KR20090117886A - 일산화탄소 흡착제, 이를 이용한 가스 정제방법 및 가스 정제장치 - Google Patents

일산화탄소 흡착제, 이를 이용한 가스 정제방법 및 가스 정제장치 Download PDF

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마사요시 하야시다
아키히로 나카무라
타츠야 히다노
카즈히코 후지에
마사토 카와이
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타이요 닛폰 산소 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 일산화탄소 흡착제는 NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기에 있어서 450~600℃로 가열하고 활성화하여 이루어진다. 또, 본 발명의 가스 정제방법은 가스 중에 포함되는 미량의 불순물로서의 일산화탄소를 온도 스윙 흡착법에 의하여 제거하는 공정을 가지며 청구항 1 항의 일산화탄소 흡착제를 이용하여 상기 일산화탄소 흡착제의 재생 조작을 200~350℃에서 실시한다.
일산화탄소 흡착제, 가스 정제방법, 가스 정제장치, 온도스윙흡착법, 제올라이트

Description

일산화탄소 흡착제, 이를 이용한 가스 정제방법 및 가스 정제장치{ABSORBENT FOR CARBON MONOOXIDE, GAS PURIFICATION METHOD, AND GAS PURIFICATION APPARATUS}
본 발명은 고순도의 질소, 아르곤, 헬륨, 네온, 클리프톤, 크세논 등의 희가스류를 포함하는 불활성 가스를 재차 정제하기 위하여 이용하는 흡착제, 상기 흡착제를 이용한 가스 정제방법 및 가스 정제장치에 관한 것이며, 특히 이들 가스에 포함되어 있는 미량의 일산화탄소를 효율적으로 제거하여 초고순도 가스가 되도록 한 것이다.
본원은 2007년 3월 5일자 일본에 출원된 특허출원 2007-054647호에 의하여 우선권을 주장하고 그 내용을 여기에 원용한다.
산소, 질소, 아르곤 등을 대량으로 생산하기 위한 방법으로서 공기 액화 분리 장치가 폭 넓게 사용되어 왔다.
상기 공기 액화 분리 장치는, 원료공기를 극저온에서 냉각시킴으로써 액화할 수 있고 또 이것을 증류함으로써 공기 구성성분을 산소, 질소, 아르곤 등으로 분리한다. 대기 중에 일산화탄소는 0.1 ppm 정도 존재하는 것으로 알려져 있으나, 원료공기로서 공기 액화 분리 장치에 투입된 일산화탄소는 특단의 제거수단을 강구하 지 않으면 증류탑 안에서 기상(氣相) 측에 농축되고 제품질소 혹은 조(粗)아르곤의 채취 계통에 포함하게 된다.
일반 산업용 가스로서 사용할 경우에는 질소 혹은 아르곤에 미량의 일산화탄소가 포함되더라도 아무런 문제가 없다. 그러나 반도체 산업용으로 사용되는 질소중의 일부에는 초고순도를 요구하는 용도가 있기 때문에 미량의 일산화탄소라도 제거되어야 한다.
최근 대기오염의 진행과 더불어 대기에 포함된 일산화탄소의 농도가 증가하여 공기 액화 분리 장치에 의하여 얻어진 질소, 혹은 조아르곤의 일산화탄소도 증가 추세에 있다. 따라서 이들 가스중의 일산화탄소를 제거할 필요성이 부각되고 있다.
USP 제5,551,257호(특허문헌 1)에는 CaX, CaA, NaX 제올라이트 흡착제를 이용한 극저온 조건에서 흡착에 의한 일산화탄소 제거가 개시되어 있다.
또한, Separation & Purification Technology(비특허문헌 1)에는 호프카라이트 등 다공성 금속 산화물을 이용한 극저온 조건에서의 일산화탄소 제거가 개시되어 있다.
일본특허출원공개공보 소60-156548호(특허문헌 2)에는 일산화탄소 흡착제로서 실리카/알루미나(SiO2/Al2O3) 비율이 19 이하인 Cu-ZSM5형 제올라이트가 개시되어 있다.
일본특허출원공개공보 2003-311148호(특허문헌 3)에는 상온에서 일산화탄소 제거에 이용할 수 있는 흡착제로서 Cu-ZSM5형 제올라이트가 개시되어 있다.
특허문헌 1의 극저온에 있어서의 흡착 제거법은 극저온을 유지하기 위한 설비가 복잡하게 구성되어 많은 비용이 소요되는 문제점이 있다.
