KR20100051672A - 고형화된 세정제 조성물 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 감압건조한 것, 또는 상기 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하여 얻어진 감압건조물에 상기 계면활성제를 첨가한 것을 특징으로 하는 고형화된 세정제 조성물이 제공된다.
[화학식 1]
Figure pct00016

상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.

Description

고형화된 세정제 조성물 및 이의 제조방법{Solidified detergent composition and method for producing the same}
본 발명은 항균성이 우수하고, 감압건조를 수행함으로써 물에 재용해될 수 있는 고형화된 세정제 조성물, 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
고령화 사회의 도래에 따라 치과재료, 특히 의치사용자가 증대하여 의치 세정제의 사용량도 증가하고 있지만, 다양한 조성의 의치 세정제가 사용되고 있다. 또, 생활환경에 대한 위생지향이 고취되고, 식기, 안경, 부엌 싱크대, 부엌 주변, 변기, 화장실 주변, 욕조, 욕실 주변, 세면대, 세면장 주변, 섬유제품 또는 피복의 위생향상, 항균향상에 대한 관심이 고조되고 있다.
이를 위해 사용되는 항균성 세정제를 성분계로서 분류하면, 과산화물, 차아염소산, 효소, 산, 생약, 은계 무기항균제 또는 소독약의 어느 하나가 주요 성분으로 사용되며, 혹은 이종 이상을 조합한 성분계로 분류될 수 있다. 그리고, 동일 성분계에 속하는 항균성 세정제에 있어서도 이의 구체적인 조성은 다양할 수 있다.
이렇게 다양한 항균성 세정제가 사용되고 있는 것은 항균성 세정제로서는 세정성능과 살균성능의 양자의 기능이 요구되기 때문에 각각의 작용을 발휘하는 성분을 조합하여 세정제가 구성되는 경우가 많다. 또한, 더욱 높은 세정성능 또는 살균성능, 혹은 단기간의 세정에 사용할 수 있는 항균성 세정제가 요구되고 있고 특히 의치 세정제에는 이러한 요구가 현저하다.
이러한 요구에 대하여, 예를들어 WO99/56714A1호 공보에 따르면, 라우릴 황산나트륨은 우수한 세정성능 및 발포작용을 지니지만, 종래의 의치세정제는 라우릴 황산나트륨의 효력이 조합되는 성분으로 인하여 감쇄하는 문제가 있었는데, 이를 해결하기 위하여, 라우릴 황산나트륨의 성능을 방해하지 않으면서 살균성능을 향상시킬 수 있는 라우릴 황산나트륨과 은, 구리, 아연 이온 등의 항균성 금속 이온을 함유하는 의치세정제를 개시하고 있다.
특개 2001-288062호 공보에 따르면, 의치 플라그의 제거에는 산성의 의치세정제가 바람직하지만, 의치세정제가 산성인 경우 잇몸 소재가 변형되거나 변색되고, 금속 소재가 흑변할 우려가 있기 때문에 많은 세정제가 중성을 유지하도록 조정되며, 의치세정제의 세정성능이 감쇄하는 문제가 있었다. 이를 해결하기 위하여, 특개 2001-288062호 공보는 산 및 과황산염을 함유하는 산성 속용부(acidic fast-dissolving portion)와, 과붕산염 또는 과탄산염 중 적어도 1종 이상과 탄산염을 함유하는 알칼리성 서용부(alkaline slow-dissolving portion)를 지닌 입상 또는 정제상의 의치 세정제에 관한 것으로, 의치 세정제에 배합되는 물의 액성을 낮은 pH에서 높은 pH까지 변화시킬 수 있는 의치 세정제가 개시되어 있다.
특개 2004-209241호 공보에는 옥타데실트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄클로라이드 등의 항균성 물질을 표면에 고정화한 항균성 소재가 개시되어 있고, 의치, 임플란트, 크라운, 브릿지, 교정용 브라켓, 와이어 등 치과용도에 사용할 수 있는 것도 개시되어 있지만, 이러한 항균제 성분을 함유하는 세정제 조성물 그 자체는 개시되어 있지 않다.
이러한 세정제의 개량에 의해 세정성능 및 살균성능이 향상된 세정제를 얻을 수 있었다. 그러나, 종래 세정제는 특히 의치, 임플란트, 크라운, 브릿지, 교정용 브라켓, 치과용 와이어 등의 치과 소재를 세정할 수 있을지라도 특히 의치를 구강 내에 장착하여 사용할 때 의치 표면에 재차 의치 플라그가 형성되는 것을 저해할 수 없는 문제가 있었다. 또한, 세정 소재의 세정성능, 특히 의치 세정성능을 향상시킬 수 있는 세정제가 요구되고 있다. 또, 식기, 안경, 부엌 싱크대, 부엌 주변, 변기, 화장실 주변, 욕조, 욕실 주변, 세면대, 세면장 주변, 섬유제품 또는 피복의 항균용 세정제에 관해서도 동일한 항균성능, 세정성능 및 이의 지속성에 관한 성능이 요구되고 있다.
