KR20100059242A - 기판 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

기판 세정 장치는 세정 공간을 형성하는 세정 용기와 세정 용기 내에서 기판을 제1 수평 방향으로 이송하는 이송 유닛과, 세정 용기 내에서 기판을 브러싱하는 브러시 유닛과, 세정 용기 내에서 세정액을 미스트 형태로 형성하여 브러싱 처리된 기판으로 분사하는 세정액 분사 노즐을 포함하되, 브러시 유닛은 원통 형상을 갖는 브러시 샤프트와, 브러시 샤프트를 관통하도록 구비되는 텐션 샤프트와, 브러시 샤프트의 양단부에 각각 구비되어 텐션 샤프트와 나사 결합되며 나사 결합의 조임을 통해 텐션 샤프트에 가해지는 인장력을 증가시키는 텐션 조절 너트와, 샤프트의 외주면에 배치되는 기판 세정용 브러시를 포함한다. 따라서 기판 세정 설비의 면적을 줄일 수 있다.

Description

기판 세정 장치{Apparatus for cleaning a substrate}
본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 디스플레이 장치의 제조에서 기판 상의 불순물을 제거하기 위하여 상기 기판을 세정하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 평판 디스플레이 장치의 제조에서 유리 기판과 같은 대면적 기판에 대하여 소정의 처리 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 식각 공정, 스트립 공정, 세정 공정, 건조 공정, 등과 같은 단위 공정들이 상기 기판에 대하여 수행될 수 있으며, 상기 단위 공정들을 수행하기 위한 장치는 일반적으로 인라인 방식으로 기판을 이동시키면서 수행될 수 있다.
특히, 상기 세정 공정을 수행하기 위한 장치는 다수의 롤러들을 이용하여 상기 기판을 수평 방향으로 이송할 수 있으며, 상기 기판 상으로 세정액을 공급할 수 있다. 예를 들면, 상기 세정 장치는 상기 기판 상의 불순물을 제거하기 위하여 상기 기판을 브러싱하는 다수의 브러시들과 상기 브러시들 상으로 세정액을 공급하는 샤워 노즐과 상기 브러시들에 의해 일차 세정된 기판 상으로 고압의 이류체를 분사하여 상기 기판을 이차 세정하는 이류체 분사 노즐과 상기 기판 상의 세정액을 제 거하기 위한 에어 나이프 등을 포함할 수 있다.
상기 이류체 분사 노즐은 상기 세정액과 에어가 혼합되는 공간을 갖는 파이프 배관과 상기 파이프 배관을 통해 형성되며 상기 미스크 형태의 세정액을 분사하는 다수의 노즐들을 포함할 수 있다. 그러나, 상기 파이프 배관 내의 공간에서 상기 세정액과 에어가 혼합되기 때문에 상기 기판 상으로 분사되는 이류체에서 세정액의 농도가 균일하지 않으며, 또한 상기 기판 상에 가해지는 힘이 일정하지 않을 수 있다. 결과적으로, 상기 이류체 분사 노즐과 상기 기판 사이의 간격을 일정하게 유지하는 경우에도 균일한 세정이 이루어지기 어려우며, 목적하는 세정 효과를 얻기 위하여 소요되는 세정액과 에어의 양이 상대적으로 많기 때문에 상기 세정 공정을 수행하는데 소요되는 비용이 증가될 수 있다.
또한, 상기 브러시 유닛들 역시 휘어짐 등에 의해 목적하는 세정 효과를 얻기 위해서는 다수개의 브러시 유닛들을 사용해야 되는 단점을 가지며, 이로 인해 세정 설비의 사이즈가 커지는 요인이 되고 있다.
따라서 본 발명의 실시예를 통해 해결하고자 하는 일 과제는 기판 세정 설비의 사이즈를 줄이고, 세정액의 사용량을 줄일 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 세정 공간을 형성하는 세정 용기와, 상기 세정 용기 내에서 기판을 제1 수평 방향으로 이송하는 이송 유닛과, 상기 세정 용기 내에서 상기 기판을 브러싱하는 브러시 유닛과, 상기 세정 용기 내에서 세정액을 미스트 형태로 형성하여 상기 브러싱 처리된 기판으로 분사하는 세정액 분사 노즐을 포함하되, 상기 브러시 유닛은 원통 형상을 갖는 브러시 샤프트와, 상기 브러시 샤프트를 관통하도록 구비되는 텐션 샤프트와, 상기 브러시 샤프트의 양단부에 각각 구비되어 상기 텐션 샤프트와 나사 결합되며, 상기 나사 결합의 조임을 통해 상기 텐션 샤프트에 가해지는 인장력을 증가시키는 텐션 조절 너트와, 상기 샤프트의 외주면에 배치되는 기판 세정용 브러시를 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따르면, 상기 브러시 샤프트의 양단부들에 배치되며, 상기 브러시 샤프트를 회전 가능하게 지지하는 다수의 제1 베어링들을 포함할 수 있다.
