KR20100016419A - 토포테칸 염산염의 결정형 및 그의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
신규의 토포테칸 염산염의 결정형 및 그의 제조 방법이 개시되어 있다.
Description
[0001] 본 출원은 2007년 4월 19일자에 출원된 미국 임시 특허 출원 제60/925,280호로부터의 우선권을 주장한다. 미국 임시 특허 출원 제60/925,280호의 전체 내용을 본 명세서에 참조로 포함시킨다.
1. 발명의 배경
[0002] 본 출원은 토포테칸 염산염의 결정형 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
2. 관련 기술의 설명
[0003] 토포테칸 염산염은 다음 화학식 (Ⅰ)의 화합물인 (10-[(디메틸아미노)메틸]-4-에틸-4,9-디히드록시-1H-피라노[3',4':6,7]인돌리지노[1,2-b]퀴놀린-3, 14(4H,12H)디온 염산염)이다.
(Ⅰ)
[0004] 미국 특허 제5,004,758호에는 토포테칸(9-디메틸아미노메틸-10-히드록시 캄토테신), 좋기로는 (s)-토포테칸 및 이것의 염산염을 함유하는 수용성 캄토테신 유사체가 개시되어 있다.
[0005] PCT 출원 WO2005/046608호는 여기에 도 1로 나타낸 X선 회절 패턴을 사용하여 토포테칸 일염산염 5수화물의 결정형을 개시하고 있다. 설명의 목적상, 이 결정형을 A형으로 나타낸다.
요약
[0006] 본 발명은 여러 가지 결정화 공정들을 이용하여 제조한 신규한 토포테칸 염산염의 결정형들에 관한 것이다. 이들 결정형을 B, C, D, E, F, G, H, I, J 및 K형으로 나타낸다.
[0007] 상기 결정형들은 그들의 X선 분말 회절 패턴 (XRPD)과 IR 분광도에 의하여 특정된다.
[0008] 본 발명의 한 가지 관점에 의하면, XRPD 패턴이 6.1, 8.1, 23.4, 25.5 및 26.3 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 B가 제공된다.
[0009] 본 발명의 다른 관점에 의하면, XRPD 패턴이 6.9, 7.5, 15.1, 16.3, 25.1 및 26.0 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 C가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 C는 1754, 1723, 1658, 1597 및 1508 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0010] 본 발명의 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 5.9, 13.9, 22.6, 23.2 및 26.5 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 D가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 D는 1742, 1654, 1586, 1510 및 1467 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0011] 본 발명의 또 다른 관점에 의하면, XRPD 패턴이 14.0, 18.8, 22.5, 25.4 및 25.7 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 E가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 E는 1752, 1649, 1584, 1567 및 1513 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0012] 본 발명의 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 6.7, 12.4, 24.9, 25.4, 25.7 및 26.8 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 F가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 F는 1740, 1655, 1590, 1507 및 1467 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0013] 본 발명의 다른 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 6.2, 8.1, 21.2, 23.4, 25.5, 26.3 및 28.0 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 G가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 G는 1745, 1657, 1597 및 1507 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0014] 본 발명의 또 다른 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 6.6, 10.2, 18.7, 20.5, 25.9 및 29.2 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 H가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 H는 1756, 1657, 1613 및 1537 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0015] 본 발명의 또 다른 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 7.0, 10.2, 20.8, 22.1 및 27.9 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 I가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 I는 1746, 1656, 1608, 1535 및 1495 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0016] 본 발명의 또 다른 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 7.8, 10.0, 16.4, 17.0, 20.2 및 27.1 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 J가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 J는 1745, 1657, 1598 및 1508 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0017] 본 발명의 추가의 관점에 의하면, XRPD 패턴이 6.0, 14.1, 22.8, 25.9 및 30.0 o2θ (±0.2o)에 특징적인 피크가 있는 토포테칸 염산염의 결정형 K가 제공된다. 토포테칸 염산염의 결정형 K는 1753, 1653, 1584, 1567 및 1512 cm-1에서 FT-IR 피크를 나타내는 것이 좋다.
