KR20100074040A - 혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치 - Google Patents

혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 소유량 가스가 처리 챔버에 도달하는 시간에 큰 지연이 발생하는 것을 억제할 수 있고, 소정의 혼합 가스를 보다 빨리 가스 사용 대상에 공급할 수 있는 혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치를 제공한다. 공통 배관(10)에 접속된 복수의 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)을 통하여 복수종의 가스를 공급하고, 해당 복수종의 가스의 혼합 가스를, 상기 공통 배관(10)의 가스 아웃부(11)를 통해서 혼합 가스 공급 라인에 의해 처리 챔버(30)에 공급하는 혼합 가스의 공급 방법으로서, 유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량이 많은 가스보다 가스 아웃부(11)에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)으로부터 공급한다.

Description

혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치{GAS MIXTURE SUPPLYING METHOD AND APPARATUS}
본 발명은, 예를 들면, 반도체 제조 장치에 이용되는 혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 제조 장치의 처리 챔버(chamber) 등의 가스 사용 대상에, 복수종의 가스로 이루어지는 혼합 가스를 처리 가스로서 공급하는 경우, 예컨대, 플라즈마 에칭 장치의 처리 챔버에 에칭 가스를 공급하는 경우는, 일반적으로 가스 박스(GAS BOX) 등으로 지칭되는 혼합 가스의 공급 장치를 이용하고 있다.
상기의 혼합 가스의 공급 장치에서는, 1개의 공통 배관(매니폴드(manifold))에 접속된 복수의 개별 가스 공급 라인을 통하여 복수종의 가스를 공급하고, 그들의 혼합 가스를, 공통 배관의 가스 아웃부(gas outlet)를 거쳐서 혼합 가스 공급 라인에 의해 가스 사용 대상에 공급하는 구성으로 되어 있다. 그리고, 종래에는, 가스 아웃부에 가장 가까운 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인으로부터 사용 유량이 최대의 가스, 혹은 분자량이 가장 큰 가스를 공급하고, 가스 아웃부에 가장 먼 위치에 마련된 가스 공급 라인으로부터 사용 유량이 최소의 가스, 혹은 분자량이 가장 작은 가스를 공급하도록 되어 있다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
(특허문헌 1) 일본 공개 특허 제 1997-283504 호 공보
그러나, 본 발명자 등이 조사한 바, 상기한 종래의 기술에서는, 대유량 가스와 소유량 가스를 동시에 흘린 경우, 대유량 가스가 공통 배관내에 가득 채워져 버려서, 소유량 가스의 흐름을 방해하고, 그 결과 소유량 가스가 처리 챔버에 도달하는 시간에 큰 지연이 발생하는 것이 밝혀졌다.
본 발명은, 상기 종래의 사정에 대처해서 이루어진 것으로, 소유량 가스가 처리 챔버에 도달하는 시간에 큰 지연이 발생하는 것을 억제할 수 있고, 소정의 혼합 가스를 보다 빨리 가스 사용 대상에 공급할 수 있는 혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치를 제공한다.
제 1 항의 혼합 가스의 공급 방법은, 공통 배관에 접속된 복수의 개별 가스 공급 라인을 통하여 복수종의 가스를 공급하고, 해당 복수종의 가스의 혼합 가스를, 상기 공통 배관의 가스 아웃부를 통해서 혼합 가스 공급 라인에 의해 가스 사용 대상에 공급하는 혼합 가스의 공급 방법으로서, 유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량이 많은 가스보다 상기 개별 가스 공급 라인 중 상기 가스 아웃부에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하는 것을 특징으로 한다.
제 2 항의 혼합 가스의 공급 방법은, 제 1 항에 기재된 혼합 가스의 공급 방 법으로서, 상기 복수종의 가스중 최소 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부에 가장 가까운 위치에 마련한 상기 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하고, 또한 상기 복수종의 가스중 최대 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부로부터 가장 먼 위치에 마련한 상기 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하는 것을 특징으로 한다.