또, 특개 2007-146134호 공보는 상기 문제점을 감안하여 세정성능 및 살균성능이 보다 우수하고, 세정된 피세정물품의 항균성능, 세정성능 및 이의 지속성을 개선하는 것을 목적으로 임플란트, 크라운, 브릿지, 교정용 브라켓, 치과용 와이어 등의 치과 소재, 특히 의치에 관해서는 구강 내에 장착할 때 의치 표면에 의치 플라그가 재형성되는 것을 저해할 수 있는 항균성능과 세정성능을 모두 구비한 세정제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 특히 의치사용자에 특별한 부담이나 불쾌감을 주지 않으면서 의치에 용이하게 항균성능을 부여할 수 있는 의치 세정제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
또한, 특개 2007-146134호 공보는 식기, 안경, 부엌 싱크대, 부엌 주변, 변기, 화장실 주변, 욕조, 욕실 주변, 세면대, 세면장 주변, 섬유제품 또는 피복의 세정제에 있어서도 동일한 항균성능, 세정성능 및 이의 지속성에 관한 요구에 대응할 수 있는 세정제 조성물을 제공하는 것도 목적으로 하고 있다.
그러나, 특개 2007-146134호 공보에 기재된 항균 세정제는 액체상태로만 존재하므로 고형화되면 항균성 실릴계 화합물이 폴리머화되어 버려 세정제로서 재용해될 수 없었다. 그러므로, 본 발명의 과제는 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄클로라이드 등의 액체 형태 항균성 세정제를 분말·고형화하여 수도물에 재용해될 수 있게 함으로써 특개 2007-146134호 공보에 기재된 항균 세정제의 분말 세제 및 고형 세제로의 활용을 가능하게 하는 것이다.
상기 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 감압건조하는 것; 또는 상기 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하여 얻어진 감압건조물에 상기 계면활성제를 첨가한 것을 특징으로 하는 고형화된 세정제 조성물이 제공된다:
Figure pct00001
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
본 발명에 따르면, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드 등의 규소 함유 화합물을 함유하는 세정제 조성물의 고형화(분말화)가 달성되었고, 분말 세정제나 고형 세정제로서 상기 항균제를 사용하는 것이 가능하게 되었으며, 항균효과를 지닌 분말 세정제나 고형 세정제가 제공되었다.
도 1은 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드를 고형화시킨 것에 계면활성제를 첨가하지 않고 재용해시킨 반응계, 양이온성 계면활성제를 첨가하여 재용해시킨 반응계, 비이온성 계면활성제를 첨가하여 재용해시킨 반응계에 있어서, 각 항균제의 재용해액의 항균성을 평가한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 2는 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드에 계면활성제를 첨가하지 않은 용액, 양이온성 계면활성제를 첨가한 용액, 비이온성 계면활성제를 첨가한 용액에 있어서, 각 반응계의 용액을 동결건조하고 이의 재용해액의 항균성을 평가한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드에 계면활성제를 첨가하지 않은 용액, 양이온성 계면활성제를 첨가한 용액, 비이온성 계면활성제를 첨가한 용액에 있어서, 각 항균제의 재용해액으로 처리한 유리의 항균성을 평가한 결과를 나타낸 그래프이다.
본 발명에 따르면, 항균성을 지니며, 소재 표면 상에서의 고정화가 가능한 제4급 암모늄염을 지닌 실란 화합물인 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드(이하, 'QAS'라 약칭함) 등의 규소 함유 화합물을 세정제의 주성분으로 배합하였다. 그리고, 이러한 세정제를 이용하여 매일 의류·식기·화장실·욕실 등을 세정함으로써 표면의 먼지를 제거함과 동시에 QAS 등의 규소 함유 화합물이 고정화되어 세정하면 할수록 장기간에 걸쳐 항균효과를 얻을 수 있고, 이러한 효과를 달성하였다.
