KR20100040039A - 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드 5 내지 30 중량%; 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상 40 내지 70 중량; 및 물 잔량을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법에 관한 것이다.
제거, FPD, 점착
Description
본 발명은 액정표시장치, 유기전계발광표시장치, 플라즈마디스플레이패널, 플렉서블 디스플레이 등의 평판표시장치(Flat panel display, FPD)용 기판의 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법에 관한 것이다.
일반적으로 액정표시장치, 플라즈마 디스플레이 패널, 플렉서블 디스플레이 등의 평판표시장치용 기판의 이동 및 수송 시, 기판의 보호를 위해 표면에 비닐과 같은 포장지로 포장하여 이동 및 수송하게 된다. 이 때 기판 위에 점착성분을 사용하여, 기판과 비닐을 접착시키게 되는데, 이동, 수송이 끝난 후 기판을 사용하기 전에 점착성분의 제거가 필요하다. 또한, 플렉서블 디스플레이의 제조를 위해 기판 위에 점착성분을 사용하여 상부 기판을 접착하기도 한다. 그러나, 이 때 잘못된 접착으로 기판을 재생하게 될 경우 또한 점착성분의 제거가 필요하다.
기존에는 기판의 접착이 잘못 될 경우, 기판을 재생하지 않고, 폐기하는 경우가 많았다. 또한, 기판 이동시 사용하는 점착성분의 경우는 계면활성제를 사용 하는 일반적인 세정제를 사용하여, 세정을 진행하였으나, 이는 계면활성제의 잔류문제등이 발생하여, 보다 깨끗하게 제거되고 잔류하지 않는 제거제의 개발이 필요하게 되었다.
상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 기판 위의 점착성분을 깨끗하게 제거할 뿐만 아니라, 잔류하는 점착성분을 제거할 수 있는 점착성분 제거용 조성물을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 목적은 기판 위의 점착성분의 제거를 통해 폐기되었던 기판을 재생하여 사용할 수 있도록 하는 것이다. 또한 본 발명의 목적은 비용을 절감하고, 효과적인 세정이 가능한 점착성분 제거용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드 5 내지 30 중량%; 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상 40 내지 70 중량; 및 물 잔량을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성분 제거용 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 점착성분 제거용 조성물을 기판 상에 점착성분이 형성되어 있는 디스플레이용 평판 또는 평판표시장치의 세정에 사용하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치기판의 세정방법을 제공한다.
본 발명의 점착성분 제거용 조성물은, 기판 위의 점착성분의 제거를 통해 폐기되었던 기판을 재생하여 사용할 수 있다. 또한, 계면활성제를 사용하는 기판 세정제에 비해, 제거력이 우수하다. 또한, 기판에 잔류하는 문제가 발생하지 않기 때문에, 비용을 절감하고, 효과적인 세정이 가능하다.
본 발명은, 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드; 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상; 및 물을 포함하는 점착성분 제거용 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 점착성분 제거용 조성물은 기판 위의 점착성분의 제거를 위한 조성물에 관한 것으로, 기판 위의 점착성분을 깨끗하게 제거할 뿐만 아니라, 점착성분 제거액 조성물이 기판 위에 잔류하지 않기 때문에 매우 효과적으로 사용될 수 있는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 점착성분 제거용 조성물의 구성성분 및 조성비에 대하여 구체적으로 설명한다.
Ⅰ. 점착성분 제거용 조성물
본 발명의 점착성분 제거용 조성물에 포함되는 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드는 기판 위의 점착성분을 제거하는데 탁월한 성능을 나타낸다. 여기서, 기판은 유리, 스테인레스 스틸 또는 플라스틱일 수 있다.
상기 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 5 내지 30 중량%인 것이 바람직하며, 10 내지 20 중량%인 것이 더욱 바람직하다. 만일 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드의 함량이 5 중량% 미만이면 제거력이 현저히 낮아지며, 30 중량%을 초과해도 제거력은 증가하지 않는다.
본 발명의 점착성분 제거용 조성물에 포함되는 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상은 점착성분의 일부를 용해시키는 역할을 하며 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드의 제거력을 보완해 주는 역할을 한다. 또한 상기 화합물은 용제로서의 기능 외에도 점착성분 제거액 조성물의 표면장력을 저하시켜 유리기판에 대한 습윤성을 증가시켜 제거력을 향상시켜 준다.
