KR20110008069A - 낮은 점성을 갖는 산소 플라즈마-내성 조성물 및 관련 방법 - Google Patents

낮은 점성을 갖는 산소 플라즈마-내성 조성물 및 관련 방법 Download PDF

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그린, 트위드 오브 델라웨어, 인코포레이티드
다이킨 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 경화가능한 플루오로탄성체성 조성물은 하기으 lrn성성분을 포함한다: 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 하나 이상의 경화 부위 단량체를 갖는 플루오로중합체; 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 및 하나 이상의 하기 구조식 (I)의 디옥심 화합물: HON=RI=NOH(I); 구조식 (IV)의 모노아미딘 기재의 화합물:
Figure pct00023

(IV)
상기에서 Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹; R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그룹; R5는 각각 수소원자, 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 아미노 그룹 또는 히드록실 그룹 및/또는 퍼플루오로폴리에테르를 포함하는 경화시스템. 본 발명은 부가의 관련 조성물 및 방법도 포함한다.

Description

낮은 점성을 갖는 산소 플라즈마-내성 조성물 및 관련 방법{OXYGEN PLASMA-RESISTANT COMPOSITION CHARACTERIZED BY LOW STICKING AND RELATED MOTHODS}
본 발명은 낮은 점성을 갖는 산소 플라즈마-내성 조성물 및 관련 방법에 관한 것이다. 이 출원은 미국 가출원 번호 61/043,314 호를 우선권 주장하는 것으로 이 출원 내용은 본 발명에 참고문헌으로 사용된다.
플루오로탄성체(fluoroelastomer), 특히, 퍼플루오로탄성체는 높은 수준의 화학적 내성, 플라즈마 내성, 작절한 압축줄음율 내성 및 만족할만한 기계적 성질 질로 알려져 있다. 공정 중에 공격적이거나 극한의 환경, 예를 들어 부식성 액체, 용매, 윤활제, 및 산화 또는 환원 조건이 존재하거나 최종 사용 환경에서는, 퍼플루오로탄성체가 자주 사용된다. 퍼플루오로탄성체는 일반적으로 퍼플루오로화된 단량체, 예를 들어 퍼플루오르화된 경화 부위(경화 부위) 단량체를 사용하여, 단량체를 중합하고 경화 부위 단량체와 반응하는 경화제를 사용하여 조성물를 경화(가교)시켜 탄성을 나타내는 물질을 형성하는 것으로 만들어진다. 일반적인 경화 부위 단량체는, 시아노 경화 부위를 갖는 단량체를 포함한다. 일차 및 2차 시아노-함유 경화 부위 단량체가 알려져 있다. 시아노 경화 부위를 갖는 경화 부위 단량체에서, 어떤 경화제는 시아노 경화 부위를 삼원화하여 트리아진 가교를 형성하는 것으로 여겨진다.
알려진 경화제는 유기금속 화합물 및 이들의 수산화물이 있고, 특히 유기주석 화합물, 예를 들어 알릴-, 프로파길-, 트리페닐- 및 알레닐 주석 및 그 수산화물이 있다. 테트라알킬주석 화합물 및 테트라아릴주석 화합물, 예를 들어 테트라페닐주석이 일반적이다. 그러나, 이들 경화제는 상대적으로 느린 경화속도를 나타내고, 독성이 있으며 생성 탄성체에 금속 오염을 일으킬 수 있다.
유기 과산화물, 예를 들어 디알킬 퍼옥시드, 도 트리알릴이소시아누레이트 등의 보조제와 함께 사용되는 일차 경화제로 알려져 있고 CH2x 및 경화를 위한 다른 작용기를 포함하는 퍼플루오로중합체에 사용된다. 유기 과산화물은 상기의 경화제들보다는 일반적으로 빠르게 경화를 시키고, 더 우수한 화학적 내성과 우수한 가공성을 제공하나, 비교적 열적으로 불안정하다. 그러한 과산화물 및 보조제 경화 시스템은 미국 특허 제 4,983,680 호 등에 알려져 있다. 마찬가지로, 두 번째 경화시스템과 결합된 그러한 경화시스템, 소위 이중 경화시스템도 예를 들어, 미국 특허 제 5,447,993 호 및 WO 02/060969 A1 호에 알려져 있다.
아미노 그룹을 경화제를 사용할 수도 있다. 이들은 디아민류 및 디아민 카르바메이트류를 포함하고, 예를 들어 N,N'-디시나밀리덴-l,6-헥산디아민, 트리메틸렌디아민, 시나밀리덴 트리메틸렌디아민, 시나밀리덴 에틸렌디아민, 및 시나밀리덴 헥사메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민 카르바메이트, 비스(4- 아미노시클로헥실)메탄 카르바메이트, 1,3-디아미노프로판 모노카르바메이트, 에틸렌디아민 카르바메이트 및 트리메틸렌디아민 카르바메이트가 있다.
작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제, 예를 들어 2,2-비스-3-아미노-4-히드록시페닐헥사플루오로프로판 ("BOAP") 및 그 유도체가 알려져 있다. 이들 화합물을 사용하는 경화는 더디게 종료되는 경향이 있다. 따라서, 이들 경화제는 퍼옥시드 경화 시스템과 함께 사용되어, 전체 경화를 빠르게 하고 퍼옥시드-함유 경화 ㅅ시시스템의 단점을 극복하도록 한다.
이러한 경화 시스템이 개선되었기는 하나, 보다 빨리 플루오로탄성체 및 퍼플루오로탄성체를 경화시킬 수 있고, 특히 퍼옥시드 경화시스템을 추가적으로 더 사용하지 않을 수 있는 경화 시스템이 필요하다. 또한, 보다 빨리 퍼플루오로탄성체를 경화시키면서도 탄성체의 우수한 성질, 예를 들어 밀봉 성질(낮은 점성) 및 화학적 및 플라즈마 내성을 유지할 수 있는 경화 시스템이 필요하다.