다만, QAS는 수용액 중에서 장기간 보존하는 경우에 겔화되어 효과가 저하되는 것으로 알려져 있다. 게다가, QAS는 액체로서 존재하기 때문에 이의 고형화가 일반적으로 곤란하고, 따라서 QAS를 세정제로서 실용화하는 것에 방해가 되었다. 따라서, 본 발명에서는 QAS의 원액에 양이온 계면활성제 또는 비이온 계면활성제를 첨가하고, 이의 보존작용에 의해 용액성분의 안정화를 도모하는 한편, QAS의 용매 중에 에탄올 또는 t-부틸알코올을 첨가하여 용매성분인 메탄올과 공비하기 쉬운 상태를 만들어서 저온 하(약 -30℃에서 -60℃)에서 감압건조하기 때문에 그대로 용액상태에서만 존재할 수 밖에 없었던 항균성 세정제를 고형화(분말화)하는 것이 가능하였다. 또, 고형화(분말화)한 본 발명의 세정제 조성물은 수도물에 용이하게 용해될 수 있다. 또한, 세정제를 고형화함으로써 세제의 용적을 100분의 1 이하로 감소시킬 수 있다는 잇점도 있다. 예를들어, 본 세정제를 최종농도로 20배 희석하여 세제로서 사용한 경우, 만약 약 10L의 세정용 물에 넣었을 경우에는 500mL의 본 세제가 필요하게 된다. 또한, 의치 세정제의 경우에도 200mL에서 20배 희석되도록 조정한 경우에는 본 세정제가 10mL 필요하지만, 10mL라는 용량은 현재의 고형 의치 세정제와 비교하여 상당히 크다. 따라서 제품의 최종 형태의 컴팩트화를 도모하기 위하여 고형화는 필수의 조건이며, 이와 동시에 산업상의 이용가치도 크게 향상되었다. 따라서, 소재 표면 상에서의 고정화가 가능한 항균성 규소 화합물인 QAS를 고형화(분말화)하고, QAS를 세정제로서 실용화한 점에 본 발명의 가장 현저한 특징이 있다.
본 발명에서 사용가능한 항균성 규소 함유 화합물로서, 실시예에서 사용한 QAS가 가장 바람직하지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명에서 사용할 수 있는 항균성 규소 함유 화합물의 예는 이하 상세하게 기술한다.
본 발명의 감압건조한 세정제 조성물은 QAS 등의 항균성 규소 함유 화합물에 양이온성 계면활성제 또는 비이온성 계면활성제 등의 계면활성제를 첨가한 용액을 감압건조함으로써 얻어질 수 있다. 또, QAS의 원액은 용매로서의 메탄올에 용해시킨 형태로 시판되고 있지만 상기에서 설명한 공비의 관점에서 계면활성제 외 에탄올이나 t-부틸알코올 등의 저급 알코올을 첨가하는 것이 본 발명에서 바람직하다.
본 발명의 세정제 조성물에 있어서는 계면활성제가 존재함으로써 감압건조한 세정제 조성물의 재용해가 용이하게 된다. 또한, 항균성이라는 측면에서도 하기의 실시예에서 서술하는 바와 같이 계면활성제가 존재하지 않은 QAS 원액의 동결건조물을 재용해시킨 용액에서는 항균활성이 소실된다는 것을 발견하였다. 또한, 본 발명의 감압건조한 세정제 조성물은 물에서의 재용해성이 우수하게 되며, 용해 후의 겔화 등을 야기하지 않아 사용 시 어떠한 지장을 초래하지 않았다. 또한, 본 발명의 감압건조물인 세정제 조성물을 물에 재용해한 용액에 관하여 검토한 결과, QAS의 원액정도에 필적하는 항균성을 나타내었다.
항균성 규소 함유 화합물, 양이온성 계면활성제 또는 비이온성 계면활성제, 및 바람직하게는 저급 알코올을 함유하는 혼합액을 감압건조함으로써 본 발명의 고형화한 세정제 조성물을 얻을 수 있었다. 감압건조함으로써 항균성 규소 함유 화합물을 용해하는 용매를 제거할 수 있다. 또, 항균성 규소 함유 화합물이 용해된 용액을 동결하고, 감압 하에서 동결건조하는 것은 본 발명에 있어서 바람직한 태양이다. 감압건조의 조건은 필요에 따라 적절하게 개량할 수 있지만, 약 -30℃에서 -60℃의 저온에서 감압건조하는 것이 바람직하며, 이렇게 함으로써 항균성 성분 등의 분해를 방지할 수 있다.
본 발명의 고형화한 세정제 조성물은, (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 감압건조하는 것; 또는 상기 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하여 얻어진 감압건조물에 상기 계면활성제를 첨가한 것을 특징으로 한다:
Figure pct00002
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
또한, 본 발명은 고형화된 세정제 조성물의 제조방법도 제공한다. 본 발명의 하나의 태양으로써 항균성 규소 함유 화합물에 양이온성 계면활성제 또는 비이온성 계면활성제를 첨가한 후에 감압건조를 할 수 있다. 또한, 본 발명의 다른 태양으로써 항균성 규소 함유 화합물을 감압건조한 후에 양이온성 계면활성제 또는 비이온성 계면활성제를 첨가할 수도 있다.
따라서, 본 발명은 (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 제조하는 공정, 및 상기 용액을 감압건조하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물의 제조방법도 제공한다:
Figure pct00003
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
또한, 본 발명은 (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하는 공정, 및 (b) 상기 공정에서 얻어진 감압건조물에 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물의 제조방법도 제공한다:
Figure pct00004
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
또한, 본 발명은 항균성 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법도 제공한다. 본 발명의 하나의 태양으로써 항균성 규소 함유 화합물에 양이온 계면활성제 또는 비이온 계면활성제를 첨가한 후에 감압건조할 수 있다. 또한, 본 발명의 다른 태양으로써, 항균성 규소 함유 화합물을 감압건조한 후에 양이온 계면활성제 또는 비이온 계면활성제를 첨가할 수도 있다.
