KR20100041423A - 스크로트론 대전 방식의 대전 장치 및 그 대전 장치를 이용한 화상형성장치 - Google Patents

스크로트론 대전 방식의 대전 장치 및 그 대전 장치를 이용한 화상형성장치

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KR20100041423A
KR20100041423A KR1020080100594A KR20080100594A KR20100041423A KR 20100041423 A KR20100041423 A KR 20100041423A KR 1020080100594 A KR1020080100594 A KR 1020080100594A KR 20080100594 A KR20080100594 A KR 20080100594A KR 20100041423 A KR20100041423 A KR 20100041423A
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Abstract

대전 장치가 개시된다. 본 대전 장치는 실드, 실드 내에 형성된 방전부, 실드 입구에 형성된 그리드 및 방전부와 그리드가 기 설정된 전위차를 가지도록, 전원을 공급하는 전원 공급부를 포함한다. 이에 따라, 방전 효율을 높일 수 있다.
대전 장치, 방전부, 전위차

Description

스크로트론 대전 방식의 대전 장치 및 그 대전 장치를 이용한 화상형성장치{Charging unit for using scorotron charging mechanism and Image forming device comprising the charging unit}
본 발명은 스트로트론 대전 방식의 대전 장치 및 그 대전 장치를 이용한 화상형성장치에 대한 것으로, 보다 상세하게는, 그리드 및 방전부 중 적어도 하나에 인가되는 전원을 적절하게 제어하여, 방전 전류의 효율을 향상시키는 대전 장치 및 그 대전 장치를 이용한 화상형성장치에 대한 것이다.
전자기술의 발달에 힘입어, 컴퓨터 주변 기기 및 사무용 기기도 급속도로 발전하고 있다. 이러한 기기 중 대표적인 것이 화상형성장치이다.
화상형성장치란 용지나 기록매체 상에 화상 또는 화상 데이터를 형성하는 장치를 의미한다. 구체적으로는, 프린터, 복사기, 스캐너, 팩시밀리, 복합기 등이 될 수 있다.
화상형성장치는 다양한 방식으로 화상을 형성할 수 있다. 이 중 하나로 전자 사진 방식이 활용되고 있다.
전자 사진 방식이란, 감광체 표면을 대전시킨 후, 노광을 통해 잠상을 형성 하고, 잠상에 토너를 입히는 현상작업을 수행하고, 현상된 토너를 용지 상으로 전사시키고, 정착 시키는 프로세스를 통해 화상을 형성하는 방식을 의미한다.
이러한 전자 사진 방식에 따르면, 감광체 표면을 특정 전하로 대전시키기 위한 대전 장치가 사용된다. 대전 장치는 다양한 형태로 제작될 수 있다. 최근에는, 핀 스코로트론을 이용한 코로나 방전 방식의 대전 장치가 개발되어 사용되고 있다.
이러한 대전 장치는 통상적으로 실드, 그리드, 실드 내에 위치한 핀을 포함한다. 이에 따라, 핀과 그리드 부분에 각각 소정 크기의 전원을 연결하여, 핀으로부터의 코로나 방전을 유도한다. 그리드는 감광체를 향하도록 배치하여, 핀으로부터 방전된 전하가 감광체 표면에 부착되도록 한다.
핀 스코로트론 대전 장치의 경우, 핀으로부터 충분한 전류가 방전되지 않으면 대전 안정성을 확보하기 어렵다는 문제점이 있다. 따라서, 대전 안정성을 확보하기 위해, 코로나 전압(전류)에 여유 전류(마진)가 추가되어야 한다.
하지만, 마진이 필요 이상으로 많으면 그만큼 전력 효율성이 떨어지게 되고, 핀이나 그리드의 산화가 촉진되고, 오존의 발생이 증가하게 된다. 이와 같은, 핀이나 그리드의 산화나, 오존 및 토너에 의한 오염은 대전 균일성을 떨어뜨린다는 문제점이 있었다.
