KR20090097086A - 세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법 - Google Patents
세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090097086A KR20090097086A KR1020080107753A KR20080107753A KR20090097086A KR 20090097086 A KR20090097086 A KR 20090097086A KR 1020080107753 A KR1020080107753 A KR 1020080107753A KR 20080107753 A KR20080107753 A KR 20080107753A KR 20090097086 A KR20090097086 A KR 20090097086A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cleaning
- fluid
- cleaned
- washing
- region
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
- B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B2203/00—Details of cleaning machines or methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B2203/02—Details of machines or methods for cleaning by the force of jets or sprays
- B08B2203/0288—Ultra or megasonic jets
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
본 발명은 피세정물의 세정 대상 영역만을 세정함으로써, 피세정물을 세정 및 건조할 때 이 피세정물에 이물질이 부착되는 것을 억제하는 세정 장치, 세정조, 세정 방법, 및 물품의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
세정 장치 내의 세정조(2)에 구비된 초음파 발생 수단(21)이, 공급구(200)로부터 세정조(2)에 공급된 세정 유체에 초음파를 인가하고, 피세정물(1)의 세정 영역(11)과 대응하는 위치에 개구부(220)를 갖는 유체 분출 수단(22)이, 상기 초음파가 인가된 세정 유체를 상기 개구부(220)로부터 피세정물(1)의 세정 영역에 분출시킨다.
Description
본 발명은, 피세정물의 세정 대상 영역만 세정하는 세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은, 예컨대 HDD(Hard Disk Drive)의 자기헤드, MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 및 광학부품(미러, 렌즈 등) 등과 같은 소형 디바이스의 제조 공정에서의 세정 기술에 관한 것이다.
최근, HDD의 자기헤드, MEMS 및 광학부품 등과 같은 소형 디바이스의 고정밀도화나 소형화에 따라, 제조 공정에서 생기는 서브미크론의 이물질을 제거하는 정밀 세정은 불가결한 것이다.
종래의 소형 디바이스의 세정 장치로서, 특허문헌 1은 초음파 발생 장치를 구비한 세정조 내에 세정액을 저류하고, 그 안에서 세정물을 세정하는 초음파 세정 장치에 대해서 제안하고 있다. 도 12는, 특허문헌 1이 제안하는 종래의 세정 기술의 개요를 설명하는 도면이다. 도 12에 도시하는 세정 장치는, 피세정물(1)을 세정 유체로 채워진 세정조(10)에 침지한 상태에서, 초음파 발생 수단(21)에 의해 세정 유체에 초음파를 인가하고, 캐비테이션 현상에 의해 피세정물 표면의 이물질을 박리한다. 세정 유체는 평상시 세정조(10)에 공급되어 있고, 박리한 이물질(100)은 세정조(10) 상면으로부터 세정 유체의 오버플로우와 함께 세정조 밖으로 배출된다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 평성 제6-55151호 공보
그러나, 도 12를 참조하여 설명한 종래의 세정 장치에서는, 피세정물(1)의 근방이나 세정조(10)의 코너 등에서, 이물질(100)이 체류하여 배출되지 않고, 피세정물(1)을 세정조(10)로부터 끌어 올릴 때에, 세정 유체중의 이물질(100)이 피세정물(1)에 부착된다고 하는 문제가 있다. 특히, 종래의 세정 장치는 피세정물(1)의 일부 영역만을 세정하고자 하는 경우에서도 피세정물(1) 전체를 세정 유체 속에 침지시키기 때문에, 피세정물(1)의 세정해야 하는 부위인 세정 영역[도 12 중의 세정 영역(11)] 이외의 영역으로부터 박리된 이물질(100)이 세정 유체를 오염시켜, 세정 유체의 청정도를 현저히 저하시켜 버린다.
또한, 상기 종래의 세정 장치를 이용하여 피세정물(1)을 세정한 경우, 피세정물(1)에는 세정 영역(11) 이외에도 세정 유체가 부착되기 때문에, 피세정물(1) 전체를 건조하는 시간이 길어져, 효율이 좋지 않다. 또한, 도 13에 도시하는 바와 같이, 세정된 피세정물(1)을 세정조(10)로부터 끌어 올려 건조 장치로 이송할 때에, 피세정물(1)에 이물질(100)이 부착된다고 하는 문제가 있다.
본 발명은, 피세정물의 세정 대상 영역만을 세정함으로써, 피세정물을 세정 및 건조할 때 이 피세정물에 이물질이 부착되는 것을 억제하는 세정 장치의 제공을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 피세정물의 세정 대상 영역만을 세정함으로써, 피세정물을 세정 및 건조할 때 이 피세정물에 이물질이 부착되는 것을 억제하는 세정 장치에 있어서 세정조의 제공을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 피세정물의 세정 대상 영역만을 세정함으로써, 피세정물을 세정 및 건조할 때 이 피세정물에 이물질이 부착되는 것을 억제하는 세정 방법의 제공을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 물품의 제조 공정에서 피세정물의 세정 대상 영역만을 세정함으로써, 피세정물을 세정 및 건조할 때 이 피세정물에 이물질이 부착되는 것을 억제하는 물품의 제조 방법의 제공을 목적으로 한다.
본 세정 장치는, 세정조 내에 피세정물을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 장치로서, 상기 세정조 내에, 세정 유체에 초음파를 인가하는 초음파 발생 수단과, 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 개구부를 갖는 유체 분출 수단을 포함하며, 상기 초음파 발생 수단에 의해 초음파가 인가된 상기 세정 유체가, 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 경유하여, 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출된다.
바람직하게는, 본 세정 장치에서, 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 공간에, 상기 세정 유체를 상기 유체 분출 수단의 바닥면 이외의 면에 충돌시키면서 공급하는 구조를 갖는다.
바람직하게는, 본 세정 장치가, 또한 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 거리를 조정하는 수단과, 상기 유체 분출 수단과 상기 세정 영역 사이의 거리를 조정하는 수단을 포함한다.
바람직하게는, 본 세정 장치가, 또한 건조 유체를 상기 세정조 내에 순환시키고, 이 건조 유체를 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 통해 분사 또는 흡인하며, 상기 피세정물의 세정 영역에 부착되어 있는 세정 유체를 건조시키는 건조 수단을 포함한다.
또한, 본 세정조는 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 장치에 설치되는 세정조로서, 피세정물을 설치하는 설치 수단과, 세정 유체에 초음파를 인가하는 초음파 발생 수단과, 상기 설치된 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 개구부를 갖는 유체 분출 수단을 포함하고, 상기 초음파 발생 수단에 의해 초음파가 인가된 상기 세정 유체가, 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 경유하여, 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출된다.
