KR20100034168A - Material providing unit and apparatus for depositioning thin film having the same and material providing method - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A raw material supplying unit, a thin film depositing device including the same, and a method for supplying raw materials are provided to prevent the denaturalization of raw materials due to heat by distributing a large amount of raw materials and then supplying a small amount of raw materials to a plurality of evaporation sources. CONSTITUTION: A plurality of evaporation sources(320) stores raw materials and includes an evaporation path for evaporating the raw materials. A distribution unit(310) distributes the raw materials evaporated from at least one of the evaporation sources to a plurality of distribution paths and discharges the raw materials. A transfer unit selects at least one of the evaporation sources and transfers the selected evaporation source to connect the evaluation path to the distribution path.

Description

원료 공급 유닛 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 및 원료 공급 방법{MATERIAL PROVIDING UNIT AND APPARATUS FOR DEPOSITIONING THIN FILM HAVING THE SAME AND MATERIAL PROVIDING METHOD}Raw material supply unit, thin film deposition apparatus and raw material supply method including the same {MATERIAL PROVIDING UNIT AND APPARATUS FOR DEPOSITIONING THIN FILM HAVING THE SAME AND MATERIAL PROVIDING METHOD}

본 발명은 박막 증착 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다량의 원료 물질을 안정적으로 공급하기 위한 원료 공급 유닛 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 및 원료 공급 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film deposition apparatus, and more particularly to a raw material supply unit for stably supplying a large amount of raw material, and a thin film deposition apparatus and a raw material supply method having the same.

일반적으로, 유기 소자(OLED: Organic Light Emitted Device)를 제작하는데 있어서, 가장 중요한 공정은 유기 박막을 형성하는 공정이며, 이러한 유기 박막을 형성하기 위해서는 진공 증착 방법이 주로 사용된다.In general, in manufacturing an organic light emitting device (OLED), the most important process is a process of forming an organic thin film, and a vacuum deposition method is mainly used to form such an organic thin film.

이러한 진공 증착 방법은 챔버 내에 글라스(glass)와 같은 기판과 파우더(powder) 형태의 원료 물질이 담긴 포인트 소스(point source) 또는 점 증발원과 같은 증발원을 대향 배치하고, 증발원 내에 담긴 파우더 형태의 원료 물질을 증발시켜 증발된 원료 물질을 분사함으로써 기판의 일면에 유기 박막을 형성한다. 최근에는 기판이 대면적화됨에 따라, 포인트 소스 또는 점 증발원으로 알려진 증발원 대신 대면적 기판의 박막 균일도가 확보되는 선형 증발원이 사용된다. 이러한 선형 증발원은 도가니 내에 원료 물질을 저장하고, 저장된 원료 물질을 증발시켜 기판을 향해 분사하는 서로 이격된 복수의 증발홀을 구비한다.The vacuum deposition method is arranged in a chamber facing the substrate such as glass (glass) and the source material in the form of powder (point source) or point evaporation source such as point evaporation source containing the raw material in the form of powder in the evaporation source The organic thin film is formed on one surface of the substrate by spraying the vaporized raw material by evaporation. In recent years, as the substrate becomes larger, a linear evaporation source is used which ensures the uniformity of the thin film of the large-area substrate instead of an evaporation source known as a point source or a point evaporation source. The linear evaporation source includes a plurality of spaced apart evaporation holes for storing the raw material in the crucible and for evaporating the stored raw material and spraying it toward the substrate.

하지만, 기판이 더욱 대면적화됨에 따라 더욱 많은 양의 원료 물질이 필요하게 되었고, 다량의 원료 물질을 저장하기 위해 도가니의 크기도 상당히 커져야 하는 문제점이 발생된다. 또한, 다량의 원료 물질이 도가니 내에 저장된다 해도 다량의 원료 물질을 증발시키기 위해서는 약 144시간 이상으로 장시간 지속적으로 가열해야 하기 때문에, 분말 형태의 물질이 가열되어 증발되는 동안 원료 물질은 열에 의해 변성되는 문제점이 발생된다. 이와 같이 변성된 유기물이 기판의 일면에 증착되면 유기 소자는 발광 특성이 저하되고, 소자의 수명 또한 저하되는 문제점을 야기 시킨다.However, as the substrate becomes more large in area, a larger amount of raw material is required, and a problem arises in that the size of the crucible must be considerably larger to store a large amount of raw material. In addition, even if a large amount of raw material is stored in the crucible, in order to evaporate a large amount of raw material, it is necessary to continuously heat it for about 144 hours or more for a long time, so that the raw material is denatured by heat while the material in powder form is heated and evaporated. Problems arise. When the denatured organic material is deposited on one surface of the substrate, the organic device causes a problem in that the light emitting characteristics are lowered and the life of the device is also reduced.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하고자 제안된 것으로서, 원료 물질을 연속적으로 공급하기 위한 원료 공급 유닛 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 및 원료 공급 방법을 제공한다.The present invention has been proposed to solve the above problems, and provides a raw material supply unit for continuously supplying a raw material, a thin film deposition apparatus and a raw material supply method including the same.

또한, 본 발명은 원료 물질의 변성 없이 안정적으로 다량의 원료 물질을 공급하기 위한 원료 공급 유닛 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 및 원료 공급 방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a raw material supply unit for supplying a large amount of raw material stably without modification of the raw material, and a thin film deposition apparatus and raw material supply method having the same.

본 발명의 일 측면에 따른 원료 공급 유닛은, 내부 공간에 원료 물질이 저장되고, 원료 물질이 증발되는 증발 통로를 구비하는 다수의 증발원; 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나에서 증발된 원료 물질을 다수의 경로로 분기시켜 배출하는 분배 통로를 구비하는 분배부; 및 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나의 증발 통로가 상기 분배부의 분배 통로와 연통되도록 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나를 선택하여 이송하는 이송부; 를 포함한다.Raw material supply unit according to an aspect of the present invention, the raw material is stored in the inner space, a plurality of evaporation source having an evaporation passage for evaporating the raw material; A distribution unit having a distribution passage for branching and discharging raw material evaporated in at least one of the plurality of evaporation sources into a plurality of paths; And a transfer unit for selecting and transferring at least one of the plurality of evaporation sources such that at least one evaporation passage of the plurality of evaporation sources communicates with a distribution passage of the distribution unit. It includes.

상기 이송부는 상기 다수의 증발원이 적재되는 이송 스테이지를 구비하고, 상기 이송 스테이지는 상하 이동, 좌우 이동 및 회전 이동 중 적어도 하나의 방식으로 증발원을 이송하는 것이 바람직하다.The transfer unit may include a transfer stage on which the plurality of evaporation sources are stacked, and the transfer stage transfers the evaporation source in at least one of vertical movement, left and right movement, and rotational movement.

상기 이송부는 상기 이송 스테이지의 상하를 관통하여 형성된 관통홀을 포함하는 것이 바람직하다.Preferably, the transfer part includes a through hole formed through the top and bottom of the transfer stage.

상기 관통홀을 통과하여 상기 이송 스테이지에 적재된 증발원을 승강시키는 승강부를 더 구비하는 것이 바람직하다.It is preferable to further include a lifting unit for lifting the evaporation source loaded on the transfer stage through the through hole.

상기 승강부는 증발원을 지지하는 지지대 및 상기 지지대에 구동력을 제공하는 구동부를 포함하는 것이 바람직하다.The lifting unit preferably includes a support for supporting an evaporation source and a driving unit for providing a driving force to the support.

상기 승강부는 다수의 증발원을 동시에 승강시킬 수 있다. 이때, 상기 승강부는 다수의 증발원을 지지하는 다수의 지지대와, 상기 다수의 지지대를 연결하는 연결 부재 및 상기 연결 부재에 구동력을 제공하는 구동부를 포함하는 것이 바람직하다.The lift unit may lift a plurality of evaporation sources at the same time. In this case, the lifting unit preferably includes a plurality of supports for supporting a plurality of evaporation sources, a connecting member for connecting the plurality of supports and a driving unit for providing a driving force to the connecting member.