따라서, 최상의 화상을 얻기 위해서는, 현상 조건에 맞추어 대전 전위를 적절하게 제어할 수 있는 대전 장치 및 그 전원 제어 방법에 대한 필요성이 대두되고 있다.
본 발명은 이상과 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 그리드 및 방전부 중 적어도 하나에 공급되는 전원을 적절히 제어하여, 오존 등으로 인한 오염을 방지하면서, 화상을 최상으로 유지할 수 있는 대전 장치 및 그를 이용한 화상형성장치를 제공함에 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치는, 실드, 상기 실드 내에 형성된 방전부, 상기 실드 입구에 형성된 그리드 및 상기 방전부와 상기 그리드가 기 설정된 전위차를 가지도록, 전원을 공급하는 전원 공급부를 포함한다.
여기서, 상기 전원 공급부는, 상기 방전부에 연결된 전원부 및 일단이 상기 방전부와 상기 전원부 사이의 제1 연결 노드에 연결되고, 타 단이 상기 그리드와 그라운드 사이의 제2 연결 노드에 연결되어, 상기 방전부와 상기 그리드가 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 하는 다이오드를 포함할 수 있다.
또는, 상기 전원 공급부는, 상기 그리드와 연결된 제1 전원부, 상기 방전부에 연결된 제2 전원부 및 상기 그리드에 인가되는 전압이 타겟값이 되도록 상기 제1 전원부를 조정하고, 상기 방전부에 인가되는 전압이 상기 그리드의 전압과 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 상기 제2 전원부를 조정하는 전원 컨트롤러를 포함할 수도 있다.
또한, 상기 방전부는, 와이어 형상, 핀 형상, 톱니 형상 중 하나가 될 수 있다.
이상과 같은 실시 예들에서, 상기 방전부와 상기 그리드 사이의 전위차는, ±3.8kV 내지 6.0kV 범위 이내의 값이 될 수 있다.
또한, 상기 방전부에서의 전류는, ±400㎂ 내지 ±2000㎂ 범위 이내의 값이 될 수 있다.
한편, 본 발명의 일 실시 예에 따른 화상형성장치는, 감광체 및 상기 감광체 표면을 대전시키는 대전기를 포함한다. 여기서, 상기 대전기는, 실드, 상기 실드 내에 형성된 방전부, 상기 실드 입구에 형성되며 상기 감광체 표면과 소정 거리 이격된 그리드, 및, 상기 그리드가 상기 감광체 표면 전압과 대응되는 전압을 가지며, 상기 방전부와 상기 그리드가 기 설정된 전위차를 가지도록, 전원을 공급하는 전원 공급부를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 전원 공급부는, 상기 방전부에 연결된 전원부 및 일단이 상기 방전부와 상기 전원부 사이의 제1 연결 노드에 연결되고, 타 단이 상기 그리드와 그라운드 사이의 제2 연결 노드에 연결되어, 상기 방전부와 상기 그리드가 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 하는 다이오드를 포함할 수 있다.
또는, 상기 전원 공급부는, 상기 그리드와 연결된 제1 전원부, 상기 방전부에 연결된 제2 전원부 및 상기 그리드에 인가되는 전압이 타겟값이 되도록 상기 제1 전원부를 조정하고, 상기 방전부에 인가되는 전압이 상기 그리드의 전압과 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 상기 제2 전원부를 조정하는 전원 컨트롤러를 포함할 수 있다.
한편, 상기 방전부는, 와이어 형상, 핀 형상, 원뿔 형상, 톱니 형상 중 하나가 될 수 있다.
또한, 본 화상형성장치에 있어서, 상기 방전부와 상기 그리드 사이의 전위차 는, ±3.8kV 내지 ±6.0kV 범위 이내의 값이 될 수 있으며, 상기 방전부에서의 전류는, ±400㎂ 내지 ±2000㎂ 범위 이내의 값이 될 수 있다.
