KR20090056880A - 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법 및지진 피해 확산 저감 시스템 - Google Patents
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Abstract
지진의 발생을 예지하여 개방 중인 수납 용기로부터의 피처리체의 튀어나오는 것을 방지하여 피해를 최소한으로 억제한다.
반도체 제조 장치(1)는 수납 용기(3)의 반송 기구(13)를 갖는 반송 영역(Sa)과, 반입·반출부(7)에서 수납 용기(3)로부터 덮개(3a)를 제거하여 피처리체(w)의 위치를 검출하는 검출 기구(32)와, 반송 기구(13)로부터 이동 탑재부(12)로 수납 용기(3)를 전달하는 전달 기구(33)와, 열처리로(5)보다도 하방의 작업 영역(Sb)에 설치되고 덮개(17) 상에 복수매의 피처리체를 탑재한 유지구(4)를 지지하여 열처리로(5)로 반입·반출하는 승강 기구(18)와, 반송 영역(Sa)과 작업 영역(Sb)을 구획하는 격벽(6)의 개구부(34)를 이동 탑재부(12)의 수납 용기(3)의 덮개(3a)와 함께 개폐하는 도어 기구(15)와, 피처리체의 정렬 기구(16)를 구비하고 있다. 통신 회선(26)를 통하여 배신되는 초기 미동에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신부(28)에서 수신하거나, 또는 초기 미동을 초기 미동 검출부(60)에서 직접 검지한다. 제어부(29)는 수신부(28)에서 수신한 긴급 지진 정보, 또는 초기 미동 검출부(60)에서 검지한 초기 미동에 기초하여 반도체 제조 장치(1)의 운전을 정지하는 제1 공정 및, 상기 도어 기구(15)가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구(15)를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 실행한다.
승강 기구, 도어 기구, 덮개, 반송 영역, 작업 영역
Description
본 특허 출원은 2007년 11월 30일에 제출된 일본 출원인 일본 특허 출원2007-309720 및 2008년 10월 21일에 제출된 일본 출원인 일본 특허 출원 2008-270753의 이익을 향수한다. 이들 선출원에 있어서의 전체 개시 내용은 인용함으로써 본 명세서의 일부로 된다.
본 발명은 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법 및 지진 피해 확산 저감 시스템에 관한 것이다.
반도체 장치의 제조에 있어서는, 피처리체인 반도체 웨이퍼에, 예를 들어 산화 처리, 성막 처리 등의 각종 처리를 실시하는 공정이 있으며, 이러한 처리를 행하는 장치로서 예를 들어 다수매의 웨이퍼를 배치식으로 처리 가능한 반도체 제조 장치(종형 열처리 장치라고도 한다)가 사용되고 있다(예를 들어, 특허 문헌1 참조).
이 반도체 제조 장치는 복수매의 웨이퍼를 수납한 수납 용기인 후프(FOUP : Front 0pening Unify Pod, 캐리어라고도 한다)를 반입·반출하는 로드 포트(반입·반출부)로부터 보관 선반부나 이동 탑재부에 또는 그 반대로 반송하는 반송 기구를 갖는 반송 영역과, 상기 로드 포트로 반입된 후프의 전방부로부터 착탈 가능한 덮개를 제거하여 후프 내의 웨이퍼의 위치를 검출하는 웨이퍼 카운터(검출 기구)와, 상기 반송 기구로부터 이동 탑재부로 후프를 전달하는 후프 캐처(전달 기구)와, 열처리로의 로구보다도 하방에 형성된 로딩 에어리어(작업 영역)에 설치되고 상기 로구를 개폐하는 덮개 상에 상하 방향으로 복수매의 웨이퍼를 소정 간격으로 탑재한 보트(유지구)를 지지하여 열처리로로 반입·반출하는 승강 기구와, 상기 반송 영역과 로딩 에어리어를 구획하는 격벽에 형성된 개구부를 상기 이동 탑재부 상의 후프의 덮개와 함께 개폐하는 도어 기구와, 상기 로딩 에어리어측으로부터 웨이퍼를 수용하여 그 원주 상의 표식, 예를 들어 노치(절결부)의 위치를 일치시키는 노치 얼라이너(정렬 기구)를 구비하여 구성되어 있다.
그런데, 상기 웨이퍼는 고가의 것이므로, 처리 공정이 진행됨에 따라 제조 비용이 증대한다. 따라서, 그 취급은 신중해야 한다.
<특허 문헌1> 일본 특허 출원 공개2000-150400호 공보
그런데, 전술한 배치식의 반도체 제조 장치에 있어서는, 장치의 구성 상, 하드 및 소프트면에서 다양한 제약이 있어, 내진 구조 또는 내진 기능을 갖게 하는 것이 어려워, 충분한 내진 대책이 이루어지고 있지 않는 것이 현 상황이다. 이 때문에, 지진이 발생하여 장치가 큰 진동을 받으면 보트의 도괴, 보트로부터의 웨이퍼의 탈락 파손, 가스의 누설 등등의 피해가 발생할 우려가 있다. 이와 같은 피해 가 발생하면 조업 재개까지의 장치 복구에도 장시간을 필요로 하게 되어 피해가 심각해진다. 따라서, 이러한 문제를 해소하기 위해 본 출원인은 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법 및 지진 피해 확산 저감 시스템을 선출원하였다(일본 특허 출원2007-208863, 미공개).
그러나, 상기 출원에 관한 발명만으로는 반도체 제조 장치 전체를 커버하기에는 불충분하다. 예를 들어, 로드 포트나 이동 탑재부에 있어서는 후프의 덮개가 제거되어 개방된 상태로 되는 경우가 있으며, 이 경우에 지진에 의한 큰 진동을 받으면 후프 내로부터 웨이퍼가 튀어 나오거나, 튀어나온 웨이퍼가 낙하하여 파손되거나 하는 경우가 있다.
