KR20110044920A - 컨베이어 조립체 및 기판 캐리어를 운반하기 위한 방법 - Google Patents

컨베이어 조립체 및 기판 캐리어를 운반하기 위한 방법 Download PDF

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에두아르트 레니에르 프란시스카 클레륵스
에른스트 둘레메이어
프란시스쿠스 코르넬리우스 딩스
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오티비 솔라 비.브이.
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Abstract

본 발명은 기판 처리 시스템(800)에 사용하기에 적절한 컨베이어 조립체(100)이며, 컨베이어 조립체는 적어도 하나의 기판을 지지하기 위한 기판 반송 표면(109)을 갖는 적어도 하나의 기판 캐리어(108)와, 처리 트랙과, 리턴 트랙과, 처리 트랙 및 리턴 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 구동하기 위한 구동 시스템과, 사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어(108)를 제1 배향으로부터 제2 배향으로 및/또는 제2 배향으로부터 제1 배향으로 피봇시키도록 구성된 적어도 하나의 스위블 유닛(500)을 포함한다. 또한, 기판 캐리어(108)를 운반하기 위한 방법이며, 기판 캐리어(108)를 제공하는 단계와, 기판 캐리어(108)를 제1 배향에 위치시키는 단계와, 제1 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 운반하는 단계와, 사실상 수평인 축 주위로 기판 캐리어(108)를 제2 배향으로 회전시키는 단계를 포함한다.

Description

컨베이어 조립체 및 기판 캐리어를 운반하기 위한 방법{CONVEYOR ASSEMBLY AND METHOD FOR CONVEYING A SUBSTRATE CARRIER}
본 발명은 적어도 하나의 기판을 지지하기 위한 기판 반송 표면을 갖는 적어도 하나의 기판 캐리어와, 처리 트랙과, 리턴 트랙과, 처리 트랙 및 리턴 트랙을 따라 적어도 하나의 기판 캐리어를 구동시키기 위한 구동 시스템을 포함하는, 기판 처리 시스템과 함께 사용하기에 적절한 컨베이어 조립체에 관한 것이다.
이러한 컨베이어 조립체는 예를 들어 출원인의 명의로 된 유럽 특허 제EP 1,365,040호로부터 알려져 있다.
기판, 특히 얇은 (예를 들어 250㎛ 이하의) 유리 플레이트 또는 반도체 웨이퍼와 같은 취성 기판을 처리할 동안, 기판 파괴의 상당한 위험성이 존재한다. 기판의 파괴는, 예를 들어 적재(loading) 및 적하(unloading) 스테이션에서의 기판 취급 동안의 또는 실질적인 처리 동안의, 기판과의 기계적 접촉에 의해, 또는 극한 온도와 같은 처리 조건에 의해 유발될 수 있다. 전술된 형태의 컨베이어 시스템은 기판이 놓이는 표면을 제공하는 기판 캐리어를 이용하여, 하나 이상의 처리 스테이션을 따라 기판을 운반하는데 채용된다. 처리 동안 기판이 파괴될 때, 그 단편은 캐리어의 기판 반송 표면상에 남겨진다. 캐리어에 새로운 기판이 재적재되기 전에, 파단된 기판의 잔부는 제거될 필요가 있다. 이러한 작업은, 일반적인 기판 핸들러가 기판의 무결성에 기반하기 때문에 수행되지 못할 수 있다. 따라서 제EP 1,365,040호에 개시된 기판 처리 조립체에는 캐리어의 표면으로부터 기판 잔부를 후버링(hoovering)하기 위한 특정 스테이션이 설비된다.
그러나, 후버링 스테이션은 캐리어 표면을 청소하는데 비교적 장시간이 소요되는, 비교적 복잡하고 고가인 상당한 규모의 장치이다. 본 발명의 목적은 개선된 컨베이어 조립체, 특히, 비교적 소형이고, 파괴된 기판 및/또는 다른 오염물의 잔부를 효율적으로 처리할 수 있는 조립체를 제공하는 것이다.
이 때문에, 본 발명은, 사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어를 제1 배향으로부터 제2 배향으로 및/또는 그 반대로 피봇시키도록 구성된 스위블 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는, 전술되어 참조된 형태의 컨베이어 조립체를 제공한다.
이러한 컨베이어 조립체는, 기판 캐리어 및 그 기판 반송 표면이 기울여지거나 심지어 회전될 수 있게 함으로써, 임의의 유리성 오염물[예를 들어 기생적 증착(parasitic deposition)에 기인하는 증착 폐기물 또는 파괴된 기판의 잔부]이 캐리어로부터 떨어지게 한다. 캐리어로부터 떨어진 재료는 스위블 유닛 아래에 배치된 컨테이너에 수집될 수 있다. 이하에서 명료해지는 바와 같이, 스위블 유닛은 상대적으로 적은 기계적 부품으로 구성될 수 있어서, 이를 단순하고, 안정적이고, 경제적인 제조 장치가 되게 한다. 또한, 스위블 유닛은 신속하게 작동하기 때문에, 시간당 1000 개의 웨이퍼보다 많은 생산 용량을 갖는 높은 처리량의 기판 처리 시스템과 함께 사용하기에 적합하다.
추가적인 실시예에서, 컨베이어 조립체 예를 들어 스위블 유닛은, 기판 캐리어를 제1 배향으로부터 제2 배향으로 이동시키도록, 기판 캐리어가 보충적인 병진 운동을 하도록, 구성될 수도 있다.
원한다면, 스위블 유닛 또는 조립체의 다른 부분은 캐리어의 표면의 임의의 파편을 털어내기 위해 기판 캐리어에 요동 운동을 부가할 수 있다. 또한, 캐리어가 예를 들면 앞선 처리 작업에 기인한 약간의 점착성을 갖는 잔부를 배출하도록 서서히 충돌할 수 있는 정지부를 포함할 수도 있다. 다르게, 스위블 유닛은, 점착성 단편이 캐리어에서 떨어져 나가도록 가스/공기 유동 또는 진동에 노출될 수 있다. 스위블 유닛은, 예를 들어 트랙을 따르는 특정 위치에서 발생하는 기판 파괴의 가능성에 따라, 처리 트랙에, 리턴 트랙에, 또는 처리 트랙과 리턴 트랙의 사이에 배치될 수 있다. 또한, 스위블 유닛은 자동적으로 또는 수동으로 작동될 수 있다. 자동적으로 작동되는 스위블 유닛은, 모든 통과 기판 캐리어의 캐리어 표면을 점검하는 카메라와 같은 기판 파괴 센서의 처리량에 따라 필요시다마(incidentally) 또는 캐리어의 표면의 상태의 임의의 표시에 무관하게 모든 통과 캐리어에 대해 연속적으로 활성화될 수 있다.
본문에 사용된 용어와 관련하여, "사실상 수평인"의 문구는, 중력 방향에 수직인 평면에 대해 45˚보다 작은 예각, 특히 20˚를 포함하는 임의의 방향을 포함하는 것으로 의도된다. 유사하게, "사실상 수직인"의 문구는, 중력 방향에 수직인 평면에 대해 45˚ 내지 90˚의 예각, 특히 70˚ 내지 90˚의 각을 포함하는 임의의 방향을 포함하는 것으로 의도된다. 또한, 처리 트랙과 리턴 트랙이 전체적으로 분리된 트랙을 구성하지 않을 수도 있고, 대신 예를 들어 하나의 동일한 트랙, 또는 부분적으로 일치하는 트랙들로 구성될 수 있는 것으로 고려된다.