제 3 항의 혼합 가스의 공급 방법은, 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 혼합 가스의 공급 방법으로서, 상기 공통 배관의 내경을 상기 혼합 가스 공급 라인의 내경보다 작게 하고, 상기 혼합 가스 공급 라인보다 내경이 작은 상기 공통 배관으로부터, 보다 내경이 큰 상기 혼합 가스 공급 라인에 혼합 가스를 흘리는 것을 특징으로 한다.
제 4 항의 혼합 가스의 공급 방법은, 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 기재된 혼합 가스의 공급 방법으로서, 상기 혼합 가스 공급 라인에 필터를 마련하고, 혼합 가스중의 파티클을 제거하는 것을 특징으로 한다.
제 5 항의 혼합 가스의 공급 장치는, 공통 배관에 접속된 복수의 개별 가스 공급 라인을 통하여 복수종의 가스를 공급하고, 해당 복수종의 가스의 혼합 가스를, 상기 공통 배관의 가스 아웃부를 통해서 혼합 가스 공급 라인에 의해 가스 사용 대상에 공급하는 혼합 가스의 공급 장치로서, 유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량이 많은 가스보다 상기 개별 가스 공급 라인 중 상기 가스 아웃부에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하도록 구성된 것을 특징으로 한다.
제 6 항의 혼합 가스의 공급 장치는, 제 5 항에 기재된 혼합 가스의 공급 장 치로서, 상기 복수종의 가스중 최소 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부에 가장 가까운 위치에 마련한 상기 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하고, 또한 상기 복수종의 가스중 최대 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부로부터 가장 먼 위치에 마련한 상기 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하도록 구성된 것을 특징으로 한다.
제 7 항의 혼합 가스의 공급 장치는, 제 5 항 또는 제 6 항에 기재된 혼합 가스의 공급 장치로서, 상기 공통 배관의 내경을 상기 혼합 가스 공급 라인의 내경보다 작게 한 것을 특징으로 한다.
제 8 항의 혼합 가스의 공급 장치는, 제 5 항 내지 제 7 항중 어느 한 항에 기재된 혼합 가스의 공급 장치로서, 상기 혼합 가스 공급 라인에 혼합 가스중의 파티클을 제거하기 위한 필터를 마련한 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 소유량 가스가 처리 챔버에 도달하는 시간에 큰 지연이 발생하는 것을 억제할 수 있고, 소정의 혼합 가스를 보다 빨리 가스 사용 대상에 공급할 수 있는 혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치를 제공할 수 있다.
본 발명에 의하면, 소유량 가스가 처리 챔버에 도달하는 시간에 큰 지연이 발생하는 것을 억제할 수 있고, 소정의 혼합 가스를 보다 빨리 가스 사용 대상에 공급할 수 있는 혼합 가스의 공급 방법 및 혼합 가스의 공급 장치를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명의 상세한 설명을 도면을 참조하여 실시형태에 대해서 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 혼합 가스의 공급 장치의 개략 구성을 모식적으로 도시한 도면이다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 혼합 가스의 공급 장치(100)는 복수의 가스종에 대응한 복수(본 실시형태에서는 16개)의 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)을 구비하고 있고, 이들 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)의 일단은 1개의 공통 배관(매니폴드; 10)에 접속되어 있다.
상기한 각 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)의 타단은 도시하지 않은 가스 공급원에 접속되어 있다. 또한, 각 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)에는, 가스의 유량을 제어하기 위한 가스 유량 제어기(MFC나 FCS)(2A 내지 2P), 밸브(3A 내지 3P), 밸브(4A 내지 4P) 등이 마련되어 있다.
또한, 상기한 공통 배관(매니폴드; 10)의 일단의 가스 아웃부(11)는 혼합 가스 공급 라인(20)에 접속되어 있고, 이 혼합 가스 공급 라인(20)은 가스 사용 대상인 반도체 제조 장치(예컨대, 플라즈마 에칭 장치)의 처리 챔버(30)에 접속되어 있다. 이 혼합 가스 공급 라인(20)에는, 혼합 가스중의 파티클(particle)을 제거하기 위한 필터(21), 밸브(22) 등이 마련되어 있다.