바람직하게는, 본 세정조에서, 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 공간에, 상기 세정 유체를 상기 유체 분출 수단의 바닥면 이외의 면에 충돌시키면서 공급하는 구조를 갖는다.
바람직하게는, 본 세정조에서, 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 거리를 조정하는 수단과, 상기 유체 분출 수단과 상기 세정 영역 사이의 거리를 조정하는 수단을 포함한다.
바람직하게는, 본 세정조에서, 건조 유체를 상기 세정조 내에 순환시키는 건조 수단으로부터 공급된 건조 유체를 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 통해 분사 또는 흡인하여, 상기 피세정물의 세정 영역에 부착되어 있는 세정 유체를 건조시킨다.
또한, 본 세정 방법은, 세정조 내에 피세정물을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 장치에서의 세정 방법으로서, 상기 세정조에 구비된 초음파 발생 수단이, 상기 세정 유체에 초음파를 인가하며, 상기 세정조에 구비된 유체 분출 수단이, 상기 초음파가 인가된 세정 유체를 상기 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 마련된 개구부로부터 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출한다.
또한, 본 물품의 제조 방법은, 물품을 제조하는 제조 방법으로서, 세정조 내에 상기 물품을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 공정을 포함하며, 상기 세정 공정은, 상기 세정조에 구비된 초음파 발생 수단이, 상기 세정 유체에 초음파를 인가하는 공정과, 상기 세정조에 구비된 유체 분출 수단이, 상기 초음파가 인가된 세정 유체를 상기 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 마련된 개구부로부터 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출하는 공정을 포함한다.
본 세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법은, 초음파 발생 수단에 의해 초음파가 인가된 세정 유체를, 유체 분출 수단이 갖는 개구부로부터 피세정물의 세정 영역으로 분출하여 이 세정 영역만을 세정한다. 따라서, 본 세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법에 의하면, 피세정물의 세정시에, 피세정물의 세정 영역 이외의 영역으로부터 이물질이 발생되는 것을 억제할 수 있고, 높은 세정 품질을 실현할 수 있다. 또한, 세정 영역 이외의 영역에 세정 유체가 부착되는 일이 줄어들기 때문에, 세정 후 피세정물을 건조할 때 이물질이 부착되는 것을 억제할 수 있어, 건조 시간을 짧게 할 수 있다.
또한, 본 세정 장치와 본 세정조는, 세정 유체를 상기 유체 분출 수단의 바닥면 이외의 면에 충돌시키면서 초음파 발생 수단과 유체 분출 수단 사이의 공간에 공급하는 구조를 갖는다. 따라서, 본 세정 장치와 본 세정조에 의하면, 상기 공간 내의 세정 유체의 압력을 균일하게 할 수 있고, 유체 분출 수단이 갖는 각각의 개구부로부터 일정한 유량으로 세정 유체를 분출하는 것이 가능해진다.
또한, 본 세정 장치와 본 세정조는, 초음파 발생 수단과 유체 분출 수단 사이의 거리를 조정하는 수단을 갖는다. 따라서, 본 세정 장치와 본 세정조에 의하면, 초음파 발생 수단과 유체 분출 수단 사이의 거리를, 피세정물에 초음파를 인가할 때 초음파 발생 수단이 사용하는 주파수에 따라서 결정되는 적절한 거리(세정 효율이 좋은 거리)로 조정하는 것이 가능해진다.
또한, 본 세정 장치와 본 세정조는, 유체 분출 수단과 세정 영역 사이의 거리를 조정하는 수단을 구비한다. 따라서, 본 세정 장치와 본 세정조에 의하면, 유체 분출 수단(의 개구부)과 세정 영역의 거리를, 세정 유체의 표면 장력, 피세정물의 재료, 제거하는 이물질의 크기 등에 따라서 결정되는 적절한 거리로 조정하는 것이 가능해진다.
또한, 본 세정 장치와 본 세정조는, 건조 유체를 세정조 내에 순환시키고, 이 건조 유체를 개구부를 통해 분사 또는 흡인하여, 피세정물의 세정 영역에 부착되어 있는 세정 유체를 건조시킨다. 따라서, 본 세정 장치와 본 세정조에 의하면, 개구부에 대응하는 세정 영역을 중점적으로 건조할 수 있다. 그 결과, 피세정물을 단시간에 건조할 수 있게 된다.
이하에, 본 실시형태에 대해서, 도면을 이용하여 설명한다. 도 1은, 본 실시형태에 따른 세정 장치의 기본적 구성의 예를 도시하는 도면이다. 도 1에 도시하는 세정 장치는, 세정조(2) 내에 피세정물(1)을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 장치이다. 도 1에 도시하는 세정 장치가 구비하는 구성 요소 중에서, 세정조(2)는 세정 유체를 공급하는 공급구(200), 세정 유체를 배출하는 배출구(202)를 가지며, 세정 유체를 저류한다. 세정 유체는, 예컨대 순수, 유기용제 등이다.
세정조(2)에는, 초음파 발생 수단(21)과 유체 분출 수단(22)이 설치되어 있다. 초음파 발생 수단(21)은 유체 분출 수단(22)과 대향하여 설치되어 있다. 초음파 발생 수단(21)은, 1개 이상의 초음파 진동자를 구비하고 있다. 초음파 발생 수단(21)은, 세정 유체가 공급구(200)를 통해 세정조(2)의 초음파 발생 수단(21)과 유체 분출 수단(22) 사이의 공간(영역)에 공급되면, 초음파 진동자에 의해 이 세정 유체에 초음파를 인가한다. 유체 분출 수단(22)은 피세정물(1)과 초음파 발생 수단(22) 사이에, 피세정물(1)과 대향하여 설치되어 있다. 유체 분출 수단(22)에는, 세정조(2)에 설치된 피세정물(1)의 각각의 세정 영역(11)과 대응하는 위치[각각의 세정 영역(11)과 대향하는 위치]에 개구부(220)가 마련되어 있다. 세정 영역(11)은 피세정물(1)의 세정해야 하는 부위이고, 도 1에 도시하는 예에서, 피세정물(1) 은 복수의 세정 영역(11)을 갖는다. 상기 개구부(220)는 세정 영역 방향으로 노즐형으로 돌출된 형상을 갖고 있다. 개구부(220)는 유체 분출 수단(22)으로부터 탈착 가능하여도 좋다. 또한, 유체 분출 수단(22)은, 개구부(220)와 세정 영역(11) 사이의 거리를 조정하는 구조[예컨대, 도 8을 참조하여 후술하는 높이 조정 부재(26)]를 갖는다. 상기 초음파 발생 수단(21)에 의해 초음파가 인가된 세정 유체는, 유체 분출 수단(22)의 개구부(220)를 경유하여, 피세정물(1)의 세정 영역(11)으로 분출되어 피세정물(1)의 세정 영역(11)을 세정한다.
