KR20090099478A

KR20090099478A - 기판 처리 장치

Info

Publication number: KR20090099478A
Application number: KR1020090022042A
Authority: KR
Inventors: 츠다 에이노스케
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2008-03-17
Filing date: 2009-03-16
Publication date: 2009-09-22
Also published as: CN101540281A; TWI496213B; KR101124903B1; CN101540281B; TW200947553A; JP2009224590A

Abstract

본 발명은 제품 비용을 저감시키고, 또한 유지보수의 절약화, 단시간화를 촉진할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것에 관한 것이다. 피처리 기판(W)에 대하여, 복수의 가스를 이용하여 처리를 실시하는 처리실(11)과, 처리실(11)에 마련되고, 복수의 가스를 처리실(11)내에 도입하는 가스 도입부(12)와, 처리실(11)상에 배치되어, 복수의 가스를 가스 공급 기구(14)로부터 가스 도입부(12)로 유도하는 복수의 가스 유로(13b)와, 이들 가스 유로중 적어도 하나를 흐르는 가스를 가열하는 히터(23)를 내부에 갖는 입구 블록(13)을 구비한다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE}

본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 피처리 기판에 처리를 실행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.

반도체 디바이스의 제조 공정에 있어서는, 피처리 기판인 반도체 웨이퍼(이하, 간단히 "웨이퍼"라고 한다)상에 집적 회로를 형성하기 위해서, 절연막, 금속막 및 금속 화합물막 등의 박막을 성막하는 프로세스가 행하여진다. 성막 처리는 기판 처리 장치로서 CVD 장치, PVD 장치, ALD 장치 등의 성막 장치를 이용하여 행하여진다.

성막 장치는, 박막 형성을 위해, 복수의 프로세스 가스를 사용한다. 예를 들면, 게이트 절연막 등에 사용되는 고유전율 절연막(High-k막)에 있어서는, 프로세스 가스로서, 전구체(precursor), 환원제, 플라즈마용 가스, 첨가제 등이 사용된다. 프로세스 가스는, 예컨대 특허문헌 1에 기재되어 있는 것과 같이, 프로세스 가스 공급원으로부터 기판 처리 장치의 프로세스 가스 도입부로 가스 배관을 거쳐서 공급된다.

[특허문헌 1] 특허 공표 제 2007-530796 호 공보

기판 처리 장치에의 프로세스 가스의 공급은 가스 배관을 거쳐서 행하여지지만, 가스 배관에는 파이프나 튜브 뿐만 아니라, 예컨대 방향 변환을 위한 앵글이나 엘보우, 분기를 위한 티(tee)나 크로스 등 여러가지 이음새를 다수 필요로 한다. 이들의 이음새와 파이프나 튜브는 자동 용접을 이용하여 접속되어, 조립 가공된다.

이와 같이, 가스 배관은 필요로 하는 부품이 다수에 이른다. 더구나, 다수의 부품을 조립해 가공함으로써 구조가 복잡하게 되고, 예컨대 배관 커버 등도 복잡한 형상으로 가공 성형해야만 한다. 또한, 가스 배관에는, 프로세스 가스를 가열하는 맨틀 히터를 장착하는 것도 있지만, 배관 구조에 따라서는 특별한 형상의 맨틀 히터를 준비해야만 하는 일도 있다.

이들과 같은 요인으로, 기판 처리 장치, 예컨대 성막 장치는 제품 비용이 높게 되는 경향이 있다는 사정이 있다.

또한, 가스 배관에는 다수의 부품이 사용되고 있기 때문에, 예컨대 유지보수의 경우에는, 분해, 부품의 점검, 재조립에 막대한 노동력, 및 시간을 필요로 한다. 이 때문에, 유지보수의 절약화, 단시간화도 방해되고 있다.