다른 실시예에 따르면, 상기 브러시 샤프트의 내측에서 상기 텐션 샤프트와 상기 브러시 샤프트 사이에 개재되어 상기 텐션 샤프트와 상기 브러시 샤프트 사이 를 지지하는 다수의 제2 베어링들을 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 세정액 분사 노즐에서 분사되는 세정액은 한 쌍의 플레이트들에 의해 형성되는 슬릿을 통해 상기 기판 상으로 분사되며, 상기 세정액을 미스트(mist) 형태로 형성하기 위한 에어가 상기 플레이트들 중 하나를 통해 상기 슬릿 내부로 공급될 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급 라인은 상기 플레이트들 중 하나의 중앙 부위에 연결되며 상기 에어를 공급하기 위한 에어 공급 라인은 상기 세정액 공급 라인이 연결된 부위를 중심으로 상기 세정액이 분사되는 노즐 단부에 대향하는 부위에 연결될 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 플레이트들 중 하나에는 돌출부가 형성되어 있으며, 상기 플레이트들 중 다른 하나에는 상기 돌출부가 삽입되는 오목부가 형성되어 있고, 상기 슬릿은 상기 돌출부와 오목부 사이에서 연장할 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 돌출부와 상기 오목부는 상기 플레이트들의 중앙 부위와 상기 노즐 단부 사이에 배치될 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 슬릿은 상기 세정액이 분사되는 부위의 제1 폭과 상기 세정액과 상기 에어가 혼합되는 부위의 제2 폭을 가지며, 상기 제2 폭은 상기 제1 폭보다 클 수 있다.
또 다른 실시예에 따르면, 상기 세정액이 분사되는 슬릿의 폭은 0.05 내지 0.1mm인 것을 특징으로 한다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 브러시 유닛의 휘어짐을 감소시킬 수 있도록 내부에서 인장력을 형성할 수 있게 구성되어 종래 대비 브러시 유닛의 수를 줄일 수 있게 되므로 기판 세정 설비의 면적을 줄일 수 있다. 아울러, 세정액의 소모량을 줄일 수 있는 세정액 분사 노즐을 사용하고, 이를 통해 세정액 공급 라인들을 간소화함으로써 세정액의 소비량을 줄이면서, 동시에 세정 설비의 면적을 줄일 수 있다. 또한, 단일 용기 내에 브러시 유닛 및 세정액 분사 유닛을 배치시킴으로써 세정 설비의 면적을 줄일 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
실시예
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(10)는 유리 기판과 같은 평판형 기판(G)에 대한 세정 공정을 위하여 사용될 수 있다.
상기 기판 세정 장치(10)는 크게 세정 용기(100)에 의해 구분되는 세정부와, 건조 용기(200)에 의해 구분되는 건조부를 포함할 수 있다. 또한, 도시하진 않았지만 상기 세정부의 전단에 위치하여 외부의 기판 이송 장치로부터 이송되는 기판(G)을 로딩하여 대기시키는 로딩부와, 상기 건조부의 후단에 위치하여 세정을 마친 기판(G)을 언로딩하여 대기시키는 언로딩부를 포함할 수 있다.
상기 세정 용기(100) 내부에는 기판(G)을 세정하기 위한 유닛들이 구비된다. 예를 들어, 상기 세정 용기(100) 내에서 기판(G)을 제1 수평 방향으로 이송하기 위한 이송 유닛(110)과, 상기 기판(G)을 1차 세정하기 위하여 브러싱하는 브러시 유닛들(120)과, 세정액을 미스트 형태로 형성한 후 상기 1차 세정된 기판(G)으로 분사하여 2차 세정하는 세정액 분사 노즐(130)과, 공정 중 필요한 세정을 기판(G)으로 분사하는 샤워 노즐들(140)을 포함할 수 있다. 여기서, 상기 이송 유닛(110), 브러시 유닛들(120), 세정액 분사 노즐(130), 샤워 노즐들(140)은 동일 세정 용기(100) 내에 구비된다. 이는 상기 세정 용기(100) 내에서 상기 공정들이 모두 진행되는 것을 의미한다. 즉, 단일 세정 용기(100)에 상기 부재들이 모두 배치되어 기판(G)에 대한 세정을 수행한다. 또한, 상기 세정 용기(100)의 내부에는 용기 내부로 투입되는 기판(G) 상에 잔류할 수 있는 이물질을 제거하기 위해, 기판(G)으로 에어를 분사하는 제1 에어 나이프(150)를 포함할 수 있다.