유체 회수 수단(3)은, 세정 유체의 배출구(201)를 가지며, 유체 분출 수단(22)으로부터 유출되는 세정 유체를 배출구(201)를 통해 조 밖으로 배출한다. 따라서, 피세정물(1)의 세정시에는, 피세정물(1)은 세정 유체 내에 침지되지 않는다. 순환 수단(4)은, 세정조(2)의 공급구(200), 배출구(202) 및 유체 회수 수단(3)의 배출구(201)에 접속되어 있다. 순환 수단(4)은, 세정 유체를 공급구(200)로부터 세정조(2) 내의 초음파 발생 수단(21)과 유체 분출 수단(22) 사이의 공간 안으로 공급하고, 세정 유체를 배출구(202)로부터 배출한다. 순환 수단(4)이 소정 유량의 세정 유체를 세정조(2) 안으로 공급함으로써, 이 소정 유량의 세정 유체가 유체 분출 수단(22)의 개구부(220)로부터 세정 영역(11)의 방향으로 분출된다. 순환 수단(4)은, 예컨대 세정 유체의 순환 경로에 설치된 필터로 세정 유체를 정화하여도 좋다.
건조 수단(5)은, 건조 유체를 세정조(2) 내에 순환시키고, 이 건조 유체를 유체 분출 수단(22)이 갖는 개구부(220)를 통해 분사 또는 흡인하여, 피세정물(1) 의 세정 영역(11)에 부착되어 있는 세정 유체를 건조시킨다. 예컨대, 피세정물(1)의 세정이 종료된 후, 건조 수단(5)이 건조 유체를 공급구(203)로부터 세정조(2) 안으로 공급하고, 이 건조 유체를 배출구(204)로부터 흡인한다. 그 결과, 세정조(2) 내에 공급된 건조 유체는, 피세정물(1)의 세정 영역(11)과 대응하는 위치에 마련된 개구부(220)를 통해 흡인되고, 이 세정 영역(11)이 건조된다. 건조 유체는, 예컨대 청정 건조 공기이다.
건조 수단(5)이 건조 유체를 배출구(204)로부터 세정조(2) 안으로 공급하고, 이 건조 유체를 공급구(203)로부터 흡인하여도 좋다. 건조 수단(5)이 건조 유체를 배출구(204)로부터 세정조(2) 안으로 공급하는 경우, 세정조(2) 내에 공급된 건조 유체가 피세정물(1)의 세정 영역(11)과 대응하는 위치에 있는 개구부(220)를 통해, 세정 영역(11)에 대하여 분사되고, 이 세정 영역(11)이 건조된다.
건조 수단(5)은 건조 유체의 공급로에 필터를 구비하여도 좋고, 건조 수단(5)은 이 필터를 이용하여 건조 유체를 정화하여도 좋다. 또한, 피세정물(1)의 건조 시간을 단축하기 위해, 건조 유체의 공급로에 히터를 설치하여도 좋다.
도 2는, 도 1에 도시하는 세정 장치를 이용한 세정 처리를 설명하는 도면이다. 순환 수단(4)이 세정 유체를 공급구(200)로부터 세정조(2) 안으로 공급한다(도 2의 #1을 참조). 세정조(2) 내에 있어서, 유체 분출 수단(22)과 초음파 발생 수단(21) 사이의 공간에 세정 유체가 채워진다. 초음파 발생 수단(21)은, 세정 유체에 대하여 초음파를 인가한다(도 2의 #2를 참조). 유체 분출 수단(22)은, 이 초음파가 인가된 세정 유체를 개구부(220)를 통해 피세정물(1)의 세정 영역(11)에 대 하여 분출하고, 세정 영역(11)을 세정한다. 세정 영역(11)과 접촉한 세정 유체는 유체 회수 수단(3)의 배출구(201)로부터 배출된다. 본 실시형태의 세정 장치에 의하면, 초음파를 인가한 세정 유체를, 피세정물(1)의 세정 영역(11)에만 분출시킬 수 있다. 또한, 세정 영역(11)과 접촉한 세정 유체가 즉시 배출되기 때문에, 세정 영역(11)의 청정도를 유지하는 것이 가능하다. 또한, 피세정물(1)의 세정 영역(11) 이외의 영역에 대한 세정 유체의 부착이 적기 때문에, 이 세정 영역(11) 이외의 영역에 대한 이물질의 부착을 억제할 수 있다. 그 결과, 종합적인 세정 품질이 향상된다.
도 3은, 도 1에 도시된 세정 장치를 이용한 건조 처리를 설명하는 도면이다. 건조 수단(5)이 건조 유체를 공급구(203)로부터 세정조(2) 안으로 공급하고(도 3의 #1을 참조) 배출구(204)로부터 흡인한다. 세정조(2) 내에 공급된 건조 유체는 개구부(220)를 통해 배출구(204)측에 흡인되어(도 3의 #2를 참조) 세정 영역(11)을 건조시킨다. 본 실시형태의 세정 장치에 의하면, 개구부(220)가 세정 영역(11)의 방향에 대하여 돌출되어 있기 때문에, 세정 영역(11) 근방의 건조 유체의 유속이, 피세정물(1)의 세정 영역(11) 이외의 영역 근방의 유속보다 빠르게 된다. 따라서, 세정 영역(11)의 건조를 촉진시킬 수 있다. 또한, 피세정물의 세정 영역(11) 이외의 영역으로부터 먼지가 발생되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 세정 장치에 의하면, 세정조(2) 내에서 건조 처리를 행할 수 있어, 효율이 좋다.
이하에, 본 발명의 실시예에 대해서 설명한다. 도 4는, 피세정물의 일례를 도시하는 도면이다. 피세정물은, 예컨대 디지털 카메라 등에 사용되는 촬상 소 자(61)가 복수 나열된 플레이트(60)이다. 외형이 150 ㎜∼200 ㎜×50 ㎜∼70 ㎜인 플레이트 내에, 수십개의 촬상 소자(61)가 배열되어 있다. 촬상 소자(61)에는, CCD나 CMOS 등의 이미지 센서(62), 콘덴서(63) 등이 실장되어 있고, 세정 영역은 10 ㎜×10 ㎜ 정도의 실장면이다.