본 발명의 목적은 제품 비용을 저감할 수 있고, 또한 유지보수의 절약화, 단시간화를 촉진할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 일 태양에 따른 기판 처리 장치는, 피처리 기판에 대하여, 복수의 가스를 이용하여 처리를 실시하는 처리실과, 상기 처리실에 마련되고, 상기 복수의 가스를 상기 처리실내에 도입하는 가스 도입부와, 상기 처리실상에 배치되어, 상기 복수의 가스를 가스 공급 기구로부터 상기 가스 도입부에 유도하는 복수의 가스 유로와, 이들 가스 유로중 적어도 하나를 흐르는 가스를 가열하는 히터를 내부에 갖는 입구 블록을 구비한다.

본 발명에 의하면, 제품 비용을 저감할 수 있고, 또한 유지보수의 절약화, 단시간화를 촉진할 수 있는 기판 처리 장치를 제공할 수 있다.

이하, 본 발명의 일 실시형태를 도면을 참조해서 설명한다. 참조하는 도면 모두에 걸쳐서, 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙인다. 이 설명에 있어서는, 본 발명을 기판 처리 장치로서, 반도체 웨이퍼(이하, 간단히 "웨이퍼"라고 한다)상에 박막을 성막하는 성막 장치에 적용했을 경우에 대해서 나타낸다. 성막 장치로서의 일 예로는 웨이퍼상에 고유전율 절연막, 예컨대 하프늄계의 고유전율 절연막을 성막하는 ALD 장치가 있다. 그러나, 본 발명은 ALD 장치에 한해서 적용되는 것은 아니고, CVD 장치, PVD 장치 등 다른 성막 장치에도 적용할 수 있고, 성막 장치에 한하지 않고, 에칭 장치 등 다른 기판 처리 장치에도 적용할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 일 예를 나타내는 평면도이며, 도 2는 도 1중의 2-2 선에 따르는 단면도이며, 도 3은 도 1중의 3-3 선에 따르는 단면도이다.

도 1 내지 도 3에 도시하는 바와 같이, 기판 처리 장치(10)는 웨이퍼(W)에 대하여, 프로세스 가스를 이용하여 성막 처리를 실시하는 처리실(11)과, 이 처리실(11)에 마련되고, 프로세스 가스를 처리실(11)내에 도입하는 가스 도입부(12)와, 상기 처리실(11)상에 마련되고, 상기 가스 도입부(12)에 프로세스 가스 공급 기구(14)로부터 프로세스 가스를 유도하는 입구 블록(13)을 구비한다.

본 예의 처리실(11)은 챔버(11a)와, 챔버(11a)상에 마련되고, 처리 공간(15)중의 가스를 배기하는 배기 링(11b)과, 배기 링(11b)상에 마련된 덮개(11c)로 주로 구성된다.

챔버(11a)의 내부에는 웨이퍼(W)를 탑재하는 탑재대(16)가 마련되고, 챔버(11a)의 측벽에는 웨이퍼(W)를 처리실(11)의 내부에 반입반출하는 반입반출부(17)가 마련되어 있다. 탑재대(16)는 챔버(11a)내에 있어서 상하로 이동하고, 웨이퍼(W)를 챔버(11a)측과 처리 공간(15)측과의 사이에서 오르내린다.

배기 링(11b)은 배기 경로(18)를 갖는다. 배기 경로(18)는 환상으로 챔버(11a)의 상방에 형성되고, 본 예에서는 원통형으로 되는 처리 공간(15)의 주위를 둘러싸도록 형성된다. 배기 경로(18)의 적어도 하나의 개소는 도시하지 않는 배기 펌프 등의 배기 기구에 접속된다. 배기 경로(18)와 처리 공간(15)과의 사이에는 측벽 형상의 배플 링(19)이 마련되어 있다. 배플 링(19)에는, 처리 공간(15)으로 방출된 프로세스 가스를 배기하는 복수의 배기 구멍(19a)이 형성되어 있다.