본 발명의 추가적인 기재에 따르면, 제1 배향은 기판 캐리어의 사실상 수평으로 배향된 기판 반송 표면에 대응한다. 제2 배향은 제1 배향으로부터 출발하여 예를 들어 70˚ 내지 270˚의 각으로, 예를 들어 90˚ 내지 270˚의 각으로 피봇 운동함으로써 획득될 수 있다.
제1 배향은, 하나 이상의 기판을 아래에서 지지하는 기판 캐리어에 대응하여 수평인 것이 바람직하다. 다른 한편, 제2 배향은, 반송 표면이 제거될 파편을 지지하지 않음으로써 파편의 전체 자중이 중력에 의한 파편의 제거에 사용될 수 있게 하도록 선택되는 것이 가장 좋다. 이는, 제1 수평 배향으로부터의 출발하여 70˚ 내지 270˚의 각으로 캐리어를 피봇함으로써 성취된다. 기판 캐리어가 반송 표면의 측부에 더 가까이 위치된 축 주위로 회전하는 경우에, 약 180˚ 의 각을 통한 회전은 상당한 양의 공간을 요구할 수 있다. 예를 들어, 그 직사각형 측면들 중 하나와 일치하는 캐리어의 운송 방향으로 연장하는 축 주위로의 직사각형 형상의 캐리어의 180˚의 각으로의 회전은, 그 유효 점유 면적의 관점에서 운송 트랙의 폭을 두 배로 늘릴 것이다. 상업적인 생산 라인에 사용하기 위한 장치는, 점유 면적을 최소화하는 것에 대해 특별히 주의하여 소형으로 유지되는 것이 바람직하다. 결과적으로, 제2 배향은 제1 배향으로부터 출발하여 70˚ 내지 120˚의 각으로, 예를 들어 90˚ 내지 120˚의 범위의 각으로, 보다 구체적으로 110˚의 각으로 캐리어를 피봇함으로써 획득되는 것이 바람직하다.
본 발명의 추가적인 기재에 따르면, 컨베이어 조립체는 예를 들어 처리 트랙의 끝 지점과 리턴 트랙의 시작 지점 사이에 배치된 제1 스위블 유닛과, 예를 들어 리턴 트랙의 끝 지점과 처리 트랙의 시작 지점 사이에 배치된 제2 스위블 유닛의, 두 개의 스위블 유닛을 포함할 수 있다.
2개의 스위블 유닛은 정반대의 거동을 수행하는데 사용될 수 있다. 예를 들어 캐리어 표면으로부터 기판을 적하하는 배출 스테이션의 하류에 배치된 제1 스위블 유닛은, 임의의 오염물을 제거하도록 캐리어를 그 제1 수평 위치로부터 그 제2 경사진 위치로 피봇시킬 수 있다. 이후, 여전히 그 제2 위치에 자리하고 있는 기판 캐리어는 리턴 트랙을 따라 처리 트랙의 시작 지점으로 다시 운송될 수 있고, 이 때, 기판 캐리어는 새로운 기판으로 적재될 그 제1 수평 위치로 다시 피봇된다. 이러한 구조의 이점은, 기판 캐리어가 경사진, 혹은 (거의) 수직인 위치로 운송됨에 따른 리턴 트랙의 점유 면적이 상대적으로 작을 수 있다는 데 있다. 기판 캐리어의 그 제1 및 제2 위치로의 운송을 구현시키기 위해, 처리 트랙 및 리턴 트랙에는 기판 캐리어가 운송될 동안 그 주어진 배향을 유지하는 것을 보장하게 돕는 안내 수단, 예를 들어, 안내 레일이 제공될 수 있다.
본 발명의 추가적인 기재에 따르면, 처리 트랙은 사실상 리턴 트랙의 위에 또는 아래에 배치된다. 이는 컨베이어 조립체의 점유 면적을 최소화시킬 뿐만 아니라, 전체적으로 그것이 구현되는 각각의 시스템의 조밀도를 개선시킬 수도 있다. 예를 들어, 처리 트랙이 리턴 트랙의 위에 또는 아래에 배치되는 경우에, 또한, 기판 캐리어가 처리 트랙을 따라 제1 사실상 수평 배향으로 운송되고, 리턴 트랙을 따라 제2 대략 수직 배향으로 운송되는 경우에, 처리 트랙(그리고 다음은 리턴 트랙)의 각각의 위 아래의 긴 공간이 이용될 수 있으며, 이러한 공간은 시스템의 하나 이상의 다른 부분(예를 들어, 진공 펌프, 파워서플라이, 제어 유닛 등)들을 수용하는데 이용될 수 있다. 트랙과 부품들이 완전히 적층되거나 병치된 시스템과 비교하여, 이러한 구조는 상당히 작은 점유 면적 및 개선된 조밀도를 허용한다. 이러한 시스템은 예를 들어 청구항 제18항의 특징에 따른 기판 처리 시스템일 수 있다.
본 발명의 추가적인 기재에 따르면, 컨베이어 조립체는, 기판 캐리어에 장착되는 수많은 롤러, 예를 들어 휠과, 처리 트랙 및/또는 리턴 트랙의 적어도 일부를 따라 연장하는 적어도 하나의 레일을 포함하고, 상기 레일은 기판 캐리어상의 롤러(들)와 협동하도록 구성됨으로써, 기판 캐리어가 상기 트랙의 상기 일부를 따라 레일 위로 구름가능하게 이동할 수 있게 한다.
일 실시예에서, 예를 들어, 처리 트랙의 적어도 일부는 제1 안내 레일에 의해 형성되고, 기판 캐리어는 제1 안내 레일과 협동하도록 구성된 제1 롤러 세트를 포함함으로써, 기판 캐리어가 처리 트랙의 상기 일부를 따라 제1 안내 레일 위로 구름가능하게 이동할 수 있게 한다.
다른 실시예에서, 예를 들어, 리턴 트랙의 적어도 일부는 제2 안내 레일에 의해 형성되고, 기판 캐리어는 제2 안내 레일과 협동하도록 구성된 제2 롤러 세트를 포함함으로써, 기판 캐리어가 리턴 트랙의 상기 일부를 따라 제2 안내 레일 위로 구름가능하게 이동할 수 있게 한다.
이러한 실시예들의 조합에서, 적어도 하나의 스위블 유닛은, 사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어를 그 제1 배향과 그 제2 배향 사이로 피봇시킴으로써, 기판 캐리어를 처리 트랙의 제1 안내 레일로부터 리턴 트랙의 제2 안내 레일로 및/또는 그 반대로 이동시키도록, 구성될 수 있다. 이 때문에, 적어도 하나의 스위블 유닛은 제1 안내 레일 연장부 및 제2 안내 레일 연장부를 포함할 수 있고, 상기 제1 안내 레일 연장부 및 제2 안내 레일 연장부는, 스위블 유닛이 기판 캐리어를 그 제1 배향으로 유지시킬 때 제1 안내 레일 연장부가 제1 안내 레일과 정렬되도록, 스위블 유닛이 기판 캐리어를 그 제2 배향에 유지시킬 때 제2 안내 레일 연장부가 제2 안내 레일과 정렬되도록, 배치된다. 따라서 적어도 하나의 스위블 유닛은 처리 트랙과 리턴 트랙 사이에서 스위치로서 작용하여, 기판 캐리어가 처리 또는 정렬 트랙과 정렬될 때, 스위블 유닛으로 그리고 스위블 유닛으로부터 용이하게 이동될 수 있게 한다.
본 발명의 태양에 따르면, 리턴 트랙은 특정 상태의 환경, 예를 들어, 비활성 가스가 존재하고 및/또는 특정 온도 조건이 강요되는 환경 및/또는 예를 들어 외부 환경, 예를 들어 진공 환경으로부터 밀봉된 내부 환경을 통해 적어도 부분적으로 연장한다.
