TWI393858B - 具有高精密度之位移感測干涉儀 - Google Patents

具有高精密度之位移感測干涉儀 Download PDF

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具有高精密度之位移感測干涉儀
本發明是一種Fabry-Perot干涉儀,尤其是一種結合位置靈敏感測器而可執行高精密度位移測量之干涉儀。
在精密工業與光電產業中,發展高精度之檢測設備已成為研發的重點,其中在光電式精密位移量測儀器中,依照量測方法可分為雷射探頭與干涉式測距儀兩類,其中雷射探頭係採用三角法原理之雷射三角測距儀,來檢測位移的大小,而干涉式測距儀則可為雙頻(heterodyne)干涉儀及單頻(homodyne)干涉儀兩種,由於前述之雙頻及單頻干涉儀都不屬於共光程之結構,因此所產生之干涉條紋容易受到環境擾動、振動以及溫度的熱流效應等的影響。
而共光程架構之干涉儀可改善上述之缺點,藉以提高干涉儀的穩定性,其中共光程結構之干涉儀的典型代表係為Fabry-Perot干涉儀,由於Fabry-Perot干涉儀產生的干涉條紋非常細銳且能量集中,且亮紋與亮紋之間沒有訊號,所以條紋的對比度很高,可精密地測定亮紋確切的位置,而在長度量測的應用方面,由於是共光程結構,所以不易受環境的影響,可適用於一般無環境控制的場合,其中Fabry-Perot(F-P)干涉儀主要係由兩相平行之鏡面來進行檢測。然而,目前F-P干涉儀其量測極限與所使用之雷射光源波長有關,導致其量測位移的精準受到限制。
為了解決目前Fabry-Perot(F-P)干涉儀之量測極限受到波長限制,本發明利用Fabry-Perot干涉儀結合位置靈敏感測器(PSD)與干涉訊號之特性,可進行λ(約80nm)光學解析度之位移量測。
配合前述的技術問題及發明目的,本發明提供一種具有高精密度之位移感測干涉儀,其包含:一光源與準直系統,為可輸出準直之雷射光束;一量測鏡與位移模組,其包含一位移裝置以及一固定且垂直安裝於該位移裝置之量測鏡,該量測鏡為一平面鏡,其設於該雷射光束之光路徑位置,並沿著該雷射光束之光路徑方向移動,該量測鏡之雷射光束輸出之表面具有高反射特性;一參考鏡與訊號處理模組,其包含:一參考鏡,其固定設於雷射光束的光學路徑上之平面鏡,其與該量測鏡之相對的表面具有高反射特性;一分光鏡,其設於該參考鏡的一側且位於雷射光束的輸出路徑上,並將該雷射光束分為兩個不同行進路徑的一第一雷射光以及一第二雷射光;二位置靈敏感測器,係分別固定設於該第一雷射光以及該第二雷射光之光路徑上,且兩個該位置靈敏感測器與該第一雷射光以及該第二雷射光之光學路徑之相對位置不同而能使兩個該位置靈敏感測器之二電壓輸出訊號產生一相位差;二放大電路,係分別與兩個該位置靈敏感測器電 性連接,其分別將兩個電壓輸出訊號予以放大;一電壓輸出電路,其分別連接兩個該放大電路,接收兩個放大後的電壓輸出訊號並予以輸出;以及一訊號處理及位移量測單元,其電性連接該電壓輸出電路,接收兩個具有相位差之該電壓輸出訊號,並將兩個電壓輸出訊號之數值分別設定為一X軸訊號以及一Y軸訊號而繪製於一直角座標系統內,判斷該X軸訊號以及該Y軸訊號於該直角座標系統內的象限以及於各象限之間之移動為一順時針或一逆時針方向,其中:當該X軸訊號及該Y軸訊號於各象限之間為順時針變換時,該訊號處理及位移量測單元判定該位移裝置及該量測鏡朝一第一方向移動λ,該λ為該雷射光束之波長;以及當該X軸訊號及該Y軸訊號於各象限之間為逆時針變換時,該訊號處理及位移量測單元判定該位移裝置及該量測鏡朝該第一方向之反方向移動λ;以及一控制器,其分別與該位移裝置、兩個該位置靈敏感測器、兩個該放大電路、該電壓輸出電路以及該訊號處理及位移量測單元電性連接,其控制該位移裝置使該量測鏡改變與該參考鏡之間的距離。