덮개(11c)는 배기 링(11b)상에 마련되어 있다. 처리 공간(15)은, 덮개(11c) 와, 배기 링(11b), 본 예에서는 배플 링(19)과, 배플 링(19)의 바닥부까지 상승해 온 탑재대(16)로 둘러싸여지는 것에 의해 형성된다. 본 예에서는, 처리 공간(15)이 상술한 바와 같이 형성되지만, 처리 공간(15)의 형성은 이것에 한정되는 것은 아니다. 배기 링(11b)을 갖지 않고, 챔버(11a)의 하방으로부터 프로세스 가스를 배기하고, 챔버(11a)와 덮개(11c)로 처리 공간(15)이 형성되도록 하는 일반적인 구성으로 해도 좋다.

덮개(11c)의 처리 공간(15)측에는 상측 플레이트(20a) 및 하측 플레이트(20b)가 마련되어 있다. 하측 플레이트(20b)의 처리 공간(15)측의 표면은 접시 형상으로 오목하게 되어 있고, 그 중앙부에는 프로세스 가스를 방출하는 가스 방출부(21)가 마련되어 있다. 본 예의 가스 방출부(21)는 반구형이지만, 가스 방출부(21)는 반구형에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 샤워 헤드형 등 어떠한 형상이라도 좋다.

가스 도입부(12)는 입구 블록(13)을 거쳐서 도입된 프로세스 가스를 가스 방출부(21)에 도입하는 부분이다. 본 예에서는, 가스 도입부(12)는, 덮개(11c), 상측 플레이트(20a) 및 하측 플레이트(20b)에 가스 유로로서 형성된다.

제어부(50)는 기판 처리 장치(10)의 각 구성부를 제어한다. 제어부(50)는 각 구성부의 제어를 실행하는 마이크로프로세서(컴퓨터)로 이루어지는 프로세스 컨트롤러(51)와, 오퍼레이터가 기판 처리 장치(10)를 관리하기 위해서 명령의 입력 조작 등을 실행하는 키보드나, 기판 처리 장치(10)의 가동 상황을 가시화해서 표시하는 디스플레이 등으로 이루어지는 사용자 인터페이스(52)와, 기판 처리 장치(10) 에서 실행되는 각종 처리를 프로세스 컨트롤러(51)의 제어로 실현하기 위한 제어 프로그램이나, 각종 데이터 및 처리 조건에 따라 처리 장치의 각 구성부에 처리를 실행시키기 위한 프로그램, 즉 레시피를 기억하는 기억부(53)를 구비하고 있다. 사용자 인터페이스(52) 및 기억부(53)는 프로세스 컨트롤러(51)에 접속되어 있다. 레시피는 기억부(53)내의 기억 매체에 기억된다. 기억 매체는 하드 디스크라도 좋고, CD-ROM, DVD, 플래시 메모리 등의 가반성의 것이라도 좋다. 또한, 다른 장치로부터, 예컨대 전용 회선을 거쳐서 기억 매체에 레시피를 적당히 전송시키도록 해도 좋다. 임의의 레시피는, 필요에 따라서 사용자 인터페이스(52)로부터의 지시로 기억부(53)로부터 호출하고, 프로세스 컨트롤러(51)에 실행시키는 것으로, 기판 처리 장치(10)는 프로세스 컨트롤러(51)의 제어하에서 소망의 기판 처리를 실행한다.

입구 블록(13)은, 프로세스 가스를, 예컨대 처리실(11)에 마련되고, 프로세스 가스 공급 기구(14)로부터 공급된 프로세스 가스를 수용하는 가스 공급부(22)로부터 상기 가스 도입부(12)까지 처리실(11)상을 거쳐서 유도하는 부분이다. 이 부분은 종래에는 가스 배관을 조립해 가공함으로써 구성하고 있었지만, 본 예에서는 하나의 블록(일체품)으로 구성하도록 했다. 블록의 일 예는 금속이며, 금속의 일 예는 열전도성이 좋은 알루미늄이다. 이것을 본 명세서에서는 입구 블록(13)이라고 한다. 입구 블록(13)의 일 예를 도 4a에 도시한다. 또한, 참고 예로서 가스 배관의 예를 도 4b에 도시한다. 도 4a 및 도 4b는 각각 단면도이다.

