KR20100125267A - 열적 특성을 갖는 스택을 포함하는 텍스처링된 기재 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 1 mm 이상의 깊이를 갖는 3차원 텍스처를 갖는 주요 면을 포함하고, 상기 주요 면(11)이 적외선 및/또는 태양 복사 스펙트럼의 반사 특성을 갖는 얇은 층의 스택(100)을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 기재(10)에 관한 것이다.
Description
본 발명은 강성 무기 물질, 예를 들어 유리로 이루어지고 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 주요 면을 갖는 투명 기재에 관한 것이다.
이러한 기재는 건축 분야에서 실내 장식 및/또는 옥외 장식을 위해 사용된다.
본 발명은 특히 단열 및/또는 태양광 차단 글레이징 유닛의 제조를 위한 기재의 용도에 관한 것이다. 이 글레이징 유닛은 특히 빌딩의 글레이징면의 갈수록 증가하는 사용에 의해 초래되는, 공기 조화 부하의 감소 및/또는 과도한 과열 방지("태양광 제어" 글레이징이라고 하는 글레이징) 및/또는 외부로 방산되는 에너지의 양의 감소("저-E" 또는 "저-방사율" 글레이징이라고 하는 글레이징)를 위해 빌딩에 장착하려는 의도일 수 있다.
이 글레이징 유닛은 또한, 예를 들어 가열 글레이징 또는 전기 변색 글레이징과 같은 특별한 기능을 갖는 글레이징 유닛에 통합될 수 있다.
이러한 특성을 기재에 제공하기 위해 공지된 일 유형의 박막의 스택은 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 금속성 기능층, 특히 은 또는 은 함유 금속 합금 기재 금속성 기능층으로 이루어진다.
이 박막의 스택은 특히 "마그네트론" 스퍼터링으로 공지된, 선택적으로는 자기장으로 강화된 스퍼터링 기술을 이용하여 산업적으로 진공 퇴적 라인 상에 퇴적된다.
당업자는 이제까지 줄곧, 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택이 매끄러운 표면 상에만 퇴적될 수 있다고 생각해 왔다.
"매끄러운 표면"에 대해, 당업자는 표면이 층의 물리적 두께 정도의 조도, 특히 RMS 조도를 가질 수 있는 것으로 이해한다.
그러나, 당업자는 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택이 텍스처링된 표면 상에 퇴적될 수 없고, 특히 적어도 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 기재의 주요 면 상에 퇴적될 수 없다고 항상 생각해 왔다.
따라서, 본 발명은 가장 광범위한 의미에서 청구항 1에 따른 유리 기재에 관한 것이다. 이 기재는 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 주요 면을 갖고, 상기 주요 면에는 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택이 제공된다.
통상적으로, 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택은 약 50 내지 200 nm의 물리적 총 두께를 갖는다. 따라서, 본 발명의 문맥에서, 돋을새김의 깊이, 즉 최고점과 최저점 사이의 차이는 스택의 물리적 두께보다 5배 이상 더 크고, 일반적으로 약 10 내지 20배 더 크다.
기재는 박막 스택의 퇴적 전 및/또는 후에 가시 범위에서 높은 광 투과율(80% 이상)로 투명하거나, 가시 범위에서 보통 수준의 광 투과율(20% 내지 80%)로 부분적으로 투명하거나, 가시 범위에서 빈약한 광 투과율(5% 내지 20%)로 별로 투명하지 않거나, 또는 심지어 가시 범위에서 5% 미만의 광 투과율로 불투명할 수 있다(본 문헌에서 고려되는 가시 범위에서의 광 투과율은 가시 범위에서의 광 반사율과 마찬가지로 통상적으로 550 nm에서 측정된 것임).
기재의 주요 면의 돋을새김은 바람직하게는 1 내지 15 mm, 특히 2 내지 12 mm, 또는 심지어 3 내지 10 mm의 깊이를 갖는다.
바람직하게는, 주요 면의 기준면의 20% 이상, 또는 심지어 50% 이상이 하나의 동일한 면에 위치되고, 이 면은 바람직하게는 편평하지만 박막의 퇴적 후에 선택적으로 만곡될 수 있다.
또한, 기준면이 아닌, 주요 면의 돋을새김의 저면(오목면 또는 돌출면)의 20% 이상, 또는 심지어 50% 이상이 바람직하게는 하나의 동일한 면에 위치되고, 이 면은 바람직하게는 편평하지만 박막의 퇴적 후에 선택적으로 만곡될 수 있다.