본 실시형태에 있어서, 유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량이 많은 가스보다 가스 아웃부(11)에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)으로부터 공급하도록 되어 있다. 또한, 복수종의 가스중 최소 유량의 가스를, 가스 아웃부(11)에 가장 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인(1A)으로부터 공급하고, 복수종의 가스중 최대 유량의 가스를, 가스 아웃부(11)로부터 가장 먼 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인(1P)으로부터 공급하도록 되어 있다.
또한, 공통 배관(매니폴드; 10)은 그 내경을 혼합 가스 공급 라인(20)의 내경보다 작게(가늘게) 되도록 구성되어 있다. 본 실시형태에서는, 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경이 6.35mm(1/4 인치), 혼합 가스 공급 라인(20)의 내경이 12.7mm(1/2 인치)로 되어 있다. 이렇게, 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경을 6.35mm(1/4 인치) 이하, 혼합 가스 공급 라인(20)의 내경을 12.7mm(1/2 인치) 이상으로 하는 것이 바람직하다. 그 이유에 대해서는 후술한다.
또한, 종래의 혼합 가스의 공급 장치에서는, 공통 배관(매니폴드)의 내경과, 혼합 가스 공급 라인의 내경은 동일하게 되어 있고, 예컨대 이들의 내경은 12.7mm(1/2 인치) 등으로 되어 있다.
다음에, 상기 구성의 혼합 가스의 공급 장치(100)에 의한 혼합 가스의 공급 방법에 대해서 설명한다. 상기한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량의 많은 가스보다 가스 아웃부(11)에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)으로부터 공급한다. 예컨대, Ar 가스와 O2 가스를 동시에 공급하고, Ar 가스와 O2 가스의 혼합 가스를 처리 챔버(30)에 공급하는 경우에 있어서, O2 가스의 유량이 Ar 가스의 유량보다 적은 경우는, O2 가스를 Ar 가스보다 가스 아웃부(11)에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인(1A 내지 1P)으로부터 공급한다.
구체적으로는, 예컨대, Ar 가스를 가스 아웃부(11)로부터 13번째의 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인(1M)으로부터 공급하고, O2 가스를, 가스 아웃부(11)로부터 12번째의 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인(1L)으로부터 공급한다. 이러한 경우에 대해, Ar 가스/O2 가스=500/20sccm, 500/50sccm, 1000/20sccm, 1000/50sccm, 1000/100sccm의 각 유량에 대해서, 실제로 가스를 흘리고, 처리 챔버(30)내에 도달한 가스를 질량 분석 장치(Q-MASS)로 분석해서, Ar 가스 및 O2 가스의 도달 시간(가스의 공급을 개시하고 나서 처리 챔버(30)내에 도달한 시간)을 조사한 결과를 표 1에 나타낸다.
또한, 비교예 1로서, Ar 가스를 가스 아웃부(11)로부터 가장 가까운 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인(1A)으로부터 공급하고, O2 가스를, 가스 아웃부(11)로부터 12번째의 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인(1L)으로부터 공급한 경우의 Ar 가스 및 O2 가스의 도달 시간을 조사한 결과를 표 1에 나타낸다.
질량 분석 장치(Q-MASS)에서의 분석 결과에서는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 가스 농도가, 도면중 실선으로 도시하는 Ar 가스의 농도가 증가하기 시작한 후, 지연되어서 O2 가스의 농도가 증가하기 시작하고, 그 후 일정시간 후에 O2 가스 의 농도가 안정되었다. 도 2에 있어서, t1은 Ar 가스를 공급한후 Ar 가스 농도가 증가하기 시작한 시간, 즉, Ar 가스가 챔버(30)에 도달하는데 걸린 시간, t2는 O2 가스가 공급된 후 O2 가스 농도가 증가하기 시작한 시간, 즉, O2 가스가 챔버(30)에 도달하는데 걸린 시간, t3는 O2 가스 농도가 안정화되는데 걸린 시간을 나타낸다. 표 1 에 있어서, “t2-t1”은 Ar 가스 농도가 증가하기 시작한 후, O2 가스 농도가 증가하는데 걸린 시간을, “t3-t1”은 Ar 가스 농도가 증가하기 시작한 후, O2 가스 농도가 안정화되는데 걸린 시간을 나타내고, 상기 실시예 1 및 상기 비교예 1의 각각의 경우에 있어서의“t2-t1”및 “t3-t1”을 조사한 결과를 표 1에 나타낸다.
