KR101418712B1 - Evaporation source and Apparatus for deposition having the same - Google Patents

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KR101418712B1 KR1020120102314A KR20120102314A KR101418712B1 KR 101418712 B1 KR101418712 B1 KR 101418712B1 KR 1020120102314 A KR1020120102314 A KR 1020120102314A KR 20120102314 A KR20120102314 A KR 20120102314A KR 101418712 B1 KR101418712 B1 KR 101418712B1
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Abstract

증발원 및 이를 구비한 증착 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 증발원은, 상단이 개방되고, 증발물질이 수용되며 가열에 따라 상기 증발물질이 증발되어 증발입자가 분출되는 도가니와; 상기 도가니와 연통되도록 하단이 상기 도가니의 상단에 결합되는 이동관과, 상기 이동관과 연통되도록 상기 이동관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 분사노즐이 형성되는 분배관을 구비하는 노즐부; 및 일단에서 타단으로 단면이 확대되며, 상기 일단이 상기 이동관을 향하도록 배치되는 원추형 튜브를 포함하고, 본 발명의 실시예에 따른 증착 장치는, 진공 챔버 및 상기 증발원을 포함한다. 본 발명의 실시예에 따른 증발원 및 증착 장치는 도가니에서 기화되는 증발입자가 고르게 분사되도록 유도하여, 기판에 증발입자가 균일하게 증착될 수 있다. An evaporation source and a deposition apparatus having the evaporation source are disclosed. An evaporation source according to an embodiment of the present invention includes: a crucible having an upper end opened, a evaporation material accommodated therein, and evaporation material evaporated by heating to discharge evaporation particles; And a distributing pipe connected to the upper end of the moving pipe so as to communicate with the moving pipe and having a spray nozzle formed in the longitudinal direction on the upper side so as to communicate with the crucible, A nozzle unit; And a conical tube whose cross section is enlarged from one end to the other end and whose one end is disposed so as to face the moving pipe. The deposition apparatus according to an embodiment of the present invention includes a vacuum chamber and the evaporation source. The evaporation source and the deposition apparatus according to the embodiment of the present invention induce the evaporation particles vaporized in the crucible to be uniformly sprayed so that the evaporation particles can be uniformly deposited on the substrate.

Description

증발원 및 이를 구비한 증착 장치{Evaporation source and Apparatus for deposition having the same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an evaporation source and an evaporation source having the same,

본 발명은 증발원 및 이를 구비한 증착 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 증발입자가 기판에 고르게 분사될 수 있는 증발원과 이를 구비한 증착 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an evaporation source and a deposition apparatus having the evaporation source. More particularly, the present invention relates to an evaporation source capable of uniformly injecting evaporated particles onto a substrate, and a deposition apparatus having the evaporation source.

유기 전계 발광소자(Organic Light Emitting Diodes: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.BACKGROUND ART Organic light emitting diodes (OLEDs) are self-light emitting devices that emit light by using an electroluminescent phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound. A backlight for applying light to a non- Therefore, a lightweight thin flat panel display device can be manufactured.

이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두 되고 있다. 특히, 제조공정이 단순하기 때문에 생산원가를 기존의 액정표시장치 보다 많이 절감할 수 있는 장점이다.A flat panel display device using such an organic electroluminescent device has a fast response speed and a wide viewing angle, and is emerging as a next generation display device. In particular, since the manufacturing process is simple, it is advantageous in that the production cost can be saved more than the conventional liquid crystal display device.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착된다.The organic electroluminescent device comprises an organic thin film such as a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer which are the remaining constituent layers except for the anode and the cathode. / RTI >

진공열증착방법은 진공의 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 쉐도우 마스크(shadow mask)를 기판에 정렬시킨 후, 증발물질이 담겨 있는 증발원에 열을 가하여 증발원에서 승화되는 증발입자를 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다. 최근에는 기판이 대면적화 됨에 따라 대면적 기판에 유기 박막을 균일하게 증착하기 위해 선형 증발원이 사용되고 있다.In the vacuum thermal deposition method, a substrate is disposed in a vacuum chamber, a shadow mask having a predetermined pattern is aligned on a substrate, heat is applied to an evaporation source containing the evaporation material, As shown in FIG. In recent years, a linear evaporation source has been used to uniformly deposit an organic thin film on a large-sized substrate as the substrate becomes large-sized.