본 실시예에서는 세정 설비의 면적을 줄일 수 있도록 상기 브러시 유닛(120)에 인장력을 증가시킬 수 있도록 구성함으로써, 휘어짐을 감소시켜 종래 대비 적은 수의 브러시 유닛(120)을 설치하는 것이 가능하도록 하였다. 또한, 종래 대비 세정 액의 약을 줄일 수 있도록 상기 세정액 분사 노즐(130)의 효율이 증가되도록 구성하였다. 상기 브러시 유닛(120) 및 세정액 분사 노즐(130)에 대해서는 이하 설명을 통해 보다 명확해질 것이다.
상기 건조 용기(200)에서는 세정을 마친 기판(G)에 대한 건조 공정이 진행된다. 즉, 기판(G) 상에 잔류하는 세정액이나 이물질을 에어를 이용하여 불어내게 된다. 이를 위해 상기 건조 용기(200) 내부에는 기판(G)으로 건조 기체를 분사하는 제2 에어 나이프(210)가 구비된다.
이하, 본 실시예에서 특징으로 하는 브러시 유닛(120)에 대해서 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.
도 2는 도 1에 도시된 브러시 유닛을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 2를 참조하면, 상기 브러시 유닛(130)은 원통 형상을 갖는 브러시 샤프트(121)와, 상기 브러시 샤프트(121)를 관통하도록 구비되는 텐션 샤프트(122)와, 상기 브러시 샤프트(121)의 양단부에 배치되어 상기 브러시 샤프트(121)와 나사 결합되는 텐션 조절 너트(123)들과, 상기 브러시 샤프트(121)의 외주면에 배치되는 브러시(124)를 포함한다.
또한, 상기 브러시 유닛(130)은 상기 브러시 샤프트(121)의 양단 부위에 제1 베어링(125)들을 갖는다. 상기 제1 베어링(125)들은 상기 브러시 샤프트(121)를 회전 가능하게 지지함으로써 기판(G)에 대한 브러싱이 가능하도록 한다. 따라서, 상기 제1 베어링(125)은 공정 용기(100) 내에서 상기 브러시 유닛(130)을 정해진 위치에서 고정시킬 때, 상기 브러시 유닛(130)을 지지하는 하우징(미도시)에 설치될 수 있다.
상기 텐션 샤프트(122)는 상기 브러시 샤프트(121)를 관통할 수 있게 상기 브러시 샤프트(121)의 내경보다 작은 직경을 갖는다. 또한, 상기 텐션 샤프트(122)는 상기 브러시 샤프트(121)를 관통했을 때 그 양단부가 상기 브러시 샤프트(121)의 양단부로부터 각각 돌출 될 수 있도록 상기 브러시 샤프트(121)의 길이보다 긴 길이를 갖는다. 그리고, 상기 텐션 샤프트(122)의 양단 부위에는 상기 텐션 조절 너트(123)와 나사 결합을 위해 나사산이 형성된다.
상기 텐션 조절 너트(123)는 언급한 바와 같이 브러시 샤프트(121)를 관통하는 상태로 배치된 상기 텐션 샤프트(122)의 양단에 각각 체결된다. 특히, 상기 텐션 조절 너트(123)는 상기 브러시 샤프트(121)의 원통 안으로 들어가지 못하게 적어도 상기 브러시 샤프트(121)의 내경보다 큰 직경을 갖도록 형성된다. 도면에서는 상기 브러시 샤프트(121)의 외경보다도 더 큰 직경으로 표현하였다. 이처럼 상기 텐션 조절 너트(123)는 상기 브러시 샤프트(121)의 단부에 고정될 수 있는 구성이 필요하다. 따라서, 반드시 브러시 샤프트(121)의 내경보다 큰 직경을 가질 필요는 없다. 가령, 상기 브러시 샤프트(121)의 내경에 상기 텐션 조절 너트(123)의 걸림턱을 구비할 수도 있을 것이다.