특허문헌 2에 개시된 흡착제는 높은 일산화탄소 흡착능력을 가지고 있으나, 실리카 알루미나 비율이 19 이하인 특수한 ZSM5형 제올라이트를 사용하고 있기 때문에, CO분위기 하에서 가열처리를 실시하여야 하는 과제를 갖는다.
또한, 특허문헌 3에 개시된 흡착제는 높은 일산화탄소 흡착능력을 가지고 있으나, 흡착제 전처리에서 700℃의 고온 가열 처리가 필요하다. 심랭 공기 분리 장치 등의 플랜트는 350℃를 초과하면 밸브 등에 고가 부품인 내열성 부품을 사용해야 하기 때문에 실용적이지 못하다는 문제점을 갖는다.
여기에서, 현재 시판중인 제품으로서 시장에서 구입 가능한 Cu-ZSM5형 제올라이트는 NOx 제거 촉매로서 사용하기 위하여 생산된 것이다. 촉매 용도인 Cu-ZSM5형 제올라이트는 흡착제의 생산 공정과는 별도 처리를 수행하는 것으로 추측되어 일산화탄소의 흡착 능력이 충분하다고 할 수 없다. 또한, Cu-ZSM5형 제올라이트는 처음부터 일산화탄소 흡착용으로서 제조하는 것은 가능하나, 용도가 한정되기 때문에 흡착제로서는 매우 고가라는 문제점이 있다.
특허문헌 1: 미국특허 제5, 551, 257호 명세서
특허문헌 2: 일본특허출원공개공보 소60-156548호
특허문헌 3: 일본특허출원공개공보 2003-311148호
비특허문헌 1: Separation and Purification Technology, Vol.11, 47- 56(1997)
본 발명은 이러한 문제점을 고려하여 시장에서 입수 가능한 NOx 제거용 촉매로서 생산된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 재처리함으로써 저가이면서 흡착 능력이 높은 일산화탄소 흡착제, 그것을 이용한 가스 정제방법 및 가스 정제장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일산화탄소 흡착제는 NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기에서 450~600℃로 활성화 처리하여 형성하게 된다.
본 발명의 가스 정제방법은 가스중의 미량 불순물인 일산화탄소를 본 발명의 일산화탄소 흡착제를 이용하여 온도 스윙 흡착법으로 제거하는 공정을 실시하는 방법이며 상기 흡착제의 재생은 200~350℃에서 실시한다.
본 발명의 가스 정제방법에서는 정제하게 될 상기 가스가 고순도의 질소, 아르곤, 헬륨, 네온, 클리프톤, 혹은 크세논일 수 있다.
본 발명의 가스 정제장치는 본 발명의 일산화탄소 흡착제를 충전한 흡착탑과 상기 흡착탑에 충전된 상기 흡착제를 200~350℃에서 가열재생하기 위한 가열 장치를 구비한 가스 정제장치로서 온도 스윙 흡착법에 의하여 가스를 정제한다. 구체적으로는 가스중의 미량 불순물인 일산화탄소를 온도 스윙 흡착법에 의하여 제거한다. 상기 가열 장치는 재생용 가스의 가열에 적합하다.
본 발명의 공기 액화 분리 장치는 상기 가스 정제장치를 구비한다.
본 발명에서 "Cu-ZSM5형 제올라이트"란 이른바 ZSM5형 제올라이트로 양 이온으로서 동을 포함하는 것을 의미한다.
본 발명에서 "NOx 제거용 촉매로서 조제되었다"라고 하는 것은 질소산화물의 접촉 분해 촉매용으로서 조제된 것을 의미한다.
예를 들면, 일본특허출원공개공보 소60-125250호에 개시된 바와 같이 ZSM5형 제올라이트를 황산동, 질산동 등의 광산염, 또는 초산동과 같은 유기산염을 용해한 수용액 중에 침지하여 양이온을 동 이온으로 이온 교환한다. 또한, 수용액을 함침한 ZSM5형 제올라이트를 건조시킨 후, 공기 중이나 질소 중에서 열처리하는 방법으로 얻을 수 있다.
또, 일본특허출원공개공보 평3-65242호에 개시된 바와 같이 열처리 시에 수소를 첨가한 불활성 가스를 600℃로 유통시키는 등의 방법에 의하여 얻어진 Cu-ZSM5형 제올라이트라도 상관없다.