본 발명의 다양한 실시 예에 따르면, 방전 효율을 높일 수 있으며, 특히 대전 장치의 전압 제어가 훨씬 용이해질 수 있게 된다.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 구체적으로 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 화상형성장치의 구성을 나타내는 도면이다. 도 1에 따르면, 본 화상형성장치는 감광체(200) 및 대전장치(100)를 포함한다. 도 1의 화상형성장치는, 프린터, 복사기, 팩시밀리, 복합기 등의 장치가 될 수 있다. 또한, 도 1에서는 본 발명의 설명에 필요한 구성요소들만을 도시하고 있으므로, 도 1에 도시된 구성이외에 다양한 구성요소들이 추가될 수 있음은 물론이다.
감광체(200)는 표면이 특정 전하에 의해 대전되어, 노광, 현상, 전사 작업 등이 진행될 수 있는 구성요소이다.
대전장치(100)는 감광체(200) 표면을 특정 전하로 대전하는 구성요소이다.
본 대전 장치(100)는 구체적으로 실드(110), 방전부(120), 그리드(130)를 포함한다.
실드(110)는 감광체(200)와 일정 거리 이격된 위치에서, 감광체(200)와 나란히 배치된다. 실드(110)의 일면은 개방되며, 개방된 입구는 감광체(200)를 향한다.
실드(110) 내에는 방전부(120)가 배치된다. 방전부(120)는 끝단의 형상에 따라, 와이어 형상, 핀 형상, 원뿔 형상, 톱니 형상 등으로 구분된다. 방전부(120)는 끝단이 실드(110) 입구를 향하도록 실드(110) 내부에 배치된다. 이 경우, 방전부(120)는 실드(110)와 접하지 않도록, 실드(110)의 양 측벽과 일정 거리 이격된 지점, 예를 들어 실드(110)의 중심부에 배치된다.
실드(110)의 입구는 그리드(grid)(130)가 배치된다. 그리드(130)는 메쉬로 구성되어, 방전부(120)에서 방전된 코로나가 그리드(130) 부분에 부딪히면서, 전하가 감광체(200) 측으로 출력되도록 한다. 이에 따라, 출력된 전하에 의해 감광체(200) 표면이 대전될 수 있다.
한편, 본 대전장치(100) 또는 화상형성장치는 전원 공급부(140)를 더 포함할 수 있다. 전원 공급부는 방전부(120) 및 그리드(130) 중 적어도 하나에 전원을 공급하여, 방전부(120) 및 그리드(130)가 기 설정된 전위차를 가지도록 한다.
전자 사진 방식의 화상형성장치의 경우, 감광체(200) 주위에 대전장치(100), LSU(Laser Scanning Unit)(미도시), 현상장치(미도시), 전사장치 등이 배치될 수 있다. 각 장치들은 수행하고자 하는 작업에 적합한 크기의 구동전압을 공급받아, 구동될 수 있다.
한편, 2성분 현상 방식을 이용하는 현상장치의 경우, 2성분 현상제 내에서 토너입자만 감광체(200) 표면으로 현상시키기 위해서는, 감광체(200) 및 현상장치(즉, 현상롤러) 사이에 일정한 전위차가 형성되어야 한다.
이에 따라, 감광체(200) 표면의 전위를 적절히 제어하여야 하는 데, 이를 위해 그리드(130) 전압을 조정한다. 즉, 그리드(130)는 감광체(200)와 가까이 배치되어 감광체(200) 표면을 대전시키므로, 그리드(130)에 소정 크기의 전류를 흘리면, 감광체(200) 표면과 그리드(130)는 동일한 전위를 가질 수 있기 때문에, 그리드(130) 전압을 통해 감광체(200)가 현상장치와 일정한 전위차를 가지도록 조정할 수 있다.
따라서, 현상 전압을 제어하게 되면 그에 따라 그리드 전압을 조정하게 되는데, 이 경우, 그리드(130) 전압과 방전부(120) 전압의 전위차를 일정한 값으로 유지시키면, 전류 효율이 최대화 될 수 있다.