상기 이송 스테이지 상에는 다수의 증발원이 일렬 구조로 적재되거나, 또는, 상기 이송 스테이지 상에는 다수의 증발원이 원형 구조 또는 다각형 구조로 적재될 수 있다.A plurality of evaporation sources may be stacked in a row structure on the transfer stage, or a plurality of evaporation sources may be stacked in a circular structure or a polygonal structure on the transfer stage.

상기 다수의 증발원은 증발 통로에서 연장되는 연결 튜브를 구비하는 것이 바람직하다.The plurality of evaporation sources preferably have connecting tubes extending in the evaporation passage.

상기 다수의 증발원은 원료 물질의 잔량을 감지하는 센서를 구비하는 것이 바람직하다.The plurality of evaporation sources preferably include a sensor for detecting the remaining amount of the raw material.

상기 다수의 증발원은 원료 물질이 저장되는 용기를 더 포함하고, 상기 용기의 내부 또는 외부에 센서가 마련되는 것이 바람직하다.The plurality of evaporation sources further includes a container in which raw material is stored, and a sensor is provided inside or outside the container.

상기 분배부의 분배 통로는 원료 물질이 공급되는 인입구와 원료 물질이 배출되는 배출구 및 상기 인입구와 상기 배출구 사이에 설치되는 배플판을 포함하는 것이 바람직하다.The distribution passage of the distribution unit preferably includes an inlet through which the raw material is supplied, an outlet through which the raw material is discharged, and a baffle plate disposed between the inlet and the outlet.

상기 배출구는 분배부의 중심에서 주변으로 갈수록 기판의 외측을 향해 더욱 경사지게 배치되는 것이 바람직하다.The discharge port is preferably disposed more inclined toward the outside of the substrate toward the periphery of the distribution portion.

본 발명의 다른 측면에 따른 박막 증착 장치는, 챔버; 상기 챔버 내에 마련되어 기판을 지지하는 기판 지지부; 및 상기 기판 지지부와 대향 배치되어 기판에 원료 물질을 증발시켜 공급하는 원료 공급 유닛; 를 포함하고, 상기 원료 공급 유닛은 다수의 증발원이 교체되면서 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나로부터 공급된 원료 물질을 공급받는다.According to another aspect of the present invention, a thin film deposition apparatus includes a chamber; A substrate support part provided in the chamber to support a substrate; A raw material supply unit disposed to face the substrate support and to evaporate and supply a raw material to the substrate; The raw material supply unit includes a raw material supplied from at least one of the plurality of evaporation sources while the plurality of evaporation sources are replaced.

상기 원료 공급 유닛은, 내부 공간에 원료 물질이 저장되고, 원료 물질이 증발되는 증발 통로를 구비하는 다수의 증발원; 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나에서 증발된 원료 물질을 다수의 경로로 분기시켜 배출하는 분배 통로를 구비하는 분배부; 및 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나의 증발 통로가 상기 분배부의 분배 통로와 연통되도록 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나를 선택하여 이송하는 이송부; 를 포함하는 것이 바람직하다.The raw material supply unit, a plurality of evaporation source having a raw material is stored in the inner space, the evaporation passage for evaporating the raw material; A distribution unit having a distribution passage for branching and discharging raw material evaporated in at least one of the plurality of evaporation sources into a plurality of paths; And a transfer unit for selecting and transferring at least one of the plurality of evaporation sources such that at least one evaporation passage of the plurality of evaporation sources communicates with a distribution passage of the distribution unit. It is preferable to include.

상기 원료 공급 유닛 및 상기 기판 지지부 중 적어도 하나에는 기판과 분배부 상호 간의 상대적 이동을 위해 위한 구동 부재가 더 마련되는 것이 바람직하다.Preferably, at least one of the raw material supply unit and the substrate support is further provided with a driving member for relative movement between the substrate and the distribution unit.

본 발명의 또 다른 측면에 따른 원료 공급 방법은, 원료 물질이 충진된 제 1 증발원을 분배부에 결합시켜 원료 물질을 상기 분배부로 공급하는 단계; 상기 원료 물질의 잔량을 감지하여 원료 물질이 소진되면 상기 제 1 증발원을 분리하는 단계; 및 원료 물질이 충진된 제 2 증발원을 상기 분배부에 결합시켜 원료 물질을 분배부로 공급하는 단계; 를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a raw material supply method, comprising: supplying a raw material to the distribution unit by coupling a first evaporation source filled with the raw material to a distribution unit; Sensing the remaining amount of the raw material and separating the first evaporation source when the raw material is exhausted; And coupling the second evaporation source filled with the raw material to the distribution unit to supply the raw material to the distribution unit. It includes.

상기 분배부에는 기화 상태로 증발된 원료 물질을 공급되는 것이 바람직하다.The distribution unit is preferably supplied with the raw material evaporated in the vaporized state.

상기 제 1, 제 2 증발원은 동일 챔버 내에 마련되는 것이 바람직하다.It is preferable that the said 1st, 2nd evaporation source is provided in the same chamber.

본 발명은 챔버 내부에 원료 물질이 저장된 다수의 증발원을 마련해두고, 원료 물질이 소진되면 증발원을 교체하는 방식으로 원료 물질을 기판에 연속적으로 공급함으로써, 챔버를 개방하여 원료 물질을 교체하지 않고서도 원하는 만큼의 원료 물질을 충분히 공급할 수 있다.The present invention provides a plurality of evaporation sources in which the raw materials are stored in the chamber and continuously supplies the raw materials to the substrate by replacing the evaporation sources when the raw materials are exhausted, thereby opening the chamber and replacing the raw materials without changing the raw materials. As much raw material as possible can be supplied.

또한, 본 발명은 다량의 원료 물질을 다수의 증발원에 분산시켜 소량으로 공급함으로써, 분말 원료의 기화 시간을 단축시켜 열에 의한 원료 물질의 변성을 방지할 수 있다.In addition, the present invention can shorten the evaporation time of the powder raw material by preventing the modification of the raw material by heat by dispersing a large amount of raw material in a plurality of evaporation source and supplying in a small amount.

또한, 본 발명은 다수의 증발원에서 증발된 원료 물질을 동시에 또는 선택적으로 분배부에 공급함으로써, 박막 형성에 필요한 원료 물질을 원하는 시점에 충분히 공급할 수 있다. 따라서, 박막 품질을 더욱 향상시킬 수 있고 증착 시간을 더욱 단축시킬 수 있다.In addition, the present invention can supply the raw material required for thin film formation sufficiently at a desired time point by supplying the raw material evaporated from a plurality of evaporation sources simultaneously or selectively to the distribution unit. Therefore, the thin film quality can be further improved and the deposition time can be further shortened.

이후, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 더욱 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다 른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상의 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment according to the present invention in more detail. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various other forms, and only the embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention and to those skilled in the art. It is provided for complete information. Like reference numerals in the drawings refer to like elements.

도 1은 본 발명에 따른 원료 공급 유닛을 구비하는 박막 증착 장치를 나타낸 개략 단면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 원료 공급 유닛의 동작을 나타낸 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing a thin film deposition apparatus having a raw material supply unit according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view showing the operation of the raw material supply unit according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 박막 증착 장치는 챔버(100)와, 상기 챔버(100) 내에 마련되어 기판(S)을 지지하는 기판 지지부(200)와, 상기 기판 지지부(200)와 대향 배치되어 기판(S)에 원료 물질을 증발시켜 공급하는 원료 공급 유닛(300)을 포함한다. 여기서, 상기 원료 공급 유닛(300)은 다수의 증발원(320a~ 320c;320)이 교체되면서 다수의 증발원(320a~320c) 중에서 선택된 적어도 하나의 증발원(320a)으로부터 증발된 원료 물질을 공급받는다.Referring to FIG. 1, the thin film deposition apparatus according to the present invention includes a chamber 100, a substrate support part 200 provided in the chamber 100 to support a substrate S, and facing the substrate support part 200. And a raw material supply unit 300 for evaporating and supplying the raw material to the substrate S. Here, the raw material supply unit 300 receives the raw material evaporated from at least one evaporation source 320a selected from the plurality of evaporation sources 320a to 320c while the plurality of evaporation sources 320a to 320c; 320 are replaced.