한편, 상기 브러시 샤프트(121)의 내측에는 상기 텐션 샤프트(122)와 상기 브러시 샤프트(122) 사이에 개재되는 제2 베어링들(126)을 갖는다. 상기 제2 베어링들(126)들은 상기 텐션 샤프트(122)와 상기 브러시 샤프트(122) 사이에 꽉 끼워지는 것이 바람직하며, 그 이유는 이하의 설명에서 자명해질 것이다.
상기 텐션 조절 너트(123)는 상기 브러시 샤프트(121)의 양단부 측에서 지지된 상태에서 상기 나사 결합의 조임을 통해 상기 내측 샤프트(122)에 가해지는 인장력을 증가시키는 역할을 한다. 즉, 상기 텐션 조절 너트(123)들이 상기 텐션 샤프트(122)의 중앙부를 향하도록 나사를 조임에 따라서, 상기 텐션 샤프트(122)를 양측에서 잡아당기는 형상이 될 것이다. 따라서, 상기 텐션 샤프트(122)는 곧게 펴지려는 힘이 작용하게 되고, 상기 제2 베어링(126)이 상기 텐션 샤프트(122)와 상기 브러시 샤프트(121) 사이에 지지축 역할을 하여 상기 브러시 샤프트(121)의 처짐을 억제하게 된다. 즉, 브러시 샤프트(121)의 처짐이 발생할 경우 상기 텐션 조절 너트(123)를 조임으로써 처짐을 억제할 수 있을 것이다.
이와 같이 브러시 유닛(120)의 유동적으로 억제할 수 있는 브러시를 사용함으로, 종래 대비 브러시 유닛(120)의 개수를 적게 구성하여도 동일한 세정력을 유지할 수 있을 것이다. 따라서 브러시 유닛(120)의 개수를 줄여 궁극적으로는 기판 세정 설비의 면적을 줄일 수 있게 된다.
도 3은 도 1에 도시된 세정액 분사 노즐을 나타내는 개략적인 단면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 세정액 분사 노즐을 나타내는 개략적인 측면도이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 상기 분사 노즐(130)은 상기 기판(G)의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 연장하는 한 쌍의 플레이트들(132, 134)을 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 분사 노즐(130)은 제1 플레이트(132)와 제2 플레이트(134)를 포함할 수 있으며, 상기 제1 플레이트(110)와 제2 플레이트(120) 사이에서 상기 세정액을 상기 기판(G) 상으로 분사하기 위한 슬릿(136)이 형성될 수 있다.
또한, 상세히 도시되지는 않았으나, 상기 제1 플레이트(132)와 제2 플레이트(132) 사이에는 상기 세정액이 상기 세정액 분사 노즐(130)의 상부 및 양쪽 측부를 통해 누설되는 것을 방지하는 밀봉 부재(131)가 개재될 수 있다.
상기 제1 플레이트(132)의 중앙 부위에는 상기 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급부(138)가 세정액 공급 라인(138a)에 의해 연결될 수 있다. 상기 세정액 공급 라인(138a)은 상기 제1 플레이트(132)를 통하여 상기 슬릿(136)과 연결될 수 있다. 예를 들면, 도시된 바와 같이 다수의 세정액 공급 라인들(138a)이 상기 제1 플레이트(132)의 중앙 부위들에 연결될 수 있다. 또한, 상기 세정액 공급 라인(138a)이 연결된 부위를 중심으로 상기 세정액이 분사되는 노즐 단부에 대향하는 부위에는 상기 분사 노즐(130)로 에어를 공급하기 위한 에어 공급부(139)가 에어 공급 라인(139a)에 의해 연결될 수 있다. 상기 에어 공급 라인(139a)은 상기 제1 플레이트(132)를 통하여 상기 슬릿(136)과 연결될 수 있다. 예를 들면, 도시된 바와 같이 다수의 에어 공급 라인(139a)이 상기 제1 플레이트(132)의 상단 부위들에 연결될 수 있다.
상기 슬릿(136)을 한정하는 제1 플레이트(132)의 내측면 부위에는 오목부(132a)가 형성될 수 있으며, 상기 슬릿(136)을 한정하는 제2 플레이트(134)의 내측면 부위에는 상기 오목부(132a)에 삽입되는 돌출부(134a)가 형성될 수 있다. 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a)는 상기 분사 노즐(130)의 연장 방향으로 연장될 수 있다. 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a)는 상기 세정액을 균일하게 분사하기 위하여 구비될 수 있다.
