KR20100005085A - 반도체 장치 - Google Patents

반도체 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20100005085A
KR20100005085A KR1020097021749A KR20097021749A KR20100005085A KR 20100005085 A KR20100005085 A KR 20100005085A KR 1020097021749 A KR1020097021749 A KR 1020097021749A KR 20097021749 A KR20097021749 A KR 20097021749A KR 20100005085 A KR20100005085 A KR 20100005085A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical
optical fiber
semiconductor device
optical fibers
fibers
Prior art date
Application number
KR1020097021749A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101061635B1 (ko
Inventor
다카후미 후지모토
Original Assignee
도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 filed Critical 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤
Publication of KR20100005085A publication Critical patent/KR20100005085A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101061635B1 publication Critical patent/KR101061635B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4295Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with semiconductor devices activated by light through the light guide, e.g. thyristors, phototransistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/70Bipolar devices
    • H01L29/74Thyristor-type devices, e.g. having four-zone regenerative action
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/111Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristor
    • H01L31/1113Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristor the device being a photothyristor
    • HELECTRICITY
    • H02GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02MAPPARATUS FOR CONVERSION BETWEEN AC AND AC, BETWEEN AC AND DC, OR BETWEEN DC AND DC, AND FOR USE WITH MAINS OR SIMILAR POWER SUPPLY SYSTEMS; CONVERSION OF DC OR AC INPUT POWER INTO SURGE OUTPUT POWER; CONTROL OR REGULATION THEREOF
    • H02M1/00Details of apparatus for conversion
    • H02M1/08Circuits specially adapted for the generation of control voltages for semiconductor devices incorporated in static converters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4249Packages, e.g. shape, construction, internal or external details comprising arrays of active devices and fibres

Abstract

광 게이트 신호(L1~Ln)에 의해 점호되는 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)와, 상기 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)에 접속되고, 상기 광 게이트 신호(L1~Ln)를 전송하기 위한 제 1 광 파이버(21a~2na)와, 상기 제 1 광 파이버(21a~2na)를 연장하기 위한 제 2 광 파이버(21b~2nb)와, 상기 제 1 광 파이버(21a~2na)와 상기 제 2 광 파이버(21b~2nb)를 접속하고, 상기 제 2 광 파이버(21b~2nb)로부터 출력되는 상기 광 게이트 신호(L1~Ln)를 상기 제 1 광 파이버(21a~2na)에 입력하는 광 파이버간 중계 수단(51~5n)을 구비한 반도체 장치.