상기 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 함량은 점착성분 제거용 조성물 총 중량에 대하여 바람직하게는 40 내지 70중량%, 더욱 바람직하게는 50 내지 60중량%이다. 만일 상기 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 함량이 40중량% 미만이면 제거액 조성물의 점착성분에 대한 용해력이 저하되고, 70중량%를 초과하여 사용될 경우 용해력 및 습윤성 증가에 대한 더 이상의 효과를 기대할 수 없다.
상기 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르에서, 알킬렌은 탄소수가 1 내지 5이고, 알킬이 탄소수 1 내지 5인 것이 바람직하다. 상기 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르의 예로는 모노에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BG), 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르(MDG), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(carbitol), 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BDG), 디프로 필렌글리콜 모노메틸에테르(DPM), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르(MFDG), 트리에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BTG), 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르(MTG) 및 모노프로필렌글리콜 모노메틸에테르(MFG) 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독 또는 2종 이상이 함께 사용될 수 있다.
본 발명의 점착성분 제거용 조성물에 포함되는 물은 특별히 한정되는 것은 아니나, 탈이온수가 바람직하다. 더욱 바람직하게는 물의 비저항 값(즉, 물속에 이온이 제거된 정도)이 18㏁/㎝이상인 탈이온수를 사용한다. 상기 물의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 10~90 중량%로 포함되며, 다른 성분의 함량에 따라 조절된다.
본 발명의 제거액 조성물은 전술한 성분 이외에 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있으며, 상기 첨가제로는 금속 이온 봉쇄제, 및 pH 조절제 등을 들 수 있다.
본 발명의 제거액은, 계면활성제를 포함하지 않아도, 기판 위의 점착물질을 깨끗하게 제거할 뿐만 아니라 기판 위에 잔류하지 않는 장점을 가지고 있어 효과적인 제거가 가능하다.
Ⅱ. 세정방법
본 발명의 점착성분 제거용 조성물을 사용하여 점착성분을 제거하는 기판의 세정방법은, 특별히 한정되지 않으나, 침지 세정법, 요동 세정법, 초음파 세정 법, 샤워·스프레이 세정법, 퍼들 세정법, 브러쉬 세정법, 교반 세정법 등의 방식으로 실행될 수 있다. 본 발명에서는 특히, 침지 세정법 또는 샤워·스프레이 제거법이 바람직하다.
본 발명의 세정방법에 의하면 세정 시 적정온도는 40~80℃이고, 바람직하게는 50-70℃이다. 본 발명에서 점착성분을 제거하고자 하는 기판은 특정 장치에 포함되어 있는 것에 한정되지 않으나, 액정표시장치, 유기발광표시장치 등의 평판표시장치에 사용되는 기판인 것이 바람직하다. 여기서, 상기 기판은 유리, 스테인레스 스틸 또는 플라스틱일 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 점착성분 제거용 조성물을 사용하여 제조되는 디스플레이용 평판 또는 평판표시장치를 제공한다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나, 하기의 실시예는 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. 하기의 실시예는 본 발명의 범위 내에서 당업자에 의해 적절히 수정, 변경될 수 있다.
실시예 1 내지 4, 비교예 1 내지 9: 점착성분 제거용 조성물의 제조
하기 표 1에 기재된 함량에 따라 각각의 성분을 교반기가 설치되어 있는 혼합조에 넣고 상온에서 1시간 동안 500rpm의 속도로 교반하여 점착성분 제거용 조성물을 제조하였다.
| 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(중량%) | 모노, 디, 또는 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르(중량%) | 물 | ||
| 함량 | 성분 | 함량 | 함량 | |
| 실시예1 | 10 | MDG | 50 | 잔량 |
| 실시예2 | 15 | MDG | 50 | 잔량 |
| 실시예3 | 20 | MDG | 40 | 잔량 |
| 실시예4 | 10 | BDG | 50 | 잔량 |
| 비교예1 | 10 | - | - | 잔량 |
| 비교예2 | 10 | MDG | 30 | 잔량 |
| 비교예3 | 5 | BDG | 30 | 잔량 |
| 비교예4 | 1 | BDG | 30 | 잔량 |
| 비교예5 | 3 | MDG | 50 | 잔량 |
| 비교예6 | - | MDG | 80 | 잔량 |
| 비교예7 | - | BDG | 100 | - |
| 비교예8 | 아세톤 100% | |||
| 비교예9 | PRS-2000 | |||
● MDG: 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르,
● BDG: 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르
● PRS-2000 (상품명, 제조사:MBI)
시험예: 점착성분 제거력 평가
본 발명에 따른 점착성분 제거액 조성물의 제거력을 평가하기 위하여, 하기와 같은 시험을 수행하였다.