도 4a에 도시하는 바와 같이, 입구 블록(13)은, 예컨대 금속제 모재(13a)를 구비하고, 이 금속제 모재(13a)의 내부에 구멍을 개구한, 예를 들면 금속제 모 재(13a)를 중공으로 도려내 구멍을 뚫은 것으로 형성한 가스 유로(13b)를 갖고 있다. 본 예에서는, 가스 유로(13b)를 예컨대 4개 갖고 있고, 프로세스 가스 공급 기구(14)에 있어서 발생된 4종류의 프로세스 가스를 가스 공급부(22)로부터 가스 도입부(12)까지 유도한다. 4개의 가스 유로(13b)에는, 예컨대 프로세스 가스로서 전구체, 환원제, 플라즈마용 가스, 첨가제 등을 흐르게 하는 것이 가능하다. 이들과 같은 프로세스 가스를 사용해서 성막되는 막의 예로서는 고유전율 절연막, 예컨대 하프늄계의 절연막을 들 수 있다.

도 4b에 도시하는 참고 예도 마찬가지로, 4개의 가스 배관(113)을 거쳐서, 4종류의 프로세스 가스를 가스 공급부(22)로부터 가스 도입부(12)까지 유도한다. 그러나, 복수의 가스 배관(113)은 파이프(113a) 및 파이프(113a)끼리를 접속하는 이음새(113b)를 서로 접속해 행하는 것으로 형성된다. 이 때문에, 다수의 부품이 필요하다.

이에 비하여, 도 4a에 도시하는 일 예에서는, 복수의 가스 유로(13b)를 금속제 모재(13a)의 내부에 구멍을 개구하는 것으로 형성함으로써, 부품은 기본적으로 금속제 모재(13a)만으로 좋다. 따라서, 부품 개수를 감소시킬 수 있고, 제품 비용을 저감할 수 있다.

또한, 부품 개수가 감소되므로, 예컨대 유지보수에 있어서의 분해, 부품의 점검, 재조립이 부품 개수가 많을 경우와 비교해서 용이해진다. 따라서, 유지보수의 절약화, 단시간화도 촉진할 수 있다. 예를 들면, 본 예에서는, 분해는 입구 블록(13)을 처리실(11)상으로부터 분리하는 것만으로 좋고, 재조립은 입구 블록(13) 을 처리실(11)상에 장착하는 것만으로 좋다.

또한, 도 4b에 도시하는 참고 예에서는, 파이프(113a)와 이음새(113b)가 자동 용접을 이용하여 접속된다. 참고 예에서는, 4개의 가스 배관(113)이 높이 방향에 배치되어 있지만, 복수의 가스 배관(113)을 높이 방향에 배치했을 경우에는, 가스 배관(113)끼리를 자동 용접기가 들어가는 것만의 간격(d)을 가져서 서로 격리해야만 한다. 이 때문에, 가스 배관(113)의 높이(h)가 높게 되기 쉽고, 기판 처리 장치의 소형화를 방해한다.

이에 비해서, 도 4a에 도시하는 일 예에 있어서는, 높이 방향에 배치된 복수의 가스 유로(13b)를 금속제 모재(13a)의 내부에 구멍을 개구하는 것으로 형성하므로, 가스 유로(13b)의 형성을 위한 자동 용접기를 필요로 하지 않는다. 이 때문에, 복수의 가스 유로(13b)를 높이 방향에 배치해도, 가스 유로(13b)끼리의 간격(d)을 가스 배관(113)에 비교해서 좁게 할 수 있다. 이 때문에, 가스 배관(113)을 이용한 기판 처리 장치에 비교하여, 기판 처리 장치의 소형화도 가능해진다.