또한, 주요 면의 기준면과 돋을새김의 저면 사이에 위치된 돋을새김의 경사는 바람직하게는 90° 내지 120°의 각도(α)로 배향된다.
적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택은 일반적으로 이하의 효과를 갖는다:
- 박막 스택이 퇴적되는 기재의 가시 범위에서 광 투과율이 10% 이상 감소;
- 박막 스택이 퇴적되는 기재의 가시 범위에서 광 반사율이 10% 이상 증가;
- 박막 스택이 퇴적되는 기재의 근적외선(태양광 제어 스택) 또는 원적외선(저-방사율 스택) 범위에서 에너지 반사율이 10% 이상 증가.
따라서, 본 발명에 따른 기재는 바람직하게는 이하를 갖는다:
- 텍스처가 또한 상기 광 투과율의 감소에 기여한다는 사실에 기인하여, 가시 범위에서 80% 미만, 또는 심지어 60% 미만의 광 투과율;
- 가시 범위에서 20% 이상, 또는 30% 또는 50% 이상, 또는 심지어 80% 이상, 또는 심지어 90%의 광 반사율;
- 적외선 범위에서 10% 이상 또는 20% 이상, 또는 30% 또는 50% 이상, 또는 심지어 80% 이상의 에너지 반사율.
빌딩용 태양광 차단 글레이징의 일례는 유럽 특허 제0 511 901호 및 제0 678 483호에 제공되어 있다: 이들은 선택적으로 질화된 니켈-크롬 합금, 스테인리스 강, 또는 탄탈로 이루어지고 금속 산화물, 예를 들어 SnO2, TiO2, 또는 Ta2O5의 2개의 유전체 층들 사이에 위치되는, 태양 복사를 여과하기 위한 기능층을 언급한다. 이 글레이징은 만족할만한 기계적 및 화학적인 내구성을 갖는 양호한 태양광 차단 글레이징에 도움이 되지만, 기능층을 둘러싸는 산화물층이 굽힘 또는 템퍼링 작업 동안 산화되는 것을 방지하지 못하고, 기능층의 산화에는 가시 범위에서의 광 투과율 및 전체적으로 글레이징의 대략적인 외관의 변경이 수반되기 때문에 진정으로 "굽힘 가능한" 또는 "템퍼링 가능한" 것은 아니다.
최근 저-방사율 글레이징 분야에서 층을 굽힘/템퍼링 가능하게 하기 위한 많은 연구가 수행되었고, 그 목적은 "태양광 차단" 글레이징으로 공지된 글레이징과는 달리 오히려 높은 광 투과율을 달성하기 위한 것이다. 은 기능층 위에 질화 규소 기재 유전체층을 사용하는 것이 이미 제안되었고, 이 물질은 유럽 특허 제0 718 250호에 서술된 바와 같이 고온 산화에 대해 비교적 불활성이고 하부의 은층을 보호하기에 적합함이 증명되었다.
태양 복사에 작용하고 굽힘/템퍼링 가능한 것으로 추정되는 다른 층의 스택이 서술되었으며, 이는 은 이외의 기능층을 사용한다: 유럽 특허 제0 536 607호는 TiN 또는 CrN형의 금속 질화물로 이루어지고 금속 또는 규소 유도체로 이루어지는 보호층을 갖는 기능층을 사용한다. 유럽 특허 제0 747 329호는 질화 규소층과 조합된 NiCr형의 니켈 합금으로 이루어지는 기능층을 서술하고 있다.
그러나, 태양광 차단 기능을 제공하는 이들 스택의 성능은 특히 고온 열처리를 한 경우 내구성 및 내열화성의 관점에서 여전히 개선될 수 있다.
용어 "기능"층은 본 출원에서 기능층을 화학적으로 또는 기계적으로 보호하는 기능, 광학적 기능, 접착층 기능 등을 갖는, 일반적으로 유전 물질로 이루어지는 다른 층과는 반대되게, 대부분의 열적 특성을 스택에 제공하는 스택 내 층(들)을 의미하는 것으로 이해된다.
일 특정 변형예에서, 상기 박막 스택은 스테인리스 강 기재의 하나 이상의 금속성 기능층을 갖는다.
일 특정 변형예에서, 상기 박막 스택은 국제 특허 출원 제WO 01/21540호로부터 공지된 바와 같이, 특히 질화 규소 또는 질화 티타늄 기재의 하나 이상의 질화된 기능층을 포함한다.