본 발명은 경화시간을 줄이고 생산 효율을 증강시킬 수 있는 특정 경화제와 경화 촉진제로 이루어진 경화 시스템을 포함하는 가공가능하고 경화가능한 플루오로탄성체성 조성물(퍼플루오로탄성체성 조성물 포함)에 관한 것이다. 본 발명은 또한 플루오로탄성체성 조성물 및/또는 퍼플루오로탄성체성 조성물의 경화 시간을 줄이는 방법 및 산소 플라즈마 내성을 나타내는 플루오로탄성체성 조성물 및/또는 퍼플루오로탄성체성 조성물의 제조방법에 관한 것이다.
경화 종료시의 본 발명의 경화 조성물은 화학적 및 열적 분해에 대한 내성, 예를 들어 산소 플라즈마에 노출되었을 때의 내성 및 낮은 점성으로 특징 지워진다.
본 발명은 플루오로탄성체성 조성물 및 퍼플루오로탄성체성 조성물을 포함한다. 그러한 용어는 플루오로중합체 또는 퍼플루오로중합체를 포함하는 모든 중합체 조성물을 각각 의미한다. 플루오로중합체는 둘 이상의 단량체, 바람직하게는 풀루오르화 또는 퍼플루오르화된, 그리고 적어도 하나는 경화가 가능한 경화 부위 단량체를 중합하여 이루어진다. 마찬가지로, 퍼플루오로중합체는 둘 이상의 퍼플루오르화된 단량체, 이 가운데 적어도 하나는 퍼플루오르화된 경화가 가능한 작용기를 포함하는 경화 부위 단량체, 를 중합하여 이루어진다. 그러한 재료를 일반적으로 ASTM 정의 (ASTM-D-1418-01a)에 따라 미국표준 FKM (플루오로탄성체) 및 FFKM (퍼플루오로탄성체) 로 부르고 여기에 참고로 삽입한다.
플루오로탄성체성 조성물은 경화하여 플루오로탄성체를 형성할 수 있는 플루오로탄성체성 플루오로중합체, 및 하나 이상의 경화제를 포함한다. 퍼플루오로탄성체성 조성물은 조성물은 경화하여 퍼플루오로탄성체를 형성할 수 있는 퍼플루오로탄성체성 퍼플루오로중합체, 및 하나 이상의 경화제를 포함한다.
퍼플루오로탄성체성 조성물은 경화가능한 퍼플루오로중합체를 포함하는 조성물이다. 퍼플루오로중합체는 둘 이상의 퍼플루오르화된 단량체를 중합하여 형성되고, 바람직하게는 적어도 하나의 퍼플루오르화된 단량체는 경화가능한 작용기를 하나 이상 포함한다. 퍼플루오로탄성체는 플루오로, 퍼플루오로알킬 또는 퍼플루오로알콕시 치환기를 중합체 사슬에 포함하고, 이들 그룹의 일부에는 가교 가능한 작용기를 포함하는 폴리메틸렌 타입의 퍼플루오르화된 고무이다. 플루오로탄성체는 공단량체로 비닐리덴 플루오라이드를 사용하고 치환기로 플루오로, 알킬, 퍼플루오로알킬, 또는 퍼플루오로알콕시 그룹을 중합체 사슬에 포함하고 (반응성 가지 기(pendant 그룹)를 포함하는)경화 부위 단량체를 갖거나 갖지않는 폴리메틸렌 타입의 플루오로 고무이다.
퍼플루오로탄성체성 조성물은 둘 이상의 다양한 퍼플루오르화된 공중합체를포함하고, 이 공중합체들은 하나 이상의 불소-함유 에틸렌 불포화 단량체, 예를 들어 테트라플루오로에틸렌 (TFE); 퍼플루오르화된 올레핀, 예를 들어 헥사플루오로프로필렌 (HFP); 및 하나 이상의 에테르 결합과 직쇄 또는 측쇄의 알킬 그룹을 포함하는 퍼플루오로알킬비닐에테르(PAVE), 예를 들어 퍼플루오로(메틸 비닐 에테르), 퍼플루오로(에틸 비닐 에테르), 퍼플루오로(프로필 비닐 에테르) 및 유사한 화합물을 포함한다. 그러한 PAVE의 예는 미국 특허 제 5.001,278 호; 제 5,696,189 호; 및 제 4,983,697 호, 그리고 WO 00/08076 호에 나타나 있고, 그 내요용은 본 명세서에 참고로 삽입된다. 본 발명의 실시에서, 바람직한 퍼플루오로중합체는 TFE, PAVE의 삼원중합체 또는 사원중합체이고, 삼원 중합체의 가교를 가능하게 하고, 본 발명의 특정 경화 시스템을 사용하는 경화를 가능하게 하는 작용기를 포함하는 적어도 하나 이상의 퍼플루오르화된 경화 부위 단량체를 함유한다.
본 발명의 구현예에서, 퍼플루오로중합체는 적어도 각각 테트라플루오로에틸렌, 퍼플루오로알킬비닐 에테르 단량체 및 적어도 하나의 경화 부위 단량체 (하기에 기술하는)를 포함한다.
혹은, 단량체, 예를 들어 TFE, 비닐리덴 플루오라이드 (VF ) 및 상기 퍼플루오로중합체에 관해 기재된 단량체를 포함하는 알려진 단량체로 이루어진 공중합체인 플루오로중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 바람직하게 표준 경화제 및/또는 여기에 기재된 바람직한 경화제에 의해 경화될 수 있고, 본 발명의 바람직한 촉진제에 의해 경화가 촉진되는 경화 부위 단량체를 갖는 플루오로중합체가 좋다. 또한, 사용되는 플루오로중합체가 보다 높게 플루오르화된 공지기술의 플루오로중합체의 그룹내에 포함되는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시에 사용되는 플루오로중합체 및 퍼플루오로중합체는 시아노 그룹을 포함하는 경화 부위 단량체 ("시아노 경화 부위 단량체")를 적어도 하나 이상 포함하여야 하고, 그 외에 다른 작용기 또는 경화 부위가 존재할 수도 있다. 선택된 시아노 경화 부위 단량체는 어떠한 수의 시아노 그룹도 가질 수 있으며, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 또는 8, 시아노 그룹을 가진 단량체가 적당하다. 어떠한 시아노 경화 부위 단량체도 사용이 가능하며, 비교적 간단한 니트릴 단량체, 플루오르화된 올레핀, 플루오르화된 비닐 에테르, 및 예를 들어, 미국특허 제 4,281,092 호에 기재된 단량체를 사용할 수도 있다. 시아노 경화 부위 단량체의 다른 예는 다음과 같다:
-CF2=CF-O-[CF2]n-CN, 여기에서 n은 2 내지 12 또는 2 내지 6의 정수;
-CF2=CF-O-[CF2-CF(CF3)-O]-CF2-, 여기에서 n은 0 내지 4 또는 0 내지 2의 정수;
-CF2=C-[OCF2CF(CF3)]m-O-[CF2]-CN, 여기에서 m은 1 내지 2의 정수이고 n은 1 내지 4의 정수;
-CF2=CF-O-[CF2]-O-CF(CF3)-CN, 여기에서 n은 2 내지 4의 정수;
-CF2=CFOCF2CF(CF((F3)OCF2CF2CN);
-CF2=CF-O[CF2]3-O-CF[CF3]-CN; 및
-CF2-CF(O-(CF2)3-O-(CFCF3)-CN)-[CF2-CF(O-CF2-CFCF3-O-CF3-CF2-CN)]
상기 구조에서 "p" 는 플루오로중합체 또는 퍼플루오로중합체에 존재하는 2 차 경화 부위 단량체이고 0 .1 내지 12 몰%, 또는 1 내지 4 몰%로 존재하고, "a" 는 1차 경화 부위 단량체이고 0.1 내지 12 몰% 또는 1 내지 7 몰%로 존재한다. 또는 1차 경화 부위 단량체 대 2차 경화 부위 단량체의 몰비는 공중합체중에서 1:1 내지 10:1, 또는 9:1이다.
선택되는 경화 부위 단량체 또는 단량체의 조합에 관계없이, 경화 부위 단량체는 플루오로중합체 또는 퍼플루오로중합체에 어떤 양으로도 존재할 수 있다.
예를 들어, 0.1 내지 5 몰%, 0.1 내지 2.5 몰%, 또는 0.3 내지 1.5 몰%로 존재할 수 있다.
본 발명은 하나 이상의 비페닐-기재의 경화제와 디옥심 화합물을 포함하는 경화 시스템도 포함한다. 디옥심 화합물은 공지된 또는 개발된 어떤 화합물도 사용할 수 있다. 예를 들어, 디옥심 화합물은 식 (I)로 표시된다:
HON=R1=NOH(I).
식 I에서, R1은 치환되거나 비치환된 탄화수소 그룹(고리 구조 및 에테르 포함)이다. R1은, 예를 들어, 1 내지 50 탄소원자, 1 내지 30 탄소원자 또는 1 내지 10 탄소원자의 탄화수소 그룹이다. 알킬 그룹 또는 아릴 그룹일 수 있다. 몇 예에서 R1은 p-퀴논 디옥심.
아릴 디옥심은 p-벤조퀴논 디옥심, 나프토퀴논 디옥심, 톨루이퀴논 디옥심, 디페노퀴논 디옥심, 디퀴놀일 디옥심, 디벤조일 디옥심, p, p1- 디벤조일퀴논디옥심 또는 이들의 조합을 포함한다.
작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제는 공지되거나 개발되는 것을 사용할 수 있고; 작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제를 하나 선택해서 사용하거나 다수의 작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제를 조합해서 사용할 수도 있다. 작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제는, 예를 들어, 2,2-비스[3-아미노-4-히드록시페닐]헥사플루오로프로판 ("BOAP") 및 관련 유도체 화합물이다. 하나 이상의 산소 원자를 포함할 수 있고, 치환되거나 비치환된, 둘 이상의 아미노페닐 그룹, 바람직하게는 두 개의 아미노페닐 그룹을 포함하는, 직쇄 직쇄 또는 측쇄의 알킬, 할로겐화된 알킬, 과할로겐화된 알킬, 및 퍼플루오로알킬 화합물을 포함한다. 선택된 작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제는 240℃ 이하, 230℃ 이하, 및 225℃ 이하의 융점을 갖는 것이 바람직하다.
작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제는 식 (II)로 나타낼 수 있다:
Figure pct00001
(II)
식 (II)에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소원자 또는 탄화수소 기재의 그룹, 예를 들어, 예를 들어, 알킬, 할로겐화된 알킬, 퍼플루오르화된 알킬, 알킬 에테르, 할로겐화된 알킬 에테르, 퍼플루오르화된 알킬 에테르로부터 선택된다. 그러나, 불소- 또는 할로겐 결합된 것이 아닌 탄소 원자의 하나 이상은 치환되거나 비치환된 채로 남아있게 된다. 식 II에서 Z 그룹은 아미노 그룹, 머캅토 그룹, 설프히드릴 그룹 및 히드록실 그룹이고, 각각 독립적으로 Z 그룹으로 가능한 그룹에서 선택된다. A는 각각 불소 원자, 상기 R2 에서 언급된 그룹 및 하기 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택된다:
Figure pct00002
(III)
J는 각각 A에서 언급된 그룹 및 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택된다. "r" 은 0 또는 1이다. 그러나, r이 0이고 R2 가 탄소 원자인 구현예에서 적어도 J 또는 A는 식 (III)으로 나타내지는 화합물이 아닐 수 있다.
작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제 및 디옥심 화합물은 선택된 경화 시스템에서 어떠한 양으로도 존재할 수 있는데, 혼합물과 플루오로중합체 또는 퍼플루오로중합체에 존재하는 경화 부위의 수와 경화 부위 단량체에 따라 다양해지기 때문이다. 그러나, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제가 존재한다면 0.001 내지 2 중량부 (phr), 혹은 0.2 내지 1.7 중량부, 또는 0.5 내지 1.5 중량부로 존재하고 선택된 디옥심 화합물은 0.001 내지 2 중량부, 또는 0.2 내지 1.6 중량부 또는 0.5 내지 1중량부로 존재하는 것이 바람직하다.