이와 같이, 일 실시형태에 의하면, 입구 블록(13)을 구비하는 것으로, 가스 배관(113)을 이용한 기판 처리 장치에 비교하여, 제품 비용을 저감할 수 있고, 또한 유지보수의 절약화, 단시간화를 촉진할 수 있다.

또한, 일 실시형태에 의하면, 복수의 가스 유로(13b)를 높이 방향에 다층으로 마련할 경우에, 가스 배관(113)을 이용한 기판 처리 장치에 비교하여, 가스 유로(13b)끼리의 간격(d)을 좁힐 수도 있고, 기판 처리 장치를 소형화할 수 있다.

그런데, 프로세스 가스중에는, 예컨대 프로세스 가스 공급 기구(14)에 있어 서 가열하고, 액체를 기화시키는 것으로 발생되는 것이 있고, 또한 처리 공간(15)의 내부에 있어서의 반응 등 때문에 적절한 온도까지 가열될 필요가 있는 프로세스 가스도 있다. 이들의 양 프로세스 가스에 대해서는, 가스 배관을 통과중에 온도가 내려가지 않도록 가열하지 않으면 안된다. 이와 같은 관점으로부터, 예컨대 가스 배관(113)을 이용한 장치에서는, 가스 배관(113)을 알루미늄제의 배관 커버로 덮고, 배관 커버의 외부에 맨틀 히터를 감고, 가스 배관(113)을 가열하도록 하고 있다. 참고 예로서 배관 커버를 도 5a 내지 도 5c에 도시한다. 도 5a는 단면도이며, 도 5b는 도 5a중의 5B-5B 선에 따르는 단면도이며, 도 5c는 배관 커버에 맨틀 히터를 둘러 감은 상태를 도시한 사시도이다.

도 5a 내지 도 5c에 도시하는 바와 같이, 배관 커버(114)에는, 파이프(113a)를 통과시키는 부분(114a), 이음새(113b)를 수용하는 부분(114b) 등이 형성되지 않으면 안된다. 이 때문에, 배관 커버(114)의 형상이 복잡하게 되어 가공이 어렵다. 또한, 굴곡 부분 등 가공이 곤란한 개소에 있어서는, 굴곡 부분용의 배관 커버를 준비해서 직선 부분용의 배관 커버와 접속하거나 할 경우도 있다. 이와 같이 배관 커버를 이용하는 것으로, 부품 개수는 더욱 많아지고, 제품 비용을 상승시켜 버린다.

이에 비하여, 도 4a에 도시하는 일 예에 있어서는, 금속제 모재(13a) 자체에 가스 유로(13b)를 형성하므로, 배관 커버가 불필요하다. 배관 커버가 불필요한 만큼, 배관 커버가 필요한 기판 처리 장치에 비교해서 제품 비용의 상승을 억제할 수 있다.

또한, 일 실시형태에 있어서는, 가스 유로(13b)를 가열하는 고안으로서, 입구 블록(13)의 내부에 히터를 구비하도록 했다. 본 예에서는, 도 1 내지 도 3에 도시하는 바와 같이, 형상이 맨틀 히터에 비교해서 심플하고, 또한 맨틀 히터에 비교해서 저렴한 로드 히터(23)를 이용하도록 했다. 로드 히터(23)의 일 예는 금속제 시스(외피)의 내부에, 가열체로서 예컨대 니크롬선을 내장한 것을 이용할 수 있다. 로드 히터(23)를 입구 블록(13)의 내부에 구비하기 위해서, 본 예에서는 예컨대 도 4a에 도시하는 바와 같이, 금속제 모재(13a)에, 로드 히터 삽입용 구멍(13c)을 직선 형상으로 개공하고, 로드 히터 삽입용 구멍(13c)의 내부에 로드 히터(23)를 삽입하도록 했다.