본 발명은 또한 기판 캐리어를 제공하는 단계와, 기판 캐리어를 제1 배향에 위치시키는 단계와, 제1 트랙을 따라 기판 캐리어를 운반하는 단계와, 기판 캐리어를 사실상 수평 축 주위로 제2 배향으로 회전시키는 단계를 포함하는, 기판 캐리어를 운반하기 위한 방법을 제공한다.
기판 캐리어, 특히 그 기판 반송 표면을 회전시킴으로써, 기판 캐리어의 기판 반송 표면에 존재하는 오염물이 효율적으로 처리된다. 이러한 방법은, 특히 기판 처리 시스템, 예를 들어, 보다 크고, 값비싼 장비, 예를 들어 후버링 스테이션이 사용되는 경향이 있는 반도체 웨이퍼 처리 시스템에 유리하게 이용될 수 있다.
이러한 방법은 기판 캐리어를 제2 트랙을 따라 제2 배향으로 운반시키는 단계와, 기판 캐리어를 사실상 수평 축 주위로 그 제1 배향으로 다시 회전시키는 단계와, 및/또는 특히 그 배향의 변동 또는 캐리어로부터 오염물을 적하시키기 위해 취해지는 임의의 다른 특정 거동, 예를 들어 캐리어를 가스 흐름 또는 진동에 노출시키는 단계에 기인하여 기판 캐리어로부터 떨어지는 임의의 재료를 수집하는 단계를 더 포함할 수 있다.
제1 트랙 및 제2 트랙이 전체적으로 분리된 트랙을 구성하지 않을 수도 있고, 대신 예를 들어 하나의 동일한 트랙, 또는 부분적으로 일치하는 트랙들이 구성될 수 있다. 유리한 실시예에 있어서, 제1 트랙 및 제2 트랙은 기판 캐리어가 연속적으로 구동될 수 있는 무단 경로를 형성하기 위해 예를 들어 전술된 스위블 유닛에 의해 연결된다. 제1 및 제2 트랙은, 이러한 방법을 실행하는 장치가 차지하는 공간 및 점유 면적을 최소화하기 위해 서로 위 아래로 배치될 수 있다.
본 발명의 전술된 그리고 다른 특징 및 이점들은, 첨부된 도면과 함께, 본 발명을 제한하려는 의도가 아닌 설명하기 위한 목적인 본 발명의 특정 실시예의 하기의 상세한 기재로부터 보다 완벽하게 이해될 것이다.
도 1은 예시적으로 기재된 컨베이어 조립체의 개략적인 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 컨베이어 조립에 사용될 수 있는 예시적인 기판 캐리어의 측면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 기판 캐리어의 사시적인 저면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 기판 캐리어의 사시적인 평면도다.
도 5는 내부에 도 2의 기판 캐리어가 삽입된, 예시적으로 기재된 스위블 유닛의 측면도이다.
도 6은 내부에 도 2의 기판 캐리어가 삽입된, 예시적으로 기재된 스위블 유닛의 사시도로서, 도 5에 도시된 상태를 상이한 각도에서 도시한다.
도 7은 선택적인 캐리어 교환 유닛의 작동을 개략적으로 도시한다.
도 8은 본 발명에 따른 컨베이어 조립체가 합체될 수 있는 기판 처리 시스템을 개략적으로 도시한다.
도 1은 본 발명에 따른 예시적인 컨베이어 조립체(100)를 개략적으로 도시한다. 컨베이어 조립체(100)는 두 개의 안내 레일(102, 103)에 의해 구현된 상부 처리 트랙을 포함한다. 컨베이어 조립체(100)의 다른 실시예에서, 처리 트랙은 다른 개수의 안내 레일에 의해 구현될 수 있는 것으로 고려된다. 추가의 안내 레일은 예를 들어 후술될 자석(112)이 장착되는 영역의 부분과 같이 기판 캐리어(108)의 상대적으로 무거운 부분을 추가로 지지하는데 사용될 수 있다. 처리 트랙은 그 시작 지점(104)으로부터 끝 지점(106)까지 이어진다. 통상적으로, 시작 지점(104)은, 기판 반송 표면(109)을 갖는 기판 캐리어(108)에 기판을 위치시키고, 이어서 기판 캐리어를 처리 트랙의 안내 레일(102, 103)을 따라 이동시키는 적재 위치와 관련될 수 있다. 유사하게, 처리 트랙의 끝 지점(106)은 적절하게 처리된 기판을 기판 캐리어(108)로부터 제거하기 위한 배출 또는 적하 위치와 관련될 수 있다. 기판 처리를 수행하기 위한 하나 이상 처리 스테이션은 시작 지점(104)과 끝 지점(106) 사이에서 처리 트랙을 따라 배치될 수 있다(또한 도 8 참조).
일 방향 처리 트랙을 따라 운반되는 기판 캐리어(108)가 그 시작 지점(104)으로 다시 운송되도록 리턴 트랙이 제공된다. 리턴 트랙은 안내 레일(110)에 의해 구현된다. 처리 트랙과 리턴 트랙 사이의 연결은 스위블 유닛(500)에 의해 제공되는데, 이는 기판 캐리어(108)가 처리 트랙으로부터 리턴 트랙으로, 또는 그 반대로 회전식으로 이동하게 허용하는 스위치와 매우 유사하게 작동한다. 스위블 유닛(500) 및 그 작동은 이하게 더 상세하게 논의될 것이다. 스위블 유닛(500)과 함께, 처리 트랙과 리턴 트랙은 기판 캐리어(108)가 운반될 수 있는 무단 경로를 형성한다. 도 1에서, 리턴 트랙은, 리턴 트랙의 점유 면적을 최소화하고 전체적으로는 컨베이어 조립체(100)의 점유 면적을 최소화하기 위해 사실상 처리 트랙 아래에 배치된다. 그러나, 리턴 트랙에 대한 처리 트랙의 위치는 원칙적으로는 임의로 선택될 수 있다. 일부 경우에는, 기판 캐리어(108)가 (단일의) 회전 운동만으로는 리턴 트랙과 처리 트랙 사이를 전환할 수 없는 방식으로 리턴 트랙에 대해 처리 트랙을 위치시키는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 경우, 기판 캐리어(108)는 스위블 유닛(500) 또는 다른 병진 장치에 의해 수행되는 부가적인 병진 운동에 노출되게 된다.
구동 시스템이 처리 트랙 및 리턴 트랙으로 구성된 무단 경로를 따라 기판 캐리어(108)를 구동하도록 제공된다. 도 1에 도시된 예시적인 구동 시스템은 두 부분으로 되어 있다. 즉, 처리 트랙을 따라 기판 캐리어를 운송시키기 위해 사용되는 구동 기구는 리턴 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 운송시키기 위해 사용되는 기구와는 상이하다. 그러나 두 경우 모두에서, 기판 캐리어(108)의 바닥면에 장착되는 일련의 영구 자석(112)(도 1에서는 도시되지 않음; 도 3 참조)이 사용된다.
처리 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 구동시키기 위해서, 안내 레일(102)과 나란하게 전기 코일(114)이 제공된다. 기판 캐리어상에 장착된 자석(112)의 자기장과 상호 작용하는 자기장을 생성하도록 전기 코일에 동력이 공급될 수 있으며, 이로써 캐리어가 운송 방향(118)으로 이동하도록 캐리어(108)에 에너지가 전달된다. 이러한 전자기 구동 시스템은, 구동 시스템의 부품들이 전혀 마모되지 않음에 기인해 정비의 필요성을 최소로 유지시키면서 개개의 캐리어(108)의 운동을 독립적으로 제어한다는 장점을 제공한다. 또한, 전기 코일(114)은 특정 조건의 처리 환경, 특히 진공 환경의 외부에 배치될 수 있는데, 이는 코일을 손상시키거나 훼손시킬 수 있는 기판 처리가 수행되는 경우에 특히 이롭다. 처리 트랙을 따라 캐리어(108)를 구동시키기 위한 구동 시스템은 본원에 참조로 통합된 제EP 1,365,040호에 기재된 컨베이어 시스템과 동일할 수 있거나 또는 이에 대응할 수 있다.