또한, 반송 기구에 의해 후프를 한창 반송하고 있는 중에 지진에 의한 큰 진동을 받으면 후프가 낙하하여, 후프 내의 웨이퍼가 파손될 우려가 있다. 또한, 후프 캐처에 의해 후프를 이동 탑재부에 재치했을 때에 지진이 발생하여 재치부로부터 후프가 낙하하여, 후프 내의 웨이퍼가 파손될 우려도 있다.
또한, 열처리 후, 보트를 열처리로로부터 한창 언로드(반출)하고 있는 중에 지진이 발생하면 보트로부터 웨이퍼가 튀어나오거나, 낙하하여 파손될 우려가 있다. 웨이퍼가 파손되어 로딩 에어리어 내로 비산되면 미세한 파편이 각종 구동부에 박힐 우려도 있다.
또한, 반도체 제조 장치에 있어서는 열처리로를 고온으로 가열하는 히터(가 열 장치)와, 열처리로 내를 배기하거나 감압하거나 하기 위한 펌프계와, 열처리로 내로 위험 가스를 포함하는 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 가스계를 구비하고 있기 때문에, 지진에 의한 인적 피해를 포함한 피해의 확산을 저감할 때에는 안전 중시와 조기 복구 중시를 양립시키는 것이 바람직하다.
본 발명은 상기 사정을 고려하여 이루어진 것으로, 지진의 발생을 예지하여 개방 중인 수납 용기로부터의 피처리체의 튀어나옴, 반송 중인 수납 용기의 낙하, 반출 도중의 유지구로부터의 피처리체의 튀어나옴을 방지할 수 있고, 피해를 최소한으로 억제하고 또한 복구 시간을 단축시킬 수 있는 반도체 제조 장치에 있어서의 지전 피해 확산 저감 방법 및 지진 피해 확산 저감 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 피처리체를 수납하는 동시에 덮개를 갖는 수납 용기를 반입·반출하는 반송 영역과, 로구를 갖는 피처리체의 열처리로와, 열처리로의 하방에 배치되어, 반송 영역과 개구부를 갖는 격벽에 의해 구획된 작업 영역을 구비하고, 반송 영역은 수납 용기의 반입·반출부와, 수납 용기용의 보관 선반부와, 개구부 근방에 설치된 수납 용기용의 이동 탑재부와, 수납 용기를 반송하는 반송 기구를 갖고, 작업 영역은 로구를 개폐하는 덮개 상에 피처리체를 탑재한 유지구를 탑재하여 열처리로 내로 반입·반출하는 승강 기구와, 격벽의 개구부를 개폐하는 동시에 이동 탑재부 상의 수납 용기의 덮개를 개폐하는 도어 기구를 갖는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법에 있어서, 통신 회선을 통하여 배신되는 초기 미 동에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하거나 또는 초기 미동을 직접 검지하는 공정과, 수신한 긴급 지진 정보 또는 검지한 초기 미동에 기초하여 열처리로의 운전을 정지하는 제1 공정과, 상기 제1 공정과 병행하여 상기 도어 기구가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 상기 열처리로는 히터와, 감압 펌프와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터 및 상기 감압 펌프를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 / 또는 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터 및 / 또는 감압 펌프를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 상기 열처리로는 히터와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 / 또는 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 반입·반출부 상의 수납 용기로부터 덮개를 제거하여 피처리체의 위치를 검출하는 검출 기구를 더 구비하고, 상기 제2 공 정은 상기 검출 기구가 작동 중일 때에는 상기 검출 기구를 초기 상태로 복귀시켜 덮개를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 작업 영역측으로부터 피처리체를 수용하고 그 원주 상의 표식의 위치를 일치시키는 정렬 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은, 상기 정렬 기구에 설치된 중심 위치 정렬 기구를 작동시켜 피처리체를 구속하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 승강 동작 중일 때에는 상기 반송 기구를 최하강 위치까지 이동시켜 정지시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 반송 장치는 반송 아암을 갖고, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 반송 아암을 신장시켜 수납 용기를 보관 선반부에 재치할 때 또는 보관 선반부로부터 취출할 때에는 반송 아암을 신장시킨 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 반송 기구로부터 이동 탑재부로 수납 용기를 전달하는 전달 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 전달 기구가 수납 용기를 이동 탑재부로 전달했을 때에 전달 기구가 수납 용기를 파지한 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 상기 제2 공정은 상기 승강 기구가 유지구를 열처리로 내로부터 반출 중일 때에는 상기 유지구를 열처리로 내로 다시 반입하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 피처리체의 이동 탑재를 행하기 위해 유지구를 재치하는 유지구 재치대와, 상기 유지구 재치대 상에 재치된 유지구를 로크하는 로크 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 유지구 재치대 상에 유지구가 재치되어 있을 때에는 상기 로크 기구가 상기 유지구를 로크하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 방법이다.
본 발명은 피처리체를 수납하는 동시에 덮개를 갖는 수납 용기를 반입·반출하는 반송 영역과, 로구를 갖는 피처리체의 열처리로와, 열처리로의 하방에 배치되어, 반송 영역과 개구부를 갖는 격벽에 의해 구획된 작업 영역을 구비하고, 반송 영역은 수납 용기의 반입·반출부와, 수납 용기용의 보관 선반부와, 개구부 근방에 설치된 수납 용기용의 이동 탑재부와, 수납 용기를 반송하는 반송 기구를 갖고, 작업 영역은 로구를 개폐하는 덮개 상에 피처리체를 탑재한 유지구를 탑재하여 열처리로 내로 반입·반출하는 승강 기구와, 격벽의 개구부를 개폐하는 동시에 이동 탑재부 상의 수납 용기의 덮개를 개폐하는 도어 기구를 갖는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템에 있어서, 통신 회선을 통하여 배신되는 초기 미동에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하는 수신부 또는 초기 미동을 직접 검지하는 초기 미동 검지부와, 초기 미동 검출에서 수신한 긴급 지진 정보 또는 검지한 초기 미동에 기초하여 열처리로의 운전을 정지하는 제1 공정 및 상기 도어 기구가 개방 상태에 있을 때에는 상기 도어 기구를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 실행하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확 산 저감 시스템이다.