[0018] 본 발명을 특정하는 여러 가지 신규성의 특성들은 본 명세서에 첨부되어 있고 본 명세서의 일부를 구성하는 청구항들 중에 상세하게 나타나 있다. 본 발명과 그의 조작상의 이점 및 그의 용도에 의하여 얻는 특정한 목적을 양호하게 이해하려면, 본 발명의 양호한 실시 상태들이 예시되고 설명되어 있는 도면 및 기타 설명 사항을 참조하여야 할 것이다.
양호한 실시 상태의 상세한 설명
[0040] 나아가, 본 발명의 몇 가지 관점에 따른 결정형은 이들의 수분 함량, 염화물 함량 및 용매 잔량에 특징이 있다.
결정형 | 수분 함량 ( wt %) | Cl 함량 ( wt %) | NMR 로 측정한 용매 잔량 |
D | 9.73 9.96 9.50 (시료 3개) | 9.61 9.76 9.44 (시료 3개) | 에탄올=검출되지 않음. 아세트산에틸=0.73% |
E | 3.86 1.46 4.13 (시료 3개) | 7.8 8.16 (시료 2개) | 아세트산에틸=0.41% |
F | 18.31 | 7.7 | 아세토니트릴=1.93% |
G | 9.37 | 7.7 | 메탄올=1.24% 아세트산에틸=4.57% |
H | 2.91 | - | 메탄올=3.59% 아세토니트릴=0.27% |
I | 4.50 | - | 메탄올=0.10% 아세토니트릴=4.06% 아세트산에틸=0.31% |
J | - | - | 메탄올=0.16% 아세토니트릴=3.17% 아세트산에틸=2.68% |
"-"은 결정형에 대한 실험이 수행되지 않음을 의미한다.
[0041] D형 및 E형은 F형 내지 J형보다 건조에 의한 용매 제거가 더 용이하다. 또한, D형의 수분/Cl 함량은 F형보다 더 안정하다.
[0042] 다양한 조건하에서 상기 결정형들 중의 몇 가지 형들의 안정성을 실험하였다. HPLC를 사용하여 시간 경과에 따른 토포테칸 염산염의 열화(劣化) 정도를 측정하였다.
[0043] 상이한 결정형의 시료들을 실온에서 특정 기간 유지하였다. HPLC에 의하여 이들 시료의 순도를 실험하고, 이들의 순도 변화를 관찰하였다.
[0044] 상기 D형 내지 I형의 순도 변화는 다음과 같이 요약된다.
(a) D형의 순도 변화
체류 시간 | 순도 |
0 시간 | 99.32% |
3일 | 99.21% |
7일 | 99.17% |
20일 | 99.08% |
36일 | 99.43% |
(b) E형의 순도 변화
체류 시간 | 순도 |
0 시간 | 98.99% |
3일 | 99.27% |
7일 | 99.31% |
20일 | 99.29% |
36일 | 99.30% |
(c) F형의 순도 변화
체류 시간 | 순도 |
0 시간 | 99.94% |
3일 | 99.92% |
16일 | 99.91% |
32일 | 99.91% |
(d) G형의 순도 변화
체류 시간 | 순도 |
0 시간 | 99.11% |
3일 | 99.06% |
7일 | 99.00% |
20일 | 98.88% |
32일 | 99.06% |
(e) H형의 순도 변화
체류 시간 | 순도 |
0 시간 | 99.92% |
3일 | 99.90% |
7일 | 99.92% |
20일 | 99.89% |
(f) I형의 순도 변화
체류 시간 | 순도 |
0 시간 | 99.70% |
3일 | 99.65% |
7일 | 99.56% |
20일 | 99.56% |
[0045] HPLC 피크 체류 시간에 기초한 결과들은 결정형 D 내지 G의 토포테칸 염산염이 실온에서 실질적으로 3일 이상 안정하다는 것을 나타낸다. 또한, 결정형 H 및 I의 토포테칸 염산염은 실온에서 실질적으로 20일 이상 안정하다.
[0046] 전술한 정보에 의하면, D형의 수분 및 염화물의 함량은 F형보다 더 안정하고, D형의 용매 잔량은 F형 내지 J형보다 더 적다. 더구나, D형의 안정성은 그 밖의 결정형들보다 실온에도 역시 더 양호하다.
[0047] 다음의 두 가지 실험에서는, A형 및 D형을 비교하였다.