챔버(100)는 원통형 또는 사각 박스 형상으로 형성되며, 내부에는 기판(S)을 처리할 수 있도록 소정의 반응 공간이 마련된다. 상기에서는 챔버(100)를 원통형 또는 사각 박스 형상으로 형성하였으나, 이에 한정되지 않으며 기판(S)의 형상에 대응되는 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 챔버(100)의 일측벽에는 기판(S)의 출입을 위한 게이트(110)가 형성될 수 있으며, 상기 챔버(100)의 타측벽에는 내부 배기를 위한 배기부(미도시)가 마련될 수 있다. 여기서, 게이트(110)는 슬릿 밸브(slit valve)로 구성될 수 있고, 배기부는 진공 펌프로 구성될 수 있다. 한편, 상기에서는 챔버(100)를 일체형으로 설명하였지만, 챔버(100)를 상부가 개방된 하부 챔버와, 하부 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드(lid)로 분리하여 구성할 수 있음은 물론이다.The chamber 100 is formed in a cylindrical or rectangular box shape, and a predetermined reaction space is provided inside the chamber 100 so as to process the substrate S. In the above, the chamber 100 is formed in a cylindrical or rectangular box shape, but is not limited thereto. The chamber 100 may be formed in a shape corresponding to the shape of the substrate S. In addition, a gate 110 for entering and exiting the substrate S may be formed at one side wall of the chamber 100, and an exhaust unit (not shown) for internal exhaust is provided at the other side wall of the chamber 100. Can be. Here, the gate 110 may be configured as a slit valve, and the exhaust may be configured as a vacuum pump. On the other hand, while the chamber 100 has been described as an integrated body, the chamber 100 may be divided into a lower chamber having an upper opening and a chamber lid covering the upper part of the lower chamber.

기판 지지부(200)는 챔버(100) 내의 상부에 마련되며, 챔버(100) 내로 인입된 기판(S)을 지지하고, 지지된 기판(S)을 하부로 이동시키는 역할을 한다. 이러한 기판 지지부(200)는 하부면에 기판(S)을 지지하는 지지대(210)와, 상기 지지대(210)를 이동시키는 구동부(220)를 포함한다. 지지대(210)는 통상 기판(S)의 형상과 대응되는 형상으로 형성되며, 예를 들어, 기판(S)이 원형일 경우 지지대(210)는 이와 대응되는 원형 형상으로 형성되고, 기판(S)이 다각형일 경우 지지대(210)는 이와 대응되는 다각 형상으로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 지지대(210)의 내부에는 주변 온도를 제어하는 수단(미도시) 예를 들어, 저항 발열 히터, 램프 히터 등의 가열 수단 또는 냉각 라인과 같은 냉각 수단이 추가로 마련될 수 있다. 도시되지는 않았지만, 본 실시예의 지지대(210)에는 기판(S)의 전단에 배치된 새도우 마스크(shadow mask)의 급격한 온도 상승을 방지하기 위해 냉각 라인이 매설된다. 구동부(220)는 지지대(210)의 상부에 연결되며, 기판(S)을 지지하는 지지대(210)를 하부로 이동시키는 역할을 한다. 즉, 구동부(220)는 기판(S)을 분배부(310)의 상부에서 분배부(310)와 중첩되도록 기판을 이동시킴으로써, 기판(S)에 균일한 박막이 증착되도록 이동시킨다. 예를 들어, 구동부(220)는 분배부(310)가 연장되는 방향과 교차하는 방향으로 지지대(210)를 이동시키므로, 분배부(310)에서 분사된 유기물이 기판(S)에 균일하게 도달되도록 한다. 여기서, 구동부(220)에 구동력을 제공하기 위해 구동부(220)는 전기 모터(230)와 같은 구동 부재를 포함할 수 있다. 그리고, 구동부(220)는 지지대(210)를 수직 또는 수평 방향으로 이동시키는 동시에 지지대(210)를 회전시킬 수도 있음은 물론이다. The substrate support part 200 is provided at an upper portion of the chamber 100, supports the substrate S introduced into the chamber 100, and serves to move the supported substrate S downward. The substrate support 200 includes a support 210 for supporting the substrate S on a lower surface thereof, and a driver 220 for moving the support 210. The support 210 is usually formed in a shape corresponding to the shape of the substrate S. For example, when the substrate S is circular, the support 210 is formed in a circular shape corresponding thereto, and the substrate S In the case of the polygon, the support 210 is preferably formed in a polygonal shape corresponding thereto. Inside the support 210, a means for controlling the ambient temperature (not shown), for example, a heating means such as a resistance heating heater, a lamp heater or a cooling means such as a cooling line may be further provided. Although not shown, a cooling line is embedded in the support 210 of the present embodiment to prevent a sudden temperature rise of a shadow mask disposed in front of the substrate S. The driving unit 220 is connected to the upper portion of the support 210, and serves to move the support 210 for supporting the substrate (S) to the bottom. That is, the driving unit 220 moves the substrate S so that the substrate S overlaps with the distribution unit 310 at the upper portion of the distribution unit 310, so that a uniform thin film is deposited on the substrate S. For example, the driving unit 220 moves the support 210 in a direction crossing the direction in which the distribution unit 310 extends, so that the organic material sprayed from the distribution unit 310 reaches the substrate S uniformly. do. Here, the driving unit 220 may include a driving member such as the electric motor 230 to provide a driving force to the driving unit 220. In addition, the driving unit 220 may also rotate the support 210 while moving the support 210 in the vertical or horizontal direction.

원료 공급 유닛(300)은 기판 지지부(200)에 대향하는 챔버(100) 내의 하부에 마련되어 기판(S)에 원료 물질을 증발시켜 공급하는 역할을 한다. 이러한 원료 공급 유닛(300)에 대해서는 이후에 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.The raw material supply unit 300 is provided at a lower portion in the chamber 100 opposite to the substrate support 200 to serve to evaporate and supply the raw material to the substrate S. This raw material supply unit 300 will be described in more detail later with reference to the drawings.

기판 지지부(200)와 원료 공급 유닛(300)의 사이에는 셔터(500)가 더 마련될 수 있으며, 이러한 셔터(500)는 증발된 원료 물질의 이동 경로를 제어하는 역할을 한다. 셔터(500)를 지지하기 위해 챔버(100)의 내측면에는 돌출부(120)가 형성될 수 있으며, 돌출부(120)의 상단에 셔터(500)를 안착시켜 고정시킬 수 있다. 여기서, 셔터(500)의 구조는 다양하게 변경할 수 있음은 물론이다. 또한, 챔버(100)의 내측에는 기판(S)에 증착되는 박막 두께를 측정할 수 있도록 두께 측정기(미도시)가 더 구비될 수 있다.A shutter 500 may be further provided between the substrate support 200 and the raw material supply unit 300, and the shutter 500 serves to control a movement path of the evaporated raw material. Protrusions 120 may be formed on the inner surface of the chamber 100 to support the shutters 500, and may be fixed by mounting the shutters 500 on top of the protrusions 120. Here, of course, the structure of the shutter 500 may be variously changed. In addition, a thickness meter (not shown) may be further provided inside the chamber 100 to measure the thickness of the thin film deposited on the substrate S.