도 1은 종래 기술에 따른 증발원을 설명하기 위한 도면으로, 종래 기술에 따른 증발원은, 증발물질(14)을 증발입자로 기화시키는 도가니(12)와 증발입자의 이동을 가이드 하는 이동관(16) 및 복수의 분사노즐(20)이 형성된 분배관(18)으로 구성된다.FIG. 1 is a view for explaining an evaporation source according to the prior art. The evaporation source according to the related art includes a crucible 12 for vaporizing the evaporation material 14 as evaporation particles, a moving tube 16 for guiding the movement of evaporation particles, And a distribution pipe 18 in which a plurality of injection nozzles 20 are formed.

그러나, 종래 기술에 따른 증발원의 경우, 도가니(12)에서 기화되는 증발입자가 분배관(18)의 각각의 분사노즐(20)에 균일한 밀도로 확산되지 못하는 구조적 문제점이 있었다. 특히, 기판이 대면적화 됨에 따라 분배관(18)의 길이를 증가시켜야 하는데, 이로 인해 분배관(18)의 양측단으로 증발입자가 고루 확산되지 못해 분배관(18)의 중앙부의 분사노즐(20)과 양단의 분사노즐(20)에서 분사되는 증발입자의 밀도를 일정하게 제어하기가 어렵다는 문제가 있다.
However, in the case of the evaporation source according to the prior art, the evaporation particles vaporized in the crucible 12 can not be uniformly distributed to the respective injection nozzles 20 of the distribution pipe 18. Particularly, as the substrate becomes larger, the length of the distribution pipe 18 must be increased. As a result, the evaporation particles are not uniformly diffused to both sides of the distribution pipe 18 and the injection nozzle 20 And the density of the evaporation particles injected from the injection nozzles 20 at both ends is not uniformly controlled.

본 발명은 기화된 증발입자가 고르게 분사되도록 유도하여, 기판에 증발입자를 균일하게 증착할 수 있는 증발원 및 이를 구비한 증착 장치를 제공하고자 한다.
The present invention provides an evaporation source capable of uniformly vaporizing evaporated particles on a substrate by inducing vaporized evaporation particles to be uniformly sprayed, and a deposition apparatus having the evaporation source.

본 발명의 일 측면에 따르면, 상단이 개방되고, 증발물질이 수용되며 가열에 따라 상기 증발물질이 증발되어 증발입자가 분출되는 도가니와; 상기 도가니와 연통되도록 하단이 상기 도가니의 상단에 결합되는 이동관과, 상기 이동관과 연통되도록 상기 이동관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 분사노즐이 형성되는 분배관을 구비하는 노즐부; 및 일단에서 타단으로 단면이 확대되며, 상기 일단이 상기 이동관을 향하도록 배치되는 원추형 튜브를 포함하는, 증발원이 제공된다.According to an aspect of the present invention, there is provided a crucible comprising: a crucible in which an upper end is opened, a vapor material is accommodated and the vapor material is evaporated according to heating to evaporate vapor particles; And a distributing pipe connected to the upper end of the moving pipe so as to communicate with the moving pipe and having a spray nozzle formed in the longitudinal direction on the upper side so as to communicate with the crucible, A nozzle unit; And a conical tube whose cross section is enlarged from one end to the other end and whose one end is arranged to face the moving pipe.

상기 원추형 튜브는, 복수 개이며, 상기 복수의 원추형 튜브는, 상측 원추형 튜브의 일단이 하측 원추형 튜브의 타단을 향하도록 적층될 수 있다.The plurality of conical tubes may be stacked such that one end of the upper conical tube faces the other end of the lower conical tube.

상기 증발원은, 상기 이동관의 내부에 횡방향으로 결합되는 배플을 더 포함할 수 있다.The evaporation source may further include a baffle transversely coupled to the inside of the moving tube.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 상단이 개방되고, 증발물질이 수용되며 가열에 따라 상기 증발물질이 증발되어 증발입자가 분출되는 도가니와; 상기 도가니와 연통되도록 하단이 상기 도가니의 상단에 결합되며, 하단에서 상단으로 단면이 확대되는 이동관과; 상기 이동관과 연통되도록 상기 이동관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 분사노즐이 형성되는 분배관; 및 상기 이동관의 하단에서 상단 방향으로 서로 이격되어 방사상으로 연장되는 복수의 격벽(74)을 포함하는 증발원이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a crucible comprising: a crucible in which an upper end is opened, a vapor material is accommodated and the vapor material is evaporated according to heating to evaporate vapor particles; A crucible having a lower end connected to an upper end of the crucible so as to communicate with the crucible and having a cross section enlarged from a lower end to an upper end; A distribution pipe coupled to an upper end of the moving pipe so as to communicate with the moving pipe and having an injection nozzle formed in a longitudinal direction on an upper side thereof; And an evaporation source including a plurality of partition walls 74 extending radially from the lower end of the moving pipe and spaced apart from each other in the upper direction.