본 발명은, 상기 열처리로는 히터와, 감압 펌프와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터 및 / 또는 상기 감압 펌프를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터 및 / 또는 감압 펌프를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 상기 열처리로는 히터와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 반입·반출부 상의 수납 용기로부터 덮개를 제거하여 수납 용기 내의 피처리체의 위치를 검출하는 검출 기구를 더 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 검출 기구가 작동 중일 때에는 상기 검출 기구를 초기 상태로 복귀하여 덮개를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 작업 영역측으로부터 피처리체를 수용 하고 그 원주 상의 표식의 위치를 일치시키는 정렬 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 정렬 기구에 설치된 중심 위치 정렬 기구를 작동시켜 피처리체를 구속하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 승강 동작 중일 때에는 상기 반송 기구를 최하강 위치까지 이동시켜 정지시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 반송 장치는 반송 아암을 갖고, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 반송 아암을 신장시켜 수납 용기를 보관 선반부에 재치할 때 또는 보관 선반부로부터 취출할 때에는 반송 아암을 신장시킨 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 반송 기구로부터 이동 탑재부로 수납 용기를 전달하는 전달 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 전달 기구가 수납 용기를 이동 탑재부로 전달했을 때에는 전달 기구가 수납 용기를 파지한 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 상기 제2 공정은 상기 승강 기구가 유지구를 열처리로 내로부터 반출 중일 때에는 상기 유지구를 열처리로 내로 다시 반입하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명은, 반도체 제조 장치는 상기 피처리체의 이동 탑재를 행하기 위해 유지구를 재치하는 유지구 재치대와, 상기 유지구 재치대 상에 재치된 유지구를 로 크하는 로크 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 유지구 재치대 상에 유지구가 재치되어 있을 때에는 상기 로크 기구가 상기 유지구를 로크하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템이다.
본 발명에 의하면, 주진동(S파)의 10수초 전에 검지되어 통신 회선을 통하여 배신되는 초기 미동(P파)의 긴급 지진 정보를 이용하거나 또는 초기 미동을 직접 검출하여 반도체 제조 장치의 운전을 정지한다. 이와 병행하여, 상기 도어 기구가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구를 폐쇄 작동시킨다. 이 때문에, 지진에 의한 수납 용기로부터의 피처리체의 튀어나옴 및 튀어나오는 것에 의한 낙하 파손을 방지할 수 있어, 피해를 최소한으로 억제하고 또한 복구 시간을 단축시킬 수 있다.
이하에, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에 대해 첨부 도면에 기초하여 상세히 서술한다. 도1은 본 발명의 실시 형태의 일례인 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템을 개략적으로 도시하는 도면이고, 도2는 도1의 반도체 제조 장치의 횡단면도이며, 도3은 로드 포트부에 있어서의 후프의 덮개의 개폐 동작을 설명하는 설명도이다.
이들 도면에 있어서，참조 부호 1은 클린룸 내에 설치되는 반도체 제조 장치, 예를 들어 종형 열처리 장치로서, 이 열처리 장치(1)는 장치의 외곽을 형성하는 하우징(2)을 구비하고 있다. 이 하우징(2) 내에는 피처리체(반도체 웨이퍼)(W)를 수납하는 동시에 덮개를 갖는 수납 용기인 후프(3)를 반입·반출하는 반송 영 역(Sa)과, 로구(5a)를 갖는 웨이퍼(W)의 열처리로(5)와, 열처리로(5)의 하방에 배치되고, 반송 영역(Sa)과 개구부(34)를 갖는 격벽(6)에 의해 구획된 로딩 에어리어(작업 영역)(Sb)가 형성되어 있다. 반송 영역(Sa)은 반도체 웨이퍼(W)를 복수매 수납한 수납 용기인 후프(3)용의 로드 포트(반입·반출부)(7)와, 보관 선반부(11)와, 이동 탑재 스테이지(이동 탑재부)(12)를 갖고 있다. 로딩 에어리어(Sb)에서는 다수, 예를 들어 100 내지 150매 정도의 웨이퍼(W)를 상하 방향으로 소정 피치로 탑재하는 보트(유지구)(4)와, 상기 이동 탑재 스테이지(12) 상의 후프(3) 사이에서 웨이퍼(W)의 이동 탑재 작업이나, 열처리로(5)로의 보트(4)의 반입·반출이 행해진다.
상기 후프(3)는 소정 구경, 예를 들어 직경 300㎜의 웨이퍼(W)를 수평 상태로 상하 방향으로 소정 간격으로 복수매, 예를 들어 13 내지 25매 정도 수용 가능하고 운반 가능한 플라스틱제의 용기로서, 그 전면부에 개구 형성된 웨이퍼 취출구에 이것을 기밀하게 막기 위한 덮개(3a)를 착탈 가능하게 구비하고 있다. 덮개(3a)의 전면부에는 덮개(3a)에 설치된 잠금 기구의 열쇠 구멍이 형성되어 있다(도시 생략). 또한, 상기 열쇠 구멍에 열쇠 부재를 삽입하여 회전시킴으로써 덮개(3a)를 잠금 해제하여, 그 덮개를 후프에 대하여 착탈하는 장치로서는, 예를 들어 일본 특허 출원 공개2002-353289호 공보 등에 기재된 덮개 착탈 장치가 사용되고, 이 덮개 착탈 장치는 로드 포트(7) 및 도어 기구(15)에 설치되어 있다.
상기 하우징(2)의 전방부에는 오퍼레이터 혹은 반송 로봇에 의해 후프(3)를 반입·반출하기 위한 상기 로드 포트(반입·반출부)(7)가 설치되어 있다. 이 로드 포트(7)는 하우징 내의 전방부에 설치되고 후프(3)를 재치하기 위한 재치대(8)와, 하우징(2)의 전면부에 형성되고 재치대(8)에 대하여 후프(3)을 출납하기 위한 개구부(9)에 의해 구성되어 있다. 이 개구부(9)에는 승강 가능한 도어(10)가 설치되어 있는 것이 바람직하다.