또한 일본특허출원공개공보 평4-193710호에 개시된 바와 같이 수분 함유량이 5000ppm 이하인 공기를 SV(Space Velocity)=400 hr-1이상으로 유통시키면서 500~900℃로 소성한 것이라도 상관없다. 아무튼 질소산화물의 접촉 분해 촉매로서의 능력을 갖도록 조제된 Cu-ZSM5형의 제올라이트이다.
여기서, 질소산화물의 접촉 분해 촉매용의 Cu-ZSM5형 제올라이트는 각 선행기술문헌에서 그 실리카/알루미나(SiO2/Al2O3) 비율이 10~2000으로 광범위한 값으로 개시되어 있다. 예를 들면, 일본특허출원공개공보 소60-125250호(SiO2/Al2O3=20~100), 일본특허출원공개공보 평3-65242호(SiO2/Al2O3=10~2000), 일본특허출원공개공보 평3-131344호(SiO2/Al2O3=100~350), 일본특허출원공개공보 평9-122494호(SiO2/Al2O3=10~500)를 들 수 있다.
본 발명의 일산화탄소 흡착제가 되는 Cu-ZSM5형 제올라이트는 이온을 교환할 수 있는 동 이온 량이 많은 것이 좋다. 제올라이트의 이온교환 사이트 수는 포함되는 Al2O3의 양에 비례하기 때문에 이온 교환량을 늘리기 위하여 가능한 한 Al2O3량이 많은 것이 바람직하다. 따라서 SiO2/Al2O3은 비교적 작은 값이 바람직하다. 한편, SiO2/Al2O3을 작게 하는 것은 제조 코스트의 증가와 관계됨으로 적정 범위가 결정되게 된다. 구체적으로는 20~50인 것이 바람직하다.
또, Cu-ZSM5형 제올라이트의 동 이온 교환율은 질소산화물의 접촉 분해 촉매용의 경우인 일본특허출원공개공보 소60-125250호에서는 적어도 10%이상, 바람직하게는 40~100%로 되어 있다.
그러나 일본특허출원공개공보 평3-131344호에서는 5~30 wt%의 담지, 일본특허출원공개공보 평9-122494에서는 Cu+로 200%, Cu2+로 100%를 상한으로 하거나 또는 함유율을 특정하지 않는 것도 있다.
일반적으로 제올라이트의 이온 교환에 있어서, 높은 이온 교환율을 얻기 위하여 이온 교환을 반복 수행할 필요가 있어 제조비용과 촉매 활성과의 균형에 의하여 적정 교환율이 정해진다.
공업적 생산의 경제성을 고려하여 동 이온을 2가(Cu2+)로 계산할 경우, 시판되는 NOx 제거용 촉매로서 조제된 동이온의 교환율은 100~150%이라고 할 수 있다.
그러나 본 발명의 일산화탄소 흡착제는 동 이온 교환율이 높은 것이 바람직하기 때문에 이온 교환율은 150%이상의 것을 사용하는 것이 좋다.
본 발명에 있어서의 "수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기"라는 것은 진공 분위기이어도 좋고 혹은 건조 질소 등의 불활성 가스를 적당한 유량으로 유입하여 형성하여도 좋다. 불활성 가스로서 헬륨, 네온, 아르곤, 클리프톤, 크세논 등의 희가스를 사용할 수 있으나, 경제적인 관점에서 질소나 아르곤을 사용하는 것이 좋다.
본 발명의 일산화탄소 흡착제로는 NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 분위기에서 450~600℃, 바람직하게는 480~570℃, 보다 바람직하게는 500~550℃로 가열함으로써 다량의 일산화탄소 흡착량을 가지는 흡착제를 얻을 수 있다.
온도가 450℃미만에서는 활성화 효과가 없고 600℃를 초과하면 성능이 저하하기 시작한다. 또, 600℃이상에서는 가열원에 특수한 히터가 필요하게 되는 등 경제적인 메리트가 없어진다.
본 발명의 일산화탄소 흡착제를 얻기 위하여 Cu-ZSM5형 제올라이트를 활성화하는 방법은 건조 질소 등을 유통시킨 불활성 가스 분위기에서 실시하는 것이 좋기 때문에 예를 들면 본 발명의 가스 정제장치의 흡착탑에 NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 충전한 후, 흡착제 재생용 가열 장치와는 별도의 가열 장치를 이용하여 450~600℃인 건조 질소 등 수분이 포함되지 않은 불활성 가스를 유통시키면서 가열하여도 좋다.