Description

반도체 장치{SEMICONDUCTOR DEVICE}
본 발명은 광 직접 점호 사이리스터(optical direct fire thyristor)를 구비한 반도체 장치에 관한 것이다.
최근, 광 직접 점호 사이리스터를 이용하여 반도체 장치를 구성하는 것이 알려져 있다. 예컨대, 냉각용 핀(fin)과 광 직접 점호 사이리스터를 교대로 접합시킨 구조체를 구비한 반도체 장치가 있다.
그러나 상술한 바와 같은 반도체 장치는, 광 파이버의 광 직접 점호 사이리스터와의 접속측이 구조적으로 매립되는 일이 많다. 따라서, 반도체 장치는, 광 직접 점호 사이리스터로부터 광 파이버가 인출된 상태로 된다. 광 파이버는, 그 재질의 성질상, 취급에 충분히 주의를 해야 한다. 그 때문에, 이러한 반도체 장치는, 제조, 조립, 또는 해체 등의 작업을 행하는 데에 있어서, 인출된 상태의 광 파이버에 의해 취급에 불편이 생긴다. 특히, 반도체 장치는, 고전압부에 설치될수록 광 파이버의 길이는 길어진다. 광 파이버의 길이가 길어지면, 반도체 장치는 보다 취급하기 어렵게 된다.
또한, 광 파이버가 손상된 경우, 광 파이버를 교환해야 한다. 그러나, 광 파이버의 일단이 반도체 장치에 구조적으로 매립되어 있는 경우, 광 파이버를 교환하기 위해서는, 반도체 장치를 분해해야 한다.
이와 같이, 광 직접 점호 사이리스터를 구비한 반도체 장치는, 광 직접 점호 사이리스터에 접속하는 광 파이버에 의해, 취급에 불편이 생기는 경우가 많다.
본 발명의 목적은, 광 직접 점호 사이리스터를 구비한 반도체 장치에 있어서, 광 파이버에 의한 취급의 불편함을 경감할 수 있는 반도체 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 제 1 국면은, 광 게이트 신호에 의해 점호되는 광 직접 점호 사이리스터와, 상기 광 직접 점호 사이리스터에 접속되고, 상기 광 게이트 신호를 전송하기 위한 제 1 광 파이버와, 상기 제 1 광 파이버를 연장하기 위한 제 2 광 파이버와, 상기 제 1 광 파이버와 상기 제 2 광 파이버를 접속하고, 상기 제 2 광 파이버로부터 출력되는 상기 광 게이트 신호를 상기 제 1 광 파이버에 입력하는 광 파이버 중계 수단을 구비한 반도체 장치이다.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 반도체 장치의 구성을 나타내는 구성도,
도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 반도체 장치의 구성을 나타내는 외관도,
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 반도체 장치의 광 파이버의 접속 상태를 나타내는 구성도,
도 4는 본 발명의 실시예 2에 따른 반도체 장치의 구성을 나타내는 구성도,
도 5는 본 발명의 실시예 2에 따른 반도체 장치의 광 파이버의 접속 상태를 나타내는 구성도이다.
이하 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예를 설명한다.
(실시예 1)
도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 반도체 장치(1)의 구성을 나타내는 구성도이다. 도 2는 본 발명의 실시예 1에 따른 반도체 장치(1)의 구성을 나타내는 외관도이다. 또, 도면 중에서, 동일 부분에는 동일 부호를 붙여 그 자세한 설명을 생략하고, 다른 부분에 대하여 주로 설명한다. 이후의 실시예도 마찬가지로 하여 중복한 설명을 생략한다.
반도체 장치(1)는, 직렬로 접속된 n개의 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)와, 각 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)에 각각 광 게이트 신호 L1~Ln을 입력하기 위한 광 파이버(21a~2na)와, 각 광 파이버(21a~2na)를 각각 연장하기 위한 광 파이버(21b~2nb)와, 광 파이버(21b~2nb)의 입력측에 접속된 게이트 발생기(4)와, 각 광 파이버(21a~2na)에 각각 광 파이버(21b~2nb)를 접속하기 위한 중계부(51~5n)와, 각 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)와 각각 접합된 냉각핀(61~6n)을 구비하고 있다. 여기서, n은, 1 이상의 정수를 나타내고 있지만, 도면중에 있어서는, 각 구성요소의 도시를 적절히 생략하고 있다.
각 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)와 각 냉각핀(61~6n)을 교대로 접합함으로써 구조체를 구성하고 있다. 구조체에는, 광 파이버(21a~2na)가 각각 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)에 접속되어 있다. 이것 때문에, 광 파이버(21a~2na)의 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)와의 접속 부분은 구조체에 묻혀 있다. 광 파이버(21a~2na)는, 광 파이버(21b~2nb)와의 접속을 하기 쉽게 하기 위해, 구조체로부터 일단이 인출되어 있다.
광 직접 점호 사이리스터(11~1n)는 광 신호에 의해 직접 점호되는 사이리스터이다. 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)는 광 게이트 신호 L1~Ln에 따라 스위칭(구동)한다.