상기 증발원은, 상기 이동관의 하단부의 내부에 횡방향으로 결합되는 배플을 더 포함할 수 있다.The evaporation source may further include a baffle transversely coupled to the inside of the lower end of the moving tube.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 기판에 유기 박막을 형성하기 위한 증착 장치로서, 상기 기판이 내부에 안착되는 진공 챔버와; 상기 기판에 대향하여 배치되는 상기 증발원을 포함하는, 증착 장치가 제공된다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a deposition apparatus for forming an organic thin film on a substrate, comprising: a vacuum chamber in which the substrate is placed; And the evaporation source disposed opposite to the substrate.

본 발명의 실시예에 따른 증발원과 증착장치는, 기화된 증발입자가 고르게 분사되도록 유도하여, 기판에 증발입자를 균일하게 증착 할 수 있도록 한다.
The evaporation source and the evaporation apparatus according to the embodiment of the present invention induce vaporized evaporation particles to be evenly injected, thereby allowing evaporation particles to be uniformly deposited on the substrate.

도 1은 종래 기술에 따른 증발원을 설명하기 위한 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 구성을 설명하기 위한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 배플을 설명하기 위한 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 원추형 튜브를 설명하기 위한 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원을 구비한 증착 장치를 설명하기 위한 도면.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 증발원의 구성을 설명하기 위한 도면.1 is a view for explaining an evaporation source according to the prior art;
2 is a view for explaining a configuration of an evaporation source according to an embodiment of the present invention;
3 is a view for explaining a baffle of an evaporation source according to an embodiment of the present invention;
4 is a view for explaining a conical tube of an evaporation source according to an embodiment of the present invention;
5 is a view for explaining a deposition apparatus having an evaporation source according to an embodiment of the present invention.
6 is a view for explaining a configuration of an evaporation source according to another embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명에 따른 증발원 및 이를 구비한 증착 장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Hereinafter, embodiments of an evaporation source and a deposition apparatus having the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals designate like or corresponding components A duplicate description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 배플을 설명하기 위한 도면이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 원추형 튜브를 설명하기 위한 도면이다. 도 2 내지 도 4에는, 도가니(40), 증발물질(44), 이동관(48), 분배관(52), 분사노즐(20), 노즐부(23), 원추형 튜브(70), 배플(72)이 도시되어 있다.FIG. 2 is a view for explaining a configuration of an evaporation source according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a view for explaining a baffle of an evaporation source according to an embodiment of the present invention. 4 is a view for explaining a conical tube of an evaporation source according to an embodiment of the present invention. 2 to 4 show the crucible 40, the evaporation material 44, the moving pipe 48, the distribution pipe 52, the injection nozzle 20, the nozzle unit 23, the conical tube 70, the baffle 72 ) Are shown.

본 실시예에 따른 증발원은, 상단이 개방되고, 증발물질(44)이 수용되며 가열에 따라 상기 증발물질(44)이 증발되어 증발입자가 분출되는 도가니(40)와; 상기 도가니(40)와 연통되도록 하단이 상기 도가니(40)의 상단에 결합되는 이동관(48)과, 상기 이동관(48)과 연통되도록 상기 이동관(48)의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 분사노즐(20)이 형성되는 분배관(52)을 구비하는 노즐부(23); 및 일단에서 타단으로 단면이 확대되며, 상기 일단이 상기 이동관(48)을 향하도록 배치되는 원추형 튜브(70)를 포함하여, 증발원에서 기화되는 증발입자가 고르게 분사되도록 유도하여, 기판에 증발입자를 균일하게 증착되도록 한다.The evaporation source according to the present embodiment includes a crucible 40 whose upper end is opened, the evaporation material 44 is accommodated, and the evaporation material 44 is evaporated according to heating to evaporate evaporation particles; A moving tube 48 whose lower end is connected to the upper end of the crucible 40 so as to be communicated with the crucible 40 and which is laterally coupled to the upper end of the moving tube 48 so as to communicate with the moving tube 48, A nozzle part 23 having a distribution pipe 52 in which a spray nozzle 20 formed in a longitudinal direction is formed; And a conical tube (70) whose one end is extended toward the moving pipe (48) to induce uniform evaporation of vaporized particles in the evaporation source, and evaporation particles And uniformly deposited.