안내 레일(110)에 평행한 방향으로 연장하는 벨트(116)는 리턴 트랙을 따르는 방향(120)으로 기판 캐리어(108)를 구동시키도록 제공된다. 벨트(116)는 기판 캐리어(108)상에 장착된 자석(112)에 직면하여 자화되는 철과 같은 자기 재료로 제공되거나 이로 구성된다. 일단 자화되면, 벨트(116)와 캐리어(108)는 자기적으로 연결되게 되고, 벨트의 이동은 안내 레일(110)을 따라 캐리어를 구동시킬 것이다. 다르게, 벨트(116)는 자석(112)과 상호 작용하는 영구 자기 재료를 포함할 수 있다.
처리 트랙상의 기판 캐리어(108)는 리턴 트랙상의 기판 캐리어(108)와 상이하게 배향된다는 것을 도 1로부터 명확히 알 수 있다. 처리 트랙상의 캐리어(108)는 사실상 수평으로 배향되는 반면에 리턴 트랙의 캐리어(108)는 사실상 수직으로 배향된다. 처리 트랙의 시작 지점(104)과 끝 지점(106) 모두에서, 기판 캐리어(108)는 안내 레일(102, 110)에 평행한 방향으로 연장하는 사실상 수평 축 주위로 이들의 피봇시킴으로써 재배향된다. 스위블 유닛(500)에 의해 재배향이 수행된다. 기판 캐리어(108)의 사실상 수평 위치로부터 기판 캐리어의 사실상 수직 위치까지 기판 캐리어(108)를 피봇시키는 것은 기판 캐리어의 기판 반송 표면(109)으로부터 파괴된 기판 또는 다른 유리성 오염물(loose contamination)의 잔부를 씻어내는데 특히 도움이 될 수 있다.
도 1에 도시된 구동 시스템은 예시적인 것으로 이해된다. 트랙을 따라 기판 캐리어를 구동시키기 위한 다수의 대체 구동 시스템들이 업계에 공지되어 있어서, 이 논제가 본원에서 상세히 설명될 필요는 없다. 예를 들어, 구동 시스템은 자기성인 것이 유리하기는 하나, 사실상 자기성일 필요는 없으며, 예를 들어, 종래의 체인 컨베이어가 처리 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 운송하는데 사용될 수 있다. 또한, 예를 들어, 구동 벨트(116) 또는 다른 형태의 구동 수단은 기계적 마찰력, 클램핑력, 파지력, 또는 다른 것에 의해 기판 캐리어(108)와 연결될 수 있어서 리턴 트랙을 따라 기판 캐리어를 구동시킨다.
도 1은 본 발명에 따른 컨베이어 조립체(100)의 예시적인 실시예의 상대적으로 높은 수준의 개관을 제공한다. 이하에서는, 기판 캐리어(108) 및 스위블 유닛(500)의 더 상세한 예시적인 실시예가 기술될 것이다.
이제 도 2 내지 도 4를 참조하여, 도 2 내지 도 4는 기판 캐리어(108)를 매우 상세하게 도시한다. 기판 캐리어(108)는 높은 작업 처리 용량을 갖는 기판 처리 시스템을 성취하는데 중요한 역할을 한다. 그 치수는 동시적인 처리를 위해 상당한 양의 웨이퍼, 예를 들어 10개 이상의 웨이퍼를 지지할 수 있도록 선택되는 것이 바람직하다. 도시된 기판 캐리어(108)는 직사각형 캐리어 플레이트(200)와, 그 직사각형 측면에 인접하고 평행한, 캐리어 플레이트(200)의 바닥면(204)에 연결된 U형 프로파일(202)을 포함한다. 캐리어 플레이트(200)의 상부면(206)에는 동일한 수의 기판을 수용하도록 구성된 다수의 사실상 정사각형의 리세스(208)가 제공된다. U형 프로파일의 바닥면에는, 구동 시스템의 일부로서 그 기능이 이미 전술된 일련의 영구 자석(112)이 제공된다.
캐리어 플레이트(200)의 바닥면(204)에는, U형 프로파일(202)에 대향하여 캐리어 플레이트(200)의 직사각형 측면에 인접하게 배치된, 서로 정렬된 두 쌍의 롤러(210)가 제공된다. U형 프로파일(202) 자체에는 또한 4 개의 대응하여 정렬된 롤러(212)가 제공된다. 롤러(210, 212)는 처리 트랙의 안내 레일(102, 103)과 협동하도록 구성되고, 캐리어 플레이트(200)와 사실상 평행하게 연장하는 회전 축을 갖는다. 롤러(210, 212)는 기판 캐리어가 처리 트랙을 따라 이동할 때 기판 캐리어(108)를 지지하고 기판 캐리어가 원활하게 운반되게 한다.
롤러(212) 이외에, U형 프로파일에는 다른 쌍의 롤러(214)가 제공된다. 롤러(210, 212)보다 약간 큰 직경 및 캐리어 플레이트(200)에 대체로 수직으로 연장하는 회전 축을 갖는 이러한 롤러(214)는 리턴 트랙의 안내 레일(110)과 협동하도록 구성된다. 캐리어 플레이트(200)와 롤러(214)의 회전축 사이의 사잇각은, 후술되는 기판 캐리어(108)가 스위블 유닛(500)에 의해 피봇팅되는 각도와 관련된다.
이제 예시적인 스위블 유닛(500)을 도시한 도 5 및 도 6을 참조하여, 도 5 및 도 6에는 도 2 내지 도 4의 예시적인 기판 캐리어(108)가 삽입된다.
스위블 유닛(500)은 실린더 피스톤 조립체(502, 520)와, 고정계(fixed world)에서 피봇식으로 연결될 수 있는 그 실린더 단부(504)와, 스위블 유닛의 케이싱(508)에 피봇식으로 연결된 그 피스톤 로드 단부(506)를 포함한다. 케이싱(508)은 사전 조립된 샤프트부(510)를 갖는 두 개의 베어링 장착부(512)에 의해 피봇식으로 현수될 수 있다. 두 개의 베어링 장착부(512)는 스위블 유닛(500)의 케이싱(508)의 대향 측부에 제공되며, 도 5에는 하나만이 도시되었다. 스위블 유닛(500)은 각각의 롤러(210 및 212)와 협동하도록 구성된 2 개의 레일 연장부(514, 516)와, 롤러(214)와 협동하도록 구성된 하나의 레일 연장부(518)를 더 포함한다. 레일 연장부(514, 516)는 각각 처리 트랙 안내 레일(102 및 103)의 신장부로서 간주될 수 있으며, 레일 연장부(518)는 리턴 트랙의 안내 레일(110)의 신장부라고 할 수 있다. 스위블 유닛(500)은 또한 롤러(212)와 결합하는 플랜지(522)를 포함한다.