한편, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 원료 공급 유닛(300)은 내부 공간에 원료 물질이 저장되고, 원료 물질이 증발되는 증발 통로를 구비하는 다수의 증발원(320a~320c;320)과, 상기 다수의 증발원(320a~320c;320) 중 적어도 하나(320a)에서 증발된 원료 물질을 다수의 경로로 분기시켜 배출하는 분배 통로를 구비하는 분배부(310) 및 상기 다수의 증발원(320a~320c;320) 중 적어도 하나(320a)의 증발 통로가 상기 분배부(310)의 분배 통로와 연통되도록 상기 다수의 증발원(320a~320c;320) 중 적어도 하나(320a)를 선택하여 이송하는 이송 부(330,340)를 포함한다. 또한, 도시되지는 않았지만, 상기 기판 지지부(200) 및 상기 공급 유닛(300) 중 적어도 하나에는 기판(S)과 분배부(310) 상호 간의 상대적 이동을 위한 별도의 구동 부재가 더 마련될 수 있다. 예를 들어, 기판(S)이 고정된 상태에서 분배부(310)를 왕복 이동시키거나 또는 이의 반대 동작을 수행하는 구동 부재가 마련됨으로써, 대면적의 기판(S)에 균일한 두께의 막을 형성할 수 있다.Meanwhile, referring to FIGS. 1 and 2, the raw material supply unit 300 according to the present invention includes a plurality of evaporation sources 320a to 320c having evaporation passages through which raw material is stored in an internal space and evaporated. And a distribution unit 310 having a distribution passage for branching and discharging raw material evaporated in at least one 320a of the plurality of evaporation sources 320a to 320c; 320 into a plurality of paths and the plurality of evaporation sources ( Selecting and transporting at least one of the plurality of evaporation sources (320a ~ 320c; 320) so that the evaporation passage of at least one (320a) of 320a ~ 320c; 320 is in communication with the distribution passage of the distribution unit 310 It includes a transfer unit (330, 340). In addition, although not shown, at least one of the substrate support 200 and the supply unit 300 may be further provided with a separate driving member for relative movement between the substrate (S) and the distribution unit 310. . For example, a driving member is provided to reciprocate the distribution unit 310 or perform the opposite operation while the substrate S is fixed, thereby forming a film having a uniform thickness on the large-area substrate S. can do.

분배부(310)는 챔버(100) 내의 하부에 마련되고, 구체적으로는 박막이 증착될 기판(S)의 일면과 대향하도록 이격 배치된다. 이러한 분배부(310)는 기판(S)의 일면에 증발된 원료 물질 예컨데, 유기물을 다수의 경로로 균일하게 분배하여 공급하는 역할을 한다. 이를 위해, 상기 분배부(310)는 승강부(330)에 의해 상부로 이동된 증발원(320a)이 인입되는 하측의 인입구(312)와 상기 인입구(312)를 통해 공급된 원료 물질을 다수의 경로로 분배하는 상측의 배출구(313)를 구비하고, 상기 인입구(312) 및 상기 배출구(313)와 상호 연통되며 증발된 원료 물질이 확산될 수 있는 소정의 확산 공간(311)이 내부에 형성된 몸체를 구비한다. 이때, 인입구(312), 인입구(312) 및 확산 공간(311)은 증발원(320a)에서 증발되어 분배부(310)로 공급되는 원료 물질이 다수의 경로로 분기되어 배출되는 분배 통로를 형성한다.The distribution unit 310 is provided below the chamber 100, and specifically, is spaced apart from one surface of the substrate S on which the thin film is to be deposited. The distribution unit 310 serves to uniformly distribute and supply the raw material evaporated to one surface of the substrate S, for example, an organic material in a plurality of paths. To this end, the distribution unit 310 has a plurality of paths through the lower inlet 312 and the raw material supplied through the inlet 312 is introduced into the evaporation source 320a moved upward by the elevating unit 330 The body having an outlet 313 of the upper side for distributing to the inlet 312 and the outlet 313 and having a predetermined diffusion space 311 in which the evaporated raw material can be diffused are formed. Equipped. In this case, the inlet 312, the inlet 312 and the diffusion space 311 forms a distribution passage in which the raw material that is evaporated from the evaporation source 320a and supplied to the distribution unit 310 is branched and discharged in a plurality of paths.

상기 몸체 내부의 확산 공간(311)에는 인입구(312)와 배출구(313) 사이에 배플판(314)을 더 설치하여, 배출구(313)의 전단에 공급되는 증발된 원료 물질의 분포를 더욱 균일하게 할 수 있다. 상기 배출구(313)는 확산 공간(311)에서 분배부(310)의 상면을 관통하도록 형성되어, 기판(S) 방향으로 증발된 원료 물질을 공 급하는 노즐 역할을 한다. 이때, 기판(S)의 중심부뿐만 아니라 기판(S)의 주변부에도 원료 물질이 균일하게 도달되도록, 분배부(310)의 중심부에 위치된 배출구는 출구가 기판면과 수직을 이루도록 형성되고, 분배부(310)의 주변부로 갈수록 배출구의 출구는 기판면의 외측을 향해 더욱 경사지게 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 증발되는 원료 물질의 직진성이 커지도록 배출구(313)는 하부에서 상부 즉, 입구에서 출구로 갈수록 내부 직경이 점차 작아지게 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 본 실시예의 배출구(313)는 역 깔때기 형상의 수직 단면을 갖는 소정 길이의 파이프(pipe)로 구성된다. 물론, 상기의 배출구(313)는 단순하게 분배부(310)의 몸체 상면에 형성된 구멍 형태로 구성될 수도 있을 것이다.In the diffusion space 311 inside the body, a baffle plate 314 is further provided between the inlet 312 and the outlet 313 to more uniformly distribute the evaporated raw material supplied to the front end of the outlet 313. can do. The outlet 313 is formed to penetrate the upper surface of the distribution unit 310 in the diffusion space 311, and serves as a nozzle for supplying the raw material evaporated toward the substrate (S). At this time, the outlet located at the center of the distribution unit 310 is formed such that the outlet is perpendicular to the substrate surface so that the raw material is uniformly reached not only in the center of the substrate S but also in the periphery of the substrate S. It is preferable that the outlet of the outlet toward the periphery of the 310 is formed more inclined toward the outside of the substrate surface. In addition, the outlet 313 is preferably formed such that the inner diameter gradually decreases from the lower portion to the upper portion, that is, the inlet to the outlet so as to increase the straightness of the evaporated raw material. For example, the outlet 313 of this embodiment consists of a pipe of a predetermined length having a vertical cross section of an inverted funnel shape. Of course, the outlet 313 may simply be configured in the form of a hole formed in the upper surface of the body of the distribution unit 310.

증발원(320)은 분말 형태의 원료 물질을 증발시켜 증발된 원료 물질을 챔버(100) 내에 마련된 분배부(310)에 공급하는 역할을 하며, 다수의 증발원(320a~320c)이 번갈아가며 교체되어 분배부(310)에 증발된 원료 물질을 공급한다. 이러한 증발원(320)은 도가니(321)와, 도가니(321) 내에 마련된 용기(323)와, 상기 용기(323)와 도가니(321) 사이에 마련된 가열 부재(322)를 포함한다. 도가니(321)는 상부가 개방된 박스 형상으로 형성되며, 도가니(321)의 내부에는 분말 형태의 원료 물질이 채워진 용기(323)가 마련된다. 용기(323)의 상부는 개방되어 증발된 원료 물질이 외부로 배출되는 증발 통로를 형성한다. 이러한 용기(323)의 바닥에는 센서(324)가 마련되는 것이 바람직하다. 상기 센서(324)는 용기(323) 내에 저장된 원료 물질의 소모량을 체크하여 증발원(320)의 교체 시점을 알려주는 역할을 하며, 무게 또는 온도 등을 측정할 수 있는 공지의 다양한 센서로 구성될 수 있다. 예를 들어, 도가니(321)에서 원료 물질이 증발되어 점차 양이 줄어들게 되면 도가니(321)의 내부 온도가 상승하게 된다. 이때, 어느 일정량의 원료 물질이 남았을 때의 온도를 측정하여 이때의 온도를 증발원(320)의 교체 시점으로 할 수 있다.The evaporation source 320 serves to supply the evaporated raw material to the distribution unit 310 provided in the chamber 100 by evaporating the raw material in powder form, and the evaporation sources 320a to 320c are alternately replaced. The evaporated raw material is supplied to the distribution 310. The evaporation source 320 includes a crucible 321, a container 323 provided in the crucible 321, and a heating member 322 provided between the container 323 and the crucible 321. The crucible 321 is formed in a box shape with an open top, and a container 323 filled with a raw material in powder form is provided in the crucible 321. The top of the vessel 323 is opened to form an evaporation passage through which the evaporated raw material is discharged to the outside. The sensor 324 is preferably provided at the bottom of the container 323. The sensor 324 serves to inform the time of replacement of the evaporation source 320 by checking the consumption amount of the raw material stored in the container 323, and may be composed of various known sensors capable of measuring weight or temperature. have. For example, when the raw material is evaporated in the crucible 321 and gradually decreases, the internal temperature of the crucible 321 is increased. At this time, by measuring the temperature when a certain amount of the raw material remains, the temperature at this time may be the time of replacement of the evaporation source (320).