다른 경화제 및 또는 경화 촉진제가 경화 시스템에 존재할 수 있다. 그러한 부가 성분의 성질 및 형태는 중합체에 존재하는 경화 부위에 따라 다양해진다. 구현예에서, 경화 시스템은 모노아미딘-기재의 화합물, 예를 들어, 식 (IV)로 나타내어지는 화합물을 포함한다:
Figure pct00003
(IV)
Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹일 수 있다. Y는 1내지 22 탄소원자, 혹은 1 내지 12 탄소원자, 또는 1 내지 9 탄소원자의 퍼플루오로알킬, 퍼플루오로아릴, 또는 퍼플루오로아르알킬 그룹그룹일 수 있다. R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그룹이다. R5는 각각 R4에 언급된 그룹이거나 히드록실이다.
Y, R4 또는 R5 상의 치환기는 할로겐화된 알킬, 과할로겐화된 알킬, 티오, 아민, 이민, 아미드, 이미드, 할로겐, 카르복실, 술포닐, 히드록실, 등이다. R5는 히드록실, 수소 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 알킬 그룹, R4는 수소 원자, 아미노 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹인 것이 바람직하다.
모노아미딘-기재의 화합물은 퍼플루오로알킬아미딘, 아릴아미딘 및 퍼플루오로알킬아미드라전, 예를 들어, 퍼플루오로옥타나미딘, 헵타플루오로부티릴아미딘, 및 벤즈아미딘을 포함한다.
모노아미딘-기재의 화합물이 예를 들어, 헵타플루오로부티릴아미딘으로 존재하는 경우, 경화 시스템은 작용기를 갖는 비페닐-기재의 경화제를 0.001 내지 2 중량부, 혹은 0.25 내지 1.7 중량부, 또는 0.5 내지 1.5 중량부, 디옥심 화합물을 0.001 내지 1 중량부, 또는 0.25 내지 2.0 중량부, 또는 0.5 내지 0.7 중량부, 그리고 모노아미딘-기재의 화합물을 0.001 내지 2 중량부, 0.3 내지 1.7 중량부, ㄸ또는 0.7 내지 1.5 중량부로 포함한다.
경화 시스템은 선택된 플루오로중합체 또는 퍼플루오로중합체에 존재하는비-시아노 경화부위의 종류에 따라 다른 경화제, 경화 촉진제, 및/또는 다른 성분을 포함할 수 있다. 그러나, 몇몇 경우에는, 경화가능한 퍼플루오로탄성체성 및/또는 플루오로탄성체성 조성물이 퍼옥시드 경화제 또는 퍼옥시드 (ROOR) 작용기를 갖는 다른 성분을 포함하지 않는 것이 바람직하다.
본 발명의 조성물 및 방법에서 다른 첨가제, 예를 들어 가공조제, 충전제, 추가의 중합체 또는 중합체 블렌드(분말, 용융 블렌드, 입자체), 유동 개질제, 윤활제, 가소제, 및 색소를 포함할 수 있다. 그러한 첨가제는 흑연, 카본 블랙, 점토, 실리카, 유리, 헥토라이트(Hectorite), 이산화규소, 플루오로중합성 입자체, 황산바륨, 색소, 이산화티타늄, 유리 섬유 또는 다른 입자, 폴리아미드 섬유, 발연 실리카, 무정질 실리카, 및 오일을 포함한다. 오일은 합성 또는 천연 오일, 예를 들어, 광유, 식물성 오일 및 퍼플루오로폴리에테르가 있다 .
구현예에서, 조성물은 발연 이산화규소, PTFE 입자체 또는 분말 및/또는 탄소 입자, 나노튜브, 섬유 또는 필라멘트를 포함한다. 그러한 구현예는 플루오로탄성체 또는 퍼플루오로탄성체를 포함할 수 있다.
색소를 상기 조성물에 첨가할 수 있다. 어떤 색소든 사용가능한데, 예를 들어, 탄소 원자, 수소 원자, 질소 원자, 및 산소 원자를 포함하고 금속은 포함하지 않는 다환 방향족 구조의 것이 있다. 그러한 화합물은 색상의 변성을 위해 질소 또는 브롬으로 치환될 수 있다.
적합한 색소들은 W. Herbst의 Industrial Organic Pigments, VCH/Wiley, 2nd ed., 1997에 게시되어 있다. 다른 적합한 색소로는 퀴나크리돈, 벤즈이미다졸론, 인단트론, 페릴렌, 이소인돌리논, 및 이들의 조합이 있다. 다른 가능한 화합물로는 퀴나세르디온 마그네타(CI. pigment red 122, 192, 202 and 206), 모나스트랄 레드 B, 바이올렛 염료, 예를 들어 C.I. violet 19, 9- 디메틸-치환된 퀸아크리디온 및 안트라퀴논 염료 (CI. 60710, C.I. dispersed red 15, CI. 26050, CI. solvent red 19), 로다민 RS (CI. pigment red 81), 오렌지 염료, 예를 들어 C L 오렌지 48 및 CI. 오렌지 49, 디아릴리드 옐로우(C.I. pigment yellow 12, 13, 14, 16, 17, 55, 83 및 155), 인단트렌 골든 옐로우 G.K, 아릴아미드 옐로우 (CI. pigment yellow 1, 3, 10, 73, 74, 97, 105, 111) 및 이들의 조합이 있고, 이들은 효능 및 조성물에 따라 다양하게 사용된다. 몇 구현예에서, 하기 구조식 (V)의 퀸아크리디온 및 하기 구조식 (VI)의 관련 구조의 화합 물이 바람직하게 사용된다:
Figure pct00004
(V)
Figure pct00005
(VI)
본 발명은 또한, 플루오로탄성체성 조성물의 경화시간을 줄이는 방법을 제공한다. 그러한 방법은 상기한 바와 같이, 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 경화 부위 단량체를 갖는 플루오로중합체, 및 경화 시스템을 포함한다. 경화 시스템은 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 및 상기에서 상세하게 기재한 디옥심 화합물 을 포함한다. 본 발명의 경화 시스템은 또한 하나 이상의 모노아미딘 기재의 경화 시스템 (예를 들어 상기 식 IV), 디옥심 화합물, 및/또는 퍼플루오로폴리에테르 및/또는 이들의 조합을 포함한다.