처리 트랙의 끝 지점(106)에 배치된 스위블 유닛(500)의 작동은 하기와 같을 수 있다. 스위블 유닛(500)의 제1 배향에서, 레일 연장부(514, 516)는 처리 트랙의 안내 레일(102 및 103)과 정렬된다. 기판 캐리어(108)는 안내 레일(102 및 103)을 따라 구동되어 처리 트랙의 끝 지점(106)에 도달함에 따라, 스위블 유닛(500)으로 자동적으로 구동된다. 기판 캐리어(108)가 삽입됨에 따라, 롤러(212, 210)는 레일 연장부(514, 516)와 결합할 것이다. 유사하게, 롤러(214)는 레일 연장부(518)와 결합할 것이다. 이 지점에서 기판 캐리어(108)는 여전히 롤러(212, 210)에 의해 지지된다. 기판 캐리어(108)가 완전히 삽입될 때, 실린더 피스톤 조립체(502, 520)는 피스톤 로드(520)를 실린더(502) 내로 인입하도록 작용하여, 케이싱(508) 및 이에 따른 그 내부에 삽입된 기판 캐리어(108)가 샤프트(510) 주위로 하향으로 회전되게 유도할 수 있다. 케이싱(508) 및 캐리어(108)가 회전되는 최종 각도는 피스톤 로드(520)가 인입되는 거리에 의존하고, 도시된 실시예에서는 대략 110˚로 설정되었다. 피스톤 로드(520)가 반드시 단일의 부드러운 운동으로 인입될 필요는 없다. 예를 들어, 이는 기판 캐리어(108)상에 쉐이킹 운동(shaking motion)을 부과하기 위해 실린더(502) 내외로 간헐적으로 활주하게 제조될 수 있다. 이러한 경우에, 플랜지(522)는 스위블 유닛(500)과 기판 캐리어(108) 사이에 적절한 접촉을 유지하는데 도움이 될 수 있다. 스위블 유닛(500)이 그 회전 거동을 마치면, 케이싱(508) 및 캐리어(108)는 이들의 제2 배향에 도달한다. 기판 캐리어(108)는 이제 레일 연장부(518)상에 놓인 롤러(214)에 의해서 지지되는데, 이는 회전에 기인하여 리턴 트랙의 안내 레일(110)과 정렬된다. 또한 재배향은 U형 프로파일(202)의 바닥면에 제공되는 자석(112)이 벨트(116)의 범위에 이르게 한다. 벨트(116)의 운동은 기판 캐리어(108)를 스위블 유닛(500)으로부터 리턴 트랙의 안내 레일(110)로 견인할 것이고, 처리 트랙의 시작 지점을 향해 기판 캐리어를 운반시킬 것이다. 리턴 트랙을 따르는 운송 동안, 기판 캐리어는 그 배향을 유지하도록 제조되는 것이 바람직하다. 그 배향이 예를 들어 중력에 의해 반대가 되게 되면, 추가의 안내 레일, 예를 들어 플랜지(522)와 정렬되는 안내 레일이 제공될 수 있다.
도 7은 본 발명에 따른 컨베이어 조립체(100)에 포함될 수 있는 선택적인 캐리어 교환 유닛(700)(도 8 참조)의 작동을 개략적으로 도시한다. 캐리어 교환 유닛(700)은, 전체적으로 조립체(100)를 중지시키지 않고 처리 또는 리턴 트랙에 이미 놓여있는 기판 캐리어(108)가 사이드 트래킹(side-tracked)되거 하거나, 새로운 기판 캐리어(108)가 트랙들 중 하나에 제공되는 캐리어의 스트림에 삽입되게 한다. 기판 캐리어의 사이드 트랙킹은 예를 들어 하나 이상의 기판 캐리어(108)가 완전한 점검 또는 정비를 필요로 할 경우 바람직할 수도 있으며, 캐리어(108)의 삽입은 소위 '더미 캐리어(dummy carrier)'가 기판 캐리어 스트림에 활주되게 허용할 수 있다. 더미 캐리어에는 열전대(thermocouple) 및 온도 데이터 기록계와 같은 측정 장비가 공급될 수 있어, 처리 동안 기판이 정밀 상태에 접근할 수 있게 된다.
도 1에 도시된 컨베이어 조립체(100)의 리턴 트랙에 통합된 캐리어 교환 유닛(700)은 하기와 같이 작동할 수 있다. 리턴 트랙의 개략적인 평면도를 도시한 상태 A는 정상 작동 환경을 나타낸다. 이제 두 개의 섹션으로 분할된 벨트(116)는 리턴 트랙을 따르는 사실상 수직으로 배향된 기판 캐리어(108)를 방향(120)으로 운반시킨다. 교환 유닛(700)은 벨트(116)의 두 섹션 사이에 배치되고, 두 개의 벨트(702, 704)를 포함한다. 교환 유닛(700)의 생성 상태에서, 벨트(704)는 리턴 트랙을 따라 운송되는 기판 캐리어(108)가 벨트(116)의 제1 섹션으로부터 벨트(704)로 그리고 벨트(116)의 제2 섹션으로 자동적으로 인계되도록, 벨트(116)의 두 섹션 모두와 정렬된다. 환언하면, 벨트(116 및 704)는 단일의 연속 벨트로서 작동한다. 교환이 요구되는 기판 캐리어(108)가 교환 유닛(700)에 유입될 때, 활주가능한 프레임에 장착될 수 있는 벨트(702 및 704)는 유압 실린더와 같은 액추에이터에 의해 전방으로 신속하게 유입될 수 있다. 이는 상태 B에 도시된다. 따라서, 벨트(702)는 벨트(704)를 대신하고, 기판 캐리어(108)와 함께 교환되는 벨트(704)는 리턴 트랙을 따라 이동하는 기판 캐리어의 스트림의 밖에 놓이게 된다. 이제 각각의 기판 캐리어는 상태 C에 도시된 바와 같이 예를 들어 점검, 서비스, 대체될 수 있다. 명백하게, 캐리어 교환 유닛(700)이 진공 환경 내부에 위치될 때, 가장 먼저 진공이 소멸 될 필요가 있을 수 있으며, 혹은 생산 라인이 휴지 기간으로 인도한다. 이는, 캐리어 교환 유닛(700)이 리턴 트랙의 대기 부분에 배치되는 것이 바람직하기 때문이다. 기판 캐리어를 기판의 스트림에 삽입하기 위해서는, 기술된 단계가 반대로 실행될 수 있다. 상태 D에 도시된 바와 같이, 벨트(702)가 기판 캐리어(108)를 일시적으로 운반시키지 않는다면, 상황 E에 도시된 바와 같이, 두 개의 벨트(702, 704)는 후방으로 이동하여 벨트(704)가 벨트(116)의 두 섹션 모두와 일렬로 정렬될 수 있고, 이에 따라 벨트(704)에 의해 보유된 기판 캐리어는 스트림으로 삽입되게 된다. 명료성을 위해, 도 7에는 안내 레일, 특히 안내 레일(110)이 도시되지 않았다. 그러나 실제로, 이들은 존재할 수 있고, 이 경우에 이들은 벨트(116)와 동일한 방식으로 분할될 수 있다. 물론, 기판 캐리어 교환 유닛(700)은, 벨트(702, 704)와 유사하게, 유닛의 프레임에 장착된 교환기 안내 레일 섹션을 제공할 수도 있다. 이후 각각의 이러한 교환기 안내 레일 섹션은, 이들 각각의 관련된 교환기 벨트(702, 704)가 벨트(116)의 섹션과 정렬될 때, 리턴 트랙의 안내 레일(110)의 1차 섹션과 정렬된다.