구체적으로, 도 2는 종래의 대전 장치를 이용한 화상형성장치의 전력 효율을 설명하기 위한 그래프이다.
도 2의 그래프에서, 가로축은 방전부(120)의 전압, 즉, 코로나 전압 Vc를 의미하고, 세로축은 감광체(200) 표면 전압, 즉, Vo를 의미한다. 또한, 각 그래프(10 ~ 70)는 그리드(130)의 전압, 즉, 그리드 전압 Vg를 의미한다.
일반적으로 대전전위의 설정은 대전 전위가 포화되는 영역 이상에서 설정을 하게 되는데, 이러한 상태에서, 그래프(70)에 따르면, Vc가 -5.2kV이고 Vg가 -800V일 때, Vo도 -800V가 되는 것을 알 수 있다. 만약, Vc를 -5.2kV로 고정시켜 둔 상태라면, 나머지 그래프들(10~ 60)에서는 감광체의 표면 전위 Vo가 Vg보다 절대값이 더 높게 대전을 하여야 하는 위치이므로, 더 많은 전류를 흘려 보내게 된다. 이에 따라, 각 그래프에서는 화살표만큼 더 전력 손실이 발생하게 되므로, 방전 효율이 떨어지게 된다. 그리고, 추가적인 오존도 발생할 수 있다.
다음으로, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치를 이용한 화상형성장치의 전력 효율을 설명하기 위한 그래프이다.
상술한 바와 같이, 그리드 전압과 방전부 전압의 전위차를 일정한 값, 예를 들어, 4.35kV 정도로 맞추어 둔다면, 추가적으로 방전부(120) 측에 크게 전류를 더 흘리지 않더라도 각 그래프에서 Vg=Vo가 어느정도 맞추어지게 된다. 즉, 종래 화상형성장치에 비해 전력 손실이 낮아지고, 결과적으로 방전 효율은 증대된다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치를 이용한 화상형성장치의 전력 효율을 설명하기 위한 또 다른 그래프이다. 즉, 도 4에서 가로축은 Vc-Vg를 나타내고, 세로축은 Vo를 나타낸다. 이러한 경우, 각 그래프(10 ~ 70) 상에서 Vg=V0이 일치하는 지점은 기준선(ref)과 크게 차이가 없음을 알 수 있다. 이는, 전력 손실이 크지 않음을 의미한다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치를 이용한 화상형성장치의 전력 효율을 설명하기 위한 또 다른 그래프이다. 도 5에서, 세로축은 Vc-Vg를 나타내고, 가로축은 방전부(120)로 유입되는 전류 Ic를 나타낸다. 이에 따르면, 각각의 다양한 Vg와 Vc의 차이(Vc-Vg)에서 동일한 방전 전류가 흘려짐을 알 수 있다.
한편, 방전부(120) 및 그리드(130) 사이의 전위차는 실험을 통해 적절한 값으로 설정할 수 있다. 즉, 도 5에서 볼수 있듯이, 전위차가 대략 5.2kV 이상이면 전류 편차가 커져서 전력 손실이 커질 수 있다. 반면, 전위차를 3.8 kV 이하로 설정하면, 코로나 방전이 제대로 이루어지지 않아, 대전 성능이 떨어 질 수 있다. 이러한 점을 고려하여, 반복 실험을 통해, 최적 값을 산출할 수 있다.
일 예로, 방전부(120) 및 그리드(130) 사이의 전위차는 ±3.8kV 내지 6.0kV 범위 이내의 값으로 설정할 수 있으며, 방전부(120)에서의 전류는, ±400㎂ 내지 ±2000㎂ 범위 이내의 값이 되도록 설계할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치의 구성을 나타내는 도면이다. 도 6에 따른 대전장치(100)는 실드(110), 방전부(120), 그리드(130) 및 전원 공급부(140)를 포함한다.
