KR20100020001A - 측장 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 레이저광을 사용한 광학식의 측장 장치에 관한 것이며, 고정밀도의 측정을 가능하게 하는 것을 목적으로 한다.
피검물까지의 거리를 측정하는 측정용 레이저 광원을 가진 측장부와, 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광보다 파장 안정도가 높은 레이저광을 발하는 교정용 레이저 광원과, 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광을 간섭시키는 간섭 광학계와, 상기 간섭 광학계의 출력과 상기 측장부의 출력에 기초하여 상기 거리를 연산하는 연산 처리부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

측장 장치{LENGTH MEASURING APPARATUS}
본 발명은, 레이저광을 사용한 광학식의 측장 장치에 관한 것이다.
측장 장치로서, 예를 들면, 피사체의 측정 방향으로 이동이 가능한 이동대와, 이 이동대 위에 설치되어, 피사체의 엣지를 검출하는 엣지 검출 광학계와, 레이저광을 출사하는 레이저 광원과, 이동대 위에 설치된 가동경으로 반사된 레이저 광원으로부터의 레이저광에 기초하여 이동대의 이동량을 검출하는 레이저 간섭계 등을 구비한 장치가 알려져 있다(특허문헌 1).
특허문헌 1 : 일본 특허공보 제3418234호
[발명이 해결하고자 하는 과제]
상술한 측장 장치를 포함한 광학식의 측장 장치에서는, 통상, 레이저 광원으로서 제만 파장 안정화 레이저가 사용되고 있으며, 그 파장 안정도는 1×10-8 정도이다.
따라서, 이 제만 파장 안정화 레이저를 사용한 측장 장치에서는, 길이를 측정하는 불명확함은 1×10-8보다 좋아지는 경우는 없다. 예를 들면, 1m의 표준척을 측정하는 경우에는 1m×1×10-8=10nm정도의 정밀도가 한계이다.
제만 파장 안정화 레이저 대신에 그것보다 파장 안정도가 뛰어난, 예를 들면 파장 안정도가 2×10-12인 옥소 안정화 레이저를 사용하는 것이 검토되었지만, 이 옥소 안정화 레이저는 광파워가 작고, 이동하는 피검물에 대해서는 적합하지 않으며, 또한 광간섭성이 뛰어나지 않고, 측장에는 사용하는 것이 어렵다고 말해지고 있다.
본 발명은, 고정밀도의 측정이 가능한 광학식의 측장 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
제1의 발명의 측장 장치는, 피검물까지의 거리를 측정하는, 측정용 레이저 광원을 가진 측장부와, 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광보다 파장 안정도가 높은 레이저광을 발하는 교정용 레이저 광원과, 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광을 간섭시키는 간섭 광학계와, 상기 간섭 광학계의 출력과 상기 측장부의 출력에 기초하여 상기 거리를 연산하는 연산 처리부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
제2의 발명의 측장 장치는, 상기 교정용 레이저 광원이 옥소 안정화 레이저 광원인 것을 특징으로 한다.
제3의 발명의 측장 장치는, 상기 간섭 광학계의 출력이, 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광의 주파수 차분이고, 상기 연산 처리부가, 상기 주파수 차분으로부터 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광의 파장을 연산하고, 이 연산 결과에 기초하여 상기 측장부의 출력으로부터 상기 거리를 연산하는 것을 특징으로 한다.
제4의 발명의 측장 장치는, 상기 연산 처리부로 연산하여 구한 상기 거리에 기초한 정보를 표시하는 표시부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
제5의 발명의 측장 장치는, 상기 간섭 광학계가, 상기 측장부에서의 상기 거리의 측정시에 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광을 간섭시켜, 상기 연산 처리부가, 상기 측장부에서의 상기 거리의 측정시에 상기 간섭 광학계의 출력과 상기 측장부의 출력에 기초하여 상기 거리를 연산하는 것을 특징으로 한다.
[발명의 효과]
본 발명에 의하면, 고정밀도의 측정이 가능하다.
[도 1] 본 발명의 측장 장치의 일실시 형태를 도시한 개략도이다.
[도 2] 파장 보정의 일례를 도시한 설명도이다.
[도 3] 파장 보정의 다른 예를 도시한 설명도이다.