본 발명의 가스 정제방법은 본 발명에 의한 일산화탄소 흡착제를 사용하여 온도 스윙 흡착 조작으로 고순도 가스중의 미량의 일산화탄소를 제거하는 방법이다. 본 발명의 가스 정제장치의 흡착탑에 흡착제를 충전하기 전에 450~600℃로 가열하여 두면 TSA 조작에 있어서 반드시 상기 온도로 흡착제의 재생할 필요가 없다. 예를 들면, 200~350℃로 재생하여도 높은 일산화탄소 흡착성능을 유지할 수 있다.
상기한 구성에 의하면, 다음과 같은 효과를 기대할 수 있다.
본 발명에 의하면 NOx 제거용 촉매로서 조제된 시판의 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기에서 가열 처리함으로써 가스 중에 포함된 미량의 일산화탄소를 흡착할 수 있는 흡착제를 얻을 수 있다. 또, 이 흡착제를 사용함으로써 고순도의 가스를 초고순도화 하는 가스 정제를 수행할 수 있다.
도 1은 본 발명의 가스 정제장치의 일례를 나타낸 개략 구성도이다.
도 2는 활성화가 일산화탄소 흡착량에 끼치는 영향을 흡착 등온선으로 나타낸 그래프이다.
도 3은 활성화 온도와 일산화탄소 흡착량과의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 4는 재생온도가 일산화탄소 흡착량에 끼치는 영향을 나타낸 그래프이다.
도 5는 미량의 일산화탄소를 포함하는 질소에서의 일산화탄소의 파과(破過) 곡선을 나타낸 그래프이다.
도 6은 미량의 일산화탄소를 포함하는 아르곤에 있어서의 일산화탄소의 파과곡선을 나타낸 그래프이다.
도 7은 물을 포함한 질소로 초기 활성화한 Cu-ZSM5형 제올라이트를 사용할 경우, 미량의 일산화탄소를 포함한 질소에서의 일산화탄소의 파과(破過)곡선을 나타낸 그래프이다.
<부호의 설명>
10a,10b: 흡착탑
이하에서 본 발명의 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다.
본 발명에 있어서 일산화탄소 흡착제의 조제 방법의 일례를 다음과 같이 나타낸다.
NOx 제거용 촉매로서 조제된 펠릿형태의 Cu-ZSM5형 제올라이트를 금속제의 통에 충전하고 550℃로 가열한 질소를 1 m3/h로 상기 통 내에서 3시간 유통시킴으로써, Cu-ZSM5형 제올라이트를 활성화 한다. Cu-ZSM5형 제올라이트의 도달온도는 약 500℃이다.
이와 같은 활성화 처리에 의하여 본 발명의 일산화탄소 흡착제를 얻을 수 있다.
상기 NOx 제거용 촉매로서 조제된 펠릿 상태의 Cu-ZSM5형 제올라이트로는 시 판된 것을 사용할 수 있어 저렴하게 조달할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.
활성화 된 Cu-ZSM5형 제올라이트로서는 예를 들면 도 1에 표시한 가스 정제장치의 흡착탑에 충전하여 온도 스윙 흡착법에 의하여 가스 정제로 사용할 수 있다.
본 실시형태에서는 질소 중에 포함된 미량의 일산화탄소를 제거하는 예로서 2개의 흡착탑(10a, 10b)에 본 발명의 일산화탄소 흡착제를 충전하여 각각의 흡착탑의 흡착공정/재생공정이 표 1에 표시한 공정으로 실행되는 경우를 나타낸다. 재생공정은 감압, 가열재생, 냉각, 재가압의 4개 단계로 이루어진다.
흡착탑 (10a) 흡착공정 재생공정
흡착 감압 가열재생 냉각 재가압
흡착탑 (10b) 재생공정 흡착공정
감압 가열재생 냉각 재가압 흡착
표 1에 의한 가스 정제장치의 조작 예를 다음과 같이 표시한다.
도 1에서 흡착탑(10a)은 흡착공정, 흡착탑(10b)은 재생공정인 것으로 한다.
밸브(1b, 2a, 3b, 4a)는 닫혀져 있다. 일산화탄소를 미량 포함한 질소는 라인(11)으로부터 밸브(1a)를 통하여 흡착탑(10a)으로 도입된다. 도입된 질소는 흡착탑(10a)에서 일산화탄소가 제거되고 밸브(3a)를 통하여 라인(12)에 의하여 정제된 질소로서 사용처로 공급된다.