또한, 본 예에서는, 가스 유로(13b)가 입구 블록(13)의 높이 방향에 형성된 종 가스 유로(13bv)와, 입구 블록(13)의 평면 방향에 형성된 횡 가스 유로(13bh)와의 조합시켜서 구성되어 있다. 이러한 구성에 있어서의 로드 히터 삽입용 구멍(13c)의 형성 예로서, 본 예에서는 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv)과, 로드 히터 삽입용 횡 구멍(13ch)을 형성하도록 했다.

로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv)은 종 가스 유로(13bv)에 따라 입구 블록(13)의 높이 방향에 형성되고, 로드 히터 삽입용 횡 구멍(13ch)은 횡 가스 유로(13bh)에 따라 입구 블록의 평면 방향에 형성된다. 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv)을 종 가스 유로(13bv)에 따라 형성하고, 로드 히터 삽입용 횡 구멍(13ch)을 횡 가스 유로(13bh)에 따라 형성함으로써, 종 가스 유로(13bv)를 흐르는 프로세스 가스, 및 횡 가스 유로(13bh)를 흐르는 프로세스 가스의 쌍방을 로드 히터를 이 용하는 경우에도 효율적으로 가열할 수 있다. 또한, 효율적으로 가열하기 위해서, 금속제 모재(13a)에 열전도성이 좋은 재료를 선택하는 것도 좋다. 열전도성이 좋은 재료의 일 예는 알루미늄, 또는 알루미늄을 포함하는 합금이다.

또한, 횡 가스 유로(13bh)는 종 가스 유로(13bv)에 비교해서 거리가 길어지기 쉽다. 거리가 긴 횡 가스 유로(13bh)에 대해서는, 길이가 긴 로드 히터를 이용하여 가열하는 것으로 함으로써, 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv)만을 형성할 경우에 비교해서 로드 히터의 개수를 감소시킬 수 있는 이점도 있다.

또한, 입구 블록(13)에, 평면형 히터, 예컨대 운모 히터를 부착시켜도 좋지만, 평면형 히터는 로드 히터에 비교해서 비싸다. 이 관점으로부터도, 히터로서 로드 히터를 이용하는 것은 제품 비용의 억제에 유익하다.

이와 같이, 본 예에서는, 가열할 필요가 있는 프로세스 가스를 이용한 경우에도, 가열을 위해 필요한 구성을 가스 배관(113)을 이용한 기판 처리 장치에 비교해서 심플하게 얻을 수 있다. 이 때문에, 예컨대 히터에 들어가는 제품 비용을 억제할 수 있다.

또한, 일 실시형태에서는, 입구 블록(13)의 가공을 용이하게 하는 고안을 실시했다. 이 고안은 도 1 내지 도 3에 도시하는 바와 같이, 처리실(11)상에 있어서 입구 블록(13)이 탑재되는 탑재면(11d), 본 예에서는 덮개(11c)의 표면을 평탄으로 한 것이다. 탑재면(11d)상에 요철이 있어도, 이 요철에 맞춰서, 입구 블록(13)의 하면을 가공해야만 한다.

이에 비하여, 탑재면(11d)으로부터 요철을 없애고, 평탄으로 하면, 입구 블 록(13)의 하면은 평탄으로 하는 가공만으로 끝난다. 이러한 구성으로부터도, 제품 비용의 상승을 억제할 수 있다.

또한, 탑재면(11d)을 평탄으로 하는 것은, 예컨대 입구 블록(13)을 통과중의 프로세스 가스를 보온 또는 단열하기 위해서, 탑재면(11d)과, 입구 블록(13)의 하면과의 사이에 단열재를 삽입할 경우에도, 단열재의 가공을 용이하게 할 수 있고, 제품 비용의 억제에 유리하다.

또한, 탑재면(11d)으로부터 요철을 없앨 경우에는, 덮개(11c)의 표면 전체를 평탄하게 하지 않아도, 덮개(11c)의 표면중 적어도 입구 블록(13)이 탑재되는 부분이 평탄으로 되면 좋다.

다음에, 입구 블록(13)의 일 형성 예를 설명한다.