실험 1
[0048] 토포테칸 염산염 (1.75 g), 99.5% 에탄올 (약 12 ㎖), 상이한 당량의 물 [(1) 3.3, (2) 4.3, (3) 4.5, (4) 4.7, (5) 4.8, (6) 5.1 ㎖] 및 상이한 당량의 2N HCl 용액 [(1) 1.91, (2) 0.96, (3) 0.76, (4) 0.57, (5) 0.48, (6) 0.19 ㎖]을 적절한 반응기 내에서 혼합하였다. 이어서, 상기 혼합물을 약 50℃ 미만으로 가열하여 용해하였다. 아세트산에틸 (약 38 ㎖)을 가한 다음, 이어서 약 10℃로 냉각시키고, 이 온도에서 1 시간 미만 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세트산에틸로 세척하였다. 실온에서 진공 건조하였다.
실험 2
[0049] 토포테칸 염산염 (4.0 g, A형 또는 D형)을 실온에서 아세트산에틸 (40 ㎖) 중에서 장시간 (40, 80 또는 200 시간) 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세트산에틸로 세척하였다. 실온에서 진공 건조하였다.
[0050] 위의 두 가지 실험 결과들은 다음과 같이 요약된다.
실험 번호 | 결과 | 수분 함량 ( wt %) | Cl 함량 ( wt %) |
1 | (1) 1.0 당량 HCl( aq ) (pH=0.47): D형 (2) 0.5 당량 HCl( aq ) (pH=0.9): D형 (3) 0.4 당량 HCl( aq ) (pH=1.17): D형 (4) 0.3 당량 HCl( aq ) (pH=1.27): A형 (5) 0.25 당량 HCl( aq ) (pH=1.51): A형 (6) 0.1 당량 HCl( aq ) (pH=2-3): A형 | 9.96 9.73 - 11.61 16.62 10.84 | 9.76 9.61 - 7.69 7.74 7.60 |
2 | (1) 40 시간: A형→A형; D형→D형 (2) 80 시간: A형→A형; D형→D형 (3) 200 시간: A형→A형; D형→D형 | - | - |
"-"는 시료에 대한 수분/Cl 함량 실험이 수행되지 않음을 의미한다.
[0051] 상기 두 가지 실험 결과에 의하면, D형은 더 낮은 pH 조건에서 형성되게 될 것이고, A형은 더 높은 pH 조건에서 형성되게 될 것이다. 상이한 결정화 pH 조건하에, D형의 수분 함량은 A형의 수분 함량보다 더 안정하다.
[0052] 더욱이, 결정화 전의 장시간 교반에 대하여 D형은 A형보다 더 안정하다. 아세트산에틸 중에서 80 시간 이상 교반 후, A형은 E형으로 변환되게 될 것이다. 그러나, D형은 아세트산에틸 중에서 200 시간 이상 교반하는 경우에도 안정하게 될 것이다.
[0053] A형 및 D형의 외관, HCl 함량 및 건조에 의한 용매 제거능은 다음과 같이 요약된다.
항목 | A형 | D형 |
외관 | 담황색→황색 | 오렌지색 |
HCl 함량 ( 당량 ) | 1 | 1.4 |
건조에 의한 용매 제거 | 곤란함 | 용이 |
[0054] D형의 HCl 함량은 A형보다 많고, 건조 후의 D형의 용매 잔량은 A형보다 적다.
[0055] 다음의 실시예들은 본 발명에 따른 토포테칸 염산염의 다형체(多形 體)의 제조 방법을 예시적으로 설명하기 위한 것이다.
실시예
1
[0056] 물 (7.5 ㎏) 및 아세토니트릴 (2.4 ㎏)을 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 약 45℃로 가열하였다. 생성된 혼합물에 토포테칸 HCl (1.5 ㎏)을 약 45℃에서 가한 다음, 이어서 상기 생성된 혼합물에 아세토니트릴 (약 21 ㎏)을 가하였다. 첨가 종료 후에, 상기 혼합물을 약 10℃로 냉각시키고, 30분 미만 교반하여, 여과하였다. 이어서, 습식 케이크를 아세톤 (약 9 ㎏)으로 세척하였다. 습식 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 B형 약 1.3 ㎏을 얻었다.