상기 로드 포트(7)의 재치대(8)의 후방부에는 후프(3)의 덮개(3a)를 개방하여 웨이퍼(W)의 위치 및 매수를 검출하는 검출 기구(32)가 설치되어 있다. 이 검출 기구(32)는 전술한 덮개 착탈 장치를 갖고 있다. 또한, 검출 기구(32)는, 도3에 도시한 바와 같이 좌우로 이격되어 대향한 출사광부(32a)와 입사광부(32b) 사이에 뻗은 광선(32c)이 후프(3) 내의 웨이퍼(W)에 의해 차단되는지의 여부에 의해 웨이퍼(W)의 유무를 검출하는 검출 헤드(32x)와, 이 검출 헤드(32x)를 조작봉(32y)을 통하여 상하로 승강 및 전후로 진퇴시키는 도시하지 않은 구동부를 구비하고 있다.
반송 영역(Sa) 내의 상기 격벽(6)측에는 웨이퍼의 이동 탑재를 행하기 위해, 후프(3)를 재치하기 위한 이동 탑재 스테이지(12)가 설치되고, 이 이동 탑재 스테이지(12)의 상방 및 상기 재치대(8)의 상방에는 복수개의 후프(3)를 보관해 두기 위한 보관 선반부(11)가 설치되어 있다.
상기 반송 기구(13)는 반송 영역(Sa)의 일측부에 설치된 승강 기구(13a)에 의해 승강 이동되는 승강 아암(13b)과, 이 승강 아암(13b)에 설치되어, 후프(3)의 저부를 지지하여 수평 방향으로 반송하는 반송 아암(13c)으로 주로 구성되어 있다.
반송 영역(Sa)은 도시하지 않은 공기 청정기(팬 필터 유닛)에 의해 청정화된 대기 분위기로 되어 있다. 로딩 에어리어(Sb)도 그 일측에 설치한 공기 청정기(팬 필터 유닛)(14)에 의해 청정화되어 있으며, 정압의 대기 분위기 또는 불활성 가스(예를 들어 N2 가스) 분위기로 되어 있다. 반송 영역(Sa)에는 상기 반송 기구(13)로부터 이동 탑재 스테이지(12)로 후프(3)를 전달하는 후프 캐처(전달 기구)(33)가 설치되어 있다. 이 후프 캐처(33)는, 도2, 도9에 도시한 바와 같이 반송 영역(Sa)의 일측부에 설치된 승강 기구(33a)에 의해 승강 이동되는 승강 아암(33b)과, 이 승강 아암(33b)에 설치되고 후프(3)의 상부 지지부(3x)를 파지하는 파지 기구(33c)로 주로 구성되어 있다. 후프 캐처(33)는 반송 기구(13)로부터 후프(3)를 수취하여 대기하고 있으며, 이동 탑재 스테이지(12)로부터 반송 기구(13)가 후프(3)를 보관 선반부(11) 또는 로드 포트(7)의 재치대(8)로 반송하고 있는 동안에 다음 후프(3)를 이동 탑재 스테이지(12)에 둠으로써 반송 작업의 효율화를 도모하고 있다.
상기 격벽(6)에는, 도4에도 도시한 바와 같이 이동 탑재 스테이지(12)에 재치된 후프(3)의 전면부를 반송 영역(Sa)측으로부터 접촉시켜 후프(3) 내와 로딩 에어리어(Sb) 내를 연통하기 위한 개구부(34)가 형성되어 있는 동시에, 상기 개구부(34)를 로딩 에어리어(Sb)측으로부터 폐쇄하는 도어(15a)를 갖는 도어 기구(15)가 설치되어 있다. 개구부(34)는 후프(3)의 전방면 개구(웨이퍼 취출구)와 거의 동일 구경으로 형성되어 있고, 개구부(34)로부터 후프(3) 내의 웨이퍼(W)의 출납이 가능하게 되어 있다. 도어 기구(15)는 도어(15a)를 좌우 방향으로 슬라이드시켜 개구부(34)를 개폐하도록 구성되고, 상기 도어(15a)에는 전술한 덮개 착탈 장치가 내장되어 있다. 또한, 상기 이동 탑재 스테이지(12)에는 후프(3)의 전면부를 개구 부(34)의 주연부에 접촉시키도록 압박하기 위한 도시하지 않은 압박 기구가 설치되어 있다.
상기 이동 탑재 스테이지(12)의 하방에는 결정 방향을 일치시키기 위하여 웨이퍼(W)의 주연부에 설치되어 있는 표식인 노치(절결부)를 일방향으로 정렬시키기 위한 노치 얼라이너(정렬 기구)(16)가 설치되어 있다. 이 노치 얼라이너(16)는 로딩 에어리어(Sb)측에 면하여 개방되어 있으며, 후술하는 이동 탑재 기구(24)에 의해 이동 탑재 스테이지(12) 상의 후프(3)로부터 이동 탑재되는 웨이퍼(W)의 노치를 정렬시키도록 구성되어 있다.
노치 얼라이너(16)는 도5 내지 도6에 도시한 바와 같이 복수매, 예를 들어 5매의 웨이퍼를 주연부에서 상하 방향으로 소정의 간격으로 지지하는 평면에서 볼 때에 4개의 블록으로 이루어지는 지지체(35)를 갖는 중심 위치 정렬 기구(36)와, 상기 지지체(35)에 지지된 각 웨이퍼(W)의 하면 중앙부를 들어 올려 각 웨이퍼를 수평하게 회전시키는 회전 기구(37)와, 각 웨이퍼의 노치를 검출하는 센서(38)를 구비하고 있다. 센서(38)가 노치를 검출하면 회전 기구(37)에 의한 웨이퍼의 회전이 정지되어, 노치가 정렬된다. 상기 지지체(35)는 단면이 L자 형상인 지지편(39)을 상하 방향으로 소정 간격으로 복수, 예를 들어 5개 구비하고 있으며, 지지편(39)의 수평면(39a)으로 웨이퍼(W)의 주연부 하면을 받고, 지지편(39)의 수직면(39b)에서 웨이퍼의 주연부의 위치를 규제하게 되어 있다.