도가니(40)는, 상단이 개방되고, 증발물질(44)이 수용되며 가열에 따라 증발물질(44)이 증발되어 도가니(40)에서 증발입자가 분출된다. 도가니(40)에 증발물질(44)이 수용된 상태에서 도가니(40)의 외주에 마련되어 있는 가열부(미도시)에 의해 도가니(40)를 가열하면 도가니(40) 내의 증발물질(44)이 기화 또는 승화되어 생성되는 증발입자가 도가니(40)의 개방된 상단에서 분출된다. 도가니(40)에서 분출되는 증발입자는 노즐부(23)를 통해 기판에 증착된다.The upper end of the crucible 40 is opened, the evaporation material 44 is accommodated, the evaporation material 44 is evaporated as the heating is performed, and the evaporation particles are ejected from the crucible 40. When the crucible 40 is heated by a heating unit (not shown) provided on the outer periphery of the crucible 40 in a state where the evaporation material 44 is accommodated in the crucible 40, the evaporation material 44 in the crucible 40 is vaporized Or evaporated particles generated by sublimation are ejected from the open upper end of the crucible 40. The evaporated particles ejected from the crucible 40 are deposited on the substrate through the nozzle portion 23.

이동관(48)은, 길이 방향으로 관통부가 형성된 튜브 형태로서, 하단이 도가니(40)의 개방된 상단과 연통되도록 결합된다. 도가니(40)에서 분출되는 증발입자는 이동관(48)의 관통부를 통해 분배관(52) 방향으로 안내된다.The moving pipe (48) is in the form of a tube having a penetration portion in the longitudinal direction, and the lower end thereof is connected to communicate with the open top of the crucible (40). The evaporated particles ejected from the crucible 40 are guided in the direction of the distributing pipe 52 through the penetrating portion of the moving pipe 48.

이동관(48)은, 이동관(48)의 하단부의 내부에 횡방향으로 결합되는 배플(72)을 더 포함할 수 있다. 배플(72)은 도가니(40)에서 가열되는 증발물질(44) 중 일부가 가열에 의해 급팽창하여 급상승하는 것을 방지한다. 이러한 일부 증발물질(44)의 급상승을 스핏팅(spitting)이라고 하며, 스핏팅에 의하여 기판이 오염되는 경우가 있다. 배플(72)은 도가니(40)에서 기화된 증발입자의 상승을 방해하지 않으면서, 스핏팅 되는 증발물질(44)을 차단하기 위하여, 일정한 개구율을 가지는 매쉬일 수 있다.The moving pipe 48 may further include a baffle 72 that is laterally coupled to the inside of the lower end of the moving pipe 48. The baffle 72 prevents some of the evaporated materials 44 heated in the crucible 40 from rapidly expanding due to heating. The sudden rise of some of the evaporation materials 44 is called spitting, and the substrate may be contaminated by the spitting. The baffle 72 may be a mesh having a constant opening ratio to block the evaporated material 44 that is spitted without interfering with the rise of evaporated particles vaporized in the crucible 40.

분배관(52)은, 양단이 막히고 내부에 중공부가 마련된 형태로서, 이동관(48)의 관통부와 분배관(52)의 중공부가 서로 연통되도록 이동관(48)의 상단에 횡방향으로 결합된다. 서로 결합된 이동관(48)과 분배관(52)은 대략 T형 상을 갖게 된다. 분배관(52)의 상단에는 분배관(52)의 길이 방향으로 분사노즐(20)이 형성된다. The distribution pipe 52 has both ends closed and a hollow portion provided therein and is laterally coupled to the upper end of the moving pipe 48 so that the penetrating portion of the moving pipe 48 and the hollow portion of the distributing pipe 52 are communicated with each other. The moving tube 48 and the distribution tube 52 coupled to each other have a substantially T-shaped phase. At the upper end of the distribution pipe (52), an injection nozzle (20) is formed in the longitudinal direction of the distribution pipe (52).

분사노즐(20)은, 다수의 노즐공이 분배관(52)의 길이 방향으로 이격되어 형성된 형태이거나, 분배관(52)의 길이 방향으로 형성된 긴 슬릿 형태일 수 있다. 본 실시예에서는 분사노즐(20)로서 분배관(52)의 길이 방향을 따라 다수의 노즐이 형성된 형태를 제시한다.The injection nozzle 20 may be formed in such a manner that a plurality of nozzle holes are spaced apart from each other in the longitudinal direction of the distribution pipe 52 or may be in the form of a long slit formed in the longitudinal direction of the distribution pipe 52. In this embodiment, a plurality of nozzles are formed along the longitudinal direction of the distribution pipe 52 as the injection nozzle 20.