실시예
2
[0057] 토포테칸 HCl (1.5 ㎏), 에탄올 (약 8 ㎏) 및 물 (약 4 ㎏)을 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 슬러리를 약 50℃로 가열한 다음, 이어서 실리카 겔 및 셀라이트층에 통과시켜서 여과하였다. 헹굼용의 뜨거운 (약 50℃) 에탄올-물 (부피비: 7:3, 약 2.5 ㎏) 및 아세트산에틸 (약 5 ㎏)의 혼합물을 가한 다음, 이어서 약 35℃로 냉각시켰다. 그 결과 얻은 혼합물에 아세트산에틸 (약 23 ㎏)을 가하였다. 첨가 종료 후에, 상기 혼합물을 약 10℃로 냉각시키고, 교반하여 여과하였다. 이어서, 습식 케이크를 차가운 아세톤 (약 9 ㎏)으로 세척하였다. 습식 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 C형 약 0.8 ㎏을 얻었다.
실시예
3
[0058] 토포테칸 HCl (1.75 g), 에탄올 (약 12 ㎖) 및 물 (약 5 ㎖)을 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 슬러리를 약 50℃로 가열하였다. 혼합물이 투명한 용액이 되면, 이 용액을 약 40℃로 냉각시키고, 2N HCl( aq )을 사용하여 pH 값을 <1.2로 조정하였다. 아세트산에틸 (약 18 ㎖)를 가하였다. 첨가 종료 후에, 상기 혼합물을 약 10℃로 냉각시키고, 1 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세톤 (약 4 ㎖)으로 세척하였다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 D형 약 1.5 ㎏을 얻었다.
실시예
4
결정화
[0059] 물 (약 8 ㎏) 및 아세토니트릴 (약 2 ㎏)을 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 혼합물을 약 40℃로 가열하였다. 생성된 혼합물에 토포테칸 HCl (약 1.5 ㎏)을 가한 다음, 이어서 상기 생성된 혼합물에 아세토니트릴 (약 21 ㎏)을 가하였다. 첨가 종료 후에, 상기 혼합물을 10℃ 이하로 냉각시켜서 여과하였다. 이어서, 습식 케이크를 아세톤 (약 9 ㎏)으로 세척하였다. 습식 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl 약 1.3 ㎏을 얻었다.
재결정화
[0060] 에탄올 (약 8 ㎏) 및 물 (약 4 ㎏)을 적절한 반응기에 투입하여 35 내지 50℃로 가열한 후, 그 결과 얻은 혼합물에 실시예 3을 결정화시켜서 얻은 토포테칸 HCl (약 1.0 ㎏)을 투입한 다음 (pH가 1.2 이상이면, HCl 수용액 첨가), 이어서 실리카 겔 및 셀라이트층에 통과시켜서 여과하였다. 헹굼용의 에탄올/물 (부피비: 7:3, 약 2.5 ㎏) 및 아세트산에틸 (약 5 ㎏)의 혼합물을 가한 다음, 이어서 30 내지 45℃로 냉각시켰다. 그 결과로 얻은 혼합물에 아세트산에틸 (약 23 ㎏)을 가하였다. 첨가 종료 후에, 상기 혼합물을 10℃ 이하로 냉각시킨 후, 여과하였다. 이어서, 습식 케이크를 아세트산에틸 (약 11 ㎏)로 세척하였다. 습식 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 D약 0.7 내지 0.9 ㎏을 얻었다.
[0061] 실시예 4로부터 제조된 토포테칸 HCl의 D형 시료 2개를 분석하여 이들의 불순물 함량, 수분 함량 및 Cl 함량을 확인하였다. 이 결과들은 다음과 같이 요약된다.
시료 번호 | 1 | 2 |
HPLC 로 측정한 총불순물 | 0.09% | 0.09% |
수분 함량: 카알 피셔법 ( wt %) | 9 | 8 |
염화물 함량: 적정법 ( wt %) | 9.8 | 9.6 |
실시예 5
결정화
[0062] N,N-디메틸포름아미드 15 ㎖ 중에서 토포테칸 염산염 (1 g)을 분산시키고, 50℃ 미만으로 가열하여 회백색 슬러리를 얻었다. 이를 10분간 교반한 다음, 이어서 아세트산에틸 40 ㎖를 가하였다. 혼합물을 환류하에서 15분간 더 교반한 다음, 이어서 30분간 실온으로 냉각시켰다. 침전물을 여과 및 건조하여 토포테칸 HCl 약 0.5 g을 얻었다.