중심 위치 정렬 기구(36)는 도6의 (b)에 도시한 바와 같이 지지체(35)를 서로 접근시키는 방향으로 이동 기구에 의해 이동됨으로써 웨이퍼(W)의 중심 위치 결 정이 이루어지게 되어 있다. 또한 이 중심 위치 정렬 기구(36)를 이용하여, 후술하는 바와 같이 지진 발생 시에 웨이퍼를 구속하여 웨이퍼의 튀어나옴을 방지하게 되어 있다. 또한, 도6에 있어서, 도6의 (a)는 웨이퍼를 지지체의 지지편 상에 재치한 상태의 도면이고, 도6의 (b)는 지지체끼리 접근시켜 웨이퍼를 중심 위치 결정한 상태의 도면, 도6의 (c)는 회전 기구를 상승시켜 웨이퍼를 지지한 상태의 도면이며, 도6의 (d)는 지지체끼리 이격시켜 회전 기구에 의해 웨이퍼를 회전하는 상태의 도면이다.
한편, 로딩 에어리어(Sb)의 안측부 상방에는 하부에 로구(5a)를 갖는 종형의 열처리로(5)가 설치되어 있다. 또한 로딩 에어리어(Sb)에는 다수, 예를 들어 100 내지 150매 정도의 웨이퍼(W)를 상하 방향으로 소정 간격으로 탑재한, 예를 들어 석영제의 보트(4)를 덮개(17)의 상부에 재치하여 열처리로(5) 내로의 반입·반출 및 로구(5a)를 개폐하는 덮개(17)의 승강을 행하는 승강 기구(18)가 설치되어 있다. 덮개(17)의 상부에는 그 폐색 시에 로구(5a) 부분으로부터의 방열을 억제하는 보온통(차열체)(19)이 재치되고, 이 보온통(19)의 상부에 보트(4)가 재치되어 있다. 상기 덮개(17)에는 보온통(19)을 통하여 보트(4)를 회전하는 회전 기구(20)가 설치되어 있다. 로구(5a)의 근방에는 덮개(17)가 개방되어 열처리 후의 보트(4)가 반출되었을 때에 로구(5a)를 차폐하기 위한 셔터(21)가 수평 방향으로 개폐 이동 가능(선회 가능)하게 설치되어 있다. 이 셔터(21)는 이것을 수평 방향으로 선회 이동시켜 개폐시키는 도시하지 않은 셔터 구동 기구를 갖고 있다.
로딩 에어리어(Sb)의 일측, 즉 공기 청정기(14)측에는 웨이퍼(W)의 이동 탑 재 등을 위해 보트(4)를 재치해 두기 위한 보트 재치대(유지구 재치대, 보트 스테이지라고도 한다)(22)가 설치되어 있다. 이 보트 재치대(22)는 1개이어도 되나, 도2에 도시한 바와 같이 공기 청정기(14)를 따라 전후로 배치된 제1 재치대(차지 스테이지)(22a)와 제2 재치대(스탠바이 스테이지)(22b)의 2개로 되어 있는 것이 바람직하다.
로딩 에어리어(Sb) 내의 하방이며, 이동 탑재 스테이지(12)와 열처리로(5) 사이에는 보트 재치대(22)와 덮개(17) 사이, 구체적으로는 보트 재치대(22)의 제1 재치대(22a) 혹은 제2 재치대(22b)와 강하된 덮개(17) 사이, 및 제1 재치대(22a)와 제2 재치대(22b) 사이에서 보트(4)의 반송을 행하는 보트 반송 기구(23)가 설치되어 있다. 또한, 이 보트 반송 기구(23)의 상방에는 이동 탑재 스테이지(12) 상의 후프(3)와 보트 재치대(22) 상의 보트(4) 사이, 구체적으로는 이동 탑재 스테이지(12) 상의 후프(3)와 노치 정렬 기구(16) 사이, 노치 정렬 기구(16)와 보트 재치대(22)의 제1 재치대(22a) 상의 보트(4) 사이 및 제1 재치대(22a) 상의 열처리 후의 보트(4)와 이동 탑재 스테이지(12) 상의 빈 후프(3) 사이에서 웨이퍼(W)의 이체를 행하기 위한 이동 탑재 기구(24)가 설치되어 있다.
보트(4)는 도11의 (a)에 도시한 바와 같이 천장판(4a)과 바닥판(4b) 사이에 복수, 예를 들어 4개의 지주(4c)를 개재 설치하여 이루어지고, 바닥판(4b)은 평면 둥근 고리 형상으로 형성되고, 바닥판(4b)의 하부에는 바닥판(4b)보다도 직경이 작은 직경 축소부(4d)가 설치되어 있다. 보트 반송 기구(23)는 보트(4)의 바닥판(4b)의 직경 축소부(4d)를 평면 C자 형상의 유지부(23a)(도2 참조)로 유지하여 보트(4)를 반송하게 되어 있다. 상기 지주(4c)에는 웨이퍼를 상하 방향으로 소정의 간격으로 유지하기 위한 도시하지 않은 홈부가 형성되어 있다. 정면측의 좌우의 지주(4d) 사이는 웨이퍼를 출납하기 위하여 개방 확대되어 있다.