광 파이버(21a~2na) 및 광 파이버(21b~2nb)는 광 게이트 신호의 통신을 하기 위한 케이블이다. 광 파이버(21a~2na)는 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)의 게이트에 접속되어 있다. 광 파이버(21b~2nb)는 각각 게이트 발생기(4)에 접속되어 있다. 광 파이버(21a)와 광 파이버(21b)는 동일한 직경의 케이블이다. 광 파이버(21a~2na)의 길이는, 광 파이버(21b~2nb)와의 접속을 하는 부분이 구조체로부터 나와 있으면, 되도록이면 짧은 것이 좋다.
게이트 발생기(4)는 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)를 각각 스위칭(점호)하기 위한 광 게이트 신호 L1~Ln을 발생시키는 기기이다.
중계부(51~5n)는 광 파이버(21a~2na와 21b~2nb)를 각각 접속하는 부품이다. 중계부(51~5n)는 광 파이버(21a~2na) 및 광 파이버(21a~2na)와 용이하게 착탈 가능한 구조로 되어 있다.
냉각핀(61~6n)은 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)에 의해 발생한 열을 방열하기 위한 히트싱크이다.
도 3은 본 발명의 실시예 1에 따른 반도체 장치(1)의 광 파이버(21a, 21b)의 접속 상태를 나타내는 구성도이다. 여기서는, 광 파이버(21a, 21b)와의 접속 상태를 나타내고 있지만, 다른 광 파이버의 접속 상태도 마찬가지다.
광 파이버(21a) 및 광 파이버(21b)는 중계부(51)에 의해 접속되어 있다. 반도체 장치(1)의 제조, 조립 또는 해체 등의 작업을 행하는 경우는, 중계부(51)로부터 광 파이버(21a) 또는 광 파이버(21b)를 뺀다. 이것에 의해, 구조체에 접속되어 있는 광 파이버의 길이를 짧게 할 수 있기 때문에, 구조체를 취급하기 쉬워진다.
본 실시예에 의하면, 중계부(51~5n)를 마련하는 것에 의해, 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)에 접속되는 광 파이버(21a~2na)의 길이를 짧게 할 수 있다. 이것에 의해, 구조체로부터 인출된 광 파이버(21a~2na)의 취급이 용이하게 되고, 반도체 장치(1)의 제조, 조립 또는 해체 등의 작업을 용이하게 할 수 있다. 특히, 광 직접 점호 사이리스터(11~1n)와 냉각핀(61~6n)과의 접합 작업 등에 있어서, 구조체의 취급이 쉬워진다. 또한, 광 파이버(21a~2na)의 길이를 짧게 함으로써 되도록이면 광 파이버(21a~2na)로의 손상의 가능성을 저감할 수 있다. 광 파이버(21b~2nb)의 손상이면, 반도체 장치(1)를 분해하지 않고, 용이하게 교환할 수 있다.
(실시예 2)
도 4는 본 발명의 실시예 2에 따른 반도체 장치(1A)의 구성을 나타내는 구성도이다.
반도체 장치(1A)는, 실시예 1에 따른 반도체 장치(1)의 변형 형태이며, 중계부(51~5n)를 중계부(51A~5nA)로 대체하고, 광 파이버(21a~2na)를 광 파이버(21a1~2na1)로 대체한 점 이외는 같은 구성이다.
광 파이버(21a1~2na1)는 광 파이버(21b~2nb)보다 직경이 굵게 되어 있다.
중계부(51A~5nA)는, 한쪽을, 광 파이버(21a1~2na1)를 접속하기 위한 형상으로 하고, 또 한쪽을, 광 파이버(21b~2nb)를 접속하기 위한 형상으로 하고 있다.
도 5는 본 발명의 실시예 2에 따른 반도체 장치(1A)의 광 파이버(21a1, 21b)의 접속 상태를 나타내는 구성도이다. 여기서는, 광 파이버(21a1)와 광 파이버(21b)와의 접속 상태를 나타내고 있지만, 다른 광 파이버의 접속 상태도 마찬가지다.
광 파이버(21a1) 및 광 파이버(21b)는 중계부(51A)에 의해 접속되어 있다. 반도체 장치(1)의 제조, 조립 또는 해체 등의 작업을 행하는 경우는, 중계부(51A)로부터 광 파이버(21a1) 또는 광 파이버(21b)를 뺀다. 이것에 의해, 구조체에 접속되어 있는 광 파이버의 길이를 짧게 할 수 있기 때문에, 구조체를 취급하기 쉬워진다.
본 실시예에 의하면, 실시예 1의 작용 효과에 부가하여, 이하의 작용 효과를 얻을 수 있다.
광 직접 점호 사이리스터(11)를 구동하기 위해서는, 단순히 「0」, 「1」의 신호를 전달하는 것뿐 아니라, 구동하기 위한 광파워의 전달도 필요하게 된다. 따라서, 광 파이버(21a1)와 광 파이버(21b)의 접합면에서의 광 게이트 신호 L1의 광 파워의 감쇠를 억제하는 것이 중요해진다. 그래서, 광 파이버(21a1~21n1)의 직경의 굵기를 광 파이버(21b~2nb)보다 굵게 하고 있다. 이것 때문에, 광 파이버(21a1)의 접합면은 광 파이버(21b)의 접합면보다 넓게 된다. 따라서, 광 파이버(21b)로부터 출력되는 광 게이트 신호 L1이 중계부(51A)에서 넓어지더라도, 광 파이버(21a1)에 전달되는 광 게이트 신호 L1(광 파워)의 감쇠를 억제할 수 있다. 마찬가지의 구성에 의해, 광 게이트 신호 L1~Ln의 감쇠를 억제할 수 있다.
또, 각 실시예에서서는, 1상분의 회로를 구성하는 반도체 장치에 대하여 설명했지만, 이것에 한정되지 않는다. 3상분의 회로를 구성하는 반도체 장치(전력 변환 장치)로 해도 좋고, 전력 변환 장치 이외의 반도체 장치라도 좋다. 이들의 구성에 대해서도 각 실시예와 마찬가지의 구성으로 함으로써 각 실시예와 같은 작용 효과를 얻을 수 있다.
또, 본 발명은 상기 실시예 그 자체에 한정되는 것이 아니라, 실시 단계에서는 그 요지를 일탈하지 않는 범위에서 구성요소를 변형하여 구체화할 수 있다. 또한, 상기 실시예에 개시되어 있는 복수의 구성요소의 적당한 조합에 의해, 여러가지의 발명을 형성할 수 있다. 예컨대, 실시예에 나타내어지는 전체 구성요소로부터 몇 개 구성요소를 삭제할 수도 있다. 또한, 다른 실시예의 구성요소를 적절히 조합하더라도 좋다.
본 발명에 의하면, 광 직접 점호 사이리스터를 구비한 반도체 장치에 있어서, 광 파이버에 의한 취급의 불편함을 경감할 수 있는 반도체 장치를 제공할 수 있다.