재결정화
[0063] 에탄올 (약 4 g) 및 물 (약 2 g)을 적절한 반응기에 투입하여 35 내지 50℃로 가열한 후, 그 결과 얻은 혼합물에 실시예 4를 결정화시켜서 얻은 토포 테칸 HCl (약 5 g)을 투입한 다음 (pH가 1.2 이상이면, HCl 수용액 첨가), 이어서 실리카 겔 및 셀라이트층에 통과시켜서 여과하였다. 헹굼용의 에탄올/물 (부피비: 7:3, 약 1.2 g) 및 아세트산에틸 (약 2.5 g)의 혼합물을 가한 다음, 이어서 30 내지 45℃로 냉각시켰다. 그 결과 얻은 혼합물에 아세트산에틸 (약 11.5 g)을 가하였다. 첨가 종료 후에, 상기 혼합물을 10℃ 이하로 냉각시킨 후, 여과하였다. 이어서, 습식 케이크를 아세트산에틸 (약 5.5 g)으로 세척하였다. 습식 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 D형 0.35 내지 0.45 ㎏을 얻었다.
실시예
6
[0064] 토포테칸 HCl (8.0 g)과 아세트산에틸 중의 약 0.04% HCl (약 240 ㎖)을 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 슬러리를 80 시간 미만 교반하였다. 고형분을 여과하여 아세트산에틸 (80 ㎖)로 세척하였다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 E형 약 7 g을 얻었다.
실시예
7
[0065] 토포테칸 HCl (약 1.6 g) 및 물 (약 10 ㎖)를 적절한 반응기에 투입하여 농도가 짙은 슬러리를 얻고, 아세토니트릴 (약 3 ㎖)를 가하였다. 그 결과 얻은 슬러리를 30 내지 40℃로 가열하였다. 2N HCl( aq )을 사용하여 pH 값을 2로 조정하였다. 이어서, 상기 슬러리를 약 45℃로 가열하였다. 고형분이 용해되었을 때, 아세토니트릴 (약 30 ㎖)를 가하였다. 상기 슬러리를 약 10℃로 냉각시키고, 1 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세토니트릴 (약 8 ㎖)로 세척하였다. 상 기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 F형 약 1.5 g을 얻었다.
실시예
8
[0066] 토포테칸 HCl (2.0 g), 메탄올 (약 16 ㎖) 및 물 (약 4 ㎖)를 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 슬러리를 약 50℃로 가열하였다. 고형분이 용해되었을 때, 실온에서 아세트산에틸 (약 36 ㎖)를 가하였다. 상기 슬러리를 약 10℃로 냉각시키고, 1 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세트산에틸 (약 10 ㎖)로 세척하였다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 G형 약 1 g을 얻었다.
실시예
9
[0067] 토포테칸 HCl (약 1 g), 메탄올 중의 3% HCl(g) (약 22 ㎖) 및 아세토니트릴 (약 16 ㎖)를 적절한 반응기에 투입하였다. 슬러리를 약 50℃로 가열하여 1 시간 유지하였다. 이어서, 상기 슬러리를 약 10℃로 냉각시키고, 1 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세트산에틸 (약 10 ㎖)로 세척하였다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 H형 약 0.8 g을 얻었다.
실시예
10
[0068] 토포테칸 HCl (약 1.7 g), 메탄올 중의 1% HCl(g) (약 34 ㎖) 및 아세토니트릴 (약 25 ㎖)를 적절한 반응기에 투입하였다. 슬러리를 약 50℃로 가열하고, 아세트산에틸 (약 67 ㎖)를 가하였다. 상기 슬러리를 약 10℃로 냉각시키고, 1 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세트산에틸 (약 10 ㎖)로 세척하였 다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 I형 약 1.5 g을 얻었다.