其中,該相位差為π/2。
其中,該參考鏡與訊號處理模組形成一暗室模組,使外部光線僅能透過該光欄進入該暗室模組。
其中,該位移裝置為受該控制器控制,且安裝於一線性 滑軌之電控滑軌車。
藉此,本發明具有如下優點:
1.位移感測鑒別精密度改善為1/8波長,由於Fabry-Perot干涉儀架構存在微小入射角(α),使得在長行程位移量測時光束疊加次數逐漸減少,細銳度也隨之降低,而利用象限做為計數依據則不會因為細銳度的降低而影響計數模式,任何細銳度只要調整得宜,皆能符合第四象所提到之訊號特性。
2.將參考鏡與訊號處理模組整合為一模組,可節省空間及增進系統抗環境擾動之能力。
請參考第一圖以及第二圖,其為本發明之具有高精密度之位移感測干涉儀的較佳實施例,其包含一光源與準直模組(10)、一量測鏡與位移模組(20)、一參考鏡與訊號處理模組(30)以及一控制器(40)。
該光源與準直模組(10)為具有準直控制之雷射光源,本較佳實施例之光源與準直模組(10)包含一雷射管(12)以及一光纖固定座(14),本較佳實施例之雷射管為一He-Ne雷射管,其真空環境下之波長(λ)為632nm。該光纖固定座(14)以一光纖與該雷射管(12)之一光輸出端連接,該光纖固定座(14)包含一雷射光輸出埠。
該量測鏡與位移模組(20)包含一位移裝置(22)以及一固定且垂直安裝於該位移裝置(22)之量測鏡(24),該位移裝置(22)為可接受控制而移動的裝置,例如為安裝於一線性滑軌 的電控滑軌車。其中,該量測鏡(24)為一平面鏡,其設於該光纖固定座(14)之雷射光輸出埠位置對應,使該雷射光輸出埠所輸出的雷射光束可穿過該量測鏡(24),該量測鏡(24)可沿著該雷射光束的光路徑方向移動。
該參考鏡與訊號處理模組(30)包含一參考鏡(31)、一光欄(32)、一分光鏡(33)、二位置靈敏感測器(PSD)(34)、二放大電路(36)、一電壓輸出電路(38)以及一訊號處理及位移量測單元(39)。
該參考鏡(31)為與該量測鏡(24)高度平行的平面鏡,其擺設位置與該量測鏡(24)位置相對應,亦設於雷射光束的光路徑上,且該參考鏡(31)與該量測鏡(24)之相對表面為高反射性,使穿過該量測鏡(24)的雷射光傳輸至該參考鏡(31)時,能於該參考鏡(31)及該量測鏡(24)之間進行重複反射,且於該參考鏡(31)之另一側形成干涉條紋,如第三圖所示。如果入射角α趨近於0,則透射過該量測鏡(24)的光會在一屏幕位置上產生疊加形成干涉條紋,且若干涉條紋疊加的越多次,則使該干涉條紋之細銳度(Finesse)更高。當該量測鏡(24)移動時,可用一光學檢測元件計數干涉條紋經過該光學檢測元件的(建設性(波峰)或破壞性(波谷)干涉)數量,而計算出兩透鏡的(31)(24)之相對移動距離,其中,該干涉條紋之移動距離為該量測鏡(24)其實際移動距離的兩倍(光程差,optical distance)。
