KR20100059228A - 약액 저장 장치 - Google Patents
약액 저장 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100059228A KR20100059228A KR1020080117924A KR20080117924A KR20100059228A KR 20100059228 A KR20100059228 A KR 20100059228A KR 1020080117924 A KR1020080117924 A KR 1020080117924A KR 20080117924 A KR20080117924 A KR 20080117924A KR 20100059228 A KR20100059228 A KR 20100059228A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- chemical liquid
- space
- chemical
- tank
- plate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
- B05C11/1042—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material provided with means for heating or cooling the liquid or other fluent material in the supplying means upstream of the applying apparatus
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Weting (AREA)
Abstract
Description
Claims (8)
- 약액을 저장하기 위한 내부 공간을 갖는 약액 탱크;상기 약액 탱크 내부에 배치되어 상기 약액 탱크를 지지하고, 상기 내부 공간을 제1 공간 및 제2 공간으로 구분하는 지지부재; 및상기 약액 탱크와 연결되고, 상기 제1 공간의 약액과 상기 제2 공간의 약액을 순환하기 위한 순환 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 지지부재는 상기 약액 탱크의 내부 상면에서 하면까지 수직으로 연장하는 제1 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 지지부재는,상기 제1 플레이트의 상단과 수직하도록 연결되며, 상기 약액 탱크의 내부 상면을 지지하는 제2 플레이트; 및상기 제1 플레이트의 하단과 수직하도록 연결되며, 상기 약액 탱크의 내부 저면을 지지하는 제3 플레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 제1 플레이트는 상기 제1 공간과 상기 제2 공간을 연결하는 개구를 갖는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 순환 유닛은,상기 제1 공간과 상기 제2 공간을 연결하는 제1 순환 라인;상기 제1 순환 라인 상에 배치되고, 상기 제1 공간의 약액을 상기 제2 공간으로 공급하는 제1 펌프;상기 제2 공간과 상기 제1 공간을 연결하는 제2 순환 라인; 및상기 제2 순환 라인 상에 배치되며, 상기 제2 공간의 약액을 상기 제1 공간으로 공급하는 제2 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 약액 탱크와 연결되고, 상기 약액의 온도를 조절하기 위한 온도 조절 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제6항에 있어서, 상기 온도 조절 유닛은,상기 약액을 가열하기 위한 히터; 및상기 약액을 냉각하기 위한 쿨러를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 온도 조절 유닛은,상기 약액 탱크 내부에 구비되어 상기 약액의 온도를 감지하는 센서; 및상기 센서의 감지 결과에 따라 상기 히터 및 상기 쿨러를 제어하여 상기 약액의 온도를 조절하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 저장 장 치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080117924A KR101036535B1 (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 약액 저장 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080117924A KR101036535B1 (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 약액 저장 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100059228A true KR20100059228A (ko) | 2010-06-04 |
KR101036535B1 KR101036535B1 (ko) | 2011-05-24 |
Family
ID=42360568
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080117924A KR101036535B1 (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 약액 저장 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101036535B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180068807A (ko) * | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 현대자동차주식회사 | 실러 순환 시스템 |
KR20180068806A (ko) * | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 현대자동차주식회사 | 실러 순환 시스템 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100864644B1 (ko) * | 2007-03-16 | 2008-10-23 | 세메스 주식회사 | 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법 |
-
2008
- 2008-11-26 KR KR1020080117924A patent/KR101036535B1/ko active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180068807A (ko) * | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 현대자동차주식회사 | 실러 순환 시스템 |
KR20180068806A (ko) * | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 현대자동차주식회사 | 실러 순환 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101036535B1 (ko) | 2011-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6509104B2 (ja) | 基板液処理装置 | |
TWI647007B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
TWI666066B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
JP6788542B2 (ja) | 基板液処理装置 | |
US11410861B2 (en) | Substrate liquid processing apparatus | |
KR20110132235A (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 및 이 기판 처리 방법을 실행하기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터로 판독 가능한 기록 매체 | |
KR20190001753A (ko) | 초임계유체 가열장치 및 이를 포함하는 기판처리장치 | |
KR101036535B1 (ko) | 약액 저장 장치 | |
KR102134949B1 (ko) | 처리액 공급 장치, 기판 처리 장치, 및 처리액 공급 방법 | |
KR101659317B1 (ko) | 유체 공급 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 시스템 | |
JP6436634B2 (ja) | 液状の膜材料の吐出装置 | |
JP4666474B2 (ja) | 熱処理装置 | |
KR100815966B1 (ko) | 기판 처리액의 온도를 조절하기 위한 장치 | |
KR100741475B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 습식 식각 및 세정 약품 가열용 인라인 히터 | |
JP6805048B2 (ja) | 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 | |
KR100864644B1 (ko) | 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법 | |
JP2007142262A (ja) | 基板処理装置 | |
KR100741478B1 (ko) | 반도체 공정액 항온기 | |
EP1862711A2 (en) | Processing apparatus and processing method | |
JP6688135B2 (ja) | 処理液供給装置 | |
JP4393332B2 (ja) | 熱処理装置 | |
KR101101295B1 (ko) | 약액 온도 제어 장치 | |
TWI786767B (zh) | 化學液體供應裝置及包括化學液體供應裝置之用以處理基板的設備 | |
KR20110080809A (ko) | 약액 리사이클링 장치 | |
KR20090044842A (ko) | 열변형 최소화를 위한 급속 냉각방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140508 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150430 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160503 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170426 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180503 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190503 Year of fee payment: 9 |