실시예
11
[0069] 토포테칸 HCl (약 2.0 g), 메탄올 (약 40 ㎖) 및 아세토니트릴 (약 30 ㎖)를 적절한 반응기에 투입하였다. 슬러리를 약 50℃로 가열한 다음, 이어서 30분 이상 교반하였다. 상기 슬러리를 약 10℃로 냉각시키고, 1 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 차가운 아세트산에틸 (약 20 ㎖)로 세척하였다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 J형 약 1.8 g을 얻었다.
실시예
12
[0070] 토포테칸 HCl (약 20 g) 및 아세트산에틸 중의 약 0.04% HCl (약 600 ㎖)을 적절한 반응기에 투입하였다. 그 결과 얻은 슬러리를 약 30 시간 교반하였다. 고형분을 여과하여 아세트산에틸 (약 100 ㎖)로 세척하였다. 상기 고형분을 진공 건조하여 토포테칸 HCl의 K형 약 17.6 g을 얻었다.
[0071] 더욱이, 결정화/재결정화는 토포테칸 HCl의 제조 공정 중에 생성되는 불순물도 역시 제거할 수 있다. 조질(粗質)의 토포테칸 HCl 중에 함유되어 있는 불순물을 결정화에 의하여 일시에 제거할 수 없는 경우에는, 상기 토포테칸 HCl의 재결정화를 수행할 수 있다. 최종 결정화에 이르기까지, 최종 토포테칸 HCl의 결정형은 명확하게 될 것이다.
[0072] 그러므로, 토포테칸 HCl에 대하여 전술한 실시예 및 이들의 임의의 조합을 수행하여 토포테칸 HCl 중에 함유되어 있는 불순물을 제거할 수 있다. 특히, 토포테칸 HCl의 제조 방법 및 수분이 존재하는 정제 공정 중에서 형성될 수 있 는 한 가지 확인된 불순물인 9-히드록시메틸-10-히드록시-캄토테신 (MW=394)은 실시예 4 및 5의 방법에 의하여 효과적으로 제거할 수 있다. 결정화에 의하여 상기 9-히드록시메틸-10-히드록시-캄토테신을 제거한 다음, 이어서 재결정화에 의하여 토포테칸 HCl을 목적하는 결정형으로 조절할 수 있다.
[0073] 조질의 토포테칸 HCl을 극성이 높은 용매계 (역용매보다 높은 극성) 중에서 용해하여 결정화시키고, 극성이 낮은 역용매를 가하여 토포테칸 HCl을 침전시킴으로써 토포테칸 HCl로부터 9-히드록시메틸-10-히드록시-캄토테신을 효과적으로 제거할 수 있다.
[0074] 최종 토포테칸 염산염의 불순물은 최종 토포테칸 염산염의 총중량을 기준으로 하여 0.10% 미만인 것이 좋다.
[0075] 본 발명은 전술한 실시 상태들에 한정되지 않으며, 이들은 다만 실시예로서 제시된 것일 뿐이지만, 첨부된 특허 청구 범위에 의하여 정해지는 보호 범위 내에서 다양한 방식으로 변경시킬 수 있다.
[0019] 첨부 도면에 있어서,
[0020] 도 1은 A형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴 (WO2005/046608호)이다.
[0021] 도 2는 C형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0022] 도 3은 C형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0023] 도 4는 D형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0024] 도 5는 D형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0025] 도 6은 E형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0026] 도 7은 E형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0027] 도 8은 F형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0028] 도 9는 F형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0029] 도 10은 G형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0030] 도 11은 G형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0031] 도 12는 H형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0032] 도 13은 H형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0033] 도 14는 I형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0034] 도 15는 I형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0035] 도 16은 J형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0036] 도 17은 J형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0037] 도 18은 K형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
[0038] 도 19는 K형의 적외선 확산 반사율 패턴이다.
[0039] 도 20은 B형의 특징적인 X선 분말 회절 패턴이다.
Claims (22)
- X선 분말 회절 패턴의 피크가 5.9, 13.9, 22.6, 23.2 및 26.5 o2θ (±0.2o)인 것을 특징으로 하는 토포테칸 염산염의 결정형 D.
- 제1항에 있어서, 결정형 D는 적외선 확산 반사율 패턴의 피크가 약 1742, 1654, 1586, 1510 및 1467 cm-1인 것을 더 특징으로 하는 토포테칸 염산염의 결정형 D.