도 6a 내지 도 6D는 입구 블록(13)의 일 형성 예를 나타내는 단면도이다.

우선, 도 6a에 도시하는 바와 같이, 입구 블록(13)이 되는 금속제 모재(13a)를 준비한다. 금속제 모재(13a)의 일 예는 알루미늄제 또는 알루미늄을 포함하는 합금제이다.

다음에, 도 6b에 도시하는 바와 같이, 금속제 모재(13a)의 가스 도입부(12)에 접속되는 개소, 및 가스 공급부(22)에 접속되는 개소에 대하여, 종 가스 유로(13bv-1, 13bv-2), 및 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv-1)을 형성한다. 종 가스 유로(13bv-1, 13bv-2) 및 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv-1)은 높이 방향에 형성된다. 종 가스 유로(13bv-1 및 13bv-2)는 본 예에서는 금속제 모재(13a)의 하면으로부터 모재(13a)의 도중까지 형성되고, 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv-1)은 본 예 에서는 금속제 모재(13a)의 상면으로부터 모재(13a)의 도중까지 형성된다.

다음에, 도 6c에 도시하는 바와 같이, 금속제 모재(13a)의 측면으로부터, 횡 가스 유로(13bh)와, 로드 히터 삽입용 횡 구멍(13ch)을 형성한다. 횡 가스 유로(13bh 및 13ch)는 평면 방향에 형성된다. 횡 가스 유로(13bh)는 종 가스 유로(13bv-1 및 13bv-2)의 상단부를 통과한다. 횡 가스 유로(13bh)는 금속제 모재(13a)의 측면으로부터 모재(13a)의 도중까지, 본 예에서는 종 가스 유로(13bv-1)까지 형성된다. 로드 히터 삽입용 횡 구멍(13ch)은, 횡 가스 유로(13bh)에 따라, 횡 가스 유로(13bh)와 마찬가지로, 금속제 모재(13a)의 측면으로부터 모재(13a)의 도중까지 형성된다.

다음에, 도 6d에 도시하는 바와 같이, 횡 가스 유로(13bh)의 입구 블록(13)의 외부에 통하는 일단을 밀봉재(24)로 매립하고, 횡 가스 유로(13bh)의 일단을 밀봉한다. 또한, 로드 히터 삽입용 횡 구멍(13ch), 및 로드 히터 삽입용 종 구멍(13cv-1)에 로드 히터(23)를 삽입한다.

이와 같이 입구 블록(13)의 가스 유로(13b)는 종 가스 유로(13bv-1, 13bv-2) 및 횡 가스 유로(13bh)의 조합으로 구성할 수 있다.

또한, 예컨대 횡 가스 유로(13bh)의 일단을 밀봉재(24)로 밀봉하는 것에 의해, 입구 블록(13)의 하면에 있어서, 일단을 가스 도입부(12)에 접속하고, 타단을 가스 공급부(22)에 접속할 수 있는 가스 유로(13b)를 구비한 입구 블록(13)을 형성할 수 있다. 본 예에서는, 종 가스 유로(13bv-1)에 가스 도입부(12)가 접속되고, 종 가스 유로(13bv-2)에 가스 공급부(22)가 접속된다. 예를 들면, 이와 같이 하 여, 입구 블록(13)을 형성할 수 있다.

이상, 본 발명을 일 실시형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 일 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 다양한 변형이 가능하다. 또한, 본 발명의 실시형태는 상기 일 실시형태가 유일한 실시형태가 아니다.