원료인 질소중의 일산화탄소는 흡착공정의 초기에서는 흡착탑(10a)의 가스 입구 부근의 흡착제에 흡착되고 흡착공정 시간의 경과에 따라서 일산화탄소의 흡착대가 점차 흡착탑(10a)의 가스 출구로 향하여 진행된다. 흡착공정이 계속되면 마침내 흡착탑(10a)의 출구에서 일산화탄소가 검출된다(이른바 파과(破過)상태).
정제가스 안에 극소량이라도 일산화탄소가 포함되는 것이 용납되지 않는 경우에는 파과 전에 밸브(1a, 3a)를 닫아 흡착공정을 종료시킨다. 극소량의 일산화탄소가 포함되는 것이 허용되는 경우에는 허용범위 내에서 흡착공정 시간을 연장할 수 있다.
한편 흡착탑(10a)에서 흡착공정이 실행되는 동안, 흡착탑(10b)에서는 재생공정이 실행된다. 흡착공정이 종료된 흡착탑(10b)에는 밸브(1b, 2b, 3b, 4b)가 닫혀져 있다. 흡착탑(10b)이 재생공정으로 들어가면 흡착공정이 가압 하에서 실행된 경우에는 우선 밸브(2b)를 열어 라인(14)을 통하여 대기를 해방시킴으로써 흡착탑(10b) 안을 대기압 상태로 감압시킨다(감압 단계).
이어서 라인(12)으로부터 정제가스의 일부를 가열기(15)로 도입하여 200℃까지 가열하고 밸브(4b)를 열어 가열재생가스로서 흡착탑(10b)에 도입함으로써 일산화탄소 흡착제의 가열재생을 실행한다(가열재생 단계). 가열로 인하여 일산화탄소는 탈착하고 가열재생가스와 함께 라인(14)로부터 배기가스로 배출된다. 밸브(2b)를 통하여 배출된 배기가스가 소정의 온도, 예를 들면 200℃근처까지 도달하면 가열재생 단계가 종료된다(가열기(15)를 오프로 한다). 흡착제의 재생온도는 200~350℃, 바람직하게는 250~350℃, 보다 바람직하게는 300~350℃의 범위로서 200℃미만에서는 재생이 불충분하게 되고 350℃을 초과하면 배관이나 밸브에 내열성을 고려한 특수 재질을 사용하여야 하기 때문에 경제성이 나빠진다.
가열재생 단계가 종료되면 냉각 단계로 들어간다. 냉각 목적은 흡착제의 온도를 피정제가스 온도와 동일하게 하고 흡착 능력을 높이는데 있다. 정제가스의 일부를 가열하지 않고 라인(13)으로부터 밸브(4b)를 통하여 흡착탑(10b)으로 도입하여 밸브(2b)로부터 라인(14)을 통하여 장치 외로 배출한다. 배출된 가스가 피정제가스의 온도와 거의 동일하게 된 시점에서 냉각 단계를 종료한다.
냉각 단계가 종료되면 재가압을 실행한다(재가압 단계). 재가압의 목적은 흡착탑 내의 압력을 피정제가스의 압력에 접근시킴으로서 흡착공정으로 절환될 때에 피정제가스가 흡착탑 내에 빠른 유속으로 유입되어 일산화탄소가 흡착되지 않고 분출되는 것을 방지하기 위함이다.
재가압 단계에서는 밸브(2b)를 닫고 정제가스의 일부를 밸브(4b)로부터 계속 공급하여 흡착탑(10b)내의 압력을 흡착공정의 압력 레벨까지 올린다. 이상의 4개 단계에 의한 흡착탑(10b)의 재생공정이 종료하면 밸브(1b, 2b, 3b, 4b)를 닫은 상태로 흡착탑(10a)의 흡착공정이 종료할 때까지 대기한다.
흡착탑(10a)의 흡착공정이 종료하면 흡착탑(10a)은 재생공정으로, 흡착탑(10b)은 흡착공정으로 전환된다. 이후, 2개의 흡착탑은 교대로 흡착/재생공정을 실행함으로써 질소 중의 일산화탄소를 연속적으로 제거할 수 있다.
상술한 가스 정제장치를 이용한 가스 정제방법은, 공기액화 분리방법으로 얻는 질소의 정제에도 응용할 수 있다. 공기액화 분리방법은, 물, 이산화탄소를 제거한 원료공기를 일부 액화하여 증류함으로서 질소, 산소 및 아르곤으로 분리하는 방법이다.