제1 재치대(22a)에는 보트(4)를 제1 재치대(22a) 상에 로크하는 로크 기구(65)가 설치되어 있다. 이 로크 기구(65)는 제1 재치대(22a)의 상부에 돌출되어 배치되고 상기 보트(4)의 바닥판(4b)의 개구부(4e)의 내측에 위치하는 한 쌍의 롤러(45a)와, 이들 롤러(45a)를 서로 이격 또는 접근 이동시킴으로써 상기 바닥판(4b)의 개구부(4e)의 내주로 압박 또는 이반시켜 로크 또는 로크 해제하는 구동부, 예를 들어 에어 실린더(45b)를 구비하고 있다. 이 로크 기구(45)는, 제2 공정에서 상기 제어부(29)에 의해 제어되도록 구성되어 있다.
상기 이동 탑재 기구(24)는 수평 회전 가능한 베이스(24a) 상에 반도체 웨이퍼를 재치하는 복수매, 예를 들어 5매의 박판 형상의 이동 탑재 아암(24b)을 진퇴 가능하게 설치하여 이루어지고, 반송 시의 보트(4)와의 간섭을 피하기 위해 도2에 가상선으로 나타내는 작업 위치(A)로부터 실선으로 나타내는 퇴피 위치(B)로 선회 아암(25)을 통하여 횡방향으로 퇴피 가능하게 구성되어 있다. 상기 이동 탑재 아암(24b)으로서는, 5매 중 중앙의 낱장 이동 탑재용의 1매의 이동 탑재 아암과, 다른 4매의 이동 탑재 아암이 베이스(24a) 상에 독립하여 진퇴 가능하게 설치되어 있는 동시에, 다른 4매의 이동 탑재 아암이 중앙의 이동 탑재 아암을 기준으로 하여 상하 방향으로 피치 변환 가능하게 구성되어 있는 것이 바람직하다. 선회 아암(25)의 기부측은 로딩 에어리어(Sb)의 타측에 설치된 도시하지 않은 승강 기구에 연결되어 있으며, 이에 의해 이동 탑재 기구(24)가 승강 가능하게 되어 있다.
상기 열처리로(5)는 도1에 도시한 바와 같이, 예를 들어 상단부가 폐색되고, 하단부가 개구된 원통 형상의 석영 유리로 만든 처리 용기(반응관)(50)와, 이 처리 용기(50)의 주위를 덮도록 설치된 히터(51)를 구비하고 있다. 처리 용기(50)의 하단부에는 처리 가스나 불활성 가스(예를 들어 N2 가스)를 공급하는 가스 도입관부 및 배기관부를 갖는 원통 형상의 매니폴드(52)가 접속되어 있으며, 가스 도입관부에는 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 가스 공급관(53a, 53b)이 접속되고, 배기관부에는 배기관(54)이 접속되어 있다.
상기 가스 공급관(53a, 53b)에는 개폐용의 밸브(55a, 55b)가 설치되어 있다. 상기 배기관(54)에는 개폐용의 메인 밸브(56), 압력 조절 밸브(57), 배기 트랩(58), 감압 펌프(59) 등이 순서대로 접속되어 있다. 또한, 로딩 에어리어(Sb)가 불활성 가스(예를 들어 N2 가스) 분위기로 되는 타입의 종형 처리 장치에 있어서는 로딩 에어리어(Sb)로 불활성 가스를 공급하는 가스 공급관(61)이 접속되고, 이 가스 공급관(61)에는 밸브(62)가 설치되어 있다.
이와 같이 구성된 종형 열처리 장치(1)를 지진으로부터 지키기 위해, 종형 열처리 장치(1)에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법은 통신 회선(26)을 통하여 배신되는 초기 미동(P파)에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하는 공정과, 상기 긴급 지진 정보에 기초하여 상기 종형 열처리 장치(1)의 운전을 정지하는 제1 공정과, 상기 제1 공정과 병행하여 웨이퍼(W)의 튀어나옴을 방지하기 위해, 상기 도어 기구(15)가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구(15)를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 구비하고 있다. 또한, 이 방법을 실행하는 지진 피해 확산 저감 시스템(27)은 통신 회선(26)을 통하여 배신되는 초기 미동(P파)에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하는 수신부(28)와, 상기 수신부(28)에 의해 얻어진 긴급 지진 정보에 기초하여 종형 열처리 장치(1)의 운전을 정지시키는 제1 공정, 및 웨이퍼(W)의 튀어나옴을 방지하기 위해 상기 도어 기구(15)가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구(15)를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 실행하는 제어부(29)를 구비하고 있다.
상기 긴급 지진 정보로서는, 기상청이 제공하는 긴급 지진 속보나, 제3자 기관이 제공하는 긴급 지진 검지 시스템 등이 이용 가능하다. 지진은 종파이고 속도가 빠른(매초 7k 내지 8㎞) P파(Primary)로 이루어지는 작은 진동의 초기 미동과, 횡파이며 속도가 느린(매초 3k 내지 4㎞) S파(Secondary)로 이루어지는 큰 진동의 주진동으로 구성되어 있다. 전국 각지에 설치된 다수의 지진계(30)에 의해 수집된 P파의 데이터를 처리하여 진원, 진도 및 S파의 도착 시간을 산출하여, 이 지진 정보가 배신부(31)로부터 유선 회선이나 위성 회선(26)을 통하여 배신되며, 이 지진 정보가 상기 수신부(28)에서 수신되도록 되어 있다. 이에 의해, 크게 흔들리는 본진의 수초에서부터 10수초 전에 예상되는 진도를 알아, 미리 본진에 대비할 수 있다. 제어부(29)는 소정의 임계값(예를 들어 예측 진도 5)이 설정되고, 그 임계값을 초과했을 때에 지진 피해 확산 저감 방법을 실행하도록 구성되어 있는 것이 바람직하다. 상기 임계값은 건물의 내진 강도 등을 고려하여 사용자측에서 임의로 설정할 수 있다. 또한, 펌프계 및 가스계의 회피 동작에 있어서는, 안전 중시와 조기 복구 중시를 양립시키기 위해, 예측 진도 레벨, 예를 들어 예측 진도가 대(소정 진도 이상), 예를 들어 진도 5가 약간 넘는 경우와 예측 진도가 소(소정 진도 미만), 예를 들어 진도 5보다 약간 적은 경우로 나누어, 예측 진도가 소정값 이상인 경우 인적 및 물적 피해를 최소한으로 억제하는 안전을 중시한 장치(반도체 제조 장치)의 정지를 행하고, 예측 진도가 소정값 미만인 경우 조기 복구를 전제로 한 장치의 정지를 행하는 것이 바람직하다.