또, 본 발명은 상기의 퍼플루오로중합체와 상기의 경화 시스템을 결합시키는 것으로 구성되는 퍼플루오로탄성체성 조성물의 경화시간을 줄이는 방법을 제공한다. 각 경우에, 포함된 중합체 및 경화 시스템은 순차적으로 경화된다. 경화는 어떠한 공지수단 또는 개발되는 수단, 예를 들어, 열경화, 실온 경화, 방사 경화 등에 의해 행해질 수 있다. 프레스 경화를 실시하는 공정의 예는 프레스에 재료를 놓고, 재료를 가열하고 350℉ 내지 36O℉로 일정 시간, 예를 들어 15 분 내지 230 분간 프레스하는 것으로 이루어진다. 본 발명의 조성물 및 방법의 구현예에서, 첨가제 및/또는 추가의 경화 시스템 성분이 포함될 수 있다.
필요하다면, 제품/조성물은 공지의 경화 후가공 또는 마감 공정 예를 들어, 제품을 55O℉ 오븐에 일정 시간 예를 들어, 24시간 공기나 질소 분위기하에 두는 처리를 할 수 있다.
이런 방법의 실시에서, 경화시간은 본 발명의 경화시스템을 포함하지 않는 경화성 조성물에 비해 30% 내지 60%, 40% 내지 50% 까지 줄어든다.
본 발명은 또한 산소 플라즈마 내성을 나타내는 플루오로탄성체성 조성물 및/또는 퍼플루오로탄성체성 조성물의 제조방법에 관한 것이다. 이 방법은 플루오로탄성체 또는 퍼플루오로탄성체와 경화 시스템을 조성물을 경화시키는 것에 의해 결합시켜, 생성되는 퍼플루오로탄성체 조성물이 산소 플라즈마 내성을 나타내도록 구성된다.
본 발명을 하기의 실시예에 의해 보다 상세하게 설명한다. 실시예에서 산소 플라즈마 내성 데이타는 챔버 벽과 25℃ 내지 15O℃ 온도로 유지되는 척(chuck)을 가지고 산소와 CF4 가스의 혼합물을 포함하는 플라즈마 챔버에 시료를 놓는 것으로 얻어진다.
5-50% 사이로 규정된 일정한 연신비율로 시료를 연신하여 챔버에 놓는다. 확대하여 시료를 주기적으로 관찰한다. 산소 플라즈마 내성은 균열이 나타나기 ㅈ저전의 분으로 측정한다.
실시예에서 점착력을 측정하기 위한 시험을 상기 치수의 O-링 시료를 가지고 수행하였다: 내경 0.984±0.010인치 및 단면 0.0139±0.004인치. O-링 시료를 플래이트 사이의 고정장치에서 25%로 압축시킨다. 고정장치 및 시료를 공기 오븐에 392℉에 24시간 방치한다. 고정 장치를 냉각시킨다. 플래이트를 당겨서 떨어지는 힘을 측정한다. 이 힘이 점착력이다. 각 시료에 세 개의 데이터 지점을 채택해 평균을 내어 평균 점착력 값을 얻는다.
실시예 1: 퍼플루오로탄성체성 조성물의 제조 및 플라즈마 내성 및 점착력의 평가
하기의 퍼플루오로탄성체성 조성물 A-R을 표 1에 게시된 성분의 조합으로 제조하였다. 산소 플라즈마 내성 및 점착력 데이터를 각각 나타내었다. 표에 나타낸 C1은 비교 조성물이다.
A B C D E F G H I J K L M N O P Q R C1
퍼플루오로탄성체 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100
BOAP .75 .75 .75 1 1 1 1 1 .5 .5 1.5 1 1 - - .75 1 .5 1.5
과산화물 가교제 - - - - - - - - - - - - - 1.5 1.5 - - - 1
p-벤조퀴논디옥심 .5 .75 .5 .67 .67 - - - .33 .33 - .67 .67 - - .5 .5 .5 -
헥사플루오로부티릴아미딘 - - - - - .67 .34 .67 - - - - - - - - - - -
이산화
규소		 15 15 3 3 3 15 15 15 10 20 15 10 10 18 18 - - - 18
퍼플루오로폴리에테르 5 5 3 3 3 5 5 - 5 5 5 1.5 3 3 3 3 3 3 -
PTFE입자 - - 2 5 2 - - - - - - 2 2 - - - - - -
색소 .5 .5 1 - - ..5 .5 .5 .5 .5 .5 .5 .5 - - 1 1 1 1
지르코네이트 - - - - - - - - - - - - .2 3 3 - - - 1
유동성질 R1 R1 R1 R1 R1 R3 R4 R3 R1 R1 R5 R1 R1 R6 R6 R1 R1 R1 R2
T90시간
(분)		 10.30 8.96 12.68 11.18 11.99 7.05 8.10 7.77 10.59 15.05 12.11 13.75 12.36 0.63 1.00 14.26 14.55 14.68 23.26
플라즈마내성(분) 60 30 120 150 150 30 30 30 60 30 30 150 90 n/t n/t 180 120 240 30
점착력
lbsf		 50.4 47 40.9 42.9 38 n/t 48.7 30.5 47.6 41 33 49.7 42.5 4.8 22.5 22.5 30.5 41.1 85.5
경화 파라미터 A 내지 O 및 C1 : 350℉-360℉ 15 - 30분 성형, 550℉에서 24시간 경기 중에서 후경화. 경화 파라미터 P 내지 R- 350℉ 20분 성형. 후경화는 550℉에서 2(상승)/20(유지)/2(하강) 시간 공기 중에서 실시. "N/t" 는 시험하지 않은 것을 의미한다.
Rl- 360℉에서 30분
R2- 350℉에서 30분
R3- 350℉에서 10분
R4- 360℉에서 10분
R5- 360℉에서 15분
R6- 300℉에서 8분
표 1에서 알 수 있는 바와 같이, 모든 조성물 A-R은 C1에 비해 우수한 산소 플라즈마 내성 및 낮은 점착 성질을 나타냈다.

