KR20090131209A - 매엽식 세정장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (12)
- 기판을 수용하여 세정공정이 수행되는 챔버;상기 챔버 내에 회전 가능하게 구비되어 상기 기판을 지지하는 스핀척;상기 스핀척에서 일정 간격 이격되어 상기 기판을 둘러싸도록 구비되고, 상기 기판에서 비산되는 세정액을 포집하는 다단의 회수챔버; 및상기 회수챔버와 연결되어 상기 회수챔버에 포집된 세정액을 배출시키는 드레인라인과 상기 챔버 내의 배기가스의 배출시키는 배기라인을 구비하는 배출유닛;을 포함하고,상기 배출유닛은 상기 드레인라인에서 발생하는 배기가스를 상기 배기라인으로 배출시키고 상기 배기라인에서 액화된 세정액이 상기 드레인라인을 통해 회수될 수 있도록 상기 드레인라인과 상기 배기라인을 연통되게 형성한 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제1항에 있어서,상기 배출유닛은 상기 드레인라인과 상기 배기라인 사이에 구비되는 분리라인을 더 포함하고,상기 분리라인은 상기 드레인라인에서 발생하는 배기가스를 상기 배기라인으로 유동시키는 유로를 제공하며, 상기 분리라인 내에서 유동하는 배기가스가 냉각됨에 따라 액화된 세정액을 상기 드레인라인으로 유입시키는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제2항에 있어서,상기 배출유닛은 상기 분리라인에 구비되어 상기 분리라인 내에서 유동하는 배기가스를 냉각시키는 냉각부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제2항에 있어서,상기 분리라인에는,상기 드레인라인과 상기 분리라인을 연통시키는 제1 배기홀;상기 분리라인과 상기 배기라인을 연통시키는 제2 배기홀; 및상기 분리라인과 상기 드레인라인을 연통시키는 드레인홀;이 형성된 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제4항에 있어서,상기 제1 배기홀은 상기 분리라인 상부에 형성되고 상기 제2 배기홀은 상기 분리라인 하부에 형성된 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제4항에 있어서,상기 드레인홀은 상기 분리라인의 하부에 형성된 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제2항에 있어서,상기 드레인라인은 상기 회수챔버의 각 단에서 회수되는 세정액이 서로 혼합되지 않도록 독립되게 형성된 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 기판을 수용하여 세정공정이 수행되는 챔버;상기 챔버 내에 회전 가능하게 구비되어 상기 기판을 지지하는 스핀척;상기 스핀척에서 일정 간격 이격되어 상기 기판을 둘러싸도록 구비되고, 상기 기판에서 비산되는 세정액을 포집하는 다단의 회수챔버;상기 회수챔버와 연결되어 상기 회수챔버에 포집된 세정액을 배출시키는 드레인배관;상기 회수챔버와 연결되어 상기 챔버 내의 배기가스의 배출시키는 배기배관; 및상기 챔버 외측에 구비되어 상기 드레인배관 및 상기 배기배관과 연결되어 세정액과 배기가스를 동시에 배출시키는 배출유닛;을 포함하는 매엽식 세정장치.
- 제8항에 있어서,상기 배출유닛은,상기 드레인배관과 연결된 드레인라인;상기 배기배관과 연결된 배기라인; 및상기 드레인라인과 상기 배기라인 사이에 구비되어 상기 드레인라인과 상기 배기라인을 연통시키는 분리라인;을 포함하고,상기 분리라인은 상기 드레인라인에서 발생하는 배기가스를 상기 배기라인으로 배출시키고 상기 분리라인에서 액화된 세정액을 상기 드레인라인으로 유입시키는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제9항에 있어서,상기 배출유닛은 상기 분리라인에 구비되어 상기 분리라인 내에서 유동하는 배기가스를 냉각시키는 냉각부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제8항에 있어서,상기 드레인배관 및 상기 배기배관은 상기 챔버의 길이 방향을 따라 길게 형성된 파이프 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
- 제11항에 있어서,상기 챔버의 둘레를 따라 복수의 드레인배관과 상기 복수의 배기배관이 구비 되며, 상기 복수의 드레인배관과 상기 복수의 배기배관이 교대로 배치된 것을 특징으로 하는 매엽식 세정장치.
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
KR101337303B1 (ko) * | 2013-02-27 | 2013-12-05 | 청진테크 주식회사 | 세정장비의 세정유체 분리회수장치 |
KR20160059757A (ko) * | 2014-11-19 | 2016-05-27 | 주식회사 케이씨텍 | 배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치 |
CN108428644A (zh) * | 2017-02-15 | 2018-08-21 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理装置 |
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KR100501525B1 (ko) * | 2003-02-04 | 2005-07-18 | 동부아남반도체 주식회사 | 반도체 공정용 가스세정장치 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101337303B1 (ko) * | 2013-02-27 | 2013-12-05 | 청진테크 주식회사 | 세정장비의 세정유체 분리회수장치 |
KR20160059757A (ko) * | 2014-11-19 | 2016-05-27 | 주식회사 케이씨텍 | 배기 물질 분리 유닛 및 그를 구비한 기판 세정 장치 |
CN108428644A (zh) * | 2017-02-15 | 2018-08-21 | 辛耘企业股份有限公司 | 基板处理装置 |
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