기본적으로는, 상기 제1 공정에서는 상기 열처리 장치(1)의 전원(주전원), 가스 라인을 차단한다. 또한, 주전원은 본진(S파)의 직전까지 살려 두도록 해도 좋다. 제1 공정(P파)에서 주전원을 차단할 경우 웨이퍼의 튀어나옴을 방지하기 위해 구동하는 덮개 착탈 장치를 포함하는 검출 기구(32), 도어 기구(15), 노치 얼라이너(16), 승강 기구(18)나, 후프(3)의 낙하를 방지하기 위해 구동하는 반송 기구(13), 후프 캐처(33)에는 보조 전원이 확보되어 있다.
구체적으로는, 상기 제1 공정에서는 예측 진도가 소정값 이상일 때에는 인적 및 물적 피해를 최소한으로 억제하는 안전을 중시한 장치의 정지를 행하기 위해, 상기 히터(51) 및 상기 감압 펌프(59)를 오프로 하고, 상기 처리 가스(실제 가스) 및 불활성 가스의 밸브(55a, 55b)를 폐쇄한다. 또한, 메인 밸브(56)도 폐쇄하는 것이 바람직하다.
예측 진도가 소정값 미만일 때에는 조기 복구를 전제로 한 장치의 정지를 행하기 위해, 상기 히터(51) 및 감압 펌프(59)를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브(55b)를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브(55a)를 폐쇄한 다. 또한, 배기관(54)의 메인 밸브(56)는 개방 상태인 채로 두는 것이 바람직하다. 여기서, 히터(51)를 온인 상태로 둔다는 것은 히터(51)의 전원을 온인 상태로 두어, 히터(51)의 온도를 설정 온도로 유지하는 것을 말한다. 또한, 불활성 가스의 밸브(55b)를 개방 상태인 채로 둔다는 것은, 예를 들어 사이클 퍼지(처리 용기 내의 산소 농도를 단시간에 일정 이하로 하기 위해, N2의 공급·정지와 진공화를 반복하는 것), 희석 배기(처리 용기 내의 처리 가스를 배기할 경우에 N2로 희석하면서 배기하는 것), 혹은 로딩 에어리어 내로의 N2의 공급을 속행하는 것을 말한다. 또한, 메인 밸브(56)를 포함하는 밸브(55a, 55b, 62)의 개폐, 히터(51) 및 감압 펌프(59)의 온 오프의 제어는 예측 진도에 기초하여 제어부(29)에 의해 행해진다.
한편, 본 실시 형태에서는 상기 제2 공정에서는 제어부(29)에 의해 상기 도어 기구(15)가 개방 상태〔(a) 참조〕에 있을 때에는 상기 도어 기구(15)를 폐쇄 작동시키도록〔(b) 참조〕 구성되어 있다.
이상의 구성으로 이루어지는 지진 피해 확산 저감 방법 또는 지진 피해 확산 저감 시스템(27)에 의하면, 주진동(S파)의 수초에서부터 10수초 전에 검지되어 통신 회선(26)을 통하여 배신되는 초기 미동(P파)에 기초하는 긴급 지진 정보를 사용하여 종형 열처리 장치(1)의 운전을 정지한다. 이와 병행하여, 도4에 도시한 바와 같이 상기 도어 기구(15)가 개방 상태〔(a) 참조]에 있을 때에는 상기 도어 기구(15)를 폐쇄 작동시킨다〔(b) 참조〕. 이 때문에, 지진에 의한 이동 탑재 스테이지(12) 상의 후프(3)로부터의 웨이퍼(W)가 튀어나오는 것에 의한 웨이퍼(W)의 파 손 등의 물적 피해 및 장치 복구의 시간적 손실의 확대를 미연에 방지할 수 있다.
특히, 상기 열처리로(5)는 히터(51)와, 감압 펌프(59)와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브(55a, 55b)를 구비하고 있다. 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터(51) 및 상기 감압 펌프(59)를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 불활성 가스의 밸브(55a, 55b)를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터(51) 및 감압 펌프(59)를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브(55b)를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브(55a)를 폐쇄하는 것을 포함한다. 이 때문에 펌프계와 가스계의 회피 동작에 있어서의 안전 중시와 조기 복구 중시의 양립이 가능하게 된다.
장치를 복구시키기 위해 전원을 재투입할 때에는 장치의 상태, 웨이퍼의 상태, 보트의 상태를 오퍼레이터가 확인한다. 오퍼레이터는 장치의 운전 속행의 가부를 판단하여, 불가능할 경우에는 속행 불가 요인(예를 들어, 웨이퍼 로트 아웃, 웨이퍼의 파손이나 위치 어긋남, 보트의 파손이나 위치 어긋남, 가스 누설, 누수, 누전)의 대책을 실시하고, 장치를 기동하는 조건(예를 들어, 처리 가스계의 밸브류나 감압 펌프의 동작, 반송계의 동작)이 갖추어진 것을 확인한 후, 장치의 구동을 행한다.
상기 제2 공정에 있어서는, 도3에 도시한 바와 같이 후프(3)의 덮개(3a)를 개방하여〔(b), (e) 참조], 검출 기구(32)의 검출 헤드(32x)를 후프(3) 내의 웨이퍼(W)에 접근시켜 검출을 행하는〔(c), (d) 참조〕 것을 도중에 멈추고, 검출 헤드(32x)를 하방의 원위치(홈 포지션)(HPa)로 복귀시켜, 후프(3)의 덮개(3a)를 닫는 〔(a), (d) 참조〕 것을 포함하는 것이 바람직하다. 상기 검출 기구(32)가 작동 중일 때에는 상기 검출 기구(32)를 초기 상태로 복귀시켜 상기 덮개(3a)를 폐쇄하기 때문에 지진에 의한 후프(3)로부터 웨이퍼(W)가 튀어나오는 것에 의한 웨이퍼(W)의 파손 등의 물적 피해 및 장치 복구의 시간적 손실의 확대를 미연에 방지할 수 있다. 또한, 상기 검출 기구(32)의 검출 헤드(32x)를 홈 포지션(HPa)으로 복귀시키기 때문에 반도체 제조 장치(1)를 신속히 복귀시킬 수 있다.