일산화탄소는 그 물성이 질소에 가깝기 때문에 증류로 질소로부터 분리하기가 쉽지 않다. 그 때문에 원료공기로부터 물이나 이산화탄소를 제거하는 전처리 단계에서 제거하지 않으면 대부분이 제품 질소 안에 농축되어 버린다.
여기서 공기액화 분리장치에 본 발명의 가스 정제장치를 설치하게 되면 제품 질소로부터 일산화탄소를 제거할 수 있다. 본 발명의 가스 정제장치로 미리 원료공기 중의 일산화탄소를 제거하여 두면 제품 질소 중에 일산화탄소가 농축되지 않는다.
또, 물이나 이산화탄소를 제거하기 위한 전처리 흡착기에 본 발명의 일산화탄소 흡착제를 충전할 수도 있다. 전처리 흡착기에 일산화탄소 흡착제를 충전하여 가스 정제장치로 하게 되면 일산화탄소 제거용의 흡착탑을 생략할 수 있다. 혹은 증류탑의 후단에 본 발명의 가스 정제장치를 배치한 공기액화 분리장치로 하는 것도 가능하다.
본 발명의 가스 정제장치를 증류탑의 후단에 배치하면 미리 원료공기로부터 일산화탄소를 제거하는 경우에 비하여 피정제 가스 량이 반 정도로 되기 때문에 가스 정제장치의 크기를 소형화 할 수 있다. 제품 질소의 전량을 정제 할 필요가 없는 경우에는, 필요량에 대응하는 가스 정제장치를 준비하면 되고 따라서 더욱 소형화할 수 있다. 제품 아르곤의 정제의 경우에도 마찬가지이다.
또한 본 실시형태에 있어서는 질소 중에 포함된 미량의 일산화탄소를 제거하는 것을 중심으로 설명하였으나, 본 발명에 의한 일산화탄소 흡착제는 불활성 가스에 의한 일산화탄소의 흡착 저해를 일으키지 않기 때문에 질소만이 아닌 헬륨, 네온, 아르곤, 클리프톤, 크세논에서 희가스 중의 일산화탄소를 제거하여 정제할 때에도 사용할 수 있다.
[실시예]
이하에서 구체적인 예를 열거한다.
(실시예 1)
시판중인 펠릿상태의 NOx 제거용 촉매인 Cu-ZSM5형 제올라이트(SiO2/Al2O3=30~50, Cu이온 교환율;100~130%(Cu2+로 이온 교환되고 있다고 가정), 직경 1 mm, 길이 3~5 mm)를 직경 50.8 mm, 길이 0.8 m의 금속제의 통에 충전하고 550℃의 질소를 1 m3/h로 3시간 유통시켜 500℃로 가열함으로써 활성화하여 본 발명의 일산화탄소 흡착제를 얻었다.
이 흡착제를 내경 17.4 mm의 금속제의 통에 높이 0.2 m로 충전하고 1 ppm의 일산화탄소를 포함한 25℃의 질소를 20 L/min 유통시켜 일산화탄소를 충분히 흡착시킨 후, 200℃로 진공 배기하면서 흡착제의 가열재생을 2시간 실행하였다. 200℃에서의 가열재생은 온도 스윙 흡착법으로 가스 정제를 실행할 경우에 흡착제의 재생을 200℃정도로 하는 것으로 상정한 것이다.
가열 재생한 Cu-ZSM5형 제올라이트의 일산화탄소의 평형 흡착량을 벨소프 28(일본 벨 주식회사 제품)을 사용하여 측정하였다.
도 2는 25℃에서의 일산화탄소의 흡착 등온선을 나타낸다.
비교를 위하여 활성화 처리하지 않은 Cu-ZSM5형 제올라이트에서도 흡착 등온선을 측정하였다. 비교에 사용된 Cu-ZSM5형 제올라이트도 1 ppm의 일산화탄소를 포함한 25℃의 질소를 20 L/min로 유통시켜 일산화탄소를 충분히 흡착시킨 후, 200℃로 진공 배기하면서 2시간 동안 가열재생을 실시하였다.
도 2의 흡착 등온선에서 500℃로 활성화 처리된 흡착제 쪽이 활성화 처리하지 않은 흡착제와 비교하여 흡착압력 0.5 kPa에 대하여 3배 이상의 흡착량으로 나타나 흡착성능이 큰 폭으로 향상된 것을 알 수 있다.