원추형 튜브(70)는, 일단에서 타단으로 단면이 확대되며, 일단이 이동관(48)을 향하도록 배치된다. 원추형 튜브(70)는 일단과 타단이 모두 개방되며, 이동관(48)을 향하여 배치된 일단을 통해서, 도가니(40)에서 기화되어 이동관(48)을 통해 상승하는 증발입자가 유입된다. 유입된 증발입자는 원추형 튜브(70)의 경사를 따라 분배관(52) 방향으로 안내되면서 확산된다. 원추형 튜브(70)의 경사진 내면과 외면을 따라 안내된 증발입자는 분배관(52)의 중공부에 고루 확산되며, 이에 따라 분배관(52)의 길이 방향으로 형성된 분사노즐(20)을 통하여 분사되면서 기판에 균일한 두께로 증착될 수 있다.The conical tube 70 is enlarged in cross section from one end to the other end, and is arranged so that one end thereof faces the moving tube 48. The conical tube 70 is opened at one end and the other end and flows into the crucible 40 through one end disposed toward the moving tube 48 so that evaporated particles rising through the moving tube 48 flow into the conical tube 70. The introduced evaporated particles are diffused while being guided along the inclination of the conical tube 70 in the direction of the distributor tube 52. The evaporated particles guided along the inclined inner surface and the outer surface of the conical tube 70 are uniformly diffused in the hollow portion of the distributor tube 52 and are thus dispersed through the spray nozzle 20 formed in the longitudinal direction of the distributor tube 52 And can be deposited uniformly on the substrate while being sprayed.

원추형 튜브(70)는, 복수 개일 수 있으며, 복수의 원추형 튜브(70)는, 상측 원추형 튜브(70)의 일단이 하측 원추형 튜브(70)의 타단을 향하도록 적층될 수 있다. 복수의 원추형 튜브(70)가 적층 되도록 구성함으로써, 이송관에서 분배관(52) 방향으로 기화되는 증발입자가 복수 개로 적층된 원추형 튜브(70)에 의해 재확산되면서 분배관(52)의 중공부에 고루 확산된다. 복수의 원추형 튜브(70)는 적층시 일정한 이격을 가질 수 있도록 적층된 각 층 사이에 지지대(미도시)가 형성될 수 있다. 본 실시예에서는 3개의 원추형 튜브(70)가 적층된 형태를 제시한다.A plurality of conical tubes 70 may be stacked such that one end of the upper conical tube 70 faces the other end of the lower conical tube 70. [ The plurality of conical tubes 70 are stacked so that the evaporation particles vaporized in the direction of the distribution pipe 52 in the transfer tube are re-diffused by the conical tube 70 in which a plurality of evaporation particles are stacked, . The plurality of conical tubes 70 may be formed with a support (not shown) between each layer stacked so as to have a predetermined spacing therebetween. In this embodiment, three conical tubes 70 are stacked.

이동관(48)과 분배관(52) 및 원추형 튜브(70)는 하나의 노즐부(23)를 구성하여 도가니에(40)에 결합된다.도 2 및 도 4를 참조하여, 본 실시예에 따른 증발원의 작동 과정을 설명하면, 도가니(40)에 증발물질(44)이 수용된 상태에서 가열부에 의해 도가니(40)를 가열한다. 가열부에 의한 지속적인 가열로 도가니(40)의 온도가 증발물질(44)의 기화점 또는 승화점에 도달하면 증발물질(44)이 기화 또는 승화되면서 증발입자가 도가니(40)의 개방된 상단에서 분출된다. 도가니(40)에서 분출되는 증발입자는 이동관(48)에 안내되며, 이동관(48)을 향해 배치되는 원추형 튜브(70)의 일단으로 유도된다. 원추형 튜브(70)의 경사진 내면과 외면을 따라 유도된 증발입자는 분배관(52)의 중공부에 고루 확산되며, 분배관(52)의 중공부에 고루 확산된 증발입자는 분배관(52)의 길이 방향으로 형성된 분사노즐(20)을 통하여 분사되면서 기판에 균일한 두께로 증착될 수 있다.The moving tube 48 and the distributing tube 52 and the conical tube 70 constitute one nozzle portion 23 and are coupled to the crucible 40. Referring to Figures 2 and 4, Explaining the operation of the evaporation source, the crucible 40 is heated by the heating unit in a state where the evaporation material 44 is accommodated in the crucible 40. When the temperature of the crucible 40 reaches the vaporization point or the sublimation point of the vaporization material 44 due to continuous heating by the heating unit, the vaporization material 44 vaporizes or sublimates, . The evaporated particles ejected from the crucible 40 are guided to the moving tube 48 and guided to one end of the conical tube 70 disposed toward the moving tube 48. The evaporated particles induced along the inclined inner surface and the outer surface of the conical tube 70 are uniformly diffused in the hollow portion of the distributing pipe 52 and the evaporated particles uniformly diffused into the hollow portion of the distributing pipe 52 pass through the distributing pipe 52 The spraying nozzle 20 is formed in the longitudinal direction of the spraying nozzle 20 and is uniformly deposited on the substrate.