또한, 용기(323)와 도가니(321) 사이에는 히터 등의 가열 부재(322)가 더 마련될 수 있으며, 이러한 가열 부재(322)는 용기(323)에 열을 제공하여 용기(323) 내에 저장된 분말 형태의 원료 물질을 기화시키는 역할을 한다. 여기서, 가열 부재(324)는 용기(323)에 부착될 수 있으며, 도가니(321)의 내측벽에 부착되어 형성될 수도 있다. 또한, 도시하지는 않았지만, 용기(323)에는 증발 통로에서 연장되는 연결 튜브(tube)가 더 마련되어, 이러한 연결 튜브가 분배부(310)의 인입구(312)의 내측으로 삽입되어 용기(323)의 분배 통로와 분배부(310)의 분배 통로가 더욱 용이하게 연통될 수 있다.In addition, a heating member 322 such as a heater may be further provided between the container 323 and the crucible 321, and the heating member 322 provides heat to the container 323 and is stored in the container 323. It serves to vaporize the raw material in powder form. Here, the heating member 324 may be attached to the container 323, may be formed attached to the inner wall of the crucible 321. In addition, although not shown, the container 323 is further provided with a connection tube extending from the evaporation passage, such a connection tube is inserted into the inlet 312 of the distribution portion 310 to distribute the container 323. The passage and the distribution passage of the distribution unit 310 may be more easily communicated.

이송부(330,340)는 다수의 증발원(320a~320c) 중 적어도 하나(320a)의 증발 통로가 분배부(310)의 분배 통로와 연통되도록 다수의 증발원(320a~320c) 중 적어도 하나(320a)를 상하 이동, 좌우 이동 및 회전 이동 중 적어도 하나의 방식으로 이송한다. 예를 들어, 상기의 이송부(330,340)는 다수의 증발원(320a~320c)이 적재되는 이송 스테이지(stage)(340) 및 상기 이송 스테이지(340)에 적재된 다수의 증발원(320a~320c) 중 적어도 하나를 승강시키는 승강부(330)를 포함한다.The transfer units 330 and 340 may move up and down at least one of the plurality of evaporation sources 320a to 320c such that the evaporation passages of at least one 320a of the plurality of evaporation sources 320a to 320c communicate with the distribution passages of the distribution unit 310. It conveys in at least one of a movement, a left-right movement, and a rotational movement. For example, the transfer units 330 and 340 may include at least one of a transfer stage 340 on which a plurality of evaporation sources 320a to 320c are stacked, and a plurality of evaporation sources 320a to 320c mounted on the transfer stage 340. It includes a lifting unit 330 for lifting one.

상기 이송 스테이지(340)는 다수의 증발원(320a~320c) 중 적어도 하나(320a)를 하강된 승강부(330)의 상부로 이동시킴으로써 새로운 증발원을 승강부(330)에 적재하거나, 또는 이의 반대 과정을 통해 사용된 증발원을 회수하는 역할을 한다. 이러한 이송 스테이지(340)는 분배부(310)와 챔버(100) 바닥의 사이에 설치되고, 일렬로 적재된 다수의 증발원(320a~320c)이 좌우로 이동되도록 구성된다. 물론, 이와는 달리, 상기의 이송 스테이지(340)는 원형 구조 또는 다각형 구조로 적재된 다수의 증발원(320a~320c)이 회전되도록 구성될 수도 있다. 한편, 각각의 증발원(320a~320c)이 적재된 이송 스테이지(341)의 소정 영역에는 상하로 관통 형성된 관통홀(341)이 마련되어, 상기의 관통홀(341)에 의해 각각의 증발원(320a~320c)의 하면 일부가 노출되는 것이 바람직하다.The transfer stage 340 loads a new evaporation source on the lifting unit 330 by moving at least one 320a of the plurality of evaporation sources 320a to 320c to the upper portion of the lowered lifting unit 330, or the reverse process thereof. It serves to recover the used evaporation source through. The transfer stage 340 is installed between the distribution unit 310 and the bottom of the chamber 100, and is configured such that a plurality of evaporation sources 320a to 320c stacked in a row move left and right. Of course, the transfer stage 340 may be configured such that a plurality of evaporation sources 320a to 320c loaded in a circular structure or a polygonal structure are rotated. On the other hand, a predetermined through hole 341 is formed in a predetermined region of the transfer stage 341 on which the evaporation sources 320a to 320c are stacked, and the evaporation sources 320a to 320c are formed by the through holes 341. ), It is desirable to expose a portion of the lower surface.

상기 승강부(330)는 이송 스테이지(340)의 관통홀(340)을 통해 노출된 증발원(320a)의 하면을 지지함과 동시에 이송 스테이지(340)의 관통홀(340)을 통과하여 승강되도록 구성됨으로써, 이송 스테이지(340) 상에 적재된 증발원(320a)을 소정 높이로 승강시킨다. 이러한 승강부(330)는 상하로 이동가능한 지지대(331)와, 상기 지지대(331)에 구동력을 제공하는 구동부(332)를 포함하고, 상기 지지대(331)가 챔버(100) 외측으로 연장되는 경우에 있어서는 상기 지지대(331)와 상기 챔버(100)의 연결 영역에 설치되는 기밀 부재(333)를 더 포함할 수 있다. 상기 기밀 부재(333)로는 통상적인 벨로우즈(bellows)가 사용될 수 있고, 상기 구동부(332)로는 전기 모터와 같은 동력 수단이 사용될 수 있다.The lifting unit 330 is configured to support the lower surface of the evaporation source 320a exposed through the through hole 340 of the transfer stage 340 and to move up and down through the through hole 340 of the transfer stage 340. As a result, the evaporation source 320a mounted on the transfer stage 340 is raised and lowered to a predetermined height. The lifting unit 330 includes a support 331 movable up and down and a driving unit 332 which provides a driving force to the support 331, and the support 331 extends outside the chamber 100. In the present invention, the support member 331 may further include an airtight member 333 installed in the connection region of the chamber 100. Conventional bellows may be used as the airtight member 333, and power means such as an electric motor may be used as the driving unit 332.