이와 같이 시판의 NOx 제거용 촉매인 Cu-ZSM5형 제올라이트를 일단 가열 처리하여 활성화시켜 놓게 되면 낮은 온도로 재생하여도 흡착 능력이 향상되는 것을 알 수 있다.
(실시예 2)
Cu-ZSM5형 제올라이트의 활성화 처리온도에서의 일산화탄소 흡착성능에 대한 영향을 다음과 같이 나타낸다.
NOx 제거용 촉매인 시판의 Cu-ZSM5형 제올라이트를 처리온도를 바꾸어 실시예 1에서 나타낸 방법으로 활성화를 실시하였다. 처리온도는 300℃, 350℃, 400℃, 450℃, 500℃ 및 600℃로 하여 6 종류의 일산화탄소 흡착제를 얻었다.
이들 흡착제의 25℃에서의 일산화탄소 흡착량을 정용식(定容式) 흡착량 측정 장치로 측정하였다. 각 흡착제 1g를 측정 장치에 충전하고 공기액화 분리장치로 얻은 제품 질소의 정제에 사용하는 경우를 상정하여 5ppm의 일산화탄소를 포함한 질소를 유통시키고 나서 300℃로 가열 재생한 흡탈착 조작을 1회 실시한 후, 흡착 등온선을 측정하였다.
각 흡착제의 흡착 등온선에서 압력 3Pa에서의 일산화탄소 흡착량을 구하고 그 일산화탄소 흡착량과 활성화 온도와의 관계를 도 3에 표시하였다.
도 3에서 300℃, 350℃로 활성화 처리된 것들은 낮은 압력에서의 일산화탄소 흡착량이 적음을 알 수 있다. 즉, 낮은 온도에서 활성화 처리한다는 것은 피정제 가스중의 일산화탄소를 ppb 레벨까지 정제하기 위하여 중요한 극저 분압 영역에서의 흡착능이 낮다는 것을 나타낸다.
활성화 온도가 상승함에 따라 일산화탄소 흡착 능력은 향상되지만 450℃이상에서는 평행하다가 600℃이상에서는 반대로 저하된다.
(실시예 3)
본 발명에 의한 일산화탄소 흡착제를 이용한 가스 정제방법에 있어서 재생온도가 일산화탄소의 흡착 능력에 끼치는 영향을 다음과 같이 나타낸다.
NOx 제거용 촉매인 시판의 Cu-ZSM5형 제올라이트를 실시예 1에서 나타낸 방법으로 500℃에서 3시간 동안 활성화시켜서 본 발명에 의한 흡착제를 얻었다.
다음으로 정용식 흡착량 측정 장치에 흡착제 1g를 충전하고 5ppm의 일산화탄소를 포함한 질소를 25℃로 유통시키고 난 다음, 100℃로 가열 재생하는 흡탈착 조작을 1회 실시한 후, 25℃에서의 일산화탄소의 흡착량을 측정하여 흡착 등온선을 구하였다.
동일하게 재생온도를 200℃, 300℃ 및 400℃로 한 경우에 대하여도 흡착 등온선을 구하고 재생온도의 일산화탄소 흡착량에의 영향을 조사하였다. 각 재생온도에서의 흡착 등온선을 도 4에 나타낸다.
100℃에서는 일산화탄소 흡착량이 적고 특히 200℃이상에서 재생한 경우와 같은 0.5Pa이하의 극저압 영역에서의 흡착 등온선의 급격한 상승을 나타나지 않았다. 따라서 본 발명에 의한 일산화탄소 흡착제를 이용한 가스 정제방법에서는 재생온도가 100℃라면 피정제 가스중의 일산화탄소를 ppb 레벨 미만으로 하는 가스 정제는 불가능하다고 생각된다. 재생온도는 200℃이상인 것이 바람직하다.
(실시예 4)
온도 스윙 흡착법에 의한 가스 정제장치에 있어서 질소중의 일산화탄소 제거실험을 실시하였다. NOx 제거용 촉매인 시판의 Cu-ZSM5형 제올라이트를 내경 17.4mm의 흡착탑에 높이 0.2m로 충전하였다. 질소를 유통시키면서 500℃로 활성화한 후, 일산화탄소 제거실험을 실시하였다.
조작조건은 흡착압력 0.6MPa, 흡착온도 25℃, 재생온도 200℃로 하였다. 5ppm의 일산화탄소를 포함한 질소를 20L/min로 유통시켜 흡착탑의 가스 출구 측의 라인에 설치된 Trace Analytical 회사제품 Process Gas Analyzer(RGA5)로 정제 질소중의 일산화탄소 농도를 측정하였다.