본 실시예에 따른 증발원은, 도가니(40)에서 기화된 증발입자가 노즐부(23)에서 고르게 분사되도록 유도되어, 기판에 증발입자를 균일하게 증착될 수 있도록 한다.The evaporation source according to the present embodiment induces the evaporation particles vaporized in the crucible 40 to be evenly jetted from the nozzle unit 23 so that the evaporation particles can be uniformly deposited on the substrate.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원을 구비하는 증착 장치를 설명하기 위한 도면으로서, 증착 장치는, 기판이 내부에 안착되는 진공 챔버(68)와, 기판에 대향하여 배치되는 증발원을 포함한다.5 is a view for explaining a deposition apparatus having an evaporation source according to an embodiment of the present invention. The deposition apparatus includes a vacuum chamber 68 in which a substrate is placed, and an evaporation source arranged opposite to the substrate do.

진공 챔버(68)의 내부는 증발입자의 증착을 위하여 진공 분위기가 유지되며, 기판이 진공 챔버(68)의 안착부(66)에 의해 안착된다. 기판의 대향하는 위치에는 본 실시예에 따른 증발원이 배치되고 가열부에 의한 도가니(40)의 가열에 따라 증발입자의 증착이 이루어진다.The inside of the vacuum chamber 68 is maintained in a vacuum atmosphere for evaporation of evaporated particles, and the substrate is seated by the seating portion 66 of the vacuum chamber 68. The evaporation source according to the present embodiment is disposed at a position opposite to the substrate, and the evaporation particles are deposited according to the heating of the crucible 40 by the heating unit.

도가니(40)에 증발물질(44)이 수용된 상태에서, 도가니(40)에 연결된 가열부에 의한 지속적인 가열로 도가니(40)의 온도가 증발물질(44)의 기화점 또는 승화점에 도달하면 증발물질(44)이 기화 또는 승화되면서 증발입자가 도가니(40)에서 분출된다.When the temperature of the crucible 40 reaches the vaporization point or the sublimation point of the evaporation material 44 due to the continuous heating by the heating unit connected to the crucible 40 in a state where the evaporation material 44 is accommodated in the crucible 40, As the material 44 vaporizes or sublimes, the evaporation particles are ejected from the crucible 40.

도가니(40)에서 분출되는 증발입자는 이동관(48)의 원추형 튜브(70)에 의해 일부는 분배관(52)의 중앙부에 형성된 분사노즐(20)로 유도되고, 나머지 증발입자는 분배관(52)의 양단 측에 형성된 분사노즐(20)로 유도되어 분배관(52)의 중공부에 고루 확산된다. 분배관(52)의 중공부에 고루 확산된 증발입자는 분배관(52)의 길이 방향으로 형성된 분사노즐(20)을 통하여 분사되면서 기판에 균일한 두께로 증착될 수 있다.The evaporated particles ejected from the crucible 40 are guided by the conical tube 70 of the moving tube 48 to the injection nozzle 20 partially formed at the central portion of the distribution tube 52 and the remaining evaporated particles are guided to the distribution tube 52 And is uniformly diffused into the hollow portion of the distribution pipe 52. [0052] As shown in FIG. The evaporated particles uniformly diffused in the hollow portion of the distribution pipe 52 can be deposited in a uniform thickness on the substrate while being injected through the injection nozzle 20 formed in the longitudinal direction of the distribution pipe 52.

본 실시예에 따른 증발원은, 기화된 증발입자가 고르게 분사되도록 유도하여, 기판에 증발입자를 균일하게 증착할 수 있다.
The evaporation source according to the present embodiment induces vaporized evaporation particles to be uniformly sprayed, and evaporation particles can be uniformly deposited on the substrate.

도 6는 본 발명의 다른 실시예에 따른 증발원의 구성을 설명하기 위한 도면이다. 도 6에는 도가니(40), 증발물질(44), 이동관(48), 분배관(52), 분사노즐(20), 격벽(74), 배플(72)이 도시된다.6 is a view for explaining a configuration of an evaporation source according to another embodiment of the present invention. 6 shows the crucible 40, the evaporation material 44, the moving pipe 48, the distribution pipe 52, the injection nozzle 20, the partition wall 74, and the baffle 72.