또한, 본 발명은, (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법에 있어서, 상기 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 제조하는 공정, 및 상기 용액을 감압건조하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는, 상기 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법도 제공한다:
Figure pct00005
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
또한, 본 발명은, (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법에 있어서, 상기 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하는 공정, 및 상기 공정에서 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가하는 공정을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는, 상기 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법도 제공한다:
Figure pct00006
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타낸다.
이하에서 고형화된 세정제 조성물의 구성성분에 관하여 상세하게 설명한다. 본 발명에서 사용된 규소 함유 화합물은 하기 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물이다:
Figure pct00007
상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온(유기 카르본산 이온)을 나타낸다.
게다가, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a) 중에서 바람직한 태양은 상기 일반식 (1)의 R1은 탄소원자수 10 내지 25의 알킬기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기를 나타내며, R4는 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬렌기를 나타내며, R5, R6 및 R7은 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기 카르보닐옥시 이온(유기 카르보닐산 이온)인 규소 함유 화합물일 수 있다.
R1의 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기로서는, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 헥사데실기, 헵타데실기, 옥타데실기, 노나데실기, 에이코실기, 운에이코실기, 도에이코실기, 트리에이코실기, 테트라에이코실기, 펜타에이코실기 등을 들 수 있다.
R2 및 R3의 같거나 다를 수 있는 저급 탄화수소기로서는, 예를들어 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 시클로헥크실기, 페닐기, 토릴기 등을 들 수 있다.
R4의 저급 알킬렌기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기 등을 들 수 있다.
R5, R6 및 R7은 같거나 다를 수 있는 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기일 수 있고, 구체적으로는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기 등을 들 수 있다.
X로서는 염화 이온, 브롬 이온 등의 할로겐 이온; 메틸카르보닐옥시 이온(아세테이트 이온), 에틸카르보닐옥시 이온(프로피오네이트 이온), 페닐카르보닐옥시 이온(벤조에이트 이온) 등의 유기 카르보닐옥시 이온(유기 카르본산 이온)을 예로 들 수 있다.
규소 함유 화합물 (a)로서 구체적으로는 다음의 화합물, 즉 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 옥타데실디에틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(2-트리메틸실릴에틸)암모늄 클로라이드, 옥타데실디프로필(4-트리메톡시실릴부틸)암모늄 아세테이트, 옥타데실디메틸(3-트리에톡시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리이소프로폭시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리에틸시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리이소프로필시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 헵타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 헵타데실디이소프로필(2-트리에톡시실릴에틸)암모늄 클로라이드, 헥사데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 헥사데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 아세테이트, 펜타사데실디메틸(3-트리에톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드를 들 수 있다.
본 발명에서 사용된 양이온성 계면활성제(b)는 하기 일반식 (2)로 표시되는 양이온성 계면활성제일 수 있다:
Figure pct00008
상기 화학식에서, R11은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R12, R13 및 R14는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타낸다. 다만 상기 규소 함유 화합물 (a)을 제외한 양이온성 계면활성제 (b11) 및/또는 N-코코일-아르기닌 에틸 에스테르 피리돈 카르본산염(12)인 것이 바람직하다.
또한, 상기 일반식 (2)로 표시된 양이온성 계면활성제 (b11) 중에서는 R11는 탄소원자수 10 내지 25의 알킬기를 나타내며, R12, R13 및 R14는 같거나 다를 수 있는 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기를 나타내며, Y가 할로겐 이온 또는 유기 카르보닐옥시 이온(유기 카르본산 이온)인 것이 바람직하다.
상기 일반식 (2)로 표시되는 양이온성 계면활성제 (b11)의 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기 R11로서는, 상기 규소 함유 화합물 (a)의 일반식 (1)의 R1으로서 예시한 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기의 예와 동일하다.
상기 일반식 (2)로 표시되는 양이온성 계면활성제 (b11)의 R12, R13 및 R14로서는, 상기 규소 함유 화합물 (a)의 일반식 (1)의 R2 및 R3로서 예시한 저급 탄화수소기의 예와 동일하다.
상기 일반식 (2)로 표시되는 양이온성 계면활성제 (b11)로서 구체적으로는, 다음의 화합물 즉, 데실트리메틸암모늄클로라이드, 데실트리에틸암모늄아세테이트, 도데실트리메틸암모늄아세테이트, 도데실트리이소프로필암모늄브로마이드, 트리데실트리에틸암모늄프로마이드, 테트라데실트리메틸암모늄클로라이드, 테트라데실트리에틸암모늄클로라이드, 테트라데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 펜타데실트리메틸암모늄클로라이드, 펜타데실트리에틸암모늄클로라이드, 펜타데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드, 헥사데실트리에틸암모늄클로라이드, 헥사데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 옥타데실트리메틸암모늄클로라이드, 옥타데실트리에틸암모늄클로라이드, 옥타데실트리-n-프로필암모늄클로라이드 등을 들 수 있고, 특히 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드가 가장 바람직하다.