예컨대, 상기 일 실시형태에서는, 기판 처리 장치로서 반도체 웨이퍼를 처리하는 기판 처리 장치를 예시했지만, 예컨대 액정 표시 장치(LCD)용의 유리 기판으로 대표되는 플랫 패널 디스플레이(FPD)용의 기판 등을 처리하는 기판 처리 장치에도 적용 가능한 것은 말할 필요도 없다.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판 처리 장치의 일 예를 나타내는 평면도,

도 2는 도 1중의 2-2 선에 따르는 단면도,

도 3은 도 1중의 3-3 선에 따르는 단면도,

도 4는 도 4a는 입구 블록의 일 예를 나타내는 단면도,

도 4b는 참고 예에 따른 가스 배관을 도시하는 단면도,

도 5는 참고 예에 따른 배관 커버를 도시하는 단면도,

도 6은 입구 블록의 일 형성 예를 나타내는 단면도.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

10 : 기판 처리 장치 11 : 처리실

12 : 가스 도입부 13 : 입구 블록

14 : 프로세스 가스 공급 기구 15 : 처리 공간

16 : 탑재대 23 : 히터(로드 히터)

24 : 밀봉재

Claims

피처리 기판에 대하여, 복수의 가스를 이용하여 처리를 실시하는 처리실과,

상기 처리실에 마련되고, 상기 복수의 가스를 상기 처리실내에 도입하는 가스 도입부와,

상기 처리실상에 배치되고, 상기 복수의 가스를 가스 공급 기구로부터 상기 가스 도입부에 유도하는 복수의 가스 유로와, 이들 가스 유로중 적어도 하나를 흐르는 가스를 가열하는 히터를 내부에 갖는 입구 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 유로가 상기 입구 블록의 높이 방향에 다층으로 마련되어 있는 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 히터가 로드 히터이며,

상기 입구 블록이 로드 히터 삽입용 구멍을 갖고,

상기 로드 히터가 상기 로드 히터 삽입용 구멍에 삽입되어 있는 것을 특징으 로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 유로가, 상기 입구 블록의 높이 방향에 형성된 종 가스 유로와, 상기 입구 블록의 평면 방향에 형성된 횡 가스 유로를 조합시켜서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 4 항에 있어서,

상기 히터가 로드 히터이며,

상기 입구 블록이, 상기 종 가스 유로에 따라 상기 입구 블록의 높이 방향에 형성된 로드 히터 삽입용 종 구멍과, 상기 횡 가스 유로에 따라 상기 입구 블록의 평면 방향에 형성된 로드 히터 삽입용 횡 구멍을 갖고,

상기 로드 히터가 상기 로드 히터 삽입용 종 구멍 및 상기 로드 히터 삽입용 횡 구멍에 삽입되어 있는 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 처리실의 상기 입구 블록을 탑재하는 탑재면이 평탄한 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 입구 블록이 알루미늄제 또는 알루미늄을 포함하는 합금제인 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 기판 처리 장치가 상기 피처리 기판상에 박막을 성막하는 장치인 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 8 항에 있어서,

상기 박막을 성막하는 장치가 ALD법을 이용하여 상기 박막을 성막하는 장치인 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 1 항에 있어서,

상기 가스 유로가, 상기 입구 블록의 높이 방향에 형성된 적어도 2개의 제 1 및 제 2 종 가스 유로와, 상기 입구 블록의 평면 방향에 형성된 적어도 하나의 횡 가스 유로를 조합시켜서 구성되어 있는 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.
제 10 항에 있어서,

상기 제 1 종 가스 유로의 일단이 상기 횡 가스 유로의 하나의 개소에 통과하고, 상기 제 1 종 가스 유로의 타단이 상기 입구 블록의 외부에 통과하고, 상기 제 1 종 가스 유로의 타단에 상기 가스 공급원으로부터 가스의 공급을 받고,

상기 제 2 종 가스 유로의 일단이 상기 횡 가스 유로의 다른 개소에 통과하고, 상기 제 2 종 가스 유로의 타단이 상기 입구 블록의 외부에 통과하고, 상기 제 2 종 가스 유로의 타단이 상기 가스 도입부에 접속되고,

상기 횡 가스 유로의 적어도 일단이 상기 입구 블록의 외부에 통과하고, 상기 횡 가스 유로의 일단이 밀봉재로 밀봉되어 있는 것을 특징으로 하는

기판 처리 장치.