도 5의 (A), (B)는, 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치의 내부 구성예를 도시하는 도면이다. 도 5의 (A)는 세정 장치를 위에서 봤을 때의 내부 구성예를 도시하고, 도 5의 (B)는 세정 장치를 정면에서 봤을 때의 내부 구성예를 도시한다. 도 5의 (A), (B)에 도시하는 세정 장치는, 도 1을 참조하여 전술한 세정 장치가 구비하는 기본 구성(예컨대, 유체 분출 수단, 초음파 발생 수단, 순환 수단, 건조 수단, 유체 회수 수단 등)을 구비한다. 개구부(220)는, 피세정물(1)의 세정 영역의 수에 대응한 수만큼 설치되어 있다. 또한, 도 5의 (A), (B)에 도시하는 세정 장치는, 피세정물(1)을 세정 장치 내의 공급 위치에 대기시키는 공급대(6), 피세정물(1)을 세정 장치 내의 회수 위치에 대기시키는 회수대(7), 피세정물(1)을 공급대(6)로부터 세정조(2)로 이동시키고 세정조(2)로부터 회수대(7)로 이동시키는 이송 수단(8)을 구비한다. 도 5의 (A)에서 도면 보호 51, 52, 53은 각각, 공급대(6)가 갖는 설치부, 세정조(2)가 갖는 설치부, 회수대(7)가 갖는 설치부이다. 설치부는 피세정물(1)을 설치하는 부분이다. 피세정물(1)을 받는 수용부(81)(수용부 A), 수용부(82)(수용부 C)를 이송 수단(8)이 상하 좌우로 이동시킴으로써, 피세정물(1)이 공급 위치, 세정조(2), 회수 위치로 이동된다. 수용부는, 피세정물(1)을 정지시키는 위치의 수보다 1개 적은 수만큼 설치되어 있고, 각각이 연동하여 동작한다. 먼지의 발생을 고려하여, 이송 수단(8)의 구동부(도시 생략)는 피세정물(1)보다 아래쪽에 설치되어 있다.
초음파 발생 수단(21), 유체 분출 수단(22), 도시를 생략한 유체 회수 수단을 포함하는 세정조(2)와, 이송 수단(8)은 밀폐된 케이스 내에 수납되어 있다. 세정조(2)는 공급대(6)와 회수대(7) 사이에 복수 설치되어도 좋다.
본 실시예의 세정 장치는, 도 6의 (A), (B)에 도시하는 바와 같이 세정조(2)와 회수대(7) 사이에 건조 수단(5)이 설치되는 구성을 채용하여도 좋다. 건조 수단(5)은, 예컨대 피세정물(1)의 아래쪽에 피세정물(1)의 외형보다 큰 개구를 갖고, 이 개구로부터 위쪽의 분위기를 흡인하는 구조를 갖고 있다. 도 6의 (A), (B)에 도시하는 구성예에서, 이송 수단(8)은 수용부(81)(수용부 A), 수용부(82)(수용부 C), 수용부(83)(수용부 B)라고 하는 3개의 수용부를 구비하고 있다. 도 6의 (A)에 도시하는 도면 부호 54는 건조 수단(5)이 갖는 설치부이다. 본 실시예에서 사용되는 세정 유체는, 예컨대 순수이고, 건조 유체는, 예컨대 청정 건조 공기이다. 또한, 공급대(6)가 갖는 설치부(51), 세정조(2)가 갖는 설치부(52), 회수대(7)가 갖는 설치부(53) 및 건조 수단(5)이 갖는 설치부(54)는, 각각 피세정물(1)이 자신의 설치부에 설치되어 있는지를 검출하여, 검출 결과를 이송 수단(8)에 통지하는 포토 센서(도시 생략)를 구비한다.
이하에, 도 7 및 도 8을 참조하여 본 실시예의 세정 장치가 구비하는 세정조의 구성에 대해서 상세히 기술한다. 도 7은, 본 실시예의 세정 장치가 구비하는 세정조를 위에서 봤을 때의 구성의 상세예를 도시하는 도면이다. 또한, 도 8은 본 실시예의 세정 장치가 구비하는 세정조를 측면에서 봤을 때의 구성의 상세예를 도시하는 도면이다. 세정조(2)는, 예컨대 직방체이고, 도 7에 도시하는 바와 같이, 상면이 피세정물(1)의 출납을 위해 개방되어 있다. 세정 유체의 공급구(300)와 배출구(301)가 바닥면에 설치되어 있다. 또한, 초음파 발생 수단(21)은, 조 내의 바닥면에 설치된다. 도 8에 도시하는 바와 같이, 초음파 발생 수단(21)의 상부에는, 복수의 높이 조정 부재(23)를 통해, 유체 분출 수단(22)이 설치되어 있고, 초음파 발생 수단(21)과 유체 분출 수단(22) 사이의 공간은, 밀폐된 중공(中空) 구조로 되어 있다. 초음파 발생 수단(21)과 유체 분출 수단(22) 사이의 거리는, 초음파 발생 수단(21)의 사용 주파수[초음파의 인가를 위해 이용하는 주파수]에 따라서 결정되는 적절한 거리(세정 효율이 좋은 거리)가 되도록, 높이 조정 부재(23)의 삽입수(數)로 조정된다. 높이 조정 부재(23)의 베이스부(24)의 조인트(25)와 세정조(2)의 바닥면의 공급구(300)가 튜브로 이어져 있다. 공급구(300) 및 배출구(301)와 접속되어 있는 순환 수단(4)은, 세정 유체를 공급구(300)로부터 조인트(25)를 통해 상기 중공 구조 안으로 보낸다. 상기 중공 구조 내에 세정 유체가 채워진 후, 세정 유체는 개구부(220)로부터 설치부(52)의 방향으로 분출된다.
유체 분출 수단(22)이 갖는 복수의 개구부(220)는, 노즐형을 나타내고 있다. 본 실시예에서, 세정 영역은 예컨대 직사각형이고, 개구부(220)의 상면은 동일 형상을 갖고 있다. 또한, 개구부(220)는, 유체 분출 수단(22)으로부터 탈착 가능하도록 구성하여도 좋다. 세정 영역의 형상이나 배치에 따라서, 개구부(220)의 대향면의 형상이나 배치를 변경하여도 좋다. 예컨대, 높이가 다른 세정 영역을 갖는 피세정물을 세정하는 경우는, 개구부(220)와 세정 영역 사이의 거리가 일정하게 되도록, 개구부(220)의 높이를 조정할 수 있다. 또한, 조인트(25)로부터의 세정 유체가, 초음파 발생 수단(21)의 상면에서 충돌함으로써, 상기 중공 구조 내의 세정 유체의 압력을 균일하게 할 수 있고, 각각의 개구부(220)로부터 일정한 유량으로 세정 유체를 분출하는 것이 가능해진다. 즉, 도 8에 도시하는 세정 장치는, 세정 유체를 유체 분출 수단(22)의 바닥면 이외의 면[예컨대, 초음파 발생 수단(21)의 상면]에 충돌시키면서 초음파 발생 수단(21)과 유체 분출 수단(22) 사이의 공간에 공급하는 구조를 갖는다.