일단, 챔버(100) 내부로 다수로 증발원(320a~320c)이 인입되면, 인입된 다수의 증발원(320a~320c)은 이송 스테이지(340) 상에 일렬로 적재되어 수평 방향으로 이동된다. 이어, 도 1에 도시된 바와 같이, 이송 방향의 전단에 위치된 증발원(320a)이 하강된 승강부(330)의 상부로 이송되면, 승강부(330)는 이송 스테이 지(340)에 형성된 관통홀(341)을 통해 증발원(320a)의 하면을 지지한 상태에서 소정 높이만큼 상승한다. 이어, 도 2에 도시된 바와 같이, 승강부(330)가 더욱 상승함에 따라 증발원(320a)도 함께 상승하여 증발원(320a)의 내부에 마련된 용기(323)의 증발 통로는 분배부(310)의 하부에 형성된 인입구(312)의 내측으로 삽입된다. 이어, 증발원(320a)에 마련된 가열 부재(322)에 의해 용기(323) 내에 저장된 분말 형태의 원료 물질은 기화되어 증발되고, 증발된 원료 물질은 분배부(310)의 확산 공간(311)으로 공급된다. 확산 공간(311)에 공급된 증발된 원료 물질은 분배부(310)의 내부에서 배플판(314)에 의해 균일한 분포를 가지게 되고, 분배부(310)의 상측에 형성된 배출구(312)를 통해 외부로 배출되어 기판(S)에 공급된다. 소정의 시간이 지나 증발원(320a)에 저장된 원료 물질이 소진되면, 원료 물질이 소진된 증발원(320a)은 승강부(330)에 의해 하강되어 이송 스테이지(340) 상에 적재되어 이송되고, 원료 물질이 저장된 다음의 증발원(320b)이 이송 스테이지(341) 상에 적재되어 하강된 승강부(330)의 상부로 이송된다. 이어, 전술한 바와 같은 동일한 방법으로, 승강부(330)에 의해 원료 물질이 충진된 증발원(320b)을 상승시켜, 증발원(320b)의 내부에 마련된 용기(323)의 증발 통로를 분배부(310)의 인입구(312) 내측으로 삽입시킨다. 이에 따라, 용기(323)의 분배 통로와 분배부(310)의 분배 통로가 상호 연통되면, 증발원(320b)에 저장된 원료 물질을 기화시켜 증발된 원료 물질을 분배부(310)에 공급한다. 즉, 원료 물질이 소진된 증발원(320a)을 원료 물질이 충진된 새로운 증발원(320b)으로 교체한다.Once a plurality of evaporation sources 320a to 320c are introduced into the chamber 100, the introduced plurality of evaporation sources 320a to 320c are stacked in a row on the transfer stage 340 and moved in a horizontal direction. Subsequently, as shown in FIG. 1, when the evaporation source 320a located at the front end of the transfer direction is transferred to the upper portion of the lowered lift 330, the lift 330 passes through the transfer stage 340. Ascending by the predetermined height while supporting the lower surface of the evaporation source (320a) through the hole (341). Subsequently, as shown in FIG. 2, as the lifting unit 330 further rises, the evaporation source 320a also rises together, so that the evaporation passage of the container 323 provided inside the evaporation source 320a is formed in the distribution unit 310. It is inserted into the inlet 312 formed in the lower portion. Subsequently, the raw material in the form of powder stored in the container 323 is evaporated and evaporated by the heating member 322 provided in the evaporation source 320a, and the evaporated raw material is supplied to the diffusion space 311 of the distribution unit 310. do. The evaporated raw material supplied to the diffusion space 311 has a uniform distribution by the baffle plate 314 inside the distribution unit 310, and through the discharge port 312 formed above the distribution unit 310. It is discharged to the outside and supplied to the substrate (S). When the raw material stored in the evaporation source 320a is exhausted after a predetermined time, the evaporation source 320a in which the raw material is exhausted is lowered by the lifting unit 330 to be loaded and transported on the transfer stage 340, and the raw material This stored next evaporation source 320b is loaded on the transfer stage 341 and transferred to the upper portion of the lowered lift 330. Subsequently, in the same manner as described above, the evaporation source 320b in which the raw material is filled by the elevating unit 330 is raised to distribute the evaporation passage of the container 323 provided inside the evaporation source 320b. ) Is inserted into the inlet 312. Accordingly, when the distribution passage of the container 323 and the distribution passage of the distribution unit 310 communicate with each other, the raw material stored in the evaporation source 320b is vaporized to supply the evaporated raw material to the distribution unit 310. That is, the evaporation source 320a in which the raw material is exhausted is replaced with a new evaporation source 320b in which the raw material is filled.

이와 같은 원료 공급 유닛은 챔버(100) 내부에 원료 물질이 저장된 다수의 증발원(320a~320c)을 마련해두고, 원료 물질이 소진되면 증발원을 즉각 교체하는 방식으로 균일하게 분배된 원료 물질을 기판(S)에 공급함으로써, 챔버(100)를 개방하여 원료 물질을 교체하지 않고서도 원하는 만큼의 원료 물질을 충분히 공급할 수 있다. 또한, 다량의 원료 물질을 다수의 증발원(320a~320c)에 분산시켜 소량으로 공급함으로써, 분말 원료의 기화 시간을 단축시켜 열에 의한 원료 물질의 변성을 방지할 수 있다.The raw material supply unit has a plurality of evaporation sources 320a to 320c in which the raw materials are stored in the chamber 100, and when the raw material is exhausted, the raw material is uniformly distributed in such a manner as to immediately replace the evaporation source. ), It is possible to supply as much raw material as desired without opening the chamber 100 to replace the raw material. In addition, by dispersing a large amount of the raw material in a plurality of evaporation sources (320a ~ 320c) and supplying a small amount, it is possible to shorten the evaporation time of the powder raw material to prevent the modification of the raw material by heat.

한편, 본 발명에 따른 원료 공급 유닛은 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 다양하게 변형될 수 있다. 여기서, 도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 원료 공급 유닛이 구비된 박막 증착 장치의 변형예를 나타낸 단면도이다.Meanwhile, the raw material supply unit according to the present invention may be variously modified as shown in FIGS. 3 and 4. 3 and 4 are cross-sectional views showing modifications of the thin film deposition apparatus with a raw material supply unit according to the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 원료 공급 유닛(600)은 소정 거리로 이격 배치된 다수의 증발원(620a~620c)과, 상기 다수의 증발원(620a~620c)을 지지하여 이송하는 이송 스테이지(640) 및 상기 이송 스테이지(640)에 의해 이송된 다수의 증발원(620a,620b)를 동시에 상부로 이동시키는 승강부(630)를 구비하는 이송부(630,640)와, 상부로 다수의 증발원(620a,620b)과 결합되어 원료 물질을 공급받는 분배부(610)를 포함한다. 여기서, 분배부(610)는 다수의 증발원(620a,620b)이 인입되어 결합될 수 있는 다수의 인입구(612a,612b)를 구비하며, 상기 다수의 인입구(612a,612b)를 통해 공급된 원료 물질을 내부에서 균일하게 하여 상부로 배출한다.As shown in FIG. 3, the raw material supply unit 600 supports a plurality of evaporation sources 620a to 620c and a plurality of evaporation sources 620a to 620c disposed to be spaced apart by a predetermined distance, and transports the transfer stage 640. And transfer parts 630 and 640 having lift portions 630 for simultaneously moving the plurality of evaporation sources 620a and 620b transferred by the transfer stage 640 to the upper portion, and a plurality of evaporation sources 620a and 620b upward. The distribution unit 610 is coupled to receive the raw material. Here, the distribution unit 610 includes a plurality of inlets 612a and 612b into which a plurality of evaporation sources 620a and 620b can be introduced and combined, and the raw materials supplied through the plurality of inlets 612a and 612b. It is discharged to the top by making it uniform inside.

승강부(630)는 이송 스테이지(640)의 하부에 마련되어 상기 이송 스테이지(640)에 적재된 다수의 증발원(620a~620c) 중 일부 또는 전체를 동시에 승강시키 는 역할을 한다. 예를 들어, 본 실시예의 승강부(630)는 2개의 증발원(620a,620b)을 동시에 승강시킬 수 있도록, 수직으로 이격 배치된 제 1, 제 2 지지대(631a,631b)와, 제 1, 제 2 지지대(631a,631b)의 하부를 상호 연결하는 연결부(632) 및 상기 연결부(632)의 하측 중심에 결합된 구동부(633)를 포함한다. 상기 제 1, 제 2 지지대(631a,631b)는 이송 스테이지(640)의 관통홀(641)을 통과하여 이송 스테이지(640)에 적재된 2개의 증발원(620a,620b)을 상부로 이동시킨다. 상기 연결부(632)는 제 1, 제 2 지지대(631a,631b)의 하단을 상호 연결하여 동시에 지지하는 역할을 하며, 상기 연결부(632)의 하측 중심에 구동력을 제공하는 구동부(633)가 연결된다.  The elevating unit 630 is provided below the transfer stage 640 and simultaneously serves to elevate some or all of the plurality of evaporation sources 620a to 620c loaded on the transfer stage 640. For example, the elevating part 630 of the present embodiment includes first and second supports 631a and 631b vertically spaced apart from each other so as to simultaneously elevate two evaporation sources 620a and 620b. 2 includes a connecting portion 632 for interconnecting the lower portions of the support (631a, 631b) and a driving portion 633 coupled to the lower center of the connecting portion 632. The first and second supports 631a and 631b move through the through holes 641 of the transfer stage 640 to move two evaporation sources 620a and 620b mounted on the transfer stage 640 upward. The connection part 632 serves to simultaneously support the lower ends of the first and second support members 631a and 631b by interconnecting each other, and a driving part 633 is provided to provide a driving force to the lower center of the connection part 632. .