該光欄(32)之一入口對準該量測鏡(24),使該光纖固定座(14)所輸出的雷射光(已干涉)於經過該量測鏡(24)之後穿過該光欄(32)。該分光鏡(33)則設於該光欄(32)之光輸出路 徑上,且將通過該光欄(32)之雷射光分成兩不同行進方向之一第一雷射光(L1)以及一第二雷射光(L2),該第一雷射光(L1)以及該第二雷射光(L2)則分別傳輸至兩個位置靈敏感測器(PSD,Position Sensitivity Detector)(34),兩位置靈敏感測器(34)則感測該第一雷射光(L1)以及該第二雷射光(L2)之干涉條紋的移動,判斷該量測鏡(24)之移動狀況。其中,本較佳實施例所採用的位置靈敏感測器(34)為一長條狀的光感應器,當光線照射於該位置靈敏感測器(34)的不同部位時可產生不同的電壓輸出,因此,若干涉條紋之建設性干涉光線持續移動且照射對應之該位置靈敏感測器(34)之不同位置時,該位置靈敏感測器(34)則產生持續變化的電壓輸出。
因此,本較佳實施例在理想狀態下假設干涉條紋由該位置靈敏感測器(34)一邊緣(假設為左端)進入並等速朝同一方向移動,且干涉條紋之間距與該位置靈敏感測器(34)的寬度相等之情形下,該位置靈敏感測器(34)之電壓輸出訊號其特性為頭尾(左右兩端)及中點為0,且為對稱中點之鏡射圖形,如第四圖所示。其中,本較佳實施例透過調整兩位置靈敏感測器(34)之位置,讓兩個該位置靈敏感測器(34)之電壓輸出訊號形成正交(相位差π/2),如第五A圖,且本較佳實施例分別將兩個正交的位置靈敏感測器(34)訊號分別稱為一X軸訊號以及一Y軸訊號。
兩個該放大電路(36)分別與兩個該位置靈敏感測器(34)電性連接,其分別將兩個位置靈敏感測器(34)之電壓輸出訊號放大後,輸出至該電壓輸出電路(38),該電壓輸出電路(38)與該訊號處理及位移量測單元(39)電連接,且該電壓輸出電 路(38)將放大後的電壓輸出訊號,輸出至該訊號處理及位移量測單元(39)。
該控制器(40)則分別與該位移裝置(22)、該位置靈敏感測器(34)、兩個放大電路(36)、該電壓輸出電路(38)以及該訊號處理及位移量測單元(39)電性連接,其控制該位移裝置(22)使該量測鏡(24)改變與該參考鏡(31)之間的距離。而且,該控制器(40)分別驅動該位置靈敏感測器(34)感測該第一、第二雷射光(L1、L2)的干涉條紋,並使該位置靈敏感測器(34)之電壓輸出訊號經過訊號放大後,輸出至該訊號處理及位移量測單元(39)。
該訊號處理及位移量測單元(39)則將該X軸訊號及該Y軸訊號繪製形成一X-Y mode座標圖,該X軸訊號及Y軸訊號在X-Y mode座標圖之中分別代表其X軸、Y軸之數值,因此,將該電壓輸出訊號轉換標示為該X-Y mode座標圖之結果如第五B圖所示,其為一封閉圖形,此封閉圖形代表該位移裝置(22)之位移量皆為週期(相位),所以可依據光路架構原理將所得到之λ之計數間距再細分為四段,得到λ之光學解析度。
另外,該參考鏡(31)與該量測鏡(24)之干涉結果,與雷射光束的準直特性有關,不同的準直特性可在該參考鏡(31)後方依光束疊加之情形得到不同細銳度(Finesse)之條紋,如光束準直情形較好,則可得到細銳度較高之條紋,反之則較低,如第六圖所示。
綜言之,將雷射光經過該參考鏡(31)之後產生的干涉條 紋利用該光欄(32)遮住雜光,再由該分光鏡(33)將光束分為兩道,並且分別打在兩位置靈敏感測器(34)上,調整感測器訊號之相位,使之產生相位正交電壓輸出訊號(λ相位差),將電壓輸出訊號導入該訊號處理及位移量測單元(39),該訊號處理及位移量測單元(39)則執行一訊號計數程式(50),該訊號計數程式(50)之流程圖如第七圖所示,干涉條紋所輸出的電壓輸出訊號經過該訊號計數程式(50)之判斷,即可得到一待測物之位移量以及方向,其中,該待測物可與該量測鏡(24)一同安裝於該位移裝置(22)上。
更進一步說明該訊號計數程式(50)之判斷方式,該訊號計數程式(50)步驟包含:判斷象限(52)、判斷象限是否改變(54)、判斷象限是否為順時針變化(56)、輸出位移量(57)、判斷量測是否結束(58)以及輸出方向及位移量(59)。