도 5에 나타낸 것과 같이 약 10시간 동안 검출 하한 이하였다. 여기서, 도 5의 세로축은 일산화탄소의 정제장치의 입구에서의 농도를 C0로 하고 출구에서의 농도를 C로 하였을 때의 비(C/C0)를 나타내고 가로축은 정제장치에 일산화탄소를 포함한 질소의 유통을 개시한 후 경과한 시간을 나타낸다.
(실시예 5)
실시예 4와 마찬가지로 아르곤중의 일산화탄소 제거실험을 실시하였다. NOx 제거용 촉매인 시판의 Cu-ZSM5형 제올라이트를 내경 17.4mm의 흡착탑에 높이 0.2m로 충전하였다. 질소를 유통시키면서 500℃로 활성화한 후 일산화탄소 제거실험을 실시하였다.
조작조건은 흡착압력 0.6MPa, 흡착온도 25℃, 재생온도 200℃로 하였다. 5ppm의 일산화탄소를 포함한 질소를 20L/min로 유통시켜 흡착탑의 가스 출구 측의 라인에 설치된 Trace Analytical 회사제품인 Process Gas Analyzer(RGA5)로 정제 아르곤중의 일산화탄소 농도를 측정하였다.
도 6에 나타낸 것과 같이 정제 아르곤중의 일산화탄소 농도는 약 10시간 동안 검출 하한 이하였다.
(비교예 1)
실시예 4의 비교예로서 수분을 포함한 질소 중에서의 활성화에 대하여 실험을 실시하였다. NOx 제거용 촉매인 시판용 Cu-ZSM5형 제올라이트를 내경 17.4mm의 흡착탑에 높이 0.2m로 충전하였다. 25℃로의 포화 수증기를 포함한 질소를 유통시키면서 500℃로 활성화한 후, 일산화탄소 제거실험을 실시하였다.
조작조건은 흡착압력 0.6MPa, 흡착온도 25℃, 재생온도 200℃로 하였다. 5ppm의 일산화탄소를 포함한 질소를 20L/min로 유통시켜 흡착탑의 가스 출구 측의 라인에 설치된 Trace Analytical 회사제품인 Process Gas Analyzer(RGA5)로 정제 질소중의 일산화탄소 농도를 측정하였다.
도 7에 나타낸 것과 같이 실험 개시와 동시에 일산화탄소의 파과(破過)가 확인되었다.
활성화는 수분이 포함되지 않은 질소로 실시하는 것이 바람직하다는 것이 판명되었다.
이상과 같이, 본 발명의 일산화탄소 흡착제 및 상기 일산화탄소 흡착제를 이용한 가스 정제방법 및 가스 정제장치를 이용하게 되면 질소 및 아르곤 등의 희가스로부터 실질적으로 일산화탄소를 제거할 수 있어 반도체 산업에서 요구하는 초고순도의 불활성 가스를 제조하는 것이 가능하다.

Claims (6)

  1. NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기에서 450~600℃로 가열하고 활성화하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 일산화탄소 흡착제.
  2. 가스 중에 포함되는 미량의 불순물로서의 일산화탄소를 온도 스윙 흡착법에 의하여 제거하는 공정을 구비하는 가스 정제방법에 있어서,
    NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기에서 450~600℃로 가열하고 활성화하여 이루어지는 일산화탄소 흡착제를 이용하여 상기 일산화탄소 흡착제의 재생 조작을 200~350℃로 실시하는 것을 특징으로 하는 가스 정제방법.
  3. 제 2 항에 있어서,
    정제하는 상기 가스가 고순도의 질소, 아르곤, 헬륨, 네온, 클리프톤, 혹은 크세논인 것을 특징으로 하는 가스 정제방법.
  4. NOx 제거용 촉매로서 조제된 Cu-ZSM5형 제올라이트를 수분이 포함되지 않은 불활성 가스 분위기에서 450~600℃로 가열하고 활성화하여 이루어지는 일산화탄소 흡착제를 충전한 흡착탑; 및
    상기 흡착탑에 충전된 상기 흡착제를 200~350℃로 가열 재생하기 위한 가열장치를 포함하고,
    상기 가스를 온도 스윙 흡착법에 의하여 정제하는 것을 특징으로 하는 가스 정제장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 가열장치가 재생용 가스를 가열하는 것을 특징으로 하는 가스 정제장치.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항의 가스 정제장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 공기액화 분리장치.
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