본 발명에서 사용한 비이온성 계면활성제 (b2)는 폴리옥시에틸렌 단위 또는/ 폴리옥시프로필렌 단위를 함유하는 폴리옥시알킬렌 글리콜의 알킬에테르 또는 지방산 에스테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 지방산 모노글리세라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 비이온성 계면활성제일 수 있다.
비이온성 계면활성제 (b2)로서 구체적으로는, 폴리에틸렌글리콜의 모노알킬렌에테르, 폴리옥시에틸렌 단위와 폴리옥시프로필렌 단위의 양자를 함유하는 폴리알킬렌 글리콜의 모노알킬에테르, 솔비탄라우레이트, 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트 및 지방산 모노글리세라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 비이온성 계면활성제를 들 수 있고, 특히 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트는 가장 바람직하다.
또한, 공비의 관점에서 본 발명의 세정제 조성물에 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 첨가하는 것은 바람직하다. 상기 저급 알코올은 보다 바람직하게는 탄소수 5개 이하의 저급 알코올이며, 이의 구체적인 예로서는 에탄올, t-부틸알코올, 프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올 및 펜틸알코올 등을 들 수 있다. 특히, 에탄올과 t-부틸알코올이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 항균성 규소 함유 화합물(예를들어, QAS 원액)의 용액 1mL당 첨가하는 양이온성 계면활성제(예를들어, 헥사데실트리메틸암모늄)의 양은 0.01mg∼1mg일 수 있고, 바람직하게는 0.05mg∼0.5mg일 수 있고, 가장 바람직하게는 0.1mg이다. 또한, 본 발명에 있어서, 항균성 규소 함유 화합물(예를들어, QAS 원액)의 용액 1mL당 첨가하는 비이온성 계면활성제(예를들어, 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트)의 양은 0.05mL∼10mL일 수 있고, 바람직하게는 0.1mL∼5mL일 수 있고, 가장 바람직하게는 1mL이다. 그러나, 계면활성제의 첨가량이 이러한 범위 에 의해 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 발명에 있어서 항균성 규소 함유 화합물(예를들어, QAS 원액)의 용액 1mL당 첨가하는 저급 알코올(예를들어, 에탄올, t-부틸알코올)의 양은 0.1mL∼10mL일 수 있고, 바람직하게는 0.5mL∼2mL일 수 있고, 가장 바람직하게는 1mL이다. 그러나, 저급 알코올의 첨가량이 이러한 범위에 의해 한정되는 것은 아니다.
본 발명을 이하 실시예에 따라 보다 상세하게 설명하지만, 이러한 실시예가 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.
실시예 1: 고형화의 시도와 용해성의 평가
항균성 세정제인 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드(이하, QAS)의 원액(메탄올 용액)에 양이온성 계면활성제인 헥사데실트리메틸암모늄(이하, HD)을 첨가하고 또한 공비시키기 위하여 아세톤 또는 에탄올을 첨가한 시료용액을 제조하고, 70℃에서 공비시켰지만 고형화에는 도달하지 않았다. 얻어진 겔화물에 수도물을 5mL 첨가하였지만, 많은 시료에서 겔화가 고농도로 진행되어 수분에서 1시간 이내에 고형화되어 실용화에는 적당하지 않았다(표 1).
한편, 에탄올을 첨가한 경우에는 이러한 현상이 관찰되지 않았다(표 1). 따라서 에탄올 첨가군과 동일한 조건에서 에탄올 대신 t-부틸알코올을 사용한 것을 제조하고, 15시간 동결건조하였다. 그 결과, 양 시료에서 동결건조에 의한 고형화(분말화)가 가능하였다. 또한, 수도물에서의 용해성도 양호하였고, 용해 후에 겔화 등이 야기되는 것도 없었다(표 2). 또한, 에탄올 또는 t-부틸알코올을 첨가하지 않고 HD만을 첨가한 반응계에서도 수도물에서의 용해성은 양호하였고 용해 후 겔화 등이 야기되지 않았다(표 2). HD 대신 비이온성 계면활성제인 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트(이하, PO)를 첨가한 반응계에서도 검토를 수행하였으며, 마찬가지로 양호한 결과를 얻었다. 한편, QAS 원액을 1시간 또는 5시간 동안 동결건조한 경우에는 용해 후에 겔의 고형화가 관찰되었다(표 2).
또한, QAS 원액을 15시간 동결건조한 후에 HD 또는 PO를 첨가한 경우에도 용해 후에 겔화 등이 야기되지 않았고, 양호한 성질을 나타내었다(표 3). 한편, HD, PO 등의 계면활성제를 첨가하지 않은 경우에는 용해 후에 겔화가 확인되었다.