상기 슬릿(136)은 상기 제1 및 제2 플레이트들(132, 134)의 하단 부위들로부터 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a) 사이를 경유하여 상방으로 연장할 수 있다. 특히, 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a)는 상기 세정액 공급 라인들(138a)이 연결된 부위보다 아래에 위치될 수 있다. 즉, 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a)는 상기 제1 및 제2 플레이트들(132, 134)의 중앙 부위와 상기 노즐 단부 사이에 배치될 수 있다.
즉, 상기 슬릿(136)은 상기 에어 공급 라인(139a)이 연결되는 제1 슬릿(136a), 상기 세정액 공급 라인(138a)이 연결되는 제2 슬릿(136b), 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a) 사이의 제3 슬릿(136c) 및 상기 제1 플레이트(132)와 제2 플레이트(134)의 하단 부위들 사이의 제4 슬릿(136d)을 포함할 수 있다.
상기 세정액과 에어는 상기 제2 슬릿(136b)에서 혼합될 수 있다. 여기서, 상기 제1 슬릿(136a), 제3 슬릿(136c) 및 제4 슬릿(136d)은 제1 폭을 가질 수 있으며, 상기 제2 슬릿(136b)은 제2 폭을 가질 수 있다. 이때, 상기 제2 폭은 제1 폭보다 큰 것이 바람직하다. 예를 들면, 상기 제1 폭은 약 0.05 내지 0.1mm 정도일 수 있으며, 상기 제2 폭은 0.1 내지 1.0mm 정도일 수 있다.
즉, 상기 세정액과 에어는 상기 제2 슬릿(136b) 내에서 혼합될 수 있으며, 상기 세정액의 압력과 상기 에어의 압력에 의해 세정 미스트가 형성될 수 있으며, 상기 세정 미스트는 상기 제3 슬릿(136c)과 제4 슬릿(136d)을 통해 상기 기판(G) 상으로 균일하게 분사될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 다수의 세정액 공급 라인들(138a)로부터 공급된 세 정액이 상기 다수의 에어 공급 라인들(139a)로부터 공급된 에어와 상기 제2 슬릿(136b) 내에서 혼합되므로 종래의 파이프 배관 내에서 형성되는 세정 미스트보다 균일한 세정 미스트가 형성될 수 있으며, 상기 세정 미스트는 상기 오목부(132a)와 돌출부(134a) 사이의 제3 슬릿(136c)을 경유하여 상기 제4 슬릿(136d)을 통해 상기 기판(G) 상으로 분사되므로 상기 기판(G) 상에는 보다 균일한 세정 미스트가 제공될 수 있다.
또한, 종래의 파이프 배관과 비교하여 상기 제2 슬릿(136b)의 공간이 상대적으로 작기 때문에 상기 분사 노즐(130)로 공급되는 세정액의 압력과 에어의 압력을 종래의 기술에서보다 낮게 할 수 있다. 따라서, 종래의 기술에서보다 작은 용량의 펌프가 사용 가능하므로 상기 기판 건조 장치(G)의 크기가 감소될 수 있으며 또한 기판 건조 장치(G)의 제조 비용이 절감될 수 있다.
추가적으로, 상기 기판(G) 상으로 보다 균일한 세정 미스트와 에어가 분사될 수 있으므로 종래의 이류체 분사 노즐과 비교하여 동일한 세정 효과를 얻기 위하여 요구되는 세정액 및 에어의 사용량이 감소될 수 있다.
한편, 도시하지는 않았지만 상기한 바와 같은 브러시 유닛(120) 및 세정액 분사 노즐(130)을 사용함으로써, 종래 대시 설치 개수를 줄이는 것이 가능함과 아울러 세정액의 사용량 역시 줄일 수 있다. 따라서 종래 보다 세정액의 공급을 위한 탱크 및 펌프의 개수를 줄이는 것이 가능할 것이다. 또한, 탱크 및 펌프의 개수를 줄임으로써 이들의 공급 라인을 간소화하는 것 역시 가능함은 자명할 것이다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 세정 장치는 브러시 유닛의 휘어짐을 감소시킬 수 있도록 내부에서 인장력을 형성할 수 있는 구성 즉, 브러시가 설치되는 브러시 샤프트를 관통하도록 텐션 샤프트가 구비되고 텐션 샤프트의 양단부에서 나사 조임을 통해 텐션 샤프트의 인장력을 증가시킴으로써 브러시 유닛의 휘어짐을 억제할 수 있어 세정력의 저하 없이 종래 대비 브러시 유닛의 수를 줄이는 것이 가능할 것이다. 이로 인해서 기판 세정 설비의 면적을 줄일 수 있다.
