ink Co., Ltd. product "HP-4700") Except), spherical silica ("SO-C4" manufactured by ADMATEX Co., Ltd.) was changed to 23 parts by weight, and acrylic ester copolymer resin (`` SG-70L '' manufactured by Nagase Camtex Co., Ltd.), non-volatile content 12.5 Changed the weight% MEK and toluene 1.3: 1 mixed solution) to 14.5 parts by weight, and changed the MEK to 5 parts by weight (45% by weight of the liquid epoxy resin in the resin composition (non-volatile content), 16.6% by weight of the phenolic curing agent) And 2% by weight of acrylic resin), an adhesive film was obtained by the same method as in Example 1.

실시예 및 비교예의 접착 필름을 사용하여, Tg(유리 전이 온도) 측정, 절연 저항치 측정, 점착력 측정, 25㎛ 이형 PET(커버 필름) 박리성 평가, 부품 고정성 평가, 최대 부품 위치 이탈량 측정을 하였다.
Using the adhesive films of Examples and Comparative Examples, Tg (glass transition temperature) measurement, insulation resistance measurement, adhesive force measurement, 25 μm release PET (cover film) peelability evaluation, component fixation evaluation, maximum part position deviation amount measurement It was.

<Tg(유리 전이 온도) 측정><Tg (glass transition temperature) measurement>

실시예 및 비교예에서 작성한 접착 필름으로부터 25㎛ 이형 PET를 박리하고, 배치식 진공 가압 라미네이터(니치고모톤(주) 제조, 「Morton-724」)에 의해, 200mm×200mm의 폴리이미드 필름(우베코산(주) 제조, 「UPILEX50S」)에 라미네이팅했다. 라미네이팅은, 30초간 진공 흡인하고, 그 후 내압 고무를 사용하여, 30초간 1kg/㎠의 압력으로 프레스하는 조건으로 실시하였다. 상기에서 작성한 샘플의 38㎛ 이형 PET를 박리하고, 배치식 오븐에 넣어 180℃에서 90분간 가열하여, 수지 조성물층(접착층)을 경화시켰다. 본 경화물의 Tg를 열분석 장치(세이코인스툴(주) 제조, 「DMS6100」)로 측정했다.
25 micrometers release PET is peeled from the adhesive film created by the Example and the comparative example, and it is a polyimide film (Ube) of 200 mm x 200 mm by a batch type vacuum pressurizing laminator (Nichigo-Moton Co., Ltd. product, "Morton-724"). It was laminated to Kosan Co., Ltd. product, "UPILEX50S". The laminating was carried out under vacuum suction for 30 seconds, and then pressurized at a pressure of 1 kg / cm 2 for 30 seconds using a pressure resistant rubber. The 38 micrometer mold release PET of the sample created above was peeled, it put in the batch type oven, and heated at 180 degreeC for 90 minutes, and hardened the resin composition layer (adhesive layer). Tg of this hardened | cured material was measured with the thermal analysis apparatus (The Seiko Instool Co., Ltd. product, "DMS6100").

<절연 저항치의 측정><Measurement of Insulation Resistance>

실시예 및 비교예에서 작성한 접착 필름의 25㎛ 이형 PET를 박리하고, 배치식 진공 가압 라미네이터(니치고모톤(주) 제조, 「Morton-724」)에 의해 L/S=15㎛/15㎛의 TAB 테이프(미츠이긴소쿠(주) 제조, 「AJ-C0002-30/40」)에 라미네이팅했다. 라미네이팅은, 30초간 진공 흡인하고, 그 후 내압 고무를 사용하여, 30초간 1kg/㎠의 압력으로 프레스하는 조건으로 실시하였다. 상기에서 작성한 샘플의 38㎛ 이형 PET를 박리하고, 배치식 오븐에서 180℃에서 90분간 가열하여, 수지 조성물층(접착층)을 경화시켰다. 경화 후의 샘플의 저항치를 측정하여, 초기 저항치로 했다. 계속해서 HAST 시험기(쿠츠모토가세이(주) 제조, 「ETAC PM422」)에 130℃, 85중량% Rh의 조건하에, 100시간 방치하고, 그 후의 저항치(HAST 저항치)를 측정했다.
25 micrometer mold release PET of the adhesive film produced by the Example and the comparative example was peeled off, and it was L / S = 15 micrometer / 15 micrometers by a batch type vacuum pressurizing laminator (Nichigo Motor Co., Ltd. product, "Morton-724"). It laminated to TAB tape (made by Mitsui Ginsoku Co., Ltd., "AJ-C0002-30 / 40"). The laminating was carried out under vacuum suction for 30 seconds, and then pressurized at a pressure of 1 kg / cm 2 for 30 seconds using a pressure resistant rubber. The 38 micrometer mold release PET of the sample produced above was peeled, and it heated in 180 degreeC in 90 degreeC in the batch type oven, and hardened the resin composition layer (adhesive layer). The resistance value of the sample after hardening was measured and it was set as initial stage resistance value. Subsequently, it was left to stand on a HAST tester (Katsumoto Chemical Co., Ltd. make, "ETAC PM422") for 100 hours on 130 degreeC and 85 weight% Rh, and the subsequent resistance value (HAST resistance value) was measured.