<표 1>
Ar/O2 500/20
(sccm)		 500/50
(sccm)		 1000/20
(sccm)		 1000/50
(sccm)		 1000/100
(sccm)
실시예1 t2-t1 Ar과동시 Ar과동시 Ar과동시 Ar과동시 Ar과동시
t3-t1 4.0초 4.0초 4.6초 5.2초 3.3초
비교예1 t2-t1 10.6초 4.6초 15.9초 6.6초 3.9초
t3-t1 15.9초 7.3초 20.6초 9.3초 5.9초
표 1에 나타내는 바와 같이 상기의 실시예 1의 경우, O2 가스 농도가 증가하기 시작하는 시간은 Ar 가스 농도가 증가하기 시작하는 시간과 대략 동시이며, O2 가스 농도의 안정 시간은 Ar 가스 농도가 증가하기 시작한 후로부터 몇초(3.3초 내지 5.2초)이었다. 이에 대하여, 비교예 1의 경우는, O2 가스 농도가 증가하기 시작하는 시간은 Ar 가스 농도가 증가하기 시작한 후로부터 3.9초 내지 15.9초 걸리 고, O2 가스 농도의 안정 시간은 Ar 가스 농도가 증가하기 시작한 후로부터 5.9초 내지 20.6초가 되었다. 이 결과로부터 명확한 바와 같이, 실시예 1에서는, 비교예 1의 경우에 비해 O2 가스의 도달 시간도, 02 가스의 안정 시간도 대폭 단축할 수 있었다.
상기의 비교예 1과 같은 경우, 가스 유량이 적은 02 가스의 도달 시간의 대폭적인 지연이 발생하는 것은, 이하와 같은 이유에 의한 것이라고 추측된다. 즉, 도 3은, 가스 아웃부에 가까운 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인으로부터 가스 유량이 많은 Ar 가스를 공급하고, 이보다 가스 아웃부로부터 먼 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인으로부터 가스 유량이 적은 O2 가스나 그 밖의 프로세스 가스를 공급한 경우의 공통 배관(매니폴드)내의 도 3 중에 도시하는 1, 2, 3의 부위의 압력 및 가스 분포를 추정한 것이다.
도 3에 도시하는 바와 같이, 가스 유량이 많은 Ar 가스를, 가스 아웃부에 가까운 1의 위치로부터 공통 배관(매니폴드)에 공급한 경우, 일시적으로 Ar 가스가 공통 배관(매니폴드)의 2의 위치, 3의 위치까지 들어가서 역류한 상태가 되고, 이러한 Ar 가스를 소유량의 O2 가스 등이 압출하여 O2 가스 등이 처리 챔버에 도달하기까지는, 시간이 걸리기 때문이라고 추측된다.
상기와 같이 혼합 가스의 처리 챔버(30)에의 도달 시간을 단축하기 위해서는, 공통 배관(매니폴드; 10)내의 용적을 감소시키는 것도 유효하다. 이 경우, 공 통 배관(매니폴드; 10)의 내경을 작게 함으로써, 혼합 가스의 처리 챔버(30)에의 도달 시간을 단축할 수 있다. 단지, 배관의 내경을 작게 하면 컨덕턴스(conductance)가 저하하여, 혼합 가스의 처리 챔버(30)에의 도달 시간을 늦추는 요인으로도 된다. 따라서, 혼합 가스 공급 라인(20)의 내경은 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경보다 크게 하는 것이 바람직하다. 또한, 이 혼합 가스 공급 라인(20)에 마련되는 필터(21)는 컨덕턴스가 높고, 저압손(low pressure loss)의 것을 이용하는 것이 바람직하다. 전술한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경이 6.35mm(1/4 인치), 혼합 가스 공급 라인(20)의 내경이 12.7mm(1/2 인치)로 되어 있다.