이송 스테이지(640) 상에 다수의 증발원(620a~620c)이 적재되어 소정 위치로 이송되면, 다수의 증발원(620a~620c) 중 일부 즉, 2개의 증발원(620a,620b)은 승강부(630)에 의해 동시에 상부로 이동되어 분배부(610)의 하부면에 마련된 인입구(612a,612b)에 삽입되고, 상기 2개의 증발원(620a,620b)에서 증발된 원료 물질을 상기 분배부(610)의 내부로 동시에 공급할 수 있다. 물론, 2개 이상의 증발원이 분배부(610)에 결합될 경우라면 분배부(610)의 하측에 형성된 인입구 또한 이에 대응하는 개수로 형성되어야 할 것이다.When a plurality of evaporation sources 620a to 620c are loaded and transferred to a predetermined position on the transfer stage 640, some of the plurality of evaporation sources 620a to 620c, that is, the two evaporation sources 620a and 620b, may be elevated. Are simultaneously moved upward and inserted into the inlets 612a and 612b provided on the lower surface of the distribution unit 610, and the raw materials evaporated from the two evaporation sources 620a and 620b are internal to the distribution unit 610. Can be supplied simultaneously. Of course, if two or more evaporation sources are coupled to the distribution unit 610, the inlets formed at the lower side of the distribution unit 610 should also be formed in the corresponding number.

이와 같은 원료 공급 유닛(600)은 다수의 증발원(620a,620b이 분배부(610)에 결합 가능하게 구성되므로, 다수의 증발원(620a,620b에서 증발된 원료 물질이 동시에 분배부(610)로 공급될 수 있다. 따라서, 박막 형성에 필요한 원료 물질을 원하는 만큼 충분히 공급할 수 있으므로, 박막 품질을 향상시킬 수 있고 증착 시간을 단축시킬 수 있다. 한편, 상기에서는 다수의 증발원(620a,620b)을 분배부(610)에 결합하여 동시에 증발된 원료 물질을 공급하는 것으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 분배부(610)에 결합된 다수의 증발원(620a,620b) 중 하나의 증발원(620a 또는 620b)에서만 증발된 원료 물질을 분배부(610)로 공급할 수 있다. 이는 하나의 증발원((620a 또는 620b)이 고장나더라도 공정의 중단 없이 지속적으로 공정을 진행할 수 있는 효과가 있다.Since the raw material supply unit 600 is configured such that a plurality of evaporation sources 620a and 620b are coupled to the distribution unit 610, the raw material evaporated in the plurality of evaporation sources 620a and 620b is simultaneously supplied to the distribution unit 610. Therefore, since sufficient raw materials for forming the thin film can be supplied as desired, the quality of the thin film can be improved and the deposition time can be shortened, whereas the plurality of evaporation sources 620a and 620b are provided in the distribution unit. Although the present invention is described as supplying a raw material evaporated at the same time by combining with 610, the present invention is not limited thereto, and one evaporation source 620a or 620b of the plurality of evaporation sources 620a and 620b coupled to the distribution unit 610 may be used. ) Only the evaporated raw material may be supplied to the distribution unit 610. This has the effect of continuing the process without interruption of the process even if one evaporation source (620a or 620b) fails.

또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 원료 공급 유닛(700)은 소정 거리로 이격 배치된 다수의 증발원(720a~720c)과, 상기 다수의 증발원(720a~720c)을 지지하여 이송하는 이송 스테이지(740) 및 상기 이송 스테이지(740)에 의해 이송된 다수의 증발원(720a,720b) 각각을 상부로 이동시키는 다수의 승강부(730a,730b) 및 상부로 다수의 증발원(720a,720b)과 결합되어 원료 물질을 공급받는 분배부(710)를 포함한다. 여기서, 도 3과 중복되는 설명은 생략한다.In addition, as illustrated in FIG. 4, the raw material supply unit 700 supports a plurality of evaporation sources 720a to 720c and a plurality of evaporation sources 720a to 720c disposed to be spaced apart by a predetermined distance. 740 and a plurality of lift portions 730a and 730b for moving the plurality of evaporation sources 720a and 720b transferred by the transfer stage 740 to the top and a plurality of evaporation sources 720a and 720b to the top. Distribution unit 710 receives the raw material. Here, description overlapping with FIG. 3 is omitted.

승강부(730)는 이송 스테이지(740)의 하부에 마련되어 이송 스테이지(740) 상에 적재된 다수의 증발원(720a~720c) 중 일부 또는 전체를 동시 또는 각각 승강시키는 역할을 한다. 예를 들어, 본 실시예의 승강부(730)는 2개의 증발원(720a,720b)을 동시에 또는 각각 승강시킬 수 있도록, 제 1 승강부(730a) 및 제 2 승강부(730b)를 포함한다. 이러한 제 1 승강부(730a) 및 제 2 승강부(730b)는 필요에 따라 2개의 증발원(720a,720b)을 동시에 또는 각각 상부로 이동시켜 분배부(710)로 공급되는 원료 물질의 증발량을 제어할 수 있다.The lifting unit 730 is provided below the transfer stage 740 to simultaneously lift or lift some or all of the plurality of evaporation sources 720a to 720c loaded on the transfer stage 740. For example, the lifting unit 730 of the present embodiment includes a first lifting unit 730a and a second lifting unit 730b to simultaneously lift or lift the two evaporation sources 720a and 720b. The first elevating unit 730a and the second elevating unit 730b control the evaporation amount of the raw material supplied to the distribution unit 710 by moving two evaporation sources 720a and 720b at the same time or respectively upwards as necessary. can do.

이와 같은 원료 공급 유닛(700)은 다수의 증발원(720a,720b)이 동시에 또는 각각 분배부(710)에 결합 가능하게 구성되므로, 다량의 원료 물질을 충분히 공급할 수 있는 동시에 증발원 교체시 교체된 증발원으로부터 원료 물질이 원활하게 공급되기까지의 대기 시간을 최소화할 수 있다.Since the raw material supply unit 700 is configured such that a plurality of evaporation sources 720a and 720b can be coupled to the distribution unit 710 at the same time or separately, the raw material supply unit 700 can supply a large amount of raw material sufficiently and at the same time, The waiting time for the supply of raw materials can be minimized.

한편, 전술한 원료 공급 유닛들(300,600,700)은 실시예에 따라 각각 설명하였지만, 이들이 조합되어 사용될 수 있음은 물론이다.On the other hand, the above-described raw material supply units (300, 600, 700) has been described in accordance with the embodiment, respectively, of course, they can be used in combination.

이상, 본 발명에 대하여 전술한 실시예 및 첨부된 도면을 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 후술되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명이 다양하게 변형 및 수정될 수 있음을 알 수 있을 것이다.As mentioned above, although this invention was demonstrated with reference to the above-mentioned Example and an accompanying drawing, this invention is not limited to this, It is limited by the following claims. Therefore, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be variously modified and modified without departing from the technical spirit of the following claims.

도 1은 본 발명에 따른 원료 공급 유닛을 구비하는 박막 증착 장치를 나타낸 개략 단면도.1 is a schematic cross-sectional view showing a thin film deposition apparatus having a raw material supply unit according to the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 원료 공급 유닛의 동작을 설명하기 위한 개략 단면도.2 is a schematic cross-sectional view for explaining the operation of the raw material supply unit according to the present invention.