유체 분출 수단(22)의 상면에는, 피세정물(1)을 설치하는 설치부(52)가 마련되어 있다. 유체 분출 수단(22)의 상면에 마련된 높이 조정 부재(26)는, 예컨대 세정 유체의 표면 장력, 피세정물의 재료, 제거하는 이물질의 크기 등에 따라서, 유체 분출 수단(22)의 개구부(220)와, 설치부(52)에 설치된 피세정물(1)의 세정 영역 사이의 거리를 조정할 수 있다. 높이 조정 부재(26)는, 예컨대 나사와 너트를 이용하여 조정된다.
또한, 예컨대 이송 수단(8)(도 6을 참조)을 이용하여, 세정 영역과 초음파 발생 수단(21) 사이의 거리를, 세정 및 건조시에 가변으로 할 수 있는 구조로 하여도 좋다. 또한, 세정 영역과 초음파 발생 수단(21) 사이의 거리를, 세정시와 건조시에 서로 다른 거리로 설정할 수 있는 구조로 하여도 좋다.
개구부(220)로부터 분출된 세정 유체가 유체 분출 수단(22)의 상면을 따라서 세정조(2)의 바닥면으로 흘러내리면, 이 세정 유체는, 세정조(2)의 바닥면의 배출 구(301)를 통해 세정조 밖으로 배출된다.
세정 영역과 개구부(220) 사이의 세정 유체를 효율적으로 회수하기 위해, 개구부(220)의 외주에 흡인구를 마련하여도 좋다. 또한, 개구부(220)와 세정 유체의 접촉면에 친수성의 표면 처리를 실시하여도 좋다. 또한, 개구부(220)의 재료로서, 세라믹 등의 다공질체를 이용하여도 좋다.
도 9 내지 도 11은, 본 실시형태의 세정 처리예를 설명하는 도면이다. 도 9 내지 도 11에서는, 전술한 도 6 내지 도 8에 도시하는 구성을 갖는 세정 장치에 의한 세정 처리를 예로 들어 설명한다. 1개의 피세정물(1)에 대한 일련의 세정 동작은, 공급 단계(도 9의 단계 S1 내지 S6'), 초음파 세정 단계(도 9의 단계 S12 내지 S14), 헹굼 세정 단계(도 10의 단계 S15 내지 S 19'), 건조 단계(도 10의 단계 S25 및 도 11의 단계 S26 내지 S 29')의 순으로 행해진다.
공급 단계로서, 우선 도 6에 도시하는 이송 수단(8)이, 수용부 A를 공급 위치로 이동시킨다(도 9의 단계 S1). 수용부 A가 공급 위치의 아래쪽에 있는 상태에서, 케이스의 도어를 개방하고, 피세정물(1)을 공급대(6)에 설치한다. 도어를 폐쇄하고, 스타트 버튼을 누르면, 이송 수단(8)은, 공급대(6)의 설치부(51)에 부착되어 있는 포토 센서에 의한 피세정물(1)의 검출 결과에 기초하여, 피세정물(1)이 설치부(51)에 정확하게 설치되어 있는지를 판단한다(단계 S2). 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(51)에 정확하게 설치되어 있지 않다고 판단한 경우는, 알람 처리가 된다(단계 S2'). 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(51)에 정확하게 설치되어 있다고 판단한 경우는, 이송 수단(8)이 수용부 A를 상승시킨다(단계 S3). 수용부 A의 상승 도중에서, 수용부 A의 상면이 피세정물(1)의 하면과 접촉하고, 피세정물(1)이 들어 올려진다. 이송 수단(8)은, 후술하는 유량 검출 수단으로부터 세정 유체의 유량이 소정의 유량에 도달한 것이 통지되면, 수용부 A가 피세정물(1)을 들어 올린 상태에서, 수용부 A를 세정조(2)의 설치부(52) 위까지 이동시킨다(단계 S4). 수용부 A가 세정조(2)의 설치부(52) 위로 이동하면, 이송 수단(8)이 수용부 A를 하강시킨다(단계 S5). 그 결과, 피세정물(1)이 설치부(52)에 설치된다.
다음에, 이송 수단(8)은, 설치부(52)에 구비된 포토 센서에 의한 피세정물(1)의 검출 결과에 기초하여, 피세정물(1)이 설치부(52)에 정확하게 설치되어 있는지를 판단한다(단계 S6). 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(52)에 정확하게 설치되어 있지 않다고 판단한 경우는, 수용부 A를 상승시킨 후(단계 S6'), 단계 S5로 되돌아간다. 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(52)에 정확하게 설치되어 있다고 판단한 경우, 이송 수단(8)은 수용부 A를 공급 위치까지 이동시킨다(단계 S7).
한편, 상기 공급 단계와는 별개로, 예컨대 순환 수단(4), 또는 배출구(301)(도 8을 참조) 근방에 마련된 유량 검출 수단(도시 생략)은, 세정조(2)에 대한 세정 유체의 유량이 소정의 양에 도달하였는지를 검출하고, 검출 결과를 이송 수단(8)에 통지하는 처리를 행한다. 즉, 도 9중의 단계 S8에서, 순환 수단(4)이 공급구(300)로부터 세정 유체를 공급하고(단계 S8), 배출구(301)로부터 배출되는 세정 유체를 검출한다(단계 S9). 유량 검출 수단은, 세정 유체의 유량이 소정의 유량인지를 판단한다(단계 S10). 유량 검출 수단이, 세정 유체의 유량이 소정의 유량이 아니라고 판단한 경우는, 단계 S10으로 되돌아간다. 유량 검출 수단이, 세정 유체의 유량이 소정의 유량이라고 판단한 경우는, 유량 검출 수단은, 세정 유체의 유량이 소정의 유량에 도달한 것을 이송 수단(8)에 통지하고(단계 S11), 상기 단계 S4로 진행한다. 이 세정 유체의 유량이 소정의 유량에 도달한 것은, 이 소정의 유량이 유체 분출 수단(22)의 개구부(220)로부터 세정 영역으로 분출되고 있는 것을 의미한다.