<점착력의 측정><Measurement of adhesive force>

실시예 및 비교예에서 제작한 접착 필름의 25㎛ 이형 PET를 박리하고, 장치 전용의 야구(冶具)에 장착, 수지 조성물층(접착층) 측의 점착력을 측정했다. 장치는 프로브 택 테스터(테스터산교(주) 제조, TE6002), φ5.05mm 스테인레스의 프로브를 사용하여, 25℃, 하중 1kgf/㎠, 콘택트 스피드 5mm/min으로 프로브를 접착 필름의 접착 층면에 압착하여 누르고, 1O초간 유지했다. 그 후에 박리 스피드 1mm/min으로 박리시키고, 그때의 하중을 측정했다. 이 측정을 5회 실시하고, 최대치와 최소치를 제외한 3측정치의 평균치를 점착력으로 했다. 0.25N 이하는 측정 오차 내로 하여 ND로 했다.
25 micrometer mold release PET of the adhesive film produced by the Example and the comparative example was peeled off, it attached to the baseball dedicated for apparatus, and the adhesive force of the resin composition layer (adhesive layer) side was measured. The device is a probe tack tester (Tester Sangyo Co., Ltd., TE6002) using a probe of φ5.05mm stainless steel, the probe is pressed onto the adhesive layer surface of the adhesive film at 25 ° C., a load of 1 kgf / cm 2, and a contact speed of 5 mm / min. Press and hold for 10 seconds. Then, it peeled at 1 mm / min of peeling speed, and measured the load at that time. This measurement was performed 5 times and the average value of 3 measured values except the maximum value and the minimum value was made into adhesive force. 0.25N or less was made into ND in the measurement error.

<25㎛ 이형 PET(커버 필름) 박리성의 평가><Evaluation of 25 µm Release PET (Cover Film) Peelability>

실시예 및 비교예에서 제작한 접착 필름을 변길이가 약 10cm인 정방형으로 잘라내어, 38㎛의 이형 PET측을 고정 스테이지(감압에 의해 시트를 고정할 수 있는 스테이지)에 고정했다. 다음에 실온(25℃)에서 4개의 모퉁이 중의 1개소의 25㎛ 이형 PET만을 손으로 잡고, 접착 필름에 90도의 각도로 수직으로 약 5cm 잡아 당겼다. 25㎛ 이형 PET와 접착층의 사이에서 박리된 경우를 ○, 접착층과 38㎛ 이형 PET의 사이에서 박리되거나, 또는 접착 필름이 층간에서 박리되지 않고 고정 스테이지로부터 박리된 경우를 ×로 했다.
The adhesive film produced by the Example and the comparative example was cut out to square of about 10 cm in length, and the 38 micrometers release PET side was fixed to the fixed stage (stage which can fix a sheet by pressure reduction). Next, at room temperature (25 ° C.), only one 25 μm mold release PET in four corners was held by hand, and the adhesive film was pulled about 5 cm vertically at an angle of 90 degrees. (Circle) and the case where it peeled between 25 micrometers release PET and an adhesive layer were made between (circle) and an adhesive layer and 38 micrometers release PET, or when the adhesive film peeled from the fixed stage without peeling between layers.

<부품 고정성의 평가><Evaluation of Part Fixation>

실시예 및 비교예에서 제작한 접착 필름으로부터 25㎛ 이형 PET를 박리하고, 배치식 진공 가압 라미네이터(니치고모톤(주) 제조, 「Morton-724」)에 의해, 26mm×76mm의 슬라이드 글라스 편면(片面)에 라미네이팅했다. 라미네이팅은, 실온(25℃)에서 30초간 진공 흡인하고, 그 후 내압 고무를 사용하여, 3O초간 1kg/㎠의 압력으로 프레스하는 조건으로 실시하였다. 25 micrometers release PET was peeled from the adhesive film produced by the Example and the comparative example, and it is a 26 mm x 76 mm slide glass single side | piece (batch-type vacuum press laminator ("Morton-724")). Laminated to a piece. Laminating was performed by vacuum suction at room temperature (25 degreeC) for 30 second, and then pressurizing at 1 kg / cm <2> for 3 second using pressure-resistant rubber after that.