Claims (8)

  1. 광 게이트 신호에 의해 점호되는 광 직접 점호 사이리스터(optical direct fire thyristor)와,
    상기 광 직접 점호 사이리스터에 접속되고, 상기 광 게이트 신호를 전송하기 위한 제 1 광 파이버와,
    상기 제 1 광 파이버를 연장하기 위한 제 2 광 파이버와,
    상기 제 1 광 파이버와 상기 제 2 광 파이버를 접속하고, 상기 제 2 광 파이버로부터 출력되는 상기 광 게이트 신호를 상기 제 1 광 파이버에 입력하는 광 파이버간 중계 수단
    을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 광 직접 점호 사이리스터로부터 발생하는 열을 방열시키는 방열 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 광 파이버는 상기 제 2 광 파이버보다 직경을 굵게 한 것을 특징 으로 하는 반도체 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 광 파이버와 접속되고, 상기 광 게이트 신호를 발생하는 광 게이트 신호 발생 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  5. 직렬로 접속되고, 광 게이트 신호에 의해 점호되는 복수의 광 직접 점호 사이리스터와,
    상기 각 광 직접 점호 사이리스터에 접속되고, 상기 각 광 게이트 신호를 전송하기 위한 복수의 제 1 광 파이버와,
    상기 각 제 1 광 파이버를 연장하기 위한 복수의 제 2 광 파이버와,
    상기 각 제 1 광 파이버와 상기 각 제 2 광 파이버를 접속하고, 상기 각 제 2 광 파이버로부터 출력되는 상기 각 광 게이트 신호를 상기 각 제 1 광 파이버에 입력하는 복수의 광 파이버간 중계 수단
    을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 각 광 직접 점호 사이리스터로부터 발생하는 열을 방열시키는 복수의 방열 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 각 제 1 광 파이버는 상기 각 제 2 광 파이버보다 직경을 굵게 한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
  8. 제 5 항에 있어서,
    상기 각 제 2 광 파이버와 접속되고, 상기 각 광 게이트 신호를 발생하는 광 게이트 신호 발생 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
KR1020097021749A 2007-05-24 2007-05-24 반도체 장치 KR101061635B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2007/060631 WO2008142796A1 (ja) 2007-05-24 2007-05-24 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100005085A true KR20100005085A (ko) 2010-01-13
KR101061635B1 KR101061635B1 (ko) 2011-09-01

Family

ID=40031522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097021749A KR101061635B1 (ko) 2007-05-24 2007-05-24 반도체 장치

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8145020B2 (ko)
JP (1) JPWO2008142796A1 (ko)
KR (1) KR101061635B1 (ko)
CN (1) CN101669207B (ko)
AU (1) AU2007353545B2 (ko)
DE (1) DE112007003519T5 (ko)
WO (1) WO2008142796A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6213229B2 (ja) * 2013-12-26 2017-10-18 株式会社明電舎 電力変換装置の絶縁構造