다음에, 초음파 세정 단계에 대해서 설명한다. 초음파 발생 수단(21)은, 피세정물(1)이 설치부(52)에 정확하게 설치되면, 세정 유체에 초음파를 인가한다(단계 S12). 이때, 초음파를 인가한 세정 유체가 피세정물(1) 위의 세정 영역(11)에 대하여 아래쪽부터 닿고, 세정 영역(11)만이 세정된다. 초음파 발생 수단(21)은, 소정의 초음파 인가 시간이 경과되었는지를 판단한다(단계 S13). 초음파 발생 수단(21)이, 소정의 초음파 인가 시간이 경과되어 있지 않다고 판단한 경우는, 단계 S13으로 되돌아간다. 초음파 발생 수단(21)이, 소정의 초음파 인가 시간이 경과되었다고 판단한 경우, 초음파 발생 수단(21)은, 초음파의 인가 처리를 정지하고(단계 S14), 도 10의 단계 S15로 진행한다.
다음에, 헹굼 세정 단계에 대해서 설명한다. 이송 수단(8)은, 소정의 유량이 유체 분출 수단(22)의 개구부(220)로부터 세정 영역(11)으로 분출되고 있는 상태에서, 소정 시간의 경과를 대기한다(도 10의 단계 S15). 이송 수단(8)이 소정 시간의 경과를 대기하는 동안, 초음파 세정에 의해 세정 유체중에 부유된 이물질이 세정 영역(11) 근방으로부터 제거된다. 소정 시간이 경과된 후, 이송 수단(8)이 수용부 B를 상승시킨다(단계 S16). 그 결과, 수용부 B의 상면과 피세정물(1)의 하면이 접촉하고, 피세정물(1)이 들어 올려진다. 이송 수단(8)은, 후술하는 온도 검출 수단으로부터 건조 유체의 온도가 소정의 온도에 도달한 것이 통지되면, 피세정물(1)을 들어 올린 상태에서, 수용부 B를 건조 수단(5)의 설치부(54) 위까지 이동시킨다(단계 S17). 그리고, 이송 수단(8)은, 수용부 B를 하강시킨다(단계 S18). 그 결과, 피세정물(1)이 설치부(54)에 설치된다. 이송 수단(8)이, 설치부(54)에 부착되어 있는 포토 센서에 의한 피세정물(1)의 검출 결과에 기초하여, 피세정물(1)이 설치부(54)에 정확하게 설치되어 있는지를 판단한다(단계 S19). 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(54)에 정확하게 설치되어 있지 않다고 판단한 경우는, 수용부 B를 상승시킨 후(단계 S19'), 단계 S18로 되돌아간다. 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(54)에 정확하게 설치되어 있다고 판단한 경우, 이송 수단(8)은, 수용부 B를 세정조(2)로 이동시킨다(단계 S20). 한편, 수용부 A는, 수용부 B와 연동하여, 피세정물(1)의 공급시와 마찬가지로 동작한다. 공급대(6)에 피세정물(1)이 설치되어 있는 경우는, 수용부 A가, 피세정물(1)을 세정조(2)의 설치부(52)에 설치하고, 이 피세정물(1)이 초음파 세정된다.
상기 헹굼 세정 단계와는 별개로, 예컨대 건조 수단(5)에 구비된 온도 검출 수단(도시 생략)이, 건조 수단(5)으로부터 피세정물(1)이 설치되어 있는 설치부(54) 부근에 대하여 공급되는 건조 유체의 온도가 소정의 온도에 도달하였는지를 판단하고, 판단 결과를 이송 수단(8)에 통지하는 처리를 행한다. 즉, 도 10 중 단계 S21에서, 건조 수단(5)이 건조 유체를 설치부(54) 부근에 대하여 공급하고(단계 S21), 건조 유체를 가열한다(단계 S22). 건조 수단(5)에 구비된 온도 검출 수단은, 건조 유체의 온도가 소정의 온도인지를 판단한다(단계 S23). 온도 검출 수단이, 건조 유체의 온도가 소정의 온도가 아니라고 판단한 경우는 단계 S22로 되돌아간다. 온도 검출 수단이, 건조 유체의 온도가 소정의 온도라고 판단한 경우는, 온도 검출 수단은 건조 유체의 온도가 소정의 온도에 도달한 것을 이송 수단(8)에 통지하고(단계 S24), 상기 단계 S17로 진행한다.
다음에, 건조 단계에 대해서 설명한다. 피세정물(1)이 설치부(54)에 정확하게 설치되면, 이송 수단(8)은, 소정 시간의 경과를 대기한다(단계 S25). 이 소정 시간의 경과를 대기하는 동안, 헹굼 세정에 의해 세정 영역(11)에 부착된 세정 유체가 증발되고 제거된다. 소정 시간이 경과된 후, 도 11의 단계 S26에서, 이송 수단(8)이, 수용부 C를 상승시킨다(단계 S26). 수용부 C의 상면과 피세정물(1)의 하면이 접촉하고, 피세정물(1)이 들어 올려진다. 이송 수단(8)은, 피세정물(1)을 들어 올린 상태의 수용부 C를 회수대(7) 위까지 이동시킨다(단계 S27). 이송 수단(8)이 수용부 C를 하강시키고(단계 S28), 피세정물(1)이 회수대(7)의 설치부(53)에 설치된다. 이송 수단(8)은, 설치부(53)에 부착되어 있는 포토 센서에 의한 피세정물(1)의 검출 결과에 기초하여, 피세정물(1)이 설치부(53)에 정확하게 설치되어 있는지를 판단한다(단계 S29). 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(53)에 정확하게 설치되어 있지 않다고 판단한 경우는, 수용부 C를 상승시킨 후(단계 S29'), 단계 S28로 되돌아간다. 이송 수단(8)이, 피세정물(1)이 설치부(53)에 정확하게 설치되어 있다고 판단한 경우, 이송 수단(8)은, 수용부 C를 건조 수단(5)으 로 이동시킨다(단계 S30). 한편, 수용부 A, 수용부 B는 수용부 C의 동작과 연동하여, 피세정물(1)의 공급시에, 초음파 세정 및 헹굼 세정 처리시와 마찬가지로 동작한다. 예컨대, 공급대(6)에 설치되어 있는 피세정물(1)은, 수용부 A에 의해 세정조(2)의 설치부(52)까지 이동하여 초음파 세정 및 헹굼 세정되고, 이 설치부(52)에 설치되어 초음파 세정 및 헹굼 세정되어 있던 피세정물(1)은 수용부 B에 의해 건조 수단(5)의 설치부(54)까지 이동하여 건조된다.
도 4에 도시하는 플레이트(60)를 종래의 세정 방법을 이용하여 세정하였을 때의 외관 불량률은 10%∼20%이었다. 한편, 도 6 내지 도 8에 도시하는 본 발명의 실시예의 세정 장치를 이용하여 플레이트(60)를 세정한 경우, 외관 불량률은 0.2%가 되고, 세정 품질이 크게 개선된다. 또한, 본 발명의 실시예의 세정 장치는, 세정 영역만을 세정하기 때문에, 세정부터 건조까지 걸리는 시간을 종래 기술에 비해 1/10로 단축할 수 있다.