계면활성제 용매첨가 70℃에서의 공비 수도물에서의 용해성
QAS 원액 없음 없음 겔화·고형화 겔→고형화
QAS HD 없음 겔화·고형화 겔→고형화
QAS HD 아세톤 겔화·고형화 겔→고형화
QAS HD 에탄올 겔화·고형화 가볍게 겔화되었으나, 고형화되지 않음
계면활성제 용매첨가 동결건조 15분간 수도물에서의 용해성 용해후의 거동
QAS 원액 없음 없음 분말화 (1시간) 문제없음 겔고형화
QAS 원액 없음 에탄올 분말화 (5시간) 문제없음 겔고형화
QAS PO 없음 분말화 문제없음 문제없음
QAS HD 없음 분말화 문제없음 문제없음
QAS HD 에탄올 분말화 문제없음 문제없음
QAS HD t-부틸알코올 분말화 문제없음 문제없음
계면활성제 용매첨가 동결건조 15분간 수도물에서의 용해성 용해후의 거동
QAS 원액 없음 없음 분말화 문제없음 겔고형화
QAS 원액 없음 없음 분말화후 PO 문제없음 문제없음
QAS 원액 없음 없음 분말화후 HD 문제없음 (약간 백탁) 문제없음
실시예 2: 항균제의 재용해액에 관한 항균성의 평가
QAS 원액을 고형화하고, 그대로 또는 계면활성제를 첨가하여 재용해한 시료의 항균성에 대하여 평가하였다. 즉, QAS 원액 1mL를 동결건조한 후에 고형화하고, 이러한 고형화물을 (1) 그대로(QAS만), (2) QAS 고형화물에 PO 1mL를 첨가한 것, (3) QAS 고형화물에 HD 0.1mg을 첨가하여 준비하고, 상기 (1) 내지 (3)을 10mL의 증류수(MQ)에서 다시 용해하였다. 게다가, 이때 용액을 10배 희석하여 사용하였다. 각각의 재용해액을 10배 씩 단계 희석한 시료 900μL에 1×106 세포/mL로 조정된 C. albicans IFO 1385주의 균액을 40μL 가하고, 다시 1mL의 사블로 배지를 첨가하고, 37℃에서 72시간 동안 배양하여 항균성을 검토하였다.
눈으로 판정한 결과, 상기 (1)의 항균성은 오른쪽 하단의 대조군(증류수)과 거의 유사하여 항균성이 전혀 확인되지 않았다. 상기 (2)에 있어서는 10배 희석의 용액에서는 약하지만 항균성이 인정되었지만, 이것 이상의 희석 배율에서는 항균성이 확인되지 않았다. 상기 (3)의 용액에서는 10배 내지 1000배까지의 희석배율에서도 높은 항균성이 인정되었다.
이러한 결과를 정량화한 것이 도 1이다. 상기 (1)의 용액에서는 항균성이 전혀 확인되지 않은 반면(왼쪽 그래프 참조), 상기 (2)의 용액의 경우에는 10배 희석용액에서 발육한 균수는 대조군의 약 10분의 1로 억제되었고(가운데의 그래프 참조), 100배, 1000배 희석용액에서도 약하지만 유의한 억제효과를 얻었다. 상기 (3)의 용액의 경우, 1000배 희석까지 균의 유의한 발육이 확인되지 않은 채 상당히 높은 항균성을 나타내었다(오른쪽 그래프 참조).
QAS 원액에 계면활성제를 첨가하지 않거나, 혹은 계면활성제를 첨가하고 동결건조 및 재용해한 액의 항균성에 대하여 평가하였다. (1) QAS 원액 1mL, (2) QAS 원액 1mL + PO 1mL, (3) QAS 원액 + HD 0.1mg의 각 시료를 조제하고, 상기 (1) 내지 (3)의 시료를 동결건조한 후에 고형화하고, 10mL의 증류수에 다시 용해하였다. 그리고, 이때 용액을 10배 희석하여 사용하였다. 각각의 재용해액을 10배씩 단계 희석한 샘플 900μL에 1×106 세포/mL로 조정된 C. albicans IFO 1385주의 균액을 40μL 가하고, 다시 1mL의 사블로 배지를 첨가하고, 37℃에서 72시간 동안 배양하여 항균성을 검토하였다.
그 결과를 도 2의 그래프에 나타내었다. 상기 (1)의 용액에서는 예상한 대로 항균성이 전혀 확인되지 않았다(왼쪽 그래프 참조). 한편, 상기 (2)의 용액의 경우에는 104 희석액까지 균의 유의한 발육이 확인되지 않아 상당히 높은 항균성을 나타내었다(가운데 그래프 참조). 상기 (3)의 용액의 경우에도 105 희석액까지 균의 유의한 발육이 확인되지 않은 채 역시 상당히 높은 항균성을 나타내었다(오른쪽 그래프 참조).
실시예 3: 항균제의 재용해액으로 처리된 유리에 관한 항균성의 평가
(1) QAS 원액 1mL, (2) QAS 원액 1mL + PO 1mL, (3) QAS 원액 + HD 0.1mg의 각 샘플을 동결건조하여 고형화하고, 10mL의 증류수(MQ)에서 다시 용해하였다. 이때 용액을 10배 희석하여 사용하였다.