본 실시예에 따른 증발원은, 상단이 개방되고, 증발물질(44)이 수용되며 가열에 따라 상기 증발물질(44)이 증발되어 증발입자가 분출되는 도가니(40)와; 상기 도가니(40)와 연통되도록 하단이 상기 도가니(40)의 상단에 결합되며, 하단에서 상단으로 단면이 확대되는 이동관(48)과; 상기 이동관(48)과 연통되도록 상기 이동관(48)의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 분사노즐(20)이 형성되는 분배관(52); 및 상기 이동관(48)의 하단에서 상단 방향으로 서로 이격되어 방사상으로 연장되는 복수의 격벽(74)을 포함한다.The evaporation source according to the present embodiment includes a crucible 40 whose upper end is opened, the evaporation material 44 is accommodated, and the evaporation material 44 is evaporated according to heating to evaporate evaporation particles; A moving tube 48 having a lower end connected to the upper end of the crucible 40 so as to communicate with the crucible 40 and having a cross section enlarged from the lower end to the upper end; A distribution pipe 52 coupled to the upper end of the moving pipe 48 so as to communicate with the moving pipe 48 and having an injection nozzle 20 formed in the longitudinal direction at an upper side thereof; And a plurality of partition walls 74 radially extending from the lower end of the moving pipe 48 and spaced apart from each other in the upper direction.

이동관(48)과 분배관(52) 및 복수의 격벽(74)은 하나의 노즐부를 구성하고, 이러한 노즐부는 도가니(40)에 결합된다.The moving pipe 48, the distribution pipe 52, and the plurality of partition walls 74 constitute one nozzle unit, and this nozzle unit is coupled to the crucible 40.

이하에서는 도가니(40)에 수용된 증발물질(44)이 기화된 증발입자가 이동관(48)에 형성된 복수의 격벽(74)을 따라 이동하는 형태를 중심으로 설명하기로 한다. Hereinafter, a description will be made with reference to a mode in which evaporated particles vaporized by the evaporation material 44 contained in the crucible 40 move along a plurality of partition walls 74 formed in the moving pipe 48.

도가니(40)는, 상단이 개방되고, 증발물질(44)이 수용되며 가열에 따라 증발물질(44)이 증발되어 도가니(40)에서 증발입자가 분출되도록 구성된다. The crucible 40 is configured such that the upper end thereof is opened and the evaporation material 44 is accommodated and the evaporation material 44 is evaporated as the heating causes the evaporation particles to be ejected from the crucible 40.

이동관(48)은, 도가니(40)와 연통되도록 하단이 도가니(40)의 상단에 결합되며, 하단에서 상단으로 단면이 확대된다. 이동관(48)에는 하단에서 상단으로 관통하는 관통부가 형성되며, 도가니(40)에서 분출되는 증발물질(44)이 이동관(48)의 관통부를 통해 분배관(52)으로 안내되어 분배관(52)에서 기판을 향하여 분출된다.The moving pipe 48 is coupled to the upper end of the crucible 40 so that the lower end thereof communicates with the crucible 40, and the cross section is enlarged from the lower end to the upper end. The moving pipe 48 is provided with a penetrating portion penetrating from the lower end to the upper end and the evaporation material 44 ejected from the crucible 40 is guided to the distributing pipe 52 through the penetrating portion of the moving pipe 48, To the substrate.

이동관(48)은 하단에서 상단으로 단면이 확대되는 깔대기 형태로 구성되어 도가니(40)의 상단에서 분출되는 증발입자가 깔대기 형태의 이동관(48)을 거치면서 확산되어 분배관(52)으로 유도된다.The moving pipe 48 is in the form of a funnel whose cross section is enlarged from the lower end to the upper end. The evaporated particles ejected from the upper end of the crucible 40 are diffused through the funnel-shaped moving pipe 48 and guided to the distribution pipe 52 .

복수의 격벽(74)은, 이동관(48)의 하단에서 상단 방향으로 서로 이격되어 방사상으로 연장된다. 격벽(74)은 이동관(48)에서 분출되는 증발입자의 확산량을 균일하게 조절할 수 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 도가니(40)에서 기화된 증발입자는 깔대기 형태의 이동관(48)에 의해 확산되고, 확산된 증발입자는 방사상으로 연장된 격벽(74)에 의해 분배관(52)으로 고루 배분되어 분배관(52)의 중공부에 고루 확산된다. The plurality of partition walls 74 are radially extended from the lower end of the moving pipe 48 to each other in the upper direction. The partition wall 74 can uniformly adjust the amount of diffusion of the evaporated particles ejected from the moving pipe 48. 5, the vaporized particles vaporized in the crucible 40 are diffused by the funnel-shaped moving tube 48, and the diffused vaporized particles are dispersed by the radially extending partition wall 74 into the distribution pipe 52, And is uniformly diffused to the hollow portion of the distribution pipe 52.