본 실시형태의 세정 장치는, 예컨대 HDD의 자기헤드, MEMS 및 광학부품 등의 물품의 제조 공정에 있어서, 피세정물(예컨대 물품 또는 이 물품을 구성하는 부재)의 세정에 적용될 수 있다. 즉, 본 실시형태의 물품의 제조 방법은, 물품을 제조하는 제조 방법으로서, 예컨대 도 1에 도시하는 세정조(2) 내에 상기 물품을 설치하고, 순환 수단(4)에 의해 세정조(2) 내에 공급된 세정 유체를 이용하여 피세정물(예컨대, 상기 물품 또는 이 물품을 구성하는 부재) 표면의 이물질을 제거하는 세정 공정을 갖는다. 상기 세정 공정에서는, 예컨대 세정조(2)에 구비된 초음파 발생 수단(21)이, 세정조(2) 내에 공급된 세정 유체에 초음파를 인가하고, 세정 조(2)에 구비된 유체 분출 수단(22)이, 상기 초음파가 인가된 세정 유체를 상기 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역(11)과 대응하는 위치에 마련된 개구부(220)로부터 세정 영역(11)으로 분출한다.
이상, 설명한 바와 같이, 본 세정 장치, 세정조, 세정 방법, 물품의 제조 방법에 의하면, 피세정물의 세정시에, 피세정물의 세정 영역 이외의 영역으로부터 이물질이 발생되는 것을 억제할 수 있어, 높은 세정 품질을 실현할 수 있다. 또한, 세정 영역 이외의 영역에 세정 유체가 부착되는 일이 줄어들기 때문에, 세정 후 피세정물을 건조할 때 이물질이 부착되는 것을 억제할 수 있어, 건조 시간을 짧게 할 수 있다.
또한, 본 세정 장치 및 본 세정조에 의하면, 유체 분출 수단이 갖는 각각의 개구부로부터 일정한 유량으로 세정 유체를 분출하는 것이 가능해진다. 또한, 본 세정 장치 및 본 세정조에 의하면, 초음파 발생 수단과 유체 분출 수단 사이의 거리를, 피세정물에 초음파를 인가할 때 초음파 발생 수단이 사용하는 주파수에 따라서 결정되는 적절한 거리(세정 효율이 좋은 거리)로 조정하는 것이 가능해진다.
또한, 본 세정 장치 및 본 세정조에 의하면, 유체 분출 수단(의 개구부)과 세정 영역의 거리를, 세정 유체의 표면 장력, 피세정물의 재료, 제거하는 이물질의 크기 등에 따라서 결정되는 적절한 거리로 조정하는 것이 가능해진다. 또한, 본 세정 장치, 본 세정조 및 본 세정 방법에 의하면, 개구부에 대응하는 세정 영역을 중점적으로 건조할 수 있다. 그 결과, 피세정물을 단시간에 건조할 수 있게 된다.
도 1은 본 실시형태의 세정 장치의 기본적 구성의 예를 도시하는 도면.
도 2는 세정 장치를 이용한 세정 처리를 설명하는 도면.
도 3은 세정 장치를 이용한 건조 처리를 설명하는 도면.
도 4는 피세정물의 일례를 도시하는 도면.
도 5는 본 발명의 실시예의 세정 장치의 내부 구성예를 도시하는 도면.
도 6은 본 발명의 실시예의 세정 장치의 다른 내부 구성예를 도시하는 도면.
도 7은 본 실시예의 세정 장치가 구비하는 세정조를 위에서 봤을 때의 구성의 상세예를 도시하는 도면.
도 8은 본 실시예의 세정 장치가 구비하는 세정조를 측면에서 봤을 때의 구성의 상세예를 도시하는 도면.
도 9는 본 실시형태의 세정 처리예를 설명하는 도면.
도 10은 본 실시형태의 세정 처리예를 설명하는 도면.
도 11은 본 실시형태의 세정 처리예를 설명하는 도면.
도 12는 종래의 세정 기술의 개요를 설명하는 도면.
도 13은 세정 후에 이물질이 피세정물에 부착되는 것을 설명하는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1: 피세정물
2: 세정조
3: 유체 회수 수단
4: 순환 수단
5: 건조 수단
11: 세정 영역
21: 초음파 발생 수단
22: 유체 분출 수단
200, 203; 공급구
201, 202, 204: 배출구
220: 개구부
Claims (10)
- 세정조 내에 피세정물을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 장치로서, 상기 세정조 내에,세정 유체에 초음파를 인가하는 초음파 발생 수단과,피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 개구부를 갖는 유체 분출 수단을 포함하고,상기 초음파 발생 수단에 의해 초음파가 인가된 상기 세정 유체는, 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 경유하여, 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출되는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 세정 유체를 상기 유체 분출 수단의 바닥면 이외의 면에 충돌시키면서 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 공간에 공급하는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항 또는 제2에 있어서, 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 거리를 조정하는 수단과,상기 유체 분출 수단과 상기 세정 영역 사이의 거리를 조정하는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 건조 유체를 상기 세정조 내에 순환시키고, 상기 건조 유체를 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 통해 분사 또는 흡인하여, 상기 피세정물의 세정 영역에 부착되어 있는 세정 유체를 건조시키는 건조 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정 장치.
- 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 장치에 마련되는 세정조로서,피세정물을 설치하는 설치 수단과,세정 유체에 초음파를 인가하는 초음파 발생 수단과,상기 설치된 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 개구부를 갖는 유체 분출 수단을 포함하고, 상기 초음파 발생 수단에 의해 초음파가 인가된 상기 세정 유체는, 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 경유하여, 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출되는 것을 특징으로 하는 세정조.
- 제5항에 있어서, 상기 세정 유체를 상기 유체 분출 수단의 바닥면 이외의 면에 충돌시키면서 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 공간에 공급하는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 세정조.
- 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 초음파 발생 수단과 상기 유체 분출 수단 사이의 거리를 조정하는 수단과,상기 유체 분출 수단과 상기 세정 영역 사이의 거리를 조정하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정조.
- 제5항 또는 제6항에 있어서, 건조 유체를 상기 세정조 내에 순환시키는 건조 수단으로부터 공급된 건조 유체를 상기 유체 분출 수단이 갖는 개구부를 통해 분사 또는 흡인하여, 상기 피세정물의 세정 영역에 부착되어 있는 세정 유체를 건조시키는 것을 특징으로 하는 세정조.