도 6에서, 방전부(120)는 실드(110) 내에 배치되며, 전원 공급부(140)와 연결된다. 또한, 그리드(130)는 실드(110) 입구에 배치되어, 전원 공급부(140)와 연결된다.
전원 공급부(140)는 전원부(141) 및 다이오드(142)를 포함하는 형태로 구성될 수 있다. 이 경우, 전원 공급부(140)는 저항(R) 등과 같은 소자를 적어도 하나 이상 더 포함할 수도 있다.
다이오드(142)는 방전부(120) 및 전원부(141) 사이의 연결노드 a와, 그리드(130) 및 전원부(141) 사이의 연결노드 b를 연결시킨다. 이에 따라, 방전부(120) 부분에 전압이 인가되면, 전압 강하를 일으킨다. 결과적으로, 방전부(120)와 그리드(130) 사이의 전위차는, 다이오드(142) 특성에 대응되는 특정한 값으로 유지된다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시 예에 따른 대전 장치의 구성을 나타내는 도면이다. 도 7에 따르면, 본 대전 장치는 실드(110), 방전부(120), 그리드(130) 이외에 도 6과 상이한 구성의 전원공급부(240)가 더 포함된다. 설명의 편의상 도 7의 전원 공급부에는 참조부호 240을 부여한다.
도 7의 전원 공급부(240)는 전원부(241) 및 전원 컨트롤러(242)를 포함하며, 전원부(241)는 제1 전원부(241-1) 및 제2 전원부(241-2)를 포함한다.
여기서 제1 전원부(241-1)는 방전부(120)와 연결되며, 제2 전원부(241-2)는 그리드(130)와 연결된다. 제1 및 제2 전원부(241-1, 241-2)는 각각 개별적으로 전원 컨트롤러(242)에 의해 제어된다.
전원 컨트롤러(242)는 그리드(130)에 인가되는 전압이 타겟값이 되도록 제2 전원부(241-2)를 조정하고, 방전부(120)에 인가되는 전압이 그리드(130)의 전압과 기 설정된 전위차를 유지하도록 제1 전원부(241-1)를 조정한다. 이와 같이, 전원 컨트롤러(242)를 이용하여 그리드(130) 전압 및 방전부(120) 전압을 각각 조정하는 방식으로 구현될 수도 있다.
도 8 내지 도 10은 본 대전 장치(100)에 사용될 수 있는 방전부(120)의 여러 형태를 나타내는 도면이다.
먼저, 도 8에서와 같이, 방전부(120)는 뾰족한 삼각 뿔로 이루어진 일면을 가지는 금속판으로 구현될 수 있다. 이에 따라, 금속판 몸체 부분을 통해 전압이 인가되면, 삼각 뿔 부분에서 코로나 방전이 일어 날 수 있다.
다음, 도 9에서와 같이, 방전부(120)는 원 뿔 형태로 이루어진 일면을 가지는 금속 바(bar) 형상으로 구현될 수도 있다.
또는, 도 10에서와 같이, 방전부(120)는 뾰족한 핀 또는 와이어가 일면에 형성된 금속 판 또는 바 형상으로 구현될 수도 있다.
이들 여러 실시 예들에서와 같이, 방전부(120)는 코로나 방전이 일어날 수 있는 뾰족한 부분을 포함하는 형상으로 구현된다.
도 11은 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치의 형상을 나타내는 도면이다. 도 11에 따르면, 실드(110)는 일 면이 개방된 형상으로 형성될 수 있다. 이 경우, 개방된 면과 마주보는 다른 면은 일부분만이 개방된 형태로 이루어져, 그 개방된 부분에 방전부(120)가 탑재될 수 있도록 한다.
이러한 상태에서 방전부(120)가 탑재되면, 실드(110)의 개방면에는 그리드(130)가 탑재되어, 도 1에서와 같은 대전 장치를 구성할 수 있다.
도 11은 대전 장치 구성의 일 예에 불과하므로, 대전 장치의 구성은 다양하게 변형될 수 있음은 물론이다.