상기에서 작성한 샘플의 38㎛ 이형 PET를 박리하고, 1608 칩 콘덴서 3개를 접착 필름 위에 핀세트로 장착했다. 다음에, 배치식 진공 가압 라미네이터(니치고모톤(주) 제조, 「Morton-724」)로, 30초간 진공 흡인하고, 그 후 내압 고무를 사용하여, 실온(25℃)에서 30초간 1kg/㎠의 압력으로 프레스하는 조건으로 콘덴서를 접착 필름 위에 고정했다. The 38 micrometer mold release PET of the sample produced above was peeled off, and three 1608 chip capacitors were mounted on the adhesive film with tweezers. Next, vacuum suction for 30 seconds with a batch type vacuum pressurized laminator (Nichigo Moton Co., Ltd. product, "Morton-724"), and then it is 1 kg / cm <2> for 30 seconds at room temperature (25 degreeC) using pressure-resistant rubber. The condenser was fixed on the adhesive film under the condition of pressing at a pressure of.

접착 필름 위에 고정된 콘덴서를 핀세트로 수직방향으로 박리하고, 접착층 표면에 남겨진 콘덴서의 흔적을 관찰했다. 도 1에 도시되는 바와 같이 콘덴서의 형상에 맞추어 접착층 표면에 흔적이 있으면 ○, 흔적이 일부밖에 없는 경우를 △, 흔적이 없는 경우를 ×로 했다.
The capacitor | condenser fixed on the adhesive film was peeled off in the vertical direction with the tweezers, and the trace of the capacitor | condenser which remained on the adhesive layer surface was observed. As shown in FIG. 1, when there was a trace on the surface of an adhesive layer according to the shape of a capacitor | condenser, (circle) and the case where there was only a part of traces, (triangle | delta) and the case where there was no trace were made into x.

<최대 부품 위치 이탈량의 측정> <Measurement of maximum part position deviation>

부품 고정성의 평가와 같은 방법으로 부품 고정된 슬라이드 글라스를 작성하고, 도 2에 도시되는 요령으로 콘덴서의 고정 직후 및 경화 후에 있어서의 위치 이탈량을 측정했다. The slide glass which fixed the component was created by the method similar to evaluation of component fixability, and the position deviation amount immediately after fixing of a capacitor | condenser and after hardening was measured by the method shown in FIG.

부품 고정 후의 부품 위치의 측정은, 측장기(測長機: 상품명, MF-UD2017B(주)미츠토요 제조)에 의해, 도 2에 도시되는 바와 같이 원점 A, B를 결정하고, 원점과 부품의 모서리(4개의 모퉁이)로부터 거리(W, X, Y, Z)를 측정했다. The measurement of the component position after the component fixing is performed by a measuring instrument (trade name, manufactured by Mitsutoyo Co., Ltd., MF-UD2017B Co., Ltd.) to determine origins A and B as shown in FIG. The distances (W, X, Y, Z) were measured from the corners (four corners).

샘플의 경화는, 상기 샘플을 배치식 오븐에 수지가 수직이 되도록 넣고 180℃에서 30분간 가열하여, 수지 조성물층(접착층)을 경화시켰다. In the curing of the sample, the sample was placed in a batch oven so that the resin became vertical and heated at 180 ° C. for 30 minutes to cure the resin composition layer (adhesive layer).

경화 후의 부품 위치는, 경화 전에 결정한 원점 A, B와 경화 후의 부품의 모서리(4개의 모퉁이)로부터 거리(W', X', Y', Z')를 측정했다. (|W'-W|, |X'-X|, |Y'-Y|, |Z'-Z|)를 부품 위치 이탈량으로 하고, 이들 4개의 수치의 최대치를 최대 부품 위치 이탈량으로 했다. 경화 중에 부품이 접착층으로부터 박리된 것에 대해서는 ND로 표기했다.
The component position after hardening measured distance (W ', X', Y ', Z') from the origin A, B determined before hardening, and the edge (four corners) of the hardened part. (| W'-W |, | X'-X |, | Y'-Y |, | Z'-Z |) are the component position deviation amounts, and the maximum of these four values is the maximum component position deviation amount. did. The part which peeled from the contact bonding layer during hardening was described with ND.