- 세정조 내에 피세정물을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 장치에서의 세정 방법으로서,상기 세정조에 구비된 초음파 발생 수단이, 상기 세정 유체에 초음파를 인가하며,상기 세정조에 구비된 유체 분출 수단이, 상기 초음파가 인가된 세정 유체를 상기 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 마련된 개구부로부터 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출하는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
- 물품을 제조하는 제조 방법으로서,세정조 내에 상기 물품을 설치하고, 세정 유체를 이용하여 피세정물 표면의 이물질을 제거하는 세정 공정을 포함하며, 이 세정 공정은,상기 세정조에 구비된 초음파 발생 수단이, 상기 세정 유체에 초음파를 인가하는 공정과,상기 세정조에 구비된 유체 분출 수단이, 상기 초음파가 인가된 세정 유체를 상기 피세정물의 세정해야 하는 부위인 세정 영역과 대응하는 위치에 마련된 개구부로부터 상기 피세정물의 세정 영역으로 분출하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 물품의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008059071A JP5038196B2 (ja) | 2008-03-10 | 2008-03-10 | 洗浄装置、洗浄槽、洗浄方法、及び物品の製造方法 |
JPJP-P-2008-059071 | 2008-03-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090097086A true KR20090097086A (ko) | 2009-09-15 |
Family
ID=41052343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080107753A KR20090097086A (ko) | 2008-03-10 | 2008-10-31 | 세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090223536A1 (ko) |
JP (1) | JP5038196B2 (ko) |
KR (1) | KR20090097086A (ko) |
CN (1) | CN101530852A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101110020B1 (ko) * | 2009-10-20 | 2012-02-29 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 노즐세정장치 및 노즐세정장치가 구비되는 페이스트 디스펜서 |
WO2021006399A1 (ko) * | 2019-07-11 | 2021-01-14 | 엘지전자 주식회사 | 세정기 및 그를 갖는 세정 시스템 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9073098B2 (en) | 2012-05-16 | 2015-07-07 | Asml Netherlands B.V. | Light collector mirror cleaning |
CN103447255B (zh) * | 2012-05-30 | 2017-09-01 | 上海晨兴希姆通电子科技有限公司 | 摄像头连接器清洗方法及其支撑冶具 |
DE102012224196A1 (de) * | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Ultraschallvorrichtung und Haltegerät zum Reinigen von Bauteiloberflächen |
GB201316716D0 (en) * | 2013-09-20 | 2013-11-06 | Alphasonics Ultrasonic Cleaning Systems Ltd | Ultrasonic cleaning apparatus and method |
KR101611333B1 (ko) | 2014-04-24 | 2016-04-12 | 주식회사 후지이엔지 | 분수식 초음파 세정 장치 |
KR101562206B1 (ko) * | 2014-10-20 | 2015-10-22 | 김현태 | 스팟 크리닝 시스템 |
CN105032835B (zh) * | 2015-08-19 | 2017-12-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 超声波清洗装置 |
CN105113997A (zh) * | 2015-09-21 | 2015-12-02 | 武汉大学深圳研究院 | 一种海洋油气平台钻头维护方法及装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4711772U (ko) * | 1971-03-04 | 1972-10-12 | ||
JPH0420546Y2 (ko) * | 1986-09-02 | 1992-05-11 | ||
JPH09253019A (ja) * | 1996-03-21 | 1997-09-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 洗浄機 |
DE19626428A1 (de) * | 1996-07-01 | 1998-01-15 | Heinzl Joachim | Tröpfchenwolkenerzeuger |
JPH11260778A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-09-24 | Sony Corp | 枚葉式表面洗浄方法及び装置 |
JP2001319908A (ja) * | 2000-05-01 | 2001-11-16 | Sony Corp | 被処理物のウエット処理方法及びその装置 |
JP2004016919A (ja) * | 2002-06-17 | 2004-01-22 | Star Cluster:Kk | 微細孔を有するワークの洗浄装置及び洗浄方法 |
CN2889529Y (zh) * | 2005-12-31 | 2007-04-18 | 吴永清 | 半导体元件清洗机 |
-
2008
- 2008-03-10 JP JP2008059071A patent/JP5038196B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-31 KR KR1020080107753A patent/KR20090097086A/ko active Search and Examination
- 2008-11-21 US US12/275,803 patent/US20090223536A1/en not_active Abandoned
- 2008-12-31 CN CN200810190355A patent/CN101530852A/zh active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101110020B1 (ko) * | 2009-10-20 | 2012-02-29 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 노즐세정장치 및 노즐세정장치가 구비되는 페이스트 디스펜서 |
WO2021006399A1 (ko) * | 2019-07-11 | 2021-01-14 | 엘지전자 주식회사 | 세정기 및 그를 갖는 세정 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101530852A (zh) | 2009-09-16 |
JP5038196B2 (ja) | 2012-10-03 |
JP2009213996A (ja) | 2009-09-24 |
US20090223536A1 (en) | 2009-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20090097086A (ko) | 세정 장치, 세정조, 세정 방법 및 물품의 제조 방법 | |
KR101716509B1 (ko) | 슬릿 노즐 청소 장치 및 도포 장치 | |
KR101636426B1 (ko) | 카메라 vcm 세척장치 | |
JP5089628B2 (ja) | 洗浄装置、洗浄方法および被洗浄体 | |
JP4334758B2 (ja) | 膜形成装置 | |
TWI565526B (zh) | Nozzle cleaning method and coating device | |
JP2018118230A (ja) | 洗浄装置、洗浄方法 | |
US6497240B1 (en) | Ultrasound cleaning device and resist-stripping device | |
JP2014179494A (ja) | 基板処理装置および吐出ヘッド待機方法 | |
JP2001121096A (ja) | ロールブラシ洗浄装置 | |
JP4043039B2 (ja) | 現像方法及び現像装置 | |
JP2010201742A (ja) | 予備吐出部およびインクジェット装置 | |
JP4752748B2 (ja) | 吸引装置、およびそれを備えた液滴吐出装置 | |
WO2020045171A1 (ja) | インクジェット記録装置 | |
JP2008080291A (ja) | 基板洗浄方法及び装置 | |
JP2008080293A (ja) | 洗浄装置 | |
CN211957602U (zh) | 液处理装置 | |
JP6709010B2 (ja) | 被洗浄体の異物除去装置およびその異物除去方法 | |
JP3823074B2 (ja) | 現像装置 | |
KR101431068B1 (ko) | 복합세정장치 | |
JP2000035681A (ja) | 現像装置及び現像方法 | |
US20240001401A1 (en) | Apparatus for preventing blockage of floating stage, substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP7242228B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JPH0679245A (ja) | 超音波洗浄装置及びその洗浄方法 | |
JP2006043502A (ja) | 炭酸ガススノーを用いた洗浄装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
AMND | Amendment | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20120417 Effective date: 20121114 |