1-1. 제거력 평가
상기 실시예 1~4, 비교예 1~9에서 제조한 제조액 200㎖를 비이커에 넣고, 점착성분이 부착된 유리기판을 70℃에서 20분간 침지시킨 후, 상기 유리기판을 꺼내어 1분 동안 물로 수세하였다. 그 후 상기 유리기판을 에어건(air gun)으로 건조시켰다. 이 때 제거된 정도를 육안으로 평가하였다.
상기 제거력의 평가 결과는 하기 표 2에 나타내었다.
| 제거여부 | 기판상태 | |
| 실시예1 | O | 린스시 점착성분이 깨끗하게 제거된다. |
| 실시예2 | O | 린스시 점착성분이 깨끗하게 제거된다. |
| 실시예3 | O | 린스시 점착성분이 깨끗하게 제거된다. |
| 실시예4 | O | 린스시 점착성분이 깨끗하게 제거된다. |
| 비교예1 | X | 점착성분이 하얗게 변함. |
| 비교예2 | X | 점착성분이 하얗게 되고, 막안에서 약간 들뜸 |
| 비교예3 | X | 점착성분이 하얗게 되고, 막안에서 약간 들뜸 |
| 비교예4 | X | 점착성분이 하얗게 변함 |
| 비교예5 | X | 점착성분이 하얗게 되고, 막안에서 약간 들뜸 |
| 비교예6 | X | 전혀 변화가 없음 |
| 비교예7 | X | 전혀 변화가 없음 |
| 비교예8 | X | 점착성분이 하얗게 변함 |
| 비교예9 | X | 점착성분이 하얗게 변함 |
O: 깨끗하게 제거됨, △: 일부 제거되지 않음, ×: 전혀 제거되지 않음
표 2에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 점착성분 제거액 조성물은 제거력이 우수한 것을 확인할 수 있다. 반면, 비교예 1, 비교예 4, 비교예 8, 비교예 9는 점착성분이 하얗게 변하지만, 제거되지는 않는다. 비교예 2, 비교예 3, 비교예 5는 점착성분이 하얗게 변하고, 막안에서 약간 들뜨지만, 점착성분이 제거되지는 않는다. 또한, 비교예 6, 비교예 7은 전혀 변화가 없어, 점착성분이 제거되지 않음을 확인할 수 있었다.
Claims (4)
- 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드 5 내지 30 중량%;모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상 40 내지 70 중량; 및물 잔량을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성분 제거용 조성물.
- 청구항 1에 있어서,상기 모노알킬렌글리콜 모노알킬에테르, 디알킬렌글리콜 모노알킬에테르 및 트리알킬렌글리콜 모노알킬에테르로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상은 모노에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BG), 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르(MDG), 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르(carbitol), 디에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BDG), 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르(DPM), 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르(MFDG), 트리에틸렌글리콜 모노부틸에테르(BTG), 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르(MTG), 및 모노프로필렌글리콜 모노메틸에테르(MFG)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 점착성분 제거용 조성물.
- 청구항 1에 있어서,상기 점착성분 제거용 조성물은 금속 이온 봉쇄제 및 pH 조절제로 이루어 진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 점착성분 제거용 조성물.
- 청구항 1 기재에 따른 점착성분 제거용 조성물을 기판 상에 점착성분이 형성되어 있는 디스플레이용 평판 또는 평판표시장치의 세정에 사용하는 것을 특징으로 하는 평판표시장치의 세정방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080099074A KR20100040039A (ko) | 2008-10-09 | 2008-10-09 | 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080099074A KR20100040039A (ko) | 2008-10-09 | 2008-10-09 | 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20100040039A true KR20100040039A (ko) | 2010-04-19 |
Family
ID=42216254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080099074A KR20100040039A (ko) | 2008-10-09 | 2008-10-09 | 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20100040039A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140141482A (ko) * | 2013-05-30 | 2014-12-10 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 기판의 세정제 조성물 |
-
2008
- 2008-10-09 KR KR1020080099074A patent/KR20100040039A/ko not_active Application Discontinuation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20140141482A (ko) * | 2013-05-30 | 2014-12-10 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 기판의 세정제 조성물 |
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