Figure pct00002
Figure pct00002

Figure pct00003
Figure pct00003

표 1로부터, 실시예의 접착 필름은, 부품 고정성이 양호하고 최대 부품 위치 이탈량이 작고, 또한 커버 필름(25㎛ 이형 PET)의 박리성도 양호한 것을 알 수 있다. 한편, 비교예의 접착 필름은, 점착력이 낮은 경우에는 부품 고정성이 떨어지기 때문에 최대 부품 위치 이탈이 크고, 점착력이 지나치게 강하면 커버 필름(25㎛ 이형 PET) 박리성이 저하되었다. From Table 1, it turns out that the adhesive film of an Example has a favorable component fixability, a small maximum part position deviation amount, and the peelability of a cover film (25 micrometer mold release PET) is also favorable. On the other hand, in the adhesive film of the comparative example, since the component fixability was inferior when adhesive force was low, the largest part position deviation was large, and when adhesive force was too strong, peeling property of the cover film (25 micrometer mold release PET) fell.

Claims (10)

부품 내장(部品 內藏) 기판의 부품 고정 및 절연층 형성에 사용되는 열경화성 수지 조성물로서, 열경화성 수지 조성물의 불휘발분을 100중량%로 한 경우에, 25℃에서 액상인 에폭시 수지를 25 내지 40중량%, 아크릴 수지를 0.1 내지 5중량%, 페놀계 경화제를 5 내지 30중량% 및 무기 필러를 20 내지 70중량% 함유하는 열경화성 수지 조성물.Thermosetting resin composition used for component fixing of component embedded substrates and forming an insulating layer, when the nonvolatile content of the thermosetting resin composition is 100% by weight, 25 to 40% by weight of the liquid epoxy resin at 25 ° C. %, 0.1 to 5% by weight of acrylic resin, 5 to 30% by weight of phenolic curing agent and 20 to 70% by weight of inorganic filler. 제1항에 있어서, 아크릴 수지가 아크릴산에스테르 공중합체인 열경화성 수지 조성물.The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the acrylic resin is an acrylic acid ester copolymer. 제1항 또는 제2항에 있어서, 아크릴 수지가 아크릴산메틸, 아크릴산부틸, 아크릴로니트릴을 함유하는 아크릴산에스테르 공중합체인 열경화성 수지 조성물.The thermosetting resin composition according to claim 1 or 2, wherein the acrylic resin is an acrylate ester copolymer containing methyl acrylate, butyl acrylate, and acrylonitrile. 제1항 내지 제3항에 있어서, 아크릴 수지가 에폭시기, 하이드록실기, 카르복실기로부터 선택되는 1종 이상의 기를 함유하는 열경화성 수지 조성물.The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the acrylic resin contains at least one group selected from an epoxy group, a hydroxyl group, and a carboxyl group. 제1항 내지 제4항에 있어서, 아크릴 수지가 하이드록실기 및 카르복실기를 함유하는 열경화성 수지 조성물.The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the acrylic resin contains a hydroxyl group and a carboxyl group. 지지체 위에, 제1항 내지 제5항에 기재된 열경화성 수지 조성물에 의해 형성된 접착층을 갖는, 부품 내장 기판의 부품 고정 및 절연층 형성에 사용되는 접착 필름.The adhesive film used for component fixing of an internal component board | substrate, and insulating layer formation which has an adhesive layer formed by the thermosetting resin composition of Claims 1-5 on a support body. 제6항에 있어서, 접착층의 두께가 5 내지 100㎛인 접착 필름.The adhesive film of Claim 6 whose thickness of an adhesive layer is 5-100 micrometers. 제6항 또는 제7항에 있어서, 지지체가 플라스틱 필름인 접착 필름.The adhesive film according to claim 6 or 7, wherein the support is a plastic film. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 지지체의 접착층측의 면이 이형(離型) 처리되어 있는 접착 필름.The adhesive film in any one of Claims 6-8 in which the surface by the side of the contact bonding layer of a support body is mold-release-processed. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 접착 필름의 접착층 위에 전자 부품을 고정하는 공정 및 당해 접착층을 열경화시켜 절연층을 형성하는 공정을 포함하는 부품 내장 기판의 제조 방법.The manufacturing method of the component-embedded board | substrate which includes the process of fixing an electronic component on the adhesive layer of the adhesive film in any one of Claims 1-9, and the process of thermosetting the said adhesive layer and forming an insulating layer.
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