該象限判斷(52)步驟,為該訊號處理及位移量測單元(39)由該電壓輸出電路(38)取得電壓輸出訊號之(X,Y值),判斷X、Y值於該X-Y mode座標圖之象限,換言之,如第七圖所示,係判斷X、Y數值的正負關係,而判斷該電壓訊號輸出所座落之象限,其中(X,Y)之正負與座落象限關係為:(X>0,Y>0):第一象限;(X>0,Y≦0):第四象限;(X≦0,Y>0):第二象限;(X≦0,Y>0):第三象限。
該判斷象限是否改變(54)步驟中,係該訊號處理及位移量測單元(39)判斷X、Y數值座落的位置是否與之前的電壓訊號輸出的X、Y數值不同,若判斷結果為是,則進行下一 步驟,若判斷結果為否,則判斷該判斷量測是否結束(58)步驟。
該判斷象限是否為順時針變化(56)步驟中,係判斷象限的改變是否為順時針方向,換言之,是否為1→2或2→3或3→4或4→1,若判斷結果為是,則進行該輸出位移量(57)步驟之一位移增加λ(571)步驟,反之,則進行該輸出位移量(57)步驟之一位移減少λ(572)步驟。
該判斷量測是否結束(58)步驟中,為該判斷該控制器(40)是否接受使用者控制而欲結束該訊號計數程式(50)之執行,若判斷結果為是,則進行下一步驟,反之,則繼續讀取該訊號處理及位移量測單元(39)由該電壓輸出電路(38)取得電壓輸出訊號,而重複步驟(52)~步驟(57)。
該輸出方向及位移量(59)步驟中,係該訊號處理及位移量測單元(39)將步驟(57)之結果輸出給使用者。
進一步地,為了讓該位置靈敏感測器(34)之感測結果更為精確,可將該參考鏡與訊號處理模組(30)形成一暗室模組,也就是讓光僅能透過該光欄(32)進入該參考鏡與訊號處理模組(30)而可節省空間及增進系統抗環境擾動之能力。
(10)‧‧‧光源與準直系統
(12)‧‧‧雷射管
(14)‧‧‧光纖固定座
(20)‧‧‧量測鏡與位移模組
(22)‧‧‧位移裝置
(24)‧‧‧量測鏡
(30)‧‧‧參考鏡與訊號處理測單元模組
(31)‧‧‧參考鏡
(32)‧‧‧光欄
(33)‧‧‧分光鏡
(34)‧‧‧位置靈敏感測器
(36)‧‧‧放大電路
(38)‧‧‧電壓輸出電路
(39)‧‧‧訊號處理及位移量
(40)‧‧‧控制器
第一圖為本發明之較佳實施例之使用示意圖。
第二圖為本發明之較佳實施例之一參考鏡與訊號處理模組示意圖。
第三圖為本發明之較佳實施例之一干涉條紋產生示意 圖。
第四圖為本發明較佳實施例之該干涉條紋轉換為一電壓訊號示意圖。
第五A、B圖為本發明較佳實施例之一X-Y mode座標圖示意圖。
第六圖為本發明較佳實施例不同干涉條紋細銳度於X-Y mode座標圖示意圖。
第七圖為本發明較佳實施例之一訊號計數程式之流程圖。
(10)...光源與準直系統
(12)...雷射管
(14)...光纖固定座
(20)...量測鏡與位移模組
(22)...位移裝置
(24)...量測鏡
(30)...參考鏡與訊號處理模組
(31)...參考鏡

Claims (7)