도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 원료 공급 유닛이 구비된 박막 증착 장치의 변형예를 나타낸 개략 단면도.3 and 4 are schematic cross-sectional views showing a modification of the thin film deposition apparatus with a raw material supply unit according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 챔버 200: 기판 지지부100: chamber 200: substrate support

300: 원료 공급 유닛 310: 분배부300: raw material supply unit 310: distribution part

320: 증발원 330: 승강부320: evaporation source 330: lifting unit

340: 이송 스테이지 321: 도가니340: transfer stage 321: crucible

324: 센서324: sensor

Claims (20)

내부 공간에 원료 물질이 저장되고, 원료 물질이 증발되는 증발 통로를 구비하는 다수의 증발원;A plurality of evaporation sources having an evaporation passage through which the raw material is stored and the raw material is evaporated; 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나에서 증발된 원료 물질을 다수의 경로로 분기시켜 배출하는 분배 통로를 구비하는 분배부; 및A distribution unit having a distribution passage for branching and discharging raw material evaporated in at least one of the plurality of evaporation sources into a plurality of paths; And 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나의 증발 통로가 상기 분배부의 분배 통로와 연통되도록 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나를 선택하여 이송하는 이송부; 를 포함하는 원료 공급 유닛.A transfer unit for selecting and transferring at least one of the plurality of evaporation sources such that at least one evaporation passage of the plurality of evaporation sources communicates with a distribution passage of the distribution unit; Raw material supply unit comprising a. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 이송부는 상기 다수의 증발원이 적재되는 이송 스테이지를 구비하고,The transfer unit includes a transfer stage on which the plurality of evaporation sources are loaded, 상기 이송 스테이지는 상하 이동, 좌우 이동 및 회전 이동 중 적어도 하나의 방식으로 증발원을 이송하는 원료 공급 유닛.The transfer stage is a raw material supply unit for transferring the evaporation source in at least one of vertical movement, horizontal movement and rotational movement. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2, 상기 이송부는 상기 이송 스테이지의 상하를 관통하여 형성된 관통홀을 포함하는 원료 공급 유닛.The feeder comprises a through hole formed through the top and bottom of the transfer stage. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 관통홀을 통과하여 상기 이송 스테이지에 적재된 증발원을 승강시키는 승강부를 더 구비하는 원료 공급 유닛.And a lift unit configured to move the evaporation source loaded on the transfer stage through the through hole. 청구항 4에 있어서,The method according to claim 4, 상기 승강부는 증발원을 지지하는 지지대 및 상기 지지대에 구동력을 제공하는 구동부를 포함하는 원료 공급 유닛.The elevating unit includes a support for supporting an evaporation source and a driving unit for providing a driving force to the support. 청구항 5에 있어서,The method according to claim 5, 상기 승강부는 다수의 증발원을 동시에 승강시키는 원료 공급 유닛.The elevating unit is a raw material supply unit for elevating a plurality of evaporation sources at the same time. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6, 상기 승강부는 다수의 증발원을 지지하는 다수의 지지대와,The lifting unit has a plurality of supports for supporting a plurality of evaporation sources, 상기 다수의 지지대를 연결하는 연결 부재 및A connection member connecting the plurality of supports; 상기 연결 부재에 구동력을 제공하는 구동부를 포함하는 원료 공급 유닛.Raw material supply unit comprising a drive unit for providing a driving force to the connecting member. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2, 상기 이송 스테이지 상에는 다수의 증발원이 일렬 구조로 적재되는 원료 공급 유닛.And a plurality of evaporation sources are stacked in a row on the transfer stage. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2, 상기 이송 스테이지 상에는 다수의 증발원이 원형 구조 또는 다각형 구조로 적재되는 원료 공급 유닛.The raw material supply unit is a plurality of evaporation source is loaded in a circular structure or polygonal structure on the transfer stage. 청구항 1에 있어서The method according to claim 1 상기 다수의 증발원은 증발 통로에서 연장되는 연결 튜브를 구비하는 원료 공급 유닛.And the plurality of evaporation sources comprises a connection tube extending from the evaporation passage. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 다수의 증발원은 원료 물질의 잔량을 감지하는 센서를 구비하는 원료 공급 유닛.The plurality of evaporation source is a raw material supply unit having a sensor for detecting the remaining amount of the raw material. 청구항 11에 있어서,The method according to claim 11, 상기 다수의 증발원은 원료 물질이 저장되는 용기를 더 포함하고, 상기 용기의 내부 또는 외부에 센서가 마련되는 원료 공급 유닛.The plurality of evaporation source further comprises a container in which the raw material is stored, the raw material supply unit is provided with a sensor inside or outside the container. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 분배부의 분배 통로는 원료 물질이 공급되는 인입구와 원료 물질이 배출되는 배출구 및 상기 인입구와 상기 배출구 사이에 설치되는 배플판을 포함하는 원료 공급 유닛.The distribution passage of the distribution unit includes a feed inlet for supplying a raw material, an outlet for discharging the raw material, and a baffle plate disposed between the inlet and the outlet. 청구항 13에 있어서,14. The method of claim 13, 상기 배출구는 분배부의 중심에서 주변으로 갈수록 기판의 외측을 향해 더욱 경사지게 배치되는 원료 공급 유닛.The outlet is a raw material supply unit is disposed more inclined toward the outside of the substrate toward the periphery from the center of the distribution. 챔버;chamber; 상기 챔버 내에 마련되어 기판을 지지하는 기판 지지부; 및A substrate support part provided in the chamber to support a substrate; And 상기 기판 지지부와 대향 배치되어 기판에 원료 물질을 증발시켜 공급하는 원료 공급 유닛; 를 포함하고,A raw material supply unit disposed to face the substrate support part to evaporate and supply a raw material to the substrate; Including, 상기 원료 공급 유닛은 다수의 증발원이 교체되면서 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나로부터 공급된 원료 물질을 공급받는 박막 증착 장치.And the raw material supply unit receives a raw material material supplied from at least one of the plurality of evaporation sources while the plurality of evaporation sources are replaced. 청구항 15에 있어서,The method according to claim 15, 상기 원료 공급 유닛은,The raw material supply unit, 내부 공간에 원료 물질이 저장되고, 원료 물질이 증발되는 증발 통로를 구비하는 다수의 증발원;A plurality of evaporation sources having an evaporation passage through which the raw material is stored and the raw material is evaporated; 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나에서 증발된 원료 물질을 다수의 경로로 분기시켜 배출하는 분배 통로를 구비하는 분배부; 및A distribution unit having a distribution passage for branching and discharging raw material evaporated in at least one of the plurality of evaporation sources into a plurality of paths; And 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나의 증발 통로가 상기 분배부의 분배 통로와 연통되도록 상기 다수의 증발원 중 적어도 하나를 선택하여 이송하는 이송부; 를 포함하는 박막 증착 장치.A transfer unit for selecting and transferring at least one of the plurality of evaporation sources such that at least one evaporation passage of the plurality of evaporation sources communicates with a distribution passage of the distribution unit; Thin film deposition apparatus comprising a. 청구항 16에 있어서The method according to claim 16 상기 원료 공급 유닛 및 상기 기판 지지부 중 적어도 하나에는 기판과 분배부 상호 간의 상대적 이동을 위해 위한 구동 부재가 더 마련되는 박막 증착 장치.At least one of the raw material supply unit and the substrate support is further provided with a driving member for the relative movement between the substrate and the distribution unit. 원료 물질을 균일하게 분배하여 공급하는 원료 공급 방법에 있어서,In the raw material supply method for uniformly distributing and supplying the raw material, 원료 물질이 충진된 제 1 증발원을 분배부에 결합시켜 원료 물질을 상기 분배부로 공급하는 단계;Coupling a first evaporation source filled with raw material to a distribution unit and supplying raw material to the distribution unit; 상기 원료 물질의 잔량을 감지하여 원료 물질이 소진되면 상기 제 1 증발원을 분리하는 단계; 및Sensing the remaining amount of the raw material and separating the first evaporation source when the raw material is exhausted; And 원료 물질이 충진된 제 2 증발원을 상기 분배부에 결합시켜 원료 물질을 분배부로 공급하는 단계; 를 포함하는 원료 공급 방법.Coupling a second evaporation source filled with the raw material to the distribution part to supply the raw material to the distribution part; Raw material supply method comprising a. 청구항 18에 있어서,19. The method of claim 18, 상기 분배부에는 기화 상태로 증발된 원료 물질이 공급되는 원료 공급 방법.Raw material supply method is supplied to the distribution unit evaporated raw material in the vaporized state. 청구항 18에 있어서,19. The method of claim 18, 상기 제 1, 제 2 증발원은 동일 챔버 내에 마련되는 원료 공급 방법.And the first and second evaporation sources are provided in the same chamber.
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