각 용액 중에 22×22×0.4의 유리 시험편을 30분 동안 침적시켰다. 각각을 QAS 처리 유리, PO 처리 유리, HD 처리 유리로 명명하였다. 각 처리 유리를 5분 동안 흐르는 물에서 세정·건조한 후, 6웰 플레이트 저면에 놓인 유리 표면에 1×105 세포/mL로 조정된 C. albicans IFO 1385주의 균액을 40μL 가하고, 다시 5mL의 사블로 배지를 첨가하고, 37℃에서 72시간 동안 배양하여 항균성을 검토하였다.
어떠한 처리도 하지 않은 미처리 유리와, QAS에 HD를 가한 용액을 고형화한 후에 재용해한 용액(상기 (3)의 시료)에 의한 처리를 비교하였다. 미처리 유리의 표면에서도 발육한 균의 콜로니가 관찰되었지만, 이에 비해 QAS에 HD를 첨가하고 동결건조함으로써 고형화한 것을 재용해한 용액(상기 (3)의 용액)에서 항균처리한 유리에서는 균의 발육을 전혀 확인할 수 없었다.
도 3은 상기 (1) 내지 (3) 중의 용액에 의해 처리한 유리의 항균성을 정량화한 그래프이다. QAS의 원액을 고형화, 재용해한 액(상기 (1))에 의한 처리에서는 항균성은 전혀 확인되지 않았다. 이에 비해 PO를 첨가하여 고형화한 후에 재용해한 액(상기 (2))에서는 효과는 낮지만 유의한 항균성을 나타내었고, 약 반 이하로 균수가 감소하였다. HD를 첨가하여 고형화한 후에 재용해한 액(상기 (3))의 항균성은 특히 높았고 균 자체의 유의한 발육을 확인할 수 없었다.
이상의 결과를 종합하면, QAS 원액은 고형화가 용이하지만, 고형화 후에 재용해하면 항균성이 소실되었다. 또, QAS에 PO를 첨가하여 고형화하고 재용해한 경우, 재용해한 액 자체에서는 약하지만 유의한 항균성을 확인하였다. 게다가 이러한 재용해한 용액으로 처리한 유리에서도 유의한 항균성을 확인하였다. 한편, QAS에 HD를 첨가하여 고형화하고 재용해한 경우, 재용해한 용액 자체와 이러한 재용해한 용액으로 처리한 유리에서도 상당히 높은 항균성을 나타내었다.
본 발명에 따르면, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드 등의 규소 함유 화합물을 함유하는 세정제 조성물의 고형화(분말화)가 달성되었고, 분말 세정제나 고형세정제에 QAS를 사용할 수 있게 되었다. 따라서, 본 발명에 따르면 항균효과를 부가한 분말세정제나 고형세정제가 제공되었다. 본 발명의 세정제 조성물은 고형화되었기 때문에 분말세제 및 고형세제에 이용될 수 있으며, 수도물에서의 재용해성이라는 점에서도 우수하다. 또, 고형화에 따른 세정제 조성물의 최종제품의 컴팩트화도 달성할 수 있고, 상기 세정제 조성물의 산업상의 유용성이 크게 증대되었다.

Claims (26)

  1. (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 감압건조한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pct00009

    상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄.
  2. (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물을 함유한 용액을 감압건조하고, 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물:
    [화학식 2]
    Figure pct00010

    상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 감압건조를 -30℃ 내지 -60℃에서 수행한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a)의 R1은 탄소원자수 10 내지 25의 알킬기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기를 나타내며, R4는 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬렌기를 나타내며, R5, R6 및 R7은 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기 카르보키닐옥시 이온인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a)이, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 옥타데실디에틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(2-트리메틸실릴에틸)암모늄 클로라이드, 옥타데실디프로필(4-트리메톡시실릴부틸)암모늄 아세테이트, 옥타데실디메틸(3-트리에톡시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리이소프로폭시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리에틸시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 옥타데실디메틸(3-트리이소프로필시실릴프로빌)암모늄 클로라이드, 헵타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 헵타데실디이소프로필(2-트리에톡시실릴에틸)암모늄 클로라이드, 헥사데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드, 헥사데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 아세테이트 및 펜타사데실디메틸(3-트리에톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 규소 함유 화합물인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 규소 함유 화합물 (a)이, 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 계면활성제 (b1)가 하기 일반식 (2)로 표시되는 양이온 계면활성제 (b11) 및/또는 N-코코일-아르기닌 에틸 에스테르 피리돈 카르본산염(b12)인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물:
    [화학식 3]
    Figure pct00011

    상기 화학식에서, R11은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R12, R13 및 R14는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타냄.