이하 본 발명의 측장 장치에 대하여 도 1을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 측장 장치의 일실시 형태의 개략도이다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 측장 장치(10)는, 측정용 레이저 광원으로서의 제만 레이저 광원(11) 과, 이 제만 레이저 광원(11)의 레이저광을 피검물{이동 테이블(21)}에 조사하여 피검물까지의 거리를 측정하는 측장부로서의 측장 장치 본체(12)와, 제만 레이저 광원(11)의 레이저광보다 파장 안정도가 높은 레이저광을 발하는 교정용 레이저 광원으로서의 옥소 안정화 레이저 광원(14)과, 제만 레이저 광원(11)의 레이저광과 옥소 안정화 레이저 광원(14)의 레이저광을 간섭시키는 간섭 광학계{하프 미러 (32), 검출기(34)}와, 간섭 광학계의 출력{검출기(34)의 출력}과 측장 장치 본체 (12)의 출력{계수기(26)}에 기초하여 상기 거리를 연산하는 연산 처리부(16)를 구비한다.
측장 장치 본체(12)에는, 베드(20)와, 이 베드(20)상에 도시하지 않은 이동 기구에 의해서 도면의 화살표 방향(도 1의 좌우 방향)으로 이동하도록 장비된 피검물로서의 이동 테이블(21)이 배치된다.
측정시에, 이동 테이블(21) 상에는, 측정하는 표준척(22)이 이동 테이블(21)의 이동 방향에 정치되어 있다. 이동 테이블(21)을 도면의 좌우 방향으로 보내어, 측정하는 표준척(22)에 각인된 눈금을 눈금선용 현미경(23)으로 검출한다.
이동 테이블(21)의 일단에는, 이동 테이블(21)의 이송 거리를 측정하기 위해서 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저광을 반사하는 반사경(24)이 장비된다.
한편, 측장 장치 본체(12)에는, 상술한 표준척(22)과 눈금선용 현미경(23)이 장비된다.
제만 레이저 광원(11)과 이동 테이블(21)의 사이의 광로에는 하프 미러(25)가 배치되고, 이 하프 미러(25)에 의해서 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저 광을 2개로 강도 분할한다.
하프 미러(25)를 투과하여 분할된 레이저광은 반사경(24)에 조사된다. 이 반사경(24)으로 반사된 반사광은 하프 미러(25)로 되돌아오고, 이 하프 미러(25)로 반사된 빛과 참조경(27)으로부터 반사된 빛이 간섭하여, 포토 디텍터(29)에 입사하여 전기신호로 변환되고, 계수기(26)로 이동 테이블(21)의 좌표가 계측된다.
계수기(26)에는, 반사광의 주파수 신호 외에, 제만 레이저 광원(11)으로부터의 직접광이 도시하지 않은 포토 디텍터로 전기신호로 변환된 직접광의 주파수 신호가 입력된다. 계수기(26)에서는, 이 직접광의 주파수 신호와 반사광의 주파수 신호로부터 직접광과 반사광의 위상차를 구하여, 이 위상차정보{이동 테이블(21)의 이송 거리 정보}를 연산 처리부(16)에 출력한다.
하프 미러(28)로 반사하여 분할된, 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저광은, 파장판(31)을 개재하여 옥소 안정화 레이저 광원(14)과 간섭 광학계{하프 미러(32), 검출기(34)}를 포함한 교정용 광학계(30)를 향한다. 파장판(31)은 빛의 편광면을 조정하는 것이다. 하프 미러(28)로 반사된 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저광은 파장판(31)으로 그 편광면을 조정한 후, 교정용 광학계(30)에 배치된 간섭 광학계를 구성하는 하프 미러(32)에 도달한다.
옥소 안정화 레이저 광원(14)으로부터의 빛은 빔 익스팬더(33)를 통과하여, 이 빔 익스팬더(33)로 제만 레이저 광원(11)으로부터의 빛과 빔 지름이 대략 동일해지도록 조정된 후, 마찬가지로 하프 미러(32)에 도달한다.
옥소 안정화 레이저 광원(14)으로부터의 레이저광은, 하프 미러(32)를 통과 하는 한편, 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저광은 하프 미러(32)로 반사되고, 이 하프 미러(32)에 의해 서로 간섭되어 모두 집광렌즈(33)측을 향한다. 간섭한 양 빛은 집광렌즈(33)를 통하여 검출기(예를 들면 애벌런치 광다이오드)(34)의 검출면 상에 집광한다.