다른 특정 변형예에서, 상기 박막 스택은 은 또는 은 함유 금속 합금 기재의 하나 이상의 금속성 기능층, 및 2개의 반사 방지 코팅을 포함하고, 상기 코팅이 각각 하나 이상의 유전체층을 포함하고, 상기 기능층이 2개의 반사 방지 코팅 사이에 위치되고, 기능층이 선택적으로 기능층과 하부의 반사 방지 코팅 사이에 위치된 하부 차단 코팅 사이에 위치된 하부 차단 코팅 상에 직접적으로 퇴적되고, 기능층이 선택적으로 기능층과 상부의 반사 방지 코팅 사이에 위치된 상부 차단 코팅 아래에 직접 퇴적된다.
본 발명에 관한 이 공지된 유형의 스택은, 특히 이하의 구조를 이 순서로 가질 때 "하부 차단/상부 차단 스택"으로 불린다:
기재/하부의 반사 방지 코팅/하부 차단 코팅/금속성 기능층/상부 차단 코팅/상부의 반사 방지 코팅+선택적으로 보호층.
따라서, 기능층은 2개의 반사 방지 코팅 사이에 위치되고, 일반적으로 반사 방지 코팅은 각각 질화 규소형의 유전 물질로 이루어지는 단일 층을 포함한다. 금속성 기능층 옆에 배치되는 이들 코팅의 목적은 이 금속성 기능층의 "반사 방지"를 위한 것이다.
그러나, 차단 코팅이 각 반사 방지 코팅과 금속성 기능층 사이에 개재된다.
기재 방향으로 기능층 아래에 위치된 차단 코팅은 이 층의 결정 성장을 촉진하고, 굽힘 및/또는 템퍼링형의 선택적인 고온 열처리 동안 기능층을 보호한다.
기재의 반대면의 기능층 상에 위치된 차단 코팅은 상부 반사 방지 코팅의 퇴적 및 굽힘 및/또는 템퍼링형의 선택적인 고온 열처리 동안 임의의 열화로부터 상기 층을 보호한다.
주요 면 반대측의, 기재의 면이 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 갖는 것이 또한 가능하고, 이 반대면에는 선택적으로 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖고/갖거나 반사 방지 특성을 갖는 박막 스택이 제공된다.
본 발명의 목적은 보다 정확히는 유리 기재를 굽히고/굽히거나 템퍼링하기 위해 유리 기재에 적용되는 굽힘 및/또는 템퍼링 열처리에 대한 높은 내성을 갖는, 위에서 제공된 유형의 스택을 제공하는 것에 있다.
당업자는 굽힘에 대한 스택 내성 및/또는 템퍼링 열처리에 대한 스택 내성(또는 열처리에 견딤)의 2개의 카테고리 사이를 구별한다:
1. 열처리 전에는 원하고 기대되는 특성, 특히 각각 광 투과율, 색, 고유 저항 등을 갖지 않았으나 상기 열처리 동안 특성을 얻는 "템퍼링되는" 것으로서 언급되는 스택; 따라서, 이 유형의 스택으로 코팅된 기재는 (예를 들어 글레이징 유닛을 형성하기 위해 기재를 컨디셔닝하는 경우) 그대로는 최종 사용자에 의해 사용될 수 없고, 열처리를 거친 후에만 사용될 수 있다; 및
2. 열처리 전에 수용 가능한 특성을 갖고 열처리 후에 유사하거나 또는 거의 동일한 특성을 갖는, 즉 열처리를 수행한 스택을 갖는 코팅된 기재를 열처리를 수행하지 않은 동일한 스택으로 코팅된 기재로부터 관찰자가 시각적인 관찰에 의해 구별하기가 어렵도록 열처리로 인한 수용 가능한 특성의 변화를 갖는 "굽힘 가능한" 및/또는 "템퍼링 가능한" 것으로서 지칭되는 스택.
예를 들어, "템퍼링되는" 스택은 "템퍼링 가능한" 스택으로서 열처리로 인해 가시 범위에서의 광 투과율의 작은 변화를 가질 수 있지만, 예를 들어 가시 범위에서의 광 반사율의 더 큰 변화 또는 색의 더 큰 변화를 가질 수 있기 때문에, 당업자가 상기 두 카테고리를 더 정확하게 정의하는 것은 불가능하다.