- 제1항에 있어서, 결정형 D는 도 4에 나타낸 바와 실질적으로 동일한 X선 회절 패턴을 나타내는 것인 토포테칸 염산염의 결정형 D.
- 제1항에 있어서, 결정형 D는 도 5에 나타낸 바와 실질적으로 동일한 적외선 확산 반사율 패턴을 나타내는 것인 토포테칸 염산염의 결정형 D.
- 제1항에 있어서, 결정형 D의 수분 함량은 7 내지 11 wt%인 것인 토포테칸 염산염의 결정형 D.
- 제1항에 있어서, 결정형 D의 염화물 함량은 8.5 내지 10.5 wt%인 것인 토포 테칸 염산염의 결정형 D.
- X선 분말 회절 패턴의 피크가 14.0, 18.8, 22.5, 25.4 및 25.7 o2θ (±0.2o)인 것을 특징으로 하는 토포테칸 염산염의 결정형 E.
- 제7항에 있어서, 결정형 E는 적외선 확산 반사율 패턴의 피크가 약 1752, 1649, 1584, 1567 및 1513 cm-1인 것을 더 특징으로 하는 토포테칸 염산염의 결정형 E.
- 제7항에 있어서, 결정형 E는 도 6에 나타낸 바와 실질적으로 동일한 X선 회절 패턴을 나타내는 것인 토포테칸 염산염의 결정형 E.
- 제7항에 있어서, 결정형 E는 도 7에 나타낸 바와 실질적으로 동일한 적외선 확산 반사율 패턴을 나타내는 것인 토포테칸 염산염의 결정형 E.
- (a) 제1 용매계 중에 토포테칸 염산염을 용해시키는 단계와,(b) 단계 (a)의 결과로 얻은 혼합물의 pH를 1.2 미만으로 조정하는 단계와,(c) 단계 (b)의 혼합물 중에 다량의 극성이 낮은 용매를 가하여 제2 용매계를 형성하는 단계-상기 제1 용매계는 상기 제2 용매계보다 극성이 높다-와,(d) 상기 제2 용매계로부터 토포테칸 염산염의 결정형 D로 결정화시키는단계를 포함하는 제1항에 기재된 토포테칸 염산염의 결정형 D의 제조 방법.
- 제11항에 있어서, 제1 용매계는 수혼화성 유기 용매 및 물의 혼합물인 것인 방법.
- 제11항에 있어서, 수혼화성 유기 용매는 C1~C6의 저급 알코올 용매인 것인 방법.
- (a) 제1 용매계 중에 토포테칸 염산염을 용해시키는 단계와,(b) 단계 (a)의 혼합물 중에 다량의 극성이 낮은 용매를 가하여 제2 용매계를 형성하는 단계-상기 제1 용매계는 상기 제2 용매계보다 극성이 높다-와,(c) 상기 제2 용매계로부터 토포테칸 염산염을 결정화시키는 단계를 포함하는 토포테칸 염산염의 정제 방법.
- 제14항에 있어서, 제1 용매계는 물, 디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드, 에탄올, 메탄올 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 방법.
- 제14항에 있어서, 제1 용매계는 극성이 높은 용매 및 극성이 낮은 용매의 혼합물이고, 상기 극성이 높은 용매의 양은 극성이 낮은 용매의 양보다 많은 것인 방법.
- 제14항에 있어서, 제1 용매계는 에탄올 및 물의 혼합물인 것인 방법.
- 제14항에 있어서, 제1 용매계는 물 및 아세토니트릴의 혼합물인 것인 방법.
- 제14항에 있어서, 제1 용매계는 디메틸포름아미드 및 아세트산에틸의 혼합물인 것인 방법.
- 제14항에 있어서, 극성이 낮은 용매는 아세트산에틸, 디클로로메탄, 톨루엔, 아세토니트릴, 아세톤 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 방법.
- 제14항에 있어서, 정제된 토포테칸 염산염은 토포테칸 염산염의 총량을 기준으로 하여 불순물 함량이 0.10% 미만인 것인 방법.
- 토포테칸 염산염의 총량을 기준으로 하여 불순물 함량이 0.10% 미만인 토포테칸 염산염.
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