이동관(48)은, 이동관(48)의 하단부의 내부에 횡방향으로 결합되는 배플(72)을 더 포함할 수 있다. 배플(72)은 일정한 개구율을 가지는 매쉬일 수 있다.분배관(52)은, 양단이 막히고 내부에 중공부가 마련된 형태로서, 이동관(48)과 연통되도록 이동관(48)의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 복수의 분사노즐(20)이 형성된다.The moving pipe 48 may further include a baffle 72 that is laterally coupled to the inside of the lower end of the moving pipe 48. The baffle 72 may be a mesh having a constant opening ratio. The distribution pipe 52 is formed in such a manner that both ends thereof are closed and a hollow portion is provided therein. The distribution pipe 52 is connected to the upper end of the moving pipe 48 in the lateral direction And a plurality of spray nozzles 20 are formed on the upper side in the longitudinal direction.

이동관(48) 및 격벽(74)에 의해 분배관(52)의 중공부에 고루 확산된 증발입자는 분배관(52)의 길이 방향으로 형성된 분사노즐(20)을 통하여 분사되면서 기판에 균일한 두께로 증착될 수 있다.The evaporation particles uniformly diffused in the hollow portion of the distribution pipe 52 by the moving pipe 48 and the partition wall 74 are sprayed through the injection nozzle 20 formed in the longitudinal direction of the distribution pipe 52, Lt; / RTI >

본 실시예에 따른 증발원은, 기판(10)에 증발물질(44)을 균일하게 증착하는데 사용된다.
The evaporation source according to the present embodiment is used for uniformly depositing the evaporation material 44 on the substrate 10.

상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as set forth in the following claims It will be understood that the invention may be modified and varied without departing from the scope of the invention.

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.
Many embodiments other than the above-described embodiments are within the scope of the claims of the present invention.


10: 기판 12, 40: 도가니
14, 44: 증발물질 16, 48: 이동관
18, 52: 분배관 20: 분사노즐
23: 노즐부 66: 안착부
68: 진공 챔버 70: 원추형 튜브
72: 배플 74: 격벽
10: substrate 12, 40: crucible
14, 44: evaporation material 16, 48: moving pipe
18, 52: distribution pipe 20: injection nozzle
23: nozzle part 66: seat part
68: vacuum chamber 70: conical tube
72: baffle 74:

Claims (6)

상단이 개방되고, 증발물질이 수용되며 가열에 따라 상기 증발물질이 증발되어 증발입자가 분출되는 도가니와;
상기 도가니와 연통되도록 하단이 상기 도가니의 상단에 결합되는 이동관과;
상기 이동관과 연통되도록 상기 이동관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 형성되는 분사노즐이 형성되는 분배관; 및
일단에서 타단으로 단면이 확대되며, 상기 일단이 상기 이동관을 향하도록 배치되고 상기 타단이 상기 분배관을 향하도록 배치됨으로써 상기 증발물질이 상기 분배관 내에서 확산되는 원추형 튜브를 포함하는, 증발원.
A crucible in which the top is opened, the evaporation material is accommodated, and the evaporation material is evaporated by heating to eject evaporation particles;
A moving tube having a lower end coupled to an upper end of the crucible so as to communicate with the crucible;
A distribution pipe coupled to an upper end of the moving pipe so as to communicate with the moving pipe and having an injection nozzle formed in a longitudinal direction on an upper side thereof; And
Wherein the evaporation source includes a conical tube whose cross section is enlarged from one end to the other end and whose one end is disposed to face the moving pipe and the other end is disposed to face the distribution pipe so that the evaporation material is diffused in the distribution pipe.
제1항에 있어서,
상기 원추형 튜브는 복수 개이며,
상기 복수의 원추형 튜브는, 상측 원추형 튜브의 일단이 하측 원추형 튜브의 타단을 향하도록 적층되는 것을 특징으로 하는, 증발원
The method according to claim 1,
The number of the conical tubes is plural,
Characterized in that the plurality of conical tubes are stacked such that one end of the upper conical tube faces the other end of the lower conical tube,
제1항에 있어서,
상기 이동관의 내부에 횡방향으로 결합되는 배플을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 증발원.
The method according to claim 1,
Further comprising a baffle transversely coupled to the interior of the moving tube.
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