도 8은 본 발명에 따른 컨베이어 조립체(100)가 유용하게 사용될 수 있는 예시적인 기판 처리 시스템(800)을 개략적으로 도시한다. 예를 들어, 시스템은, 외부 환경으로부터 하나 이상의 처리 스테이션의 특정 조건의 (내부) 환경, 예를 들어 진공 환경을 밀봉하도록 구성되는 제1 로드 잠금부(804) 및 제2 로드 잠금부(810)를 포함할 수 있다. 기판 처리 시스템(800)은, 기판 캐리어(108)가 처리가 필요한 하나 이상의 기판을 적재할 수 있는 적재 스테이션(802)을 포함한다. 기판은 베르누이 그리퍼(Bernoulli gripper)와 같은 기판 핸들러에 의해 공급 카세트로부터 취해질 수 있고, 기판 캐리어(108)의 사실상 수평으로 배향된 기판 반송 표면(109)에 위치될 수 있다. 이후, 기판 캐리어(108)는 제1 로드 잠금부(804)를 통해 특정 조건의 (예를 들면 진공) 환경으로 이동될 수 있다. 특정 조건의 환경은 예를 들어 스퍼터링, CVD, PECVD, 또는 리소그래피 처리로 기판을 처리하기 위한 하나 이상의 증착 스테이션(808) 및/또는 가열 스테이션(806)과 같은, 수많은 처리 스테이션을 수용할 수 있다. 이후, 기판은 제2 로드 잠금부(810)를 통해 대기의 외부 환경으로, 그리고 처리된 기판이 점검될 수 있는 배출 위치(812)로 운반될 수 있다. 적절하게 처리되고 비파괴된 기판은 기판 캐리어(108)로부터 적하되어 운송 카세트에 위치될 수 있다. 이후, 배출된 기판 캐리어(108)는, 적하 위치(812)에서 캐리어(108)에 남은 임의의 재료를 의도적으로 처리하도록 사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어(108)를 피봇시키는 스위블 유닛(500)으로 더 운반될 수 있다. 이후, 기판 캐리어는 기판 캐리어 교환 유닛(700)을 포함하는 리턴 트랙을 통해 이들의 출발 지점으로 다시 운송될 수 있다. 기판 캐리어(108)가 처리 트랙을 따르는 배향과 상이한 배향의 리턴 트랙을 따라 운송되는 경우에, 제2 스위블 유닛(500)은 캐리어(108)를 그들이 원하는 배향으로 다시 피봇시키도록 적재 스테이션(802) 이전에 제공될 수 있다.
본 발명은 특정 실시예를 참조하여 기재되었지만, 당업자라면, 다양한 변경이 이루어질 수 있으며, 등가물이 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 이들의 요소를 대체할 수 있다는 것을 이해할 것이다. 특히, 청구항의 범위 내에서 새로운 실시예를 획득하기 위해 하나 이상의 실시예에 도시된 요소들이 다른 도시된 실시예 또는 이들의 요소들과 통합될 수 있다. 따라서, "하나의 실시예", "일 실시예", 및 "다른 실시예"와 같은 문구들이 다양한 실시예로 언급할 필요는 없다는 것이 이해된다. 일반적으로, 이와 같은 문구에 의해 도출된 실시예들은 추가의 실시예를 형성하기 위해 서로 결합될 수 있다. 따라서, 본 발명은 본 발명을 수행하기 위해 기재된 임의의 특정 실시예로 제한되지 않으며, 본 발명은 첨부된 청구항의 범위 내에서 모든 실시예를 포함하는 것으로 의도된다.
요소 목록
100 컨베이어 조립체
102, 103 처리 트랙의 안내 레일
104 처리 트랙의 시작 지점
106 처리 트랙의 끝 지점
108 기판 캐리어
109 기판 반송 표면
110 리턴 트랙의 안내 레일
112 영구 자석
114 전기 코일
116 벨트
118 처리 트랙을 따른 운송 방향
120 리턴 트랙을 따른 운송 방향
200 캐리어 플레이트
202 U형 프로파일
204 캐리어 플레이트의 바닥면
206 캐리어 플레이트의 상부면
208 기판을 수용하기 위한 리세스
210 처리 트랙 안내 레일(102)과 협동하는 롤러
212 처리 트랙 안내 레일(103)과 협동하는 롤러
214 리턴 트랙 안내 레일(110)과 협동하는 롤러
500 스위블 유닛
502 실린더
504 실린더 단부
506 피스톤 로드의 단부
508 케이싱
510 샤프트부
512 베어링 장착부
514 안내 레일(102)용 레일 연장부
516 안내 레일(103)용 레일 연장부
518 안내 레일(110)용 레일 연장부
520 피스톤 로드
522 플랜지
700 기판 캐리어 교환 유닛
702, 704 기판 캐리어 교환 유닛의 벨트
800 기판 처리 시스템
802 적재 스테이션
804 제1 진공 잠금부
806 가열 스테이션
808 증착 스테이션(들)
810 제2 진공 잠금부
812 적하 스테이션

Claims (34)

  1. 기판 처리 시스템(800)과 함께 사용하기에 적절한 컨베이어 조립체(100)로서,
    적어도 하나의 기판을 지지하기 위한 기판 반송 표면을 갖는 적어도 하나의 기판 캐리어(108)와,
    처리 트랙과,
    리턴 트랙과,
    처리 트랙 및 리턴 트랙을 따라 기판 캐리어를 구동하기 위한 구동 시스템(112, 114, 116)을 포함하는, 컨베이어 조립체에 있어서,
    사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어를 제1 배향으로부터 제2 배향으로 및/또는 제2 배향으로부터 제1 배향으로 피봇시키도록 구성된 적어도 하나의 스위블 유닛(500)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는
    컨베이어 조립체.
  2. 제1항에 있어서,
    제1 배향은 기판 캐리어(108)의 사실상 수평으로 배향된 기판 반송 표면(109)에 대응하고, 제2 배향은 제1 배향으로부터 출발하여 70˚ 내지 270˚의 각으로 피봇 운동함으로써 획득되는
    컨베이어 조립체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    제2 배향은 제1 배향으로부터 출발하여 70˚ 내지 120˚의 각으로 피봇 운동함으로써 획득되는
    컨베이어 조립체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    처리 트랙의 끝 지점(106)과 리턴 트랙의 시작 지점 사이에 배치된 제1 스위블 유닛과, 리턴 트랙의 끝 지점과 처리 트랙의 시작 지점(104) 사이에 배치된 제2 스위블 유닛의, 두 개의 스위블 유닛(500)을 포함하는
    컨베이어 조립체.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    처리 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 제1 배향으로 이동시키고 리턴 트랙을 따라 기판 캐리어를 제2 배향으로 이동시키도록 구성된
    컨베이어 조립체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    처리 트랙은 리턴 트랙의 사실상 위에 또는 아래에 배치되는
    컨베이어 조립체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    처리 트랙의 적어도 일부는 제1 안내 레일(102)에 의해 형성되고, 기판 캐리어(108)는 제1 안내 레일(102)과 협동하도록 구성된 다수의 제1 롤러(212)를 포함함으로써, 기판 캐리어는 처리 트랙의 상기 부분을 따라 제1 안내 레일 위로 구름가능하게 이동할 수 있게 되는
    컨베이어 조립체.
  8. 제7항에 있어서,
    리턴 트랙의 적어도 일부는 제2 안내 레일(110)에 의해 형성되고, 기판 캐리어(108)는 제2 안내 레일(110)과 협동하도록 구성된 다수의 제2 롤러(214)를 포함함으로써, 기판 캐리어는 리턴 트랙의 상기 부분을 따라 제2 안내 레일 위로 구름가능하게 이동할 수 있게 되는
    컨베이어 조립체.
  9. 제8항에 있어서,
    적어도 하나의 스위블 유닛(500)은, 사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어를 그 제1 배향과 제2 배향 사이에서 피봇시킴으로써, 처리 트랙의 제1 안내 레일(102)로부터 리턴 트랙의 제2 안내 레일(110)로, 및/또는 리턴 트랙의 제2 안내 레일(110)로부터 처리 트랙의 제1 안내 레일(102)로 기판 캐리어(108)를 이동시키도록, 구성되는
    컨베이어 조립체.