Claims (40)

  1. 하기의 구성성분을 포함하는 경화가능한 플루오로탄성체성 조성물:
    (i) 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 하나 이상의 경화 부위 단량체를 갖는 플루오로중합체;
    (ii) 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 및 하나 이상의 하기 구조식 (I)의 디옥심 화합물:
    HON=R1=NOH(I)
    상기에서 R1은 1 내지 10 탄소원자의 알킬 그룹 또는 1 내지 10 탄소원자의아릴 그룹;
    식 (IV)의 모노아미딘 기재의 화합물:
    Figure pct00006

    (IV)
    상기에서 Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹; R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그; R5는 각각 수소원자, 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 아미노 그룹 또는 히드록실 그룹; 및 또는
    퍼플루오로폴리에테르
    를 포함하는 경화 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 플루오로중합체는 테트라플루오로에틸렌 및 퍼플루오로알킬비닐 에테르를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 식 (II)의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    Figure pct00007

    (II)
    식 (II)에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소원자, 알킬, 할로겐화된 알킬, 퍼플루오르화된 알킬, 알킬 에테르, 할로겐화된 알킬 에테르, 퍼플루오르화된 알킬 에테르로부터 선택되고; Z 그룹은 아미노 그룹, 머캅토 그룹, 설프히드릴 그룹 및 히드록실 그룹으로부터 독립적으로 선택되고, A는 불소 원자, R2 및 하기 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 독립적으로 선택된다:
    Figure pct00008

    (III)
    J는 각각 A에서 언급된 그룹 및 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택되며 "r" 은 0 또는 1이며, 단, r이 0이고 R2이 탄소 원자인 구현예에서 적어도 J 또는 A는 식 (III)으로 나타내지는 화합물이 아닐 수 있다.
  4. 제 1항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 2,2- 비스[3-아미노-4-히드록시페닐]헥사플루오로프로판인 것을 특징으로 하는 조성물.
  5. 제 1항에 있어서, 경화 부위 단량체는 2 내지 5 시아노 그룹을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  6. 제 1항에 있어서, 디옥심 화합물은 아릴 디옥심인 것을 특징으로 하는 조성물.
  7. 제 1항에 있어서, 경화 시스템은 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 0.5 내지 2.0 중량부, 및 디옥심 화합물 0.25 내지 2.0 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  8. 제 1항에 있어서, 경화 시스템은 헵타플루오로부티릴아미딘을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  9. 제 8항에 있어서, 경화 시스템은 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 0.5 내지 1.0 중량부, 디옥심 화합물 0.01 내지 1 중량부, 및 헵타플루오로부티릴아미딘 0.15 내지 1.0 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  10. 제 1항에 있어서, 색소, 유동 개질제, 가소제, 윤활제, 오일, 이산화규소 및 폴리테트라플루오로에틸렌 입자로부터 선택되는 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  11. 제 1항에 있어서, 퍼플루오로폴리에테르를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  12. 제 10항에 있어서, 퀸아크리돈, 벤즈이미다졸론, 인단트론, 페릴렌, 이소인돌리논, 및 이소인돌린으로부터 선택되는 색소를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  13. 제 12항에 있어서, 색소는 퀸아크리돈인 것을 특징으로 하는 조성물.
  14. 하기의 구성성분을 포함하는 경화가능한 퍼플루오로탄성체성 조성물:
    (i) 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 하나 이상의 경화 부위 단량체를 갖는 퍼플루오로중합체;
    (ii) 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 및 하나 이상의 하기 구조식 (I)의 디옥심 화합물:
    HON=R1=NOH(I)
    상기에서 R1은 1 내지 10 탄소원자의 알킬 그룹 또는 1 내지 10 탄소원자의아릴 그룹;
    식 (IV)의 모노아미딘 기재의 화합물:
    Figure pct00009