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4167746A (en) * 1975-03-03 1979-09-11 General Electric Company Radiation triggered thyristor with light focussing guide
JPS52117140A (en) * 1976-03-26 1977-10-01 Sumitomo Electric Ind Ltd Connector for optical fibers
US4207583A (en) * 1978-07-27 1980-06-10 Electric Power Research Institute, Inc. Multiple gated light fired thyristor with non-critical light pipe coupling
US4368481A (en) 1979-06-19 1983-01-11 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Light-driven semiconductor device
JPS5655083A (en) * 1979-10-13 1981-05-15 Toshiba Corp Light-drive semiconductor device
JPS5735357A (en) 1980-08-12 1982-02-25 Toshiba Corp Optical thyristor device
JPS5788770A (en) * 1980-11-21 1982-06-02 Hitachi Ltd Photo semiconductor device
JPS5897864A (ja) * 1981-12-07 1983-06-10 Mitsubishi Electric Corp 光トリガサイリスタ
JPS6250712A (ja) * 1985-08-30 1987-03-05 Hitachi Ltd 光駆動型半導体装置
JPH01114362A (ja) * 1987-10-27 1989-05-08 Fuji Electric Co Ltd 光ゲート信号発生回路
JPH06148458A (ja) * 1992-11-09 1994-05-27 Hitachi Ltd 光直接点弧型半導体装置
JPH07174946A (ja) * 1993-10-27 1995-07-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 受光モジュール
JPH07283426A (ja) * 1994-04-12 1995-10-27 Mitsubishi Electric Corp 光トリガ型半導体装置
JP3313559B2 (ja) 1995-12-20 2002-08-12 三菱電機株式会社 光トリガサイリスタ
JP3369404B2 (ja) * 1996-06-14 2003-01-20 三菱電機株式会社 光トリガサイリスタ
JP2000004576A (ja) * 1998-06-12 2000-01-07 Hitachi Ltd 電力変換装置
JP4060461B2 (ja) * 1998-09-29 2008-03-12 関西電力株式会社 光トリガ素子の特性の測定方法、測定装置、及び同測定装置を組み込んだ電力変換装置
US6995407B2 (en) * 2002-10-25 2006-02-07 The University Of Connecticut Photonic digital-to-analog converter employing a plurality of heterojunction thyristor devices
JP2006119497A (ja) * 2004-10-25 2006-05-11 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバセンサ用コネクタ

Also Published As

Publication number Publication date
KR101061635B1 (ko) 2011-09-01
DE112007003519T5 (de) 2010-06-10
US8145020B2 (en) 2012-03-27
AU2007353545B2 (en) 2011-06-02
CN101669207A (zh) 2010-03-10
WO2008142796A1 (ja) 2008-11-27
AU2007353545A1 (en) 2008-11-27
CN101669207B (zh) 2012-07-04
US20100040329A1 (en) 2010-02-18
JPWO2008142796A1 (ja) 2010-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112041717B (zh) 具有三叉戟结构的分光器
WO2015143962A1 (en) Asymmetric waveguide configuration on silicon nitride basis
Alduino et al. Demonstration of a high speed 4-channel integrated silicon photonics WDM link with hybrid silicon lasers
US10222549B2 (en) Mode multiplexer/demultiplexer and switching node
US8462429B2 (en) Optical combiner and fiber laser device having the same
JPWO2016185883A1 (ja) 半導体装置および撮像装置
US8774581B2 (en) Holey fiber, and laser device using the same
JP6034708B2 (ja) 光増幅部品及びファイバレーザ装置
CN107490829B (zh) 基于反锥形波导的三模式复用器/解复用器
KR101061635B1 (ko) 반도체 장치
JP2002357729A5 (ko)
JP2011096696A (ja) 半導体装置
JP2001500317A (ja) 光波長変換器
JP2005057777A (ja) 多段光スイッチ
JP2015198177A (ja) ファイバおよびファイバ増幅器
JP2007173648A (ja) ファイバレーザ装置及びファイバレーザ冷却構造
WO2019003797A1 (ja) 光ファイバ増幅器および光ファイバ増幅システム
KR101781321B1 (ko) 고출력 ffr 트랜스듀서 구조체
JP7038511B2 (ja) 半導体集積回路
US20160268762A1 (en) Fiber coupling efficiency of diode lasers
JP2005317650A (ja) 光モジュール
CN106785840A (zh) 高效率光纤激光器
JP2005517284A (ja) 多数の波長のポンピングを行う光増幅器
US20230126332A1 (en) Funnel laser coupler
US20120230632A1 (en) Compact optical fiber amplifier

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140808

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150730

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160727

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170804

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180730

Year of fee payment: 8