또한, 이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 화상형성장치의 구성을 나타내는 도면,
도 2 내지 도 5는 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치의 전력 손실 및 방전 효율을 설명하기 위한 그래프,
도 6은 본 발명의 일 실시 예에 따른 대전 장치의 구성을 나타내는 도면,
도 7은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 대전 장치의 구성을 나타내는 도면,
도 8 내지 도 10은 본 대전 장치에 사용될 수 있는 방전부의 다양한 형태를 설명하기 위한 도면, 그리고,
도 11은 대전 장치 구성을 입체적으로 설명하기 위한 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
110 : 실드 120 : 방전부
130 : 그리드 140, 240 : 전원공급부
141, 241 : 전원부 142 : 다이오드
242 : 전원 컨트롤러 200 : 감광체

Claims (12)

  1. 실드;
    상기 실드 내에 형성된 방전부;
    상기 실드 입구에 형성된 그리드; 및,
    상기 방전부와 상기 그리드가 기 설정된 전위차를 가지도록, 전원을 공급하는 전원 공급부;를 포함하는 대전 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 전원 공급부는,
    상기 방전부에 연결된 전원부; 및,
    일단이 상기 방전부와 상기 전원부 사이의 제1 연결 노드에 연결되고, 타 단이 상기 그리드와 그라운드 사이의 제2 연결 노드에 연결되어, 상기 방전부와 상기 그리드가 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 하는 다이오드;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 전원 공급부는,
    상기 그리드와 연결된 제1 전원부;
    상기 방전부에 연결된 제2 전원부; 및,
    상기 그리드에 인가되는 전압이 타겟값이 되도록 상기 제1 전원부를 조정하고, 상기 방전부에 인가되는 전압이 상기 그리드의 전압과 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 상기 제2 전원부를 조정하는 전원 컨트롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 방전부는,
    와이어 형상, 핀 형상, 톱니 형상 중 하나인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방전부와 상기 그리드 사이의 전위차는,
    ±3.8kV 내지 ±6.0kV 범위 이내의 값인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방전부에서의 전류는,
    ±400㎂ 내지 ±2000㎂ 범위 이내의 값인 것을 특징으로 하는 대전 장치.
  7. 감광체; 및,
    상기 감광체 표면을 대전시키는 대전기;를 포함하며,
    상기 대전기는, 실드, 상기 실드 내에 형성된 방전부, 상기 실드 입구에 형 성되며 상기 감광체 표면과 소정 거리 이격된 그리드, 및, 상기 그리드가 상기 감광체 표면 전압과 대응되는 전압을 가지며, 상기 방전부와 상기 그리드가 기 설정된 전위차를 가지도록, 전원을 공급하는 전원 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 전원 공급부는,
    상기 방전부에 연결된 전원부; 및,
    일단이 상기 방전부와 상기 전원부 사이의 제1 연결 노드에 연결되고, 타 단이 상기 그리드와 그라운드 사이의 제2 연결 노드에 연결되어, 상기 방전부와 상기 그리드가 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 하는 다이오드;를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 전원 공급부는,
    상기 방전부와 연결된 제1 전원부;
    상기 그리드에 연결된 제2 전원부; 및,
    상기 그리드에 인가되는 전압이 타겟값이 되도록 상기 제2 전원부를 조정하고, 상기 방전부에 인가되는 전압이 상기 그리드의 전압과 상기 기 설정된 전위차를 유지하도록 상기 제1 전원부를 조정하는 전원 컨트롤러;를 포함하는 것을 특징 으로 하는 화상형성장치.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 방전부는,
    와이어 형상, 핀 형상, 원뿔 형상, 톱니 형상 중 하나인 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
  11. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방전부와 상기 그리드 사이의 전위차는,
    ±3.8kV 내지 ±6.0kV 범위 이내의 값인 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
  12. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 방전부에서의 전류는,
    ±400㎂ 내지 ±2000㎂ 범위 이내의 값인 것을 특징으로 하는 화상형성장치.
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