    (IV)
    상기에서 Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹; R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그룹; R5는 각각 수소원자, 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 아미노 그룹 또는 히드록실 그룹; 및/또는
    퍼플루오로폴리에테르
    를 포함하는 경화 시스템.
  15. 제 14항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 식 (II)의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:
    Figure pct00010

    (II)
    식 (II)에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소원자, 알킬, 할로겐화된 알킬, 퍼플루오르화된 알킬, 알킬 에테르, 할로겐화된 알킬 에테르, 퍼플루오르화된 알킬 에테르로부터 선택되고; Z 그룹은 아미노 그룹, 머캅토 그룹, 설프히드릴 그룹 및 히드록실 그룹으로부터 독립적으로 선택되고, A는 불소 원자, R2 및 하기 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 독립적으로 선택된다:
    Figure pct00011

    (III)
    J는 각각 A에서 언급된 그룹 및 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택되며 "r" 은 0 또는 1이며, 단, r이 0이고 R2이 탄소 원자인 구현예에서 적어도 J 또는 A는 식 (III)으로 나타내지는 화합물이 아닐 수 있다.
  16. 제 14항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 2,2- 비스[3-아미노-4-히드록시페닐]헥사플루오로프로판인 것을 특징으로 하는 조성물.
  17. 제 14항에 있어서, 경화 부위 단량체는 2 내지 5 시아노 그룹을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  18. 제 14항에 있어서, 디옥심 화합물은 아릴 디옥심인 것을 특징으로 하는 조성물.
  19. 제 14항에 있어서, 경화 시스템은 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 0.5 내지 2.0 중량부, 및 디옥심 화합물 0.25 내지 2.0 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  20. 제 14항에 있어서, 경화 시스템은 헵타플루오로부티릴아미딘을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  21. 제 20항에 있어서, 경화 시스템은 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 0.5 내지 1.0 중량부, 디옥심 화합물 0.01 내지 1 중량부, 및 헵타플루오로부티릴아미딘 0.15 내지 1.0 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 14항에 있어서, 색소, 유동 개질제, 가소제, 윤활제, 오일, 이산화규소 및 폴리테트라플루오로에틸렌 입자로부터 선택되는 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 14항에 있어서, 퍼플루오로폴리에테르를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 14항에 있어서, 퀸아크리돈, 벤즈이미다졸론, 인단트론, 페릴렌, 이소인돌리논, 및 이소인돌린으로부터 선택되는 색소를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. (i) 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 하나 이상의 경화 부위 단량체를 갖는 플루오로중합체; 및
    (ii) 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 및 하나 이상의 하기 구조식 (I)의 디옥심 화합물:
    HON=R1=NOH(I)
    상기에서 R1은 1 내지 10 탄소원자의 알킬 그룹 또는 1 내지 10 탄소원자의아릴 그룹;
    식 (IV)의 모노아미딘 기재의 화합물:
    Figure pct00012

    (IV)
    상기에서 Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹; R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그룹; R5는 각각 수소원자, 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 아미노 그룹 또는 히드록실 그룹; 및/또는
    퍼플루오로폴리에테르
    를 포함하는 경화시스템 .
    을 결합시키고; 조성물을 경화시간 동안 경화시키는 것으로 구성되는 플루오로탄성체성 조성물의 경화시간을 줄이는 방법.
  26. 제 25항에 있어서, 경화 시스템은 헵타플루오로부티릴아미딘을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  27. 제 25항에 있어서, 플루오로중합체는 테트라플루오로에틸렌, 퍼플루오로알킬비닐 에테르, 및 하나 이상의 경화 부위 단량체를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  28. 제 25항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 식 (II)의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:

    Figure pct00013

    (II)
    식 (II)에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소원자, 알킬, 할로겐화된 알킬, 퍼플루오르화된 알킬, 알킬 에테르, 할로겐화된 알킬 에테르, 퍼플루오르화된 알킬 에테르로부터 선택되고; Z 그룹은 아미노 그룹, 머캅토 그룹, 설프히드릴 그룹 및 히드록실 그룹으로부터 독립적으로 선택되고, A는 불소 원자, R2 및 하기 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 독립적으로 선택된다:
    Figure pct00014

    (III)
    J는 각각 A에서 언급된 그룹 및 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택되며 "r" 은 0 또는 1이며, 단, r이 0이고 R2이 탄소 원자인 구현예에서 적어도 J 또는 A는 식 (III)으로 나타내지는 화합물이 아닐 수 있다.
    Figure pct00015