그러나, 종래 기술의 문헌 및 유리 제조자의 기술 문헌은 이를 명확하게 구별한다.
따라서, 본 발명은 글레이징 유닛 통합 기재의 전체적인 가시적 단순 관찰, 특히 글레이징의 가시 범위에서의 광 투과율, 가시 범위에서의 반사율 및 광 반사 시의 색에 의해, 한편으로 박막 스택을 갖고 층의 퇴적 후에 템퍼링된 본 발명에 따른 글레이징 유닛 통합 기재와, 다른 한편으로 템퍼링되지 않은 동일한 박막 스택을 갖는 본 발명에 따른 기재를 예를 들어 서로 근접하는 하나의 동일한 빌딩 벽 상에서 구별하는 것이 어려운 경우인 한, 소위 "템퍼링 가능한" 기재에 적용된다.
당업자에게는, 어떠한 열처리도 견디지 못하는 스택이 알려져 있다.
예를 들어, 유럽 특허 출원 제567 735호는 열처리를 수행할 수 없는 은 기재 기능층을 갖는 상기한 유형의 스택을 개시하고 있다.
유럽 특허 제567 735호에서는, 각 니켈 기재 차단 코팅이 0.7 nm 미만의 두께를 갖는 것이 중요하다고 설명되어 있다.
유럽 특허 출원 제646 551호는 또한 스택 자체가 열처리를 수행할 수 있는 동일한 유형(동일한 층의 연속 배치, 및 각 층에 대한 동일한 물질)의 스택을 개시하고 있다; 이는 굽힘 또는 템퍼링 열처리 동안 중대한 변화, 특히 광학적 변화를 가지기 때문에 "템퍼링되는" 스택이다.
유럽 특허 제646 551호는 이전 문헌(유럽 특허 제567 735호)의 해결책이 아마도 각 차단 코팅의 두께가 은 기재 금속성 기능층을 올바르게 보호하는데 불충분하기 때문에 열처리를 수행할 수 없음을 설명하고 있다.
따라서, 유럽 특허 제646 551호는 동일한 유형이지만 열처리를 견디는 스택을 제조하기 위해 하부 차단 코팅이 훨씬 더 두꺼울 것을(바람직하게는 상부 차단 코팅 두께의 2 내지 4배) 간접적으로 권유하고 있고, 특히 하부 차단 코팅이 2 nm 초과의 두께를 갖는 것이 바람직하다고 설명하고 약 4.5 nm의 두께를 권고하고 있다.
여기서 사용된 용어 "유리 기재"는 글레이징을 제조하기 위해 유리 산업에서 통상적으로 사용되는 임의의 유형의 기재를 의미하고, 따라서 유리 기재의 두께에 상관없이 모든 유리 기재, 및 중합체 기재의 두께에 상관없이 모든 중합체 기재 (및 특히 모든 일반적인 플라스틱; 폴리카보네이트(PC), 폴리비닐 부티랄(PVB), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 등)을 커버한다.
본 발명에 따른 글레이징은 선택적으로 하나 이상의 다른 기재와 조합되는, 본 발명에 따른 스택을 담지하는 기재를 적어도 포함한다. 각 기재는 투명하거나 또는 착색된다. 기재 중 하나 이상은 특히 벌크 착색되거나 또는 표면 착색된 유리로 이루어질 수 있다. 배색 종류의 선택은 광 투과율의 수준 및/또는 제조가 완료된 글레이징에 요구되는 비색(colorimetric) 외관에 의존할 것이다.
모노리식 글레이징, 또는 이중 글레이징 또는 적층된 글레이징형의 다중 글레이징으로서 조립된 이 글레이징 유닛에서, 적어도 스택을 담지하는 기재는 만곡되고/되거나 템퍼링될 수 있고, 열처리는 가능하게는 박막 스택의 퇴적 전 또는 후에 수행된다.
따라서, 본 발명에 따른 글레이징은 특히 하나가 열가소성 중합체의 하나 이상의 시트를 갖는 유리형의 2개 이상의 강성 기재와 조합하여 유리/박막 스택/시트(들)/유리형의 구조체를 갖는 적층된 구조를 가질 수 있다. 중합체는 특히 폴리비닐 부티랄(PVB), 에틸렌/비닐 아세테이트(EVA), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 또는 폴리비닐 클로라이드(PVC) 기재일 수 있다.