상기와 같은 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경의 차이에 의해 유량이 적은 가스에 생기는 도달 시간의 지연의 차이를 조사한 결과를 이하에 나타낸다. 이 실험에서는, 도달 시간의 지연이 많은 상태에서 내경의 차이에 의한 효과를 조사하기 위해서, Ar 가스를 가스 아웃부(11)로부터 2번째의 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인(1B)으로부터 공급하고, O2 가스를, 가스 아웃부(11)로부터 가장 먼 16번째의 위치에 마련된 개별 가스 공급 라인(1P)으로부터 공급했다. 또한, 가스 유량은, Ar 가스/O2 가스=500/10sccm, 500/20sccm, 500/50sccm, 500/70sccm, 1000/10sccm, 1000/20sccm, 1000/50sccm, 1000/70sccm의 각 유량에 대해서, 실제로 가스를 흘리고, 처리 챔버(30)내에 도달한 가스를 질량 분석 장치(Q-MASS)로 분석하여, Ar 가스의 도달시간 (t1) 및 O2 가스의 도달 시간 (t2) (가스의 공급을 개시하고 나서 처 리 챔버(30)내에 도달한 시간) 및 O2 가스의 안정시간 t3을 조사했다 (도 2 참고). 상기 실험에 있어서의, “t2-t1”및 “t3-t1”을 조사한 결과를 표 2에 나타낸다.
<표 2>
공통배관 직경 Ar/O2 500/10
(sccm)		 500/20
(sccm)		 500/50
(sccm)		 500/70
(sccm)		 1000/10
(sccm)		 1000/20
(sccm)		 1000/50
(sccm)		 1000/70
(sccm)
1/2 인치 t2-t1 14.0초 7.5초 0.9초 2.5초 20.7초 10.8초 5.0초 2.5초
t3-t1 20.6초 15.8초 9.1초 7.4초 24.7초 21.4초 14.9초 7.5초
1/4 인치 t2-t1 4.3초 3.0초 1.4초 Ar과 동시 7.2초 3.6초 2.1초 0.6초
t3-t1 7.2초 5.9초 4.3초 5.9초 10.1초 7.3초 5.8초 5.7초
1/4인치+저압손 t2-t1 3.0초 2.2초 Ar과 동시 Ar과 동시 3.7초 3.7초 1.5초 1.5초
t3-t1 6.0초 5.2초 5.9초 5.2초 7.3초 6.6초 3.6초 4.4초
표 2에 나타내는 바와 같이, 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경을 6.35mm(1/4 인치)로 한 경우, 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경을 12.7mm(1/2 인치)로 한 경우에 비해, O2 가스의 도달 시간, O2 가스의 안정 시간의 쌍방을 대폭 단축할 수 있었다.