또한, 세정액의 소모량을 줄일 수 있는 세정액 분사 노즐을 사용하고, 이를 통해 세정액 공급 라인들을 간소화함으로써 세정액의 소비량을 줄이면서, 동시에 세정 설비의 면적을 줄일 수 있다.
이와 함께, 브러시 유닛의 개수를 줄이고, 세정액 분사 노즐에서 소모되는 세정액의 양을 줄임으로써, 세정액의 공급에 필요한 탱크 및 펌프 등을 감소시킬 수 있어 비용을 절감할 수 있으며, 이들의 공급 라인을 줄임으로써 세정 설비의 면적을 줄일 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 브러시 유닛을 나타내는 개략적인 도면이다.
도 3은 도 1에 도시된 세정액 분사 노즐을 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 4는 도 3에 도시된 세정액 분사 노즐을 나타내는 개략적인 측면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
10: 기판 세정 장치 100: 세정 용기
110: 이송 유닛 120: 브러시 유닛
121: 브러시 샤프트 122: 텐션 샤프트
123: 텐션 조절 너트 124: 브러시
125: 제1 베어링 126: 제2 베어링
130: 세정액 분사 노즐 132: 제1 플레이트
134: 제2 플레이트 136: 슬릿
138: 세정액 공급부 139: 에어 공급부
140: 샤워 노즐 150: 제1 에어 나이프
200: 건조 용기 210: 제1 에어 나이프

Claims (9)

  1. 세정 공간을 형성하는 세정 용기;
    상기 세정 용기 내에서 기판을 제1 수평 방향으로 이송하는 이송 유닛;
    상기 세정 용기 내에서 상기 기판을 브러싱하는 브러시 유닛; 및
    상기 세정 용기 내에서 세정액을 미스트 형태로 형성하여 상기 브러싱 처리된 기판으로 분사하는 세정액 분사 노즐을 포함하며,
    상기 브러시 유닛은
    원통 형상을 갖는 브러시 샤프트;
    상기 브러시 샤프트를 관통하도록 구비되는 텐션 샤프트;
    상기 브러시 샤프트의 양단부에 각각 구비되어 상기 텐션 샤프트와 나사 결합되며, 상기 나사 결합의 조임을 통해 상기 텐션 샤프트에 가해지는 인장력을 증가시키는 텐션 조절 너트; 및
    상기 샤프트의 외주면에 배치되는 기판 세정용 브러시를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 브러시 샤프트의 양단부들에 배치되며, 상기 브러시 샤프트를 회전 가능하게 지지하는 다수의 제1 베어링들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 브러시 샤프트의 내측에서 상기 텐션 샤프트와 상기 브러시 샤프트 사이에 개재되어 상기 텐션 샤프트와 상기 브러시 샤프트 사이를 지지하는 다수의 제2 베어링들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 세정액 분사 노즐에서 분사되는 세정액은 한 쌍의 플레이트들에 의해 형성되는 슬릿을 통해 상기 기판 상으로 분사되며, 상기 세정액을 미스트(mist) 형태로 형성하기 위한 에어가 상기 플레이트들 중 하나를 통해 상기 슬릿 내부로 공급되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급 라인은 상기 플레이트들 중 하나의 중앙 부위에 연결되며 상기 에어를 공급하기 위한 에어 공급 라인은 상기 세정액 공급 라인이 연결된 부위를 중심으로 상기 세정액이 분사되는 노즐 단부에 대향하는 부위에 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 플레이트들 중 하나에는 돌출부가 형성되어 있으며, 상기 플레이트들 중 다른 하나에는 상기 돌출부가 삽입되는 오목부가 형성되어 있고, 상기 슬릿은 상기 돌출부와 오목부 사이에서 연장하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 돌출부와 상기 오목부는 상기 플레이트들의 중앙 부위 와 상기 노즐 단부 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
  8. 제5항에 있어서, 상기 슬릿은 상기 세정액이 분사되는 부위의 제1 폭과 상기 세정액과 상기 에어가 혼합되는 부위의 제2 폭을 가지며, 상기 제2 폭은 상기 제1 폭보다 큰 것을 특징으로 기판 세정 장치.
  9. 제4항에 있어서, 상기 세정액이 분사되는 슬릿의 폭은 0.05 내지 0.1mm인 것을 특징으로 기판 세정 장치.
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