  8. 청구항 7에 있어서, 상기 일반식 (2)로 표시되는 상기 양이온 계면활성제 (b11)의 R11는 탄소원자수 10 내지 25의 알킬기를 나타내며, R12, R13 및 R14는 같거나 다를 수 있고 탄소원자수 1 내지 6의 저급 알킬기를 나타내며, Y가 할로겐 이온 또는 유기 카르보닐옥시 이온인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  9. 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서, 상기 양이온 계면활성제 (b11)가 데실트리메틸암모늄클로라이드, 데실트리에틸암모늄아세테이트, 도데실트리메틸암모늄아세테이트, 도데실트리이소프로필암모늄브로마이드, 트리데실트리에틸암모늄프로마이드, 테트라데실트리메틸암모늄클로라이드, 테트라데실트리에틸암모늄클로라이드, 테트라데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 펜타데실트리메틸암모늄클로라이드, 펜타데실트리에틸암모늄클로라이드, 펜타데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드, 헥사데실트리에틸암모늄클로라이드, 헥사데실트리-n-프로필암모늄클로라이드, 옥타데실트리메틸암모늄클로라이드, 옥타데실트리에틸암모늄클로라이드 및 옥타데실트리-n-프로필암모늄클로라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한종인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  10. 청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서, 상기 양이온 계면활성제 (b1)가 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  11. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비이온 계면활성제 (b2)가 폴리옥시에틸렌 단위 및/또는 폴리옥시프로필렌 단위를 함유하는 폴리옥시알킬렌 글리콜의 알킬에테르 또는 지방산 에스테르, 솔비탄 지방산 에스테르 및 지방산 모노글리세라이드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 비이온성 계면활성제인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  12. 청구항 1 내지 청구항 6, 청구항 11 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비이온성 계면활성제 (b2)가 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  13. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서, 상기 규소 함유 화합물 (a)로서 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄클로라이드, 및 상기 양이온 계면활성제 (b1)로서 헥사데실트리메틸암모늄클로라이드를 함유하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  14. 청구항 1 내지 청구항 6, 청구항 11 내지 청구항 12 중 어느 한 항에 있어서, 상기 규소 함유 화합물 (a)로서 옥타데실디메틸(3-트리메톡시실릴프로필)암모늄클로라이드, 및 상기 비이온 계면활성제 (b2)로서 폴리옥시에틸렌솔비탄모노라우레이트를 함유하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  15. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서, 필요에 따라 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 추가로 함유하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  16. 청구항 15에 있어서, 상기 저급 알코올이 탄소수 5 이하의 알코올인 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  17. 청구항 15 내지 청구항 16에 있어서, 상기 저급 알코올이 에탄올, t-부틸알코올, 프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올 및 펜틸알코올로 이루어진 군에서 선택된 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  18. 청구항 1 내지 청구항 17 중 어느 한 항에 있어서, 수도물에 재용해가능한 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물.
  19. (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 제조하는 공정, 및
    상기 용액을 감압건조하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물의 제조방법:
    [화학식 4]
    Figure pct00012

    상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄.
  20. (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 용액을 감압건조하는 공정, 및
    상기 공정에서 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 고형화된 세정제 조성물의 제조방법;
    [화학식 5]
    Figure pct00013

    상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄.
  21. 청구항 19 또는 청구항 20에 있어서, 상기 감압건조를 -30℃ 내지 -60℃에서 수행한 것을 특징으로 하는, 제조방법.
  22. 청구항 19 내지 청구항 21 중 어느 한 항에 있어서, 필요에 따라 상기 용액에 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 추가로 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 제조방법.
  23. (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법에 있어서, 상기 규소 함유 화합물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가한 용액을 제조하는 공정, 및
    상기 용액을 감압건조하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 상기 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법:
    [화학식 6]
    Figure pct00014

    상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄.
  24. (a) 일반식 (1)로 표시된 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법에 있어서, 상기 규소 화합물의 용액을 감압건조하는 공정, 및
    상기 공정에서 얻어진 감압건조물에, (b) 양이온 계면활성제(단, 상기 규소 화합물을 제외함) (b1) 및 비이온 계면활성제 (b2)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한 종의 계면활성제를 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 상기 규소 함유 화합물의 겔화를 방지하는 방법:
    [화학식 7]
    Figure pct00015

    상기 화학식에서, R1은 탄소원자수 6 이상의 탄화수소기를 나타내며, R2 및 R3는 같거나 다를 수 있고, 저급 탄화수소기를 나타내며, R4는 2가의 저급 탄화수소기를 나타내며, R5, R6 및 R7는 같거나 다를 수 있고, 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기를 나타내며, X는 할로겐 이온 또는 유기카르보키닐옥시 이온을 나타냄.
  25. 청구항 23 또는 청구항 24에 있어서, 상기 감압건조를 -30℃ 내지 -60℃에서 수행한 것을 특징으로 하는, 방법.
  26. 청구항 23 내지 청구항 25 중 어느 한 항에 있어서, 필요에 따라 상기 용액에 탄소수 10 이하의 저급 알코올을 추가로 첨가하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는, 방법.

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