  10. 제9항에 있어서,
    처리 트랙의 제1 안내 레일(102)로부터 리턴 트랙의 제2 안내 레일(110)로, 및/또는 리턴 트랙의 제2 안내 레일(110)로부터 처리 트랙의 제1 안내 레일(102)로 기판 캐리어(108)를 이동시키도록 구성된 적어도 하나의 스위블 유닛(500)은,
    제1 안내 레일 연장부(514) 및 제2 안내 레일 연장부(518)를 포함하고,
    상기 제1 안내 레일 연장부(514) 및 제2 안내 레일 연장부(518)는, 스위블 유닛이 기판 캐리어(108)를 그 제1 배향에 유지시킬 때 제1 안내 레일 연장부가 제1 안내 레일(102)과 정렬되도록, 스위블 유닛이 기판 캐리어를 그 제2 배향에 유지시킬 때 제2 안내 레일 연장부(518)가 제2 안내 레일(110)과 정렬되도록, 배치되는
    컨베이어 조립체.
  11. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    구동 시스템은 기판 캐리어(108)상에 장착되는 적어도 하나의 자석(112)을 포함하는
    컨베이어 조립체.
  12. 제11항에 있어서,
    구동 시스템은 다수의 전기 코일(114)을 더 포함하고,
    상기 전기 코일은 제1 안내 레일(102) 또는 제2 안내 레일(110)을 따라, 또한 기판 캐리어(108)의 적어도 하나의 자석이 이동할 수 있는 위치 부근에 배치되고, 상기 코일(들)에는 제1 안내 레일 또는 제2 안내 레일을 따라 기판 캐리어가 전진하도록 급전될 수 있는
    컨베이어 조립체.
  13. 제11항 또는 제12항에 있어서,
    구동 시스템은 구동가능한 벨트(116)를 더 포함하고,
    상기 구동가능한 벨트는 제1 안내 레일(102) 또는 제2 안내 레일(110)을 따라, 또한 기판 캐리어(108)의 적어도 하나의 자석(112)이 이동할 수 있는 위치 부근에 배치되고, 상기 벨트는 예를 들어 자기 상호작용에 의해 제1 안내 레일 또는 제2 안내 레일을 따라 기판 캐리어를 견인하도록 기판 캐리어 상에 제공된 적어도 하나의 자석과 상호작용하도록 구성되는
    컨베이어 조립체.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 캐리어 교환 유닛(700)을 더 포함하고,
    상기 기판 캐리어 교환 유닛은 처리 트랙 또는 리턴 트랙에 배치되고, 스트림을 중단시키지 않고 상기 트랙을 따라 운반되는 캐리어의 상기 스트림으로부터 기판 캐리어(108)를 제거하도록 및/또는 상기 트랙을 따라 운반되는 캐리어의 상기 스트림에 기판 캐리어(108)를 삽입되도록 구성되는
    컨베이어 조립체.
  15. 제14항에 있어서,
    기판 캐리어 교환 유닛(700)은,
    제1 위치와 제2 위치 사이에서 활주가능한 프레임과,
    모두가 상기 프레임상에 장착되는 제1 교환기 안내 레일 섹션 및 제2 교환기 안내 레일 섹션을 포함하며,
    기판 캐리어 교환 유닛은 처리 트랙에 배치되고, 제1 안내 레일(102)은, 각각이 기판 캐리어 교환 유닛의 상류 및 하류로 연장하는 두 개의 섹션을 포함하고, 제1 교환기 안내 레일 섹션은 프레임이 그 제1 위치에 있을 때 제1 안내 레일(102)의 두 개의 상기 섹션 모두와 정렬되고, 제2 교환기 안내 레일 섹션은 프레임이 그 제2 위치에 있을 때 제1 안내 레일의 두 개의 섹션 모두와 정렬됨으로써, 프레임의 두 위치 모두에서, 연속 처리 트랙은 제1 교환기 안내 레일 섹션 및/또는 제2 교환기 안내 레일 섹션 및 제1 안내 레일(102)의 두 개의 섹션 모두에 의해 형성되어 존재하게 되고,
    기판 캐리어 교환 유닛은 리턴 트랙에 배치되고, 제2 안내 레일(110)은, 각각이 기판 캐리어 교환 유닛의 상류 및 하류로 연장하는 두 개의 섹션을 포함하고, 제1 교환기 안내 레일 섹션은 프레임이 그 제1 위치에 있을 때 제2 안내 레일(110)의 두 개의 상기 섹션 모두와 정렬되고, 제2 교환기 안내 레일 섹션은 프레임이 그 제2 위치에 있을 때 제2 안내 레일의 두 개의 섹션 모두와 정렬됨으로써, 프레임의 두 위치 모두에서, 연속 리턴 트랙은 제1 교환기 안내 레일 섹션 및/또는 제2 교환기 안내 레일 섹션 및 제2 안내 레일(110)의 두 개의 섹션 모두에 의해 형성되어 존재하게 되는
    컨베이어 조립체.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    처리 트랙은 특정 조건의 환경, 예를 들어 진공 환경을 통해 적어도 부분적으로 연장하는
    컨베이어 조립체.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    리턴 트랙은 예를 들어 처리 트랙 환경으로부터 분리되는 대기 환경을 통해 적어도 부분적으로 연장하는
    컨베이어 조립체.
  18. 기판 처리 시스템(800)이며,
    적어도 하나의 기판을 기판 캐리어에 적재하기 위한 적재 스테이션(802)과,
    하나 이상의 처리 스테이션(806, 808)과,
    기판 캐리어로부터 기판을 제거하기 위한 배출 스테이션(812)과,
    제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 따른 컨베이어 조립체(100)를 포함하는
    기판 처리 시스템.
  19. 제18항에 있어서,
    제1 적재 잠금부(804)와,
    제2 적재 잠금부(810)를 더 포함하며,
    제1 적재 잠금부와 제2 적재 잠금부는, 특정 조건의 환경, 예를 들어 하나 이상의 처리 스테이션이 배치되는 진공 환경을 밀봉하도록 구성되는
    기판 처리 시스템.
  20. 기판 캐리어(108)를 운반하기 위한 방법이며,
    기판 캐리어(108)를 제공하는 단계와,
    기판 캐리어를 제1 배향에 위치시키는 단계와,
    제1 트랙을 따라 기판 캐리어를 운반하는 단계와,
    사실상 수평인 축 주위로 기판 캐리어를 제2 배향으로 회전시키는 단계를 포함하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  21. 제20항에 있어서,
    제2 트랙을 따라 기판 캐리어(108)를 제2 배향으로 운반하는 단계와,
    사실상 수평 축 주위로 기판 캐리어를 다시 그 제1 배향으로 회전시키는 단계를 더 포함하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  22. 제20항 또는 제21항에 있어서,
    제1 배향은 기판 캐리어(108)의 사실상 수평으로 배향된 기판 반송 표면(109)에 대응하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  23. 제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 캐리어는 적어도 하나의 사살상 평면 기판, 예를 들어 반도체 웨이퍼를 반송하도록 구성되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  24. 제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    제2 배향은 제1 배향으로부터 출발하여 70˚ 내지 270˚의 각으로 회전함으로써 획득되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  25. 제24항에 있어서,
    제2 배향은 제1 배향으로부터 출발하여 70˚ 내지 120˚의 각으로 회전함으로써 획득되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  26. 제20항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 트랙 및 제2 트랙은 기판 캐리어(108)가 연속적으로 운반되는 무단 경로를 형성하도록 연결되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  27. 제26항에 있어서,
    사실상 수평 축 추위로 기판 캐리어를 그 제1 배향과 그 제2 배향 사이에서 회전시킴으로써, 기판 캐리어(108)는 제1 트랙으로부터 제2 트랙으로, 및/또는 제2 트랙으로부터 제1 트랙으로 이동되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  28. 제20항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 트랙은 제2 트랙의 사실상 위에 또는 아래에 배치되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  29. 제20항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 배향으로부터 제2 배향으로 기판 캐리어(108)를 회전시키는 단계는, 기판 캐리어를 요동시키기 위해 하나 이상의 중간 배향 및/또는 제1 배향과 제2 배향 사이로 왔다갔다 기판 캐리어를 회전시키는 단계를 포함하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  30. 제20항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 캐리어(108)를 가스 흐름 예를 들어, 공기 흐름에 노출시키는 단계를 더 포함하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  31. 제20항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 캐리어로부터 임의의 오염물을 적하시키기 위해 기판 캐리어(108)를 진동에 노출시키는 단계를 더 포함하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  32. 제20항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서,
    특히 그 배향의 변동 또는 기판 캐리어로부터 재료를 적하시키기 위해 취해지는 다른 특정 거동에 기인하여 기판 캐리어(108)로부터 떨어지는 임의의 재료를 수집하는 단계를 더 포함하는
    기판 캐리어 운반 방법.