글레이징은 또한 "자가 회복" 특성을 갖는 중합체의 다른 층과 선택적으로 조합되는, 에너지 흡수 특성을 갖는 폴리우레탄형의 중합체의 하나 이상의 시트와 유리형의 강성 기재를 조합하는, 소위 비대칭 적층된 글레이징 구조를 가질 수 있다. 이 유형의 글레이징에 대해 더 상세한 것에 대해서는, 독자는 특히 유럽 특허 제0 132 198호, 제0 131 523호, 및 제0 389 354호를 참조할 수 있다.
또한, 글레이징은 유리/박막 스택/ 중합체 시트(들)형의 구조를 가질 수 있다.
스택의 주요 코팅면이 상기와 같이 중합체 시트로 덮인 경우, 박막 스택은 퇴적되는 표면의 텍스처링된 구조에 의해 분리됨에도 불구하고 이 중합체 시트의 임의의 열화로부터 보호된다. 또한, 이 시트는 매끄러운 기재 수용면을 갖는 프레임에 더 쉽게 통합하기 위해 글레이징의 주연에서 표면의 차이를 보상하는 것이 가능하게 한다.
본 발명에 따른 글레이징은 박막 스택의 손상 없이 열처리를 수행할 수 있다. 따라서, 글레이징은 가능하게는 만곡되고/되거나 템퍼링된다.
글레이징은 스택이 제공된 단일 기재로 이루어진 경우 만곡되고/되거나 템퍼링될 수 있다. 따라서, 이러한 글레이징은 "모노리식" 글레이징으로서 지칭된다. 만곡되는 경우, 박막 스택은 바람직하게는 적어도 부분적으로 비평면인 면 상에 있다.
글레이징은 또한 다중 글레이징 유닛, 특히 이중 글레이징 유닛일 수 있고, 적어도 스택을 담지하는 기재는 가능하게는 만곡되고/되거나 템퍼링된다. 다중 글레이징 구성에서 스택을 중간 가스 충전된 공간을 향하도록 위치시키는 것이 바람직하다. 적층된 구조체에서, 스택을 담지하는 기재는 중합체의 시트와 접촉할 수 있다.
글레이징이 모노리식이거나, 또는 이중 글레이징 또는 적층된 글레이징형의 다중 글레이징 형태인 경우, 적어도 스택을 담지하는 기재는 만곡되거나 또는 템퍼링된 유리로 이루어질 수 있고, 이 기재는 스택이 퇴적되기 전 또는 후에 만곡되거나 또는 템퍼링될 수 있다.
본 발명은 또한 스퍼터링, 선택적으로 마그네트론 스퍼터링형의 진공 기술에 의해 기재 상에 박막 스택을 퇴적하는 것으로 이루어진, 본 발명에 따른 기재의 제조 방법에 관한 것이다.
그러나, 스택의 제1 층 또는 제1 층들이 다른 기술, 예를 들어 열분해형의 열적 분해 기술에 의해 퇴적될 수 있는 것을 배제하지 않는다.
본 발명은 또한 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 주요 면을 갖는 본 발명에 따른 유리 기재의 제조 방법에 관한 것이다.
이 방법은 상기 주요 면에 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택이 제공되는 것에 주목한다.
상기 박막 스택은 특히 진공 증착 기술, 특히 마그네트론 스퍼터링에 의해 돋을새김 텍스처를 형성한 후 퇴적된다.
그러나, 돋을새김 텍스처의 형성은 또한, 특히 돋을새김 텍스처의 형성이 고온에서 수행되고 기재의 굽힘 및/또는 템퍼링에 의해 완료되는 경우, 상기 박막 스택의 퇴적 후에 수행될 수 있다.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 기재를 제조하기 위해, 또는 본 발명에 따른 글레이징 유닛을 제조하기 위해 유리 기재의 주요 면(주요 면은 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타냄) 상에 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택의 사용에 관한 것이다.
이 사용의 문맥에서, 박막 스택은 바람직하게는 건축용 박막 스택이고, 특히 "템퍼링 가능한" 또는 "템퍼링될" 건축용 글레이징용 박막 스택, 및 특히 "템퍼링 가능한" 또는 "템퍼링될" 태양광 조절 스택이다.
유리하게는, 놀랍게도 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택이 텍스처의 깊이의 각인(impression)을 증가시킬 수 있는 것으로 보인다.