검출기(34)에서는 입사한 빛을 전기신호로 변환하여 출력한다. 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저광의 주파수를 Va로 하고, 옥소 안정화 레이저 광원(14)으로부터의 레이저광의 주파수를 Vi로 하면, 검출기(34)로부터 출력되는 전기신호(간섭 광학계의 출력)의 주파수는 양 레이저광의 주파수의 차이인 Vi-Va가 된다. 이것을 Vb로 나타내고, 비트 신호라 한다. 이 비트 신호 Vb는 광대역 앰프(35)에 의해서 증폭되어 주파수 카운터(36)에 입력되고, 신호 주파수가 카운트되어, 연산 처리부(16)에 의해서 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa가 구해진다.
즉, Vb=｜Va-Vi｜
여기서, 옥소 레이저광의 주파수 Vi는 제만 레이저광의 주파수 Va보다 항상 높다고 가정하면, Va=Vi-Vb(Hz)로 나타낼 수 있다.
진공중의 광속도 C=299792458(m/s)이므로, 제만 레이저광의 파장λa는, λa=C/Va=299792458/(Vi-Vb)가 된다.
비트 신호의 주파수 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 나타낸 제만 레이저광의 파장 λa의 정보는 연산 처리부(16)에 출력된다.
연산 처리부(16)에서는, 비트 신호의 주파수 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 나타낸 제만 레이저광의 파장λa정보를 사용하여 측장 장치 본체(12)의 출력 인 이동 테이블(21)의 이송 거리 정보를 연산 처리하고, 이어서 이 이동 테이블 (21)의 이송 거리 정보로부터 표준척(22)의 눈금선의 간격을 구한다.
연산 처리부(16)의 연산 처리 결과는 필요에 따라서 표시부(17)로 표시시킬 수 있다. 표시부(17)에는, 예를 들면 눈금선의 간격의 공칭치와 측정치가 나란히 표시된다. 또한, 표시부(17)로 표시시키는 한편, 도시하지 않은 프린터로 인자시키는 것도 가능하다.
옥소 안정화 레이저 광원(14)으로부터의 레이저광을 이용하지 않고, 제만 레이저 광원(11)으로부터의 레이저광만으로 측정을 행한 경우에는, 이 레이저광의 파장 안정도가 1×10-8 정도이기 때문에, 표준척(22)의 눈금 위치의 측정의 불명확성은 1×10-8 정도에 그치지만, 본 실시형태와 같은 옥소 안정화 레이저 광원(14)으로부터의 레이저광을 이용하여 제만 레이저광의 파장 λa를 비트 신호의 주파수 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 구한 경우, 옥소 레이저광의 파장 안정도가 2×10-12이므로, 표준척(22)의 눈금 위치의 측정의 불명확성은 2×10-12정도로 현격히 향상한다.
또한, 옥소 레이저광을 직접 이동 테이블(21)의 반사경(24)에 조사하여 반사시키는 것에 의해 이동 테이블(21)의 이송 거리를 측정하는 것이 아니라, 제만 레이저광을 이용하여 구한 이동 테이블(21)의 이송 거리 정보 옥소 레이저광의 주파수 Vi 등을 이용하여 연산 처리하여 구하는 것에 의해, 옥소 레이저광을 이용하는 불량(파워가 작고, 이동하는 피검물에 대해서는 적합하지 않으며, 간섭성이 좋지 않다)이 없고, 고정밀도의 측정이 가능하다.
본 실시형태에서는, 측정용 레이저광으로서의 제만 레이저광보다 안정도가 높은 레이저광으로서 옥소 레이저광을 사용한 경우를 나타냈지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 실시형태에서는, 표준척(22)의 눈금 위치의 측정과 동시에 비트 신호 Vb의 신호 주파수를 카운트하고, 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa를 비트 신호 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 연산하여 구한 경우를 나타냈지만, 예를 들면 표준척(22)의 눈금 위치의 측정을 행한 후, 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa를 비트 신호 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 연산해도 좋다. 또한, 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa를 비트 신호 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 연산해 두고 나서 표준척(22)의 눈금 위치의 측정을 행하도록 해도 좋다.
도 2는, 표준척(22)의 눈금 위치의 측정과 동시에 비트 신호 Vb의 신호 주파수를 카운트하여, 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa를 비트 신호 Vb와 옥소 레이저광의 주파수 Vi로 연산하여 구하는 경우의 파장 보정을 상세하게 설명하는 도면이다.
이 방법에서는, 도 2에 도시한 표준척(22)의 눈금(S1,S2…,Sn)를 측정할 때마다 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa가 보정된다.