    (III)
  29. 제 25항에 있어서, 경화시간은 경화시스템(ii)를 포함하지 않는 조성물에 비해 30 내지 60% 단축되는 것을 특징으로 하는 방법.
  30. (i) 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 하나 이상의 경화 부위 단량체를 갖는 퍼플루오로중합체; 및
    작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물, 하기 구조식 (I)의 디옥심 화합물
    HON=R1=NOH(I)
    상기에서 R1은 1 내지 10 탄소원자의 알킬 그룹 또는 1 내지 10 탄소원자의아릴 그룹 및 헵타플루오로부티릴아미딘; 입경 2 내지 25마이크로미터의 이산화규소; 및 폴리테트라플루오로에틸렌을 포함하는 경화 시스템
    을 결합시키고:
    (ii) 조성물을 경화시간 동안 경화시키는 것
    으로 구성되는 산소 플라즈마 내성을 갖는 퍼플루오로탄성체 조성물의 제조방법.
  31. 제 30항에 있어서, 디옥심 화합물은 아릴 디옥심인 것을 특징으로 하는 방법.
  32. 제 30항에 있어서, 경화 시스템은 식 (IV)의 모노아미딘 기재의 화합물 및/또는 퍼플루오로폴리에테르를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법:
    Figure pct00016

    (IV)
    상기에서 Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹; R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그룹; R5는 각각 수소원자, 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 아미노 그룹 또는 히드록실 그룹.
  33. 제 30항에 있어서, 퀸아크리돈, 벤즈이미다졸론, 인단트론, 페릴렌, 이소인돌리논, 및 이소인돌린으로부터 선택되는 색소를 더 결합시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  34. 제 30항에 있어서, 색소는 퀸아크리돈인 것을 특징으로 하는 방법.
  35. 제 30항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 2,2-비스[3-아미노-4-히드록시페닐]헥사플루오로프로판 및 식 (II)의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법:
    Figure pct00017

    (II)
    식 (II)에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소원자, 알킬, 할로겐화된 알킬, 퍼플루오르화된 알킬, 알킬 에테르, 할로겐화된 알킬 에테르, 퍼플루오르화된 알킬 에테르로부터 선택되고; Z 그룹은 아미노 그룹, 머캅토 그룹, 설프히드릴 그룹 및 히드록실 그룹으로부터 독립적으로 선택되고, A는 불소 원자, R2 및 하기 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 독립적으로 선택된다:
    Figure pct00018

    (III)
    J는 각각 A에서 언급된 그룹 및 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택되며 "r" 은 0 또는 1이며, 단, r이 0이고 R2이 탄소 원자인 구현예에서 적어도 J 또는 A는 식 (III)으로 나타내지는 화합물이 아닐 수 있다.
    Figure pct00019


    (III)
  36. 하기의 구성성분을 포함하는 경화가능한 퍼플루오로탄성체성 조성물:
    (i) 하나 이상의 시아노 그룹을 포함하는 하나 이상의 경화 부위 단량체를 갖는 퍼플루오로중합체;
    (ii) 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물 및 하나 이상의 하기 구조식 (I)의 디옥심 화합물:
    HON=R1=NOH(I)
    상기에서 R1은 1 내지 10 탄소원자의 알킬 그룹 또는 1 내지 10 탄소원자의아릴 그룹;
    식 (IV)의 모노아미딘 기재의 화합물:
    Figure pct00020

    (IV)
    상기에서 Y는 22개까지의 탄소원자를 가지는, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹 또는 치환되거나 비치환된 완전히 또는 부분적으로 할로겐화된 알킬, 아릴, 또는 아르알킬 그룹; R4는 수소 원자 또는 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 또는 아미노 그룹; R5는 각각 수소원자, 치환되거나 비치환된 1 내지 6 탄소 원자의 저급 알킬 그룹, 아미노 그룹 또는 히드록실 그룹; 및/또는 퍼플루오로폴리에테르를 포함하는 경화시스템;
    (iii) 폴리테트라플루오로에틸렌 입자; 및
    (iv) 발연 이산화규소.
  37. 제 39항에 있어서, 퀸아크리돈, 벤즈이미다졸론, 인단트론, 페릴렌, 이소인돌리논, 및 이소인돌린으로부터 선택되는 색소를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  38. 제 39항에 있어서, 퍼플루오로폴리에테르를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  39. 제 39항에 있어서, 디옥심 화합물은 아릴 디옥심인 것을 특징으로 하는 조성물.
  40. 제 39항에 있어서, 작용기를 갖는 비페닐-기재의 화합물은 화합물은 2,2-비스[3-아미노-4-히드록시페닐]헥사플루오로프로판 및 식 (II)의 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물:

    Figure pct00021

    (II)
    식 (II)에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소원자, 알킬, 할로겐화된 알킬, 퍼플루오르화된 알킬, 알킬 에테르, 할로겐화된 알킬 에테르, 퍼플루오르화된 알킬 에테르로부터 선택되고; Z 그룹은 아미노 그룹, 머캅토 그룹, 설프히드릴 그룹 및 히드록실 그룹으로부터 독립적으로 선택되고, A는 불소 원자, R2 및 하기 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 독립적으로 선택된다:
    Figure pct00022

    (III)
    J는 각각 A에서 언급된 그룹 및 식 (III)으로 나타내지는 화합물로부터 선택되며 "r" 은 0 또는 1이며, 단, r이 0이고 R2이 탄소 원자인 구현예에서 적어도 J 또는 A는 식 (III)으로 나타내지는 화합물이 아닐 수 있다.
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