  1. 一種具有高精密度之位移感測干涉儀,其包含:一光源與準直系統,為可輸出準直之雷射光束;一量測鏡與位移模組,其包含一位移裝置以及一固定且垂直安裝於該位移裝置之量測鏡,該量測鏡為一平面鏡,其設於該雷射光束之光路徑位置,並沿著該雷射光束之光路徑方向移動,該量測鏡之雷射光束輸出之表面具有高反射特性;一參考鏡與訊號處理模組,其包含:一參考鏡,其固定設於雷射光束的光學路徑上之平面鏡,其與該量測鏡之相對的表面具有高反射特性;一分光鏡,其設於該參考鏡的一側且位於雷射光束的輸出路徑上,並將該雷射光束分為兩個不同行進路徑的一第一雷射光以及一第二雷射光;二位置靈敏感測器,係分別固定設於該第一雷射光以及該第二雷射光之光路徑上,且兩個該位置靈敏感測器與該第一雷射光以及該第二雷射光之光學路徑之相對位置不同而能使兩個該位置靈敏感測器之二電壓輸出訊號產生一相位差;二放大電路,係分別與兩個該位置靈敏感測器電性連接,其分別將兩個電壓輸出訊號予以放大;一電壓輸出電路,其分別連接兩個該放大電路,接收兩個放大後的電壓輸出訊號並予以輸出;以及一訊號處理及位移量測單元,其電性連接該電壓輸出電路,接收兩個具有相位差之該電壓輸出訊號,並將 兩個電壓輸出訊號之數值分別設定為一X軸訊號以及一Y軸訊號而繪製於一直角座標系統內,判斷該X軸訊號以及該Y軸訊號於該直角座標系統內的象限以及於各象限之間之移動為一順時針或一逆時針方向,其中:當該X軸訊號及該Y軸訊號於各象限之間為順時針變換時,該訊號處理及位移量測單元判定該位移裝置及該量測鏡朝一第一方向移動λ,該λ為該雷射光束之波長;以及當該X軸訊號及該Y軸訊號於各象限之間為逆時針變換時,該訊號處理及位移量測單元判定該位移裝置及該量測鏡朝該第一方向之反方向移動λ;以及一控制器,其分別與該位移裝置、兩個該位置靈敏感測器、兩個該放大電路、該電壓輸出電路以及該訊號處理及位移量測單元電性連接,其控制該位移裝置使該量測鏡改變與該參考鏡之間的距離。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之具有高精密度之位移感測干涉儀,其中,該相位差為π/2。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之具有高精密度之位移感測干涉儀,係進一包含有一光欄,該光欄固定設於該參考鏡之雷射光束之輸出面之一側,且該光欄之一入口位置位於該雷射光束之光路徑上,令雷射光束經由光欄而傳遞至分光鏡。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之具有高精密度之位移感測干涉儀,該參考鏡與訊號處理模組形成一暗室模組, 使外部光線僅能透過該光欄進入該暗室模組。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之具有高精密度之位移感測干涉儀,該位移裝置為受該控制器控制,且安裝於一線性滑軌之電控滑軌車。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之具有高精密度之位移感測干涉儀,該光源與準直模組包含一雷射管以及一光纖固定座,該光纖固定座以一光纖與該雷射管之一光輸出端連接,該光纖固定座包含一雷射光輸出埠。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之具有高精密度之位移感測干涉儀,該光源與準直模組包含一雷射管以及一光纖固定座,該光纖固定座以一光纖與該雷射管之一光輸出端連接,該光纖固定座包含一雷射光輸出埠。
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TWI247091B (en) * 2004-11-10 2006-01-11 Ind Tech Res Inst Apparatus for measuring displacement
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