즉, 눈금 S1을 측정했을 때의 제만 레이저 광원(11)의 파장을 λa1, 마찬가지로 눈금 S2, …, Sn를 측정했을 때의 파장을 λa2, …, λan로 한다. 또한, 파장 보정전에서의 눈금 S1, S2…, Sn의 위치 측정 결과를, P1, P2, …, Pn로 한다. 여기서, 파장 보정전이라고 하는 것은, 제만 레이저 광원(11)의 파장의 공칭치 λa0를 사용한 측정치이다. 예를 들면, 파장 보정을 하지 않은 경우에는, 눈금 S1과 눈금 S2의 간격은, P2-P1이다.
한편, 파장 보정을 고려하면, 눈금 S1의 위치는 P1이고, 그 때의 제만 레이저 광원(11)의 파장은 λa1이다. 따라서, 파장 보정을 행한 후의 위치 P'1은 다음의 식으로 표시된다.
P'1=P1×λa1/λa0
마찬가지로, 눈금 S2에 대해서는, P'2=P2×λa2/λa0로 나타난다.
따라서, 파장 보정을 한 후의 눈금 S1와 눈금 S2의 간격은,
P'2-P'1=P2×λa2/λa0-P1×λa1/λa0로 나타난다.
도 3은, 표준척(22)의 눈금 위치의 측정을 행한 후, 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa의 평균치 λam를 이용하여 파장 보정을 행하는 예를 설명하는 도면이다.
이 방법에서는, 도 3에 도시한 표준척(22)의 눈금(S1,S2,…Sn)를 측정하는 시간 동안에 제만 레이저 광원(11)의 파장 λa를 평균하여 평균치 λam가 구해진다.
그리고, 파장 보정을 행한 후의 위치 P'1는 다음의 식으로 나타난다.
P'1=P1×λam/λa0
마찬가지로, 눈금 S2에 대해서는, P'2=P2×λam/λa0로 나타난다.
따라서, 파장 보정을 한 후의 눈금 S1와 눈금 S2의 간격은,
P'2-P'1=P2×λam/λa0-P1×λam/λa0
=(P2-P1)×λam/λa0로 나타난다.

Claims (5)

  1. 피검물까지의 거리를 측정하는, 측정용 레이저 광원을 가지는 측장부와,
    상기 측정용 레이저 광원의 레이저광보다 파장 안정도가 높은 레이저광을 발하는 교정용 레이저 광원과,
    상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광을 간섭시키는 간섭 광학계와,
    상기 간섭 광학계의 출력과 상기 측장부의 출력에 기초하여 상기 거리를 연산하는 연산 처리부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 측장 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 교정용 레이저 광원은 옥소 안정화 레이저 광원인 것을 특징으로 하는 측장 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 간섭 광학계의 출력은, 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광의 주파수 차분이고,
    상기 연산 처리부는, 상기 주파수 차분으로부터 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광의 파장을 연산하고, 이 연산 결과에 기초하여 상기 측장부의 출력으로부터 상기 거리를 연산하는 것을 특징으로 하는 측장 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서,
    상기 연산 처리부에서 연산하여 구한 상기 거리에 기초한 정보를 표시하는 표시부를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 측장 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,
    상기 간섭 광학계는 상기 측장부에서의 상기 거리의 측정시에 상기 측정용 레이저 광원의 레이저광과 상기 교정용 레이저 광원의 레이저광을 간섭시켜,
    상기 연산 처리부는 상기 측장부에서의 상기 거리의 측정시에 상기 간섭 광학계의 출력과 상기 측장부의 출력에 기초하여 상기 거리를 연산하는 것을 특징으로 하는 측장 장치.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021148634A (ja) * 2020-03-19 2021-09-27 株式会社ミツトヨ レーザ干渉装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH678108A5 (ko) * 1987-04-28 1991-07-31 Wild Leitz Ag
JP3418234B2 (ja) 1993-12-20 2003-06-16 オリンパス光学工業株式会社 測長装置
JP3235722B2 (ja) * 1997-10-22 2001-12-04 株式会社ミツトヨ 微少変位測定方法及び装置
DE10334350B3 (de) * 2003-07-25 2005-02-03 Bundesrepublik Deutschland, vertr. d. d. Bundesministerium für Wirtschaft und Arbeit, dieses vertr. d. d. Präsidenten der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt Verfahren zur Bestimung der Brechzahl bei interferometrischen Längenmessungen und Interferometeranordnung hierfür
US7426039B2 (en) * 2003-12-31 2008-09-16 Corning Incorporated Optically balanced instrument for high accuracy measurement of dimensional change
US7292347B2 (en) * 2005-08-01 2007-11-06 Mitutoyo Corporation Dual laser high precision interferometer

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