  33. 제20항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서,
    기판 캐리어상에 배치된 하나 이상의 기판을 처리하는 단계를 더 포함하고,
    적절히 처리된 기판이 기판 캐리어로부터 제거된 후에 기판 캐리어(108)를 그 제1 배향으로부터 그 제2 배향으로 회전시키는 거동이 수행되는
    기판 캐리어 운반 방법.
  34. 제20항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서,
    제1 트랙 및/또는 제2 트랙은 특정 조건의 환경, 예를 들어, 진공 환경을 통해 적어도 부분적으로 연장하는
    기판 캐리어 운반 방법.
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Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL2001910C (en) * 2008-08-22 2010-03-10 Otb Solar Bv Conveyor assembly and method for conveying a substrate.
TW201327712A (zh) * 2011-11-01 2013-07-01 Intevac Inc 以電漿處理太陽能電池晶圓之系統架構
KR20130049080A (ko) * 2011-11-03 2013-05-13 삼성디스플레이 주식회사 회전식 박막 증착 장치 및 그것을 이용한 박막 증착 방법
WO2014059134A1 (en) * 2012-10-11 2014-04-17 Siemens Healthcare Diagnostics Inc. Automation maintenance carrier
TWI505981B (zh) * 2014-01-02 2015-11-01 All Ring Tech Co Ltd Material to undertake positioning device
EP3102715A1 (en) 2014-02-04 2016-12-14 Applied Materials, Inc. Evaporation source for organic material, apparatus having an evaporation source for organic material, system having an evaporation deposition apparatus with an evaporation source for organic materials, and method for operating an evaporation source for organic material
WO2015127191A1 (en) * 2014-02-20 2015-08-27 Intevac, Inc. System and method for bi-facial processing of substrates
CN105261575B (zh) * 2014-05-30 2020-07-28 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 磁性连接装置
JP2016199376A (ja) * 2015-04-13 2016-12-01 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板搬送装置
US10533264B1 (en) * 2015-12-02 2020-01-14 General Graphene Corp. Apparatus for producing graphene and other 2D materials
TWI614822B (zh) * 2016-06-29 2018-02-11 All Ring Tech Co Ltd 基板檢查方法及裝置
TWI644383B (zh) * 2016-08-29 2018-12-11 因特瓦克公司 線內扇出系統
JP6846943B2 (ja) * 2017-02-10 2021-03-24 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、および塗布方法
JP6833610B2 (ja) * 2017-05-24 2021-02-24 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 有機材料用の蒸発源、有機材料用の蒸発源を有する装置、有機材料用の蒸発源を含む蒸発堆積装置を有するシステム、及び有機材料用の蒸発源を操作するための方法
CN108946093B (zh) * 2017-05-25 2021-04-30 Ykk株式会社 搬送装置及搬送方法
CN108398240B (zh) * 2018-05-30 2024-04-16 苏州精濑光电有限公司 一种回转装置及宏观检查装置
CN109264405B (zh) * 2018-09-10 2020-08-28 安徽省富鑫雅光电科技有限公司 一种大功率超长led板用移动设备
DE102018216878A1 (de) * 2018-10-01 2020-04-02 centrotherm international AG Transporteinheit für paralleles Einfahren oder Ausfahren von Substratträgern, in parallele Prozessrohre und Verfahren zum gleichzeitigen Beladen von parallelen, horizontal beabstandeten Prozessrohren
US11869791B2 (en) 2019-01-08 2024-01-09 Ulvac, Inc. Vacuum processing apparatus
WO2020144891A1 (ja) * 2019-01-08 2020-07-16 株式会社アルバック 真空処理装置
US20200350188A1 (en) * 2019-05-02 2020-11-05 Intevac, Inc. Inline vacuum processing system with substrate and carrier cooling
CN110257793A (zh) * 2019-07-04 2019-09-20 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 倾斜运输托盘的镀膜设备
FR3121922B1 (fr) * 2021-04-16 2023-05-12 Synerlink Système de manutention de plaques dans une machine traitant des récipients
CN117381456B (zh) * 2023-12-08 2024-02-20 山西军昊实业有限公司 一种用于声屏障金属单元板滚压一体成型设备

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1841640A (en) * 1932-01-19 Transfer device for overhead track systems
US3757700A (en) * 1972-05-01 1973-09-11 Rail vehicle with electromagnet engaging belt drive
EP0043059B1 (de) * 1980-06-28 1985-09-25 Alfred Bilsing Transportautomat
US5119732A (en) * 1991-01-18 1992-06-09 R.R. Donnelley & Sons Company Portable gantry robot
RU2038993C1 (ru) * 1991-04-16 1995-07-09 Николай Григорьевич Григорьев Транспортирующее устройство
US6008476A (en) * 1997-08-04 1999-12-28 Motorola, Inc. Apparatus for indexing and affixing components to a substrate
DE19903798A1 (de) * 1999-02-01 2000-08-10 Angew Solarenergie Ase Gmbh Verfahren und Anordnung zur Wärmebehandlung von flächigen Gegenständen
KR100603100B1 (ko) * 1999-05-06 2006-07-20 동경 엘렉트론 주식회사 유리 기판의 반송 시스템
US6413145B1 (en) * 2000-04-05 2002-07-02 Applied Materials, Inc. System for polishing and cleaning substrates
US20030010449A1 (en) * 2001-07-16 2003-01-16 Gramarossa Daniel J. Automatic wafer processing and plating system
US20030188997A1 (en) * 2002-03-29 2003-10-09 Tan Beng Soon Semiconductor inspection system and method
NL1020633C2 (nl) * 2002-05-21 2003-11-24 Otb Group Bv Samenstel voor het behandelen van substraten.
US7234584B2 (en) * 2002-08-31 2007-06-26 Applied Materials, Inc. System for transporting substrate carriers
US20040197179A1 (en) * 2003-04-03 2004-10-07 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for vertical transfer of semiconductor substrates between cleaning modules
US7249670B2 (en) * 2005-02-22 2007-07-31 Interlab Incorporated Processing transport apparatus
JP4515331B2 (ja) * 2005-05-30 2010-07-28 東京エレクトロン株式会社 基板の処理システム
DE102006015686C5 (de) * 2006-03-27 2013-05-29 Thieme Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Transportieren von Druckgut und Drucktisch für Flachbettdruckmaschine
DE102006019233A1 (de) * 2006-04-26 2007-10-31 Kolbus Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zum Wenden von kontinuierlich geförderten, flachliegenden Druckprodukten
NL2001910C (en) * 2008-08-22 2010-03-10 Otb Solar Bv Conveyor assembly and method for conveying a substrate.

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