광학적 상호 작용은 아마도, 스택의 광 반사 특성으로 인해 텍스처가 실제보다 더 두드러지는, 즉 중공이거나 또는 더 현저한 각인을 제공하는 스택으로 코팅된 다양한 표면부 사이에서 발생한다.
따라서, 하나의 동일한 일반적인 텍스처의 경우, 특징부의 깊이는 2개의 텍스처링된 기재(박막 스택 없는 기재와 텍스처링된 면 상에 박막 스택을 갖는 본 발명에 따른 다른 기재)를 비교할 때 20 내지 50%만큼 증가된다.
본 발명의 상세 및 유리한 특징은 첨부된 도면에 의해 예시되는, 이하의 비제한적인 예로부터 알 것이다:
도 1은 본 발명의 사상 내에서 텍스처링 수단으로서 또한 작용하는 롤링 롤이 사용되는 롤링 공정을 개략적으로 도시한 것이다;
도 2는 박막 스택의 퇴적 전의 본 발명에 따른 텍스처링된 기재를 도시한 것이다;
도 3은 스테인리스 강 기재 단일 기능층 스택으로 코팅된 본 발명에 다른 기재를 도시한 것이다;
도 4는 은 기재 단일 기능층 스택으로 코팅된 본 발명에 따른 기재를 도시한 것이고, 기능층에는 하부 차단 코팅 및 상부 차단 코팅이 제공되고 스택에는 선택적 보호 코팅이 또한 제공된다.
도면에서, 다양한 물질 또는 요소의 두께는 이들을 더 쉽게 조사하도록 비례적으로 도시되지 않았다.
텍스처링된 큰 크기의 유리 기재의 제조에 종래에 사용되는 방법은, 두 줄 화살표 방향으로 내화물(2) 위로 연신되는 용융 유리(1)가 금속 롤(3, 4)을 통과함으로써 성형되는, 도 1에 도시된 원리를 갖는 롤링 공정으로 이루어진다. 유리는 성형 전에 약 1,200℃의 온도를 갖고, 롤링 기계에서 배출 시 약 850℃의 온도를 갖는다. 유리 상에 특징 또는 텍스처를 각인하기를 바라는 경우, 하나의 종래 기술은 예를 들어 표면 상에서 매끄럽지는 않지만 기재 상에 얻기를 바라는 특징 또는 텍스처의 오목부(negative)를 표면에 갖는 롤(3)과 같은 롤을 사용하는 것으로 이루어진다. 이들 텍스처링 기술은 특히 장식된 유리의 분야 또는 그밖에 광전지 장치의 분야(예를 들어 유럽 특허 출원 제1774372호)에 공지되어 있다. 마찬가지로, 롤은 상면 및/또는 하면에 에칭될 수 있다. 그 후 유리는 공지된 방식으로 연신되어 레어(lehr)로 보내어진다.
롤의 종래의 일 모델에서, 2개의 텍스처링 특징부 사이에 일정한 공간이 있다. 이들 텍스처링 특징부는, 예를 들어 롤의 표면에 존재하고 서로 평행한, 예를 들어 각기둥 형상의 일련의 돋을새김 또는 돌기로 이루어진다. 돋을새김은 통상 기재의 주요 면 상에 롤 특징부의 볼록 반복부를 갖는 텍스처를 얻는 것이 가능하게 한다.
텍스처링된 형태에서 단순히 중력에 의해 열성형을 달성하는 것이 가능하다.
따라서, 본 발명에 따른 기재의 텍스처링은 중합체 물질에 대한 롤링(또는 주조), 열성형, 에칭, 특히 레이저 에칭에 의해 생성될 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 제조 방법은, 1 mm 이상의 깊이(p)를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 주요 면을 갖는, 도 2에 도시된 유리 기재(10)의 경우, 도 3 또는 도 4에 도시된 기재를 얻기 위해 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택(100)의 상기 주요 면을 제공하는 것으로 이루어진다.
박막 스택(100)은 특히 진공 증착 기술, 특히 마그네트론 스퍼터링에 의해 돋을새김 텍스처를 형성한 후에 퇴적되거나, 또는 돋을새김 텍스처의 형성은 고온에서 상기 박막 스택(100)의 퇴적 후에 수행되고 선택적으로 기재의 굽힘 및/또는 템퍼링에 의해 완료된다.
도 2에 도시된 기재(10)는 1 내지 15 mm, 특히 2 내지 12 mm의 깊이(p)를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타낸다. 이 깊이는 주요 면의 기준면(12)과 주요 면에서 가장 먼, 주요 면의 돋을새김의 저면(14) 사이에서 측정된 거리에 상응한다.