또한, 전술한 혼합 가스 공급 라인(20)의 컨덕턴스를 증대시키기 위한 방법의 일례로서, 이 혼합 가스 공급 라인(20)에 개재 삽입된 필터(21)를 종래의 필터(시판품)로부터, 필터의 통과 가스부의 표면적이 2배의 저압손 필터로 변경하고, 또한 상기와 같이 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경을 6.35mm(1/4 인치)로 한 경우에 대해서, 상기와 동일하게 하여 Ar 가스의 도달시간 (t1) 및 O2 가스의 도달 시간 (t2) (가스의 공급을 개시하고 나서 처리 챔버(30)내에 도달한 시간) 및 O2 가스의 안정시간 t3을 조사했다. “t2-t1”및 “t3-t1”을 조사한 결과를 표 2의 최하단부에 나타낸다. 표 2에 나타내는 바와 같이, 저압손 필터를 이용한 경우, 단지 공통 배관(매니폴드; 10)의 내경을 6.35mm(1/4 인치)로 한 경우보다도, 대부분의 유량 범위에 있어서, 또한 O2 가스의 도달 시간, O2 가스의 안정 시간의 쌍방을 단축할 수 있었다. 따라서, 필터(21)를 저압손의 필터로 한다. 혼합 가스 공급 라인(20)의 내경을 크게 하는 것 등에 의해, 혼합 가스 공급 라인(20)의 컨덕턴스를 증대시키는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은, 상기한 실시형태 및 실시예에 한정되는 것은 아니고, 각종의 변형이 가능한 것은 물론이다. 예를 들면, 처리 챔버(30)는 플라즈마 에칭 장치의 경우에 한정되지 않고, CVD 장치 등의 성막 장치의 처리 챔버이어도 좋다. 또한, 개별 가스 공급 라인의 수는 16에 한정되지 않고, 16 이상이어도, 16 미만이어도 무방하다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 혼합 가스의 공급 장치의 개략 구성을 모식적으로 도시하는 도면.
도 2는 O2 가스의 도달 시간, 안정 시간을 설명하기 위한 도면.
도 3은 소유량 가스에 도달 시간의 지연이 발생하는 이유를 설명하기 위한 도면.
부호의 설명
1A 내지 1P: 개별 가스 공급 라인
10: 공통 배관(매니폴드)
11: 가스 아웃부
20: 혼합 가스 공급 라인
21: 필터
30: 처리 챔버
100: 혼합 가스의 공급 장치.

Claims (8)

  1. 공통 배관에 접속된 복수의 개별 가스 공급 라인을 통하여 복수종의 가스를 공급하고, 해당 복수종의 가스의 혼합 가스를, 상기 공통 배관의 가스 아웃부를 통해서 혼합 가스 공급 라인에 의해 가스 사용 대상에 공급하는 혼합 가스의 공급 방법에 있어서,
    유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량이 많은 가스보다 상기 개별 가스 공급 라인 중 상기 가스 아웃부에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하는 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수종의 가스중 최소 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부에 가장 가까운 위치에 마련한 상기 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하고, 상기 복수종의 가스 중 최대 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부로부터 가장 먼 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하는 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 공통 배관의 내경을 상기 혼합 가스 공급 라인의 내경보다 작게 하고, 상기 혼합 가스 공급 라인보다 내경이 작은 상기 공통 배관으로부터, 보다 내경이 큰 상기 혼합 가스 공급 라인에 혼합 가스를 흐로도록 하는 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서,
    상기 혼합 가스 공급 라인에 필터를 마련하고, 혼합 가스 중의 파티클을 제거하는 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 방법.
  5. 공통 배관에 접속된 복수의 개별 가스 공급 라인을 통하여 복수종의 가스를 공급하고, 해당 복수종의 가스의 혼합 가스를, 상기 공통 배관의 가스 아웃부를 통해서 혼합 가스 공급 라인에 의해 가스 사용 대상에 공급하는 혼합 가스의 공급 장치에 있어서,
    유량이 다른 2종류 이상의 가스를 동시에 공급할 때에, 유량이 적은 가스를, 유량이 많은 가스보다 상기 개별 가스 공급 라인 중 상기 가스 아웃부에 가까운 위 치에 마련한 아웃부에 가까운 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하도록 구성된 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 복수종의 가스 중 최소 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부에 가장 가까운 위치에 마련한 상기 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하고, 또한 상기 복수종의 가스 중 최대 유량의 가스를, 상기 가스 아웃부로부터 가장 먼 위치에 마련한 개별 가스 공급 라인으로부터 공급하도록 구성된 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 장치.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 공통 배관의 내경을 상기 혼합 가스 공급 라인의 내경보다 작게 한 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 장치.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 혼합 가스 공급 라인에 혼합 가스 중의 파티클을 제거하기 위한 필터를 마련한 것을 특징으로 하는
    혼합 가스의 공급 장치.
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