기재(10)는 반대면(18)인 다른 면을 갖고, 여기서 기준면(12)은 이 반대면에서 가장 먼 표면인 반면, 저면(14)은 돋을새김을 중공으로 고려한다는 사실에 기인하여 반대면(18)에 가장 가까운 표면이다.
주요 면의 기준면(12)과 돋을새김의 저면(14) 사이에 위치된 돋을새김의 경사는 90° 내지 120°의 각도(α)로 배향된다.
기재의 일 면(주요 면) 상의 특징부에 의해 제공되는 텍스처에 대해, 또한 다른 면(반대면(18))에 이 반대면의 조도 또는 거친 층에 의해 제공되는 텍스처를 제공하는 것이 또한 가능하다. 이 거친 층은, 예를 들어 금속 산화물(들) 기재의 투명한 도전층일 수 있고, 상기 표면 또는 상기 층은 3 nm 이상의, 특히 5 nm 이상의 RMS 조도 및/또는 50 nm 이상의 이 조도의 특징의 평균 크기를 갖는다.
RMS 조도는 "제곱 평균 제곱근" 조도를 의미한다. 이는 조도의 제곱 평균 제곱근값을 측정하는 것으로 이루어진 측정값이다. 따라서, 이 RMS 조도는 구체적으로 평균 높이에 대한 조도 피크의 평균 높이를 정량화한다.
기본 기재로서 20 mm의 두께를 갖고 8 mm의 최대 거리에 대해 깊이 약 8 mm의 수준의 차이를 갖는, 크레아-라이트(CREA-LITE®)라는 상호 하에 쌩-고벵(SAINT-GOBAIN)에 의해 판매되는 기재를 사용하여 2개의 실시예를 수행하였다.
실시예 1은 박막 스택(100)이 질화 티타늄으로 이루어진 보호층(90)으로 코팅된, 스테인리스 강으로 이루어진 금속성 기능층(80)을 갖게 수행되었다.
가시 범위에서의 광 투과율은 약 1%였고, 주요 면측 상에서의 광 반사율은 약 40%였으며, 반대면(18)측 상의 광 반사율은 약 50%였다.
이 실시예 1에 대한 가시 범위에서의 광 투과율은 매우 낮았지만, 목표한 적용, 특히 장식 적용에 대해서는 충분하였다.
실시예 2는, 박막 스택(100)이 은 기재 금속성 기능층(40), 및 2개의 반사 방지 코팅(20, 60)을 갖고 상기 코팅이 각각 하나 이상의 유전체층(24, 64)을 포함하고, 상기 기능층(40)이 2개의 반사 방지 코팅(20, 60) 사이에 위치되고, 기능층(40)이 기능층(40)과 하부의 반사 방지 코팅(20) 사이에 위치된 하부 차단 코팅(30) 상에 직접 퇴적되며, 기능층(40)이 기능층(40)과 상부의 반사 방지 코팅(60) 사이에 위치된 상부 차단 코팅(50) 아래에 직접 퇴적되게 수행되었다.
아래의 표 1은 실시예 2의 각각의 층의 물리적 두께를 nm로 예시하고 있다(광학적 두께는 아님):
| 층 | 물질 | 실시예 2 |
| 70 | TiOx | 2 |
| 64 | Si3N4 | 45 |
| 50 | NiCr | 0.8 |
| 40 | Ag | 5.5 |
| 30 | NiCr | 0.8 |
| 24 | Si3N4 | 45 |
이 실시예의 광학적 및 표면 저항 특성은 이하와 같았다:
- TLvis, 광원 D65 하에서 측정된, 가시 범위에서의 광 투과율(TL)(%): 64%;
- RLvisc, 광원 D65 하에서 층면 상에서 측정된, 가시 범위에서의 광 반사율(RL)(%); 12%
- 약 16Ω/□의 시트 저항.
실시예 2로부터의 스택은, 코팅된 기재의 가시 범위에서의 광 투과율의 변동(△TLvis)이 5 미만이기 때문에 본 발명의 의미 내의 템퍼링 가능한 스택이다.
따라서, 기재가 나란히 위치된 경우, 열처리를 수행하지 않은 동일한 이 실시예의 기재로부터 각각 열처리를 수행한 실시예 2 중 하나에 따른 기재를 구별하는 것은 어렵다.
본 발명은 예시적으로 상기와 같이 서술되어 있다. 당업자는 청구범위에 정의된 특허의 범주를 벗어나지 않고 본 발명의 다양한 변형예를 산출할 수 있음이 이해된다.
Claims (16)
1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 주요 면을 갖는 유리 기재(10)이며, 상기 주요 면(11)에는 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택(100)이 제공되는 것을 특징으로 하는 유리 기재(10).
제1항에 있어서, 돋을새김이 1 내지 15 mm, 특히 2 내지 12 mm의 깊이를 갖는 것을 특징으로 하는 기재(10).
제1항 또는 제2항에 있어서, 주요 면의 기준면(12)의 20% 이상, 또는 심지어 50% 이상이 하나의 동일한 면에 위치되는 것을 특징으로 하는 기재(10).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 기준면이 아닌, 주요 면의 돋을새김의 저면(14)의 20% 이상, 또는 심지어 50% 이상이 하나의 동일한 면에 위치되는 것을 특징으로 하는 기재(10).
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 주요 면의 기준면(12)과 돋을새김의 저면(14) 사이에 위치된 돋을새김의 경사가 90° 내지 120°의 각도로 배향되는 것을 특징으로 하는 기재(10).
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 박막 스택(100)이 은 또는 은 함유 금속 합금 기재의 하나 이상의 금속성 기능층(40), 및 2개의 반사 방지 코팅(20, 60)을 포함하고, 상기 코팅이 각각 하나 이상의 유전체층(24, 64)을 포함하고, 상기 기능층(40)이 2개의 반사 방지 코팅(20, 60) 사이에 위치되고, 기능층(40)이 선택적으로 기능층(40)과 하부의 반사 방지 코팅(20) 사이에 위치된 하부 차단 코팅(30) 상에 직접 퇴적되며, 기능층(40)이 선택적으로 기능층(40)과 상부의 반사 방지 코팅(60) 사이에 위치된 상부 차단 코팅(50) 아래에 직접 퇴적되는 것을 특징으로 하는 기재(10).
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 박막 스택(100)이 특히 질화 규소 또는 질화 티타늄 기재의 하나 이상의 질화된 기능층을 포함하는 것을 특징으로 하는 기재(10).
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 주요 면 반대측의, 기재(10)의 면(18)이 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내고, 상기 반대면(18)에는 선택적으로 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성 및/또는 반사 방지 특성을 갖는 박막 스택이 제공되는 것을 특징으로 하는 기재(10).
하나 이상의 다른 기재와 선택적으로 조합된, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 하나 이상의 기재(10)가 혼입되는 글레이징 유닛.
제9항에 있어서, 모노리식 글레이징, 또는 이중 글레이징 또는 적층된 글레이징형의 다중 글레이징으로서 조립되고, 적어도 스택을 담지하는 기재가 만곡되고/되거나 템퍼링되는 것을 특징으로 하는 글레이징 유닛.
1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 주요 면을 갖는, 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 유리 기재(10)의 제조 방법이며, 상기 주요 면에는 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택(100)이 제공되는 것을 특징으로 하는 방법.
제11항에 있어서, 상기 박막 스택(100)이 특히 진공 증착 기술, 특히 마그네트론 스퍼터링에 의해 돋을새김 텍스처의 형성 후 퇴적되는 것을 특징으로 하는 방법.
제11항에 있어서, 돋을새김 텍스처의 형성이 상기 박막 스택(100)의 퇴적 후 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
제13항에 있어서, 돋을새김 텍스처의 형성이 고온에서 수행되고 기재의 굽힘 및/또는 템퍼링에 의해 완료되는 것을 특징으로 하는 방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의, 주요 면이 1 mm 이상의 깊이를 갖는 돋을새김으로 텍스처를 나타내는 기재(10)를 제조하거나, 또는 제9항 또는 제10항의 글레이징 유닛을 제조하기 위한, 유리 기재(10)의 주요 면 상에 적외선 및/또는 태양 복사의 반사 특성을 갖는 박막 스택(100)의 용도.
제15항에 있어서, 박막 스택(100)이 건축용 박막 스택(100), 특히 "템퍼링 가능한" 또는 "템퍼링되는" 건축용 글레이징을 위한 박막 스택(100), 및 특히 태양광 제어 스택, 특히 "템퍼링 가능한" 또는 "템퍼링되는" 태양광 제어 스택인 용도.
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