또한, 상기 제2 공정에 있어서는, 도5, 도6의 (b) 내지 (c)에 도시한 바와 같이 상기 노치 얼라이너(16)에 설치된 중심 위치 정렬 기구(36)를 작동시켜 웨이퍼(W)를 구속하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 지진에 의한 노치 얼라이너(16)로부터의 웨이퍼(W)의 튀어나옴에 의한 웨이퍼(W)의 파손 등의 물적 피해 및 장치 복구의 시간적 손실의 확대를 미연에 방지할 수 있다.
상기 제2 공정에 있어서는, 도7의 (a), (b)에 도시한 바와 같이 상기 반송 기구(13)가 승강 동작 중일 때에는 상기 반송 기구(13)를 최하강 위치, 즉 홈포지션(HPb)까지 이동시켜 정지시키는 것을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 지진에 의한 고위치의 반송 기구(13)의 반송 아암(13c)으로부터의 후프(3)의 낙하를 방지할 수 있어, 후프(3)의 낙하에 의한 웨이퍼(W)의 파손 등의 물적 피해를 미연에 방지할 수 있다. 또한, 반송 기구(13)가 승강 동작 중 이외에, 예를 들어 도8에 도시한 바와 같이 반송 아암(3c)을 신장시켜 후프(3)를 보관 선반부(11)에 재치할 때 또는 보관 선반부(11)로부터 취출할 때에는 제2 공정에서 반송 기구(13)를 최하강 위치로 내리는 제어는 행하지 않고, 반송 아암(13c)을 신장시킨 상태로 유 지한다.
상기 제2 공정에 있어서는, 도9의 (a), (b)에 도시한 바와 같이 후프 캐처(33)가 후프(3)를 이동 탑재 스테이지(12)로 전달했을 때에는 후프 캐처(33)의 파지 기구(33c)가 개방되어 후프를 해방한 경우에도 다시 파지 기구(33c)를 폐쇄하여 후프(3)를 파지한 상태로 유지하는 것이 바람직하다. 이에 의해 이동 탑재 스테이지(12) 상으로부터의 후프(3)의 낙하를 방지할 수 있어, 후프(3)의 낙하에 의한 웨이퍼(W)의 파손 등의 물적 피해를 미연에 방지할 수 있다.
또한, 상기 제2 공정에 있어서는, 도10의 (a), (b)에 도시한 바와 같이 상기 승강 기구(18)가 보트(4)를 열처리로(5) 내로부터 반출 중일 때에는 상기 보트(4)를 열처리로(5) 내로 다시 반입하는 것을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 열처리로(5)로부터의 보트(4)의 언로드 시에 지진에 의한 보트(4)로부터의 웨이퍼의 튀어나옴을 방지할 수 있는 동시에 웨이퍼의 튀어나옴에 의한 웨이퍼의 파손 등의 물적 피해 및 장치 복구의 시간적 손실의 확대를 미연에 방지할 수 있다.
또한, 상기 제2 공정에 있어서는, 도11에 도시한 바와 같이 상기 보트 재치대인 제1 재치대(22a) 상에 보트(4)가 재치되어 있을 때에는 상기 로크 기구(45)가 상기 보트(4)를 로크하는 것을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해 제1 재치대(22a) 상의 보트(4)의 전도를 방지할 수 있다.
도12는 본 발명의 다른 실시 형태인 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템의 일례를 개략적으로 도시하는 도면이다. 도12의 실시 형태에 있어서, 도1의 실시 형태와 동일 부분은 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다. 본 실시 형태의 종형 열처리 장치(1)는 초기 미동을 직접 검지하는 초기 미동 검지부인 지진계(60)와, 검지한 초기 미동에 기초하여 종형 열처리 장치(1)의 운전을 정지하는 제1 공정, 및 상기 도어 기구(15)가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구(15)를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 실행하는 제어부(29)를 구비하고 있다. 상기 지진계(60)는 하우징(2) 내에 설치되어 있는 것이 바람직하나, 공장의 부지 내에 설치되어 있어도 된다. 본 실시 형태에 따르면, 긴급 지진 정보를 수신하는 일없이 스스로 초기 미동을 검지할 수 있어, 지전의 발생을 예지하여 후프 내로부터의 웨이퍼의 튀어나옴 및 튀어나오는 것에 기초하는 웨이퍼의 파손을 미연에 방지할 수 있어, 피해를 최소한으로 억제하는 것이 가능하게 된다.
이상, 본 발명의 실시 형태를 도면에 의해 상세하게 서술해 왔으나, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서의 다양한 설계 변경이 가능하다. 예를 들어, 본 발명에 관한 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템은 통신 회선을 통하여 배신되는 초기 미동에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하는 수신부와, 초기 미동을 직접 검지하는 초기 미동 검지부를 모두 구비하고, 이들을 선택적으로 절환하여 사용하도록 구성되어 있어도 된다.
상기 실시 형태에서는, 감압 펌프를 갖는 열처리 장치(예를 들어 JCVD 장치)가 예시되어 있으나, 본 발명은 감압 펌프를 갖지 않는 열 처리 장치(예를 들어 확산 장치)에도 적용 가능하고, 이 경우 열처리로의 배기 수단으로서, 예를 들어 공장 배기계가 사용된다.
도1은 본 발명의 실시 형태인 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템을 개략적으로 도시하는 도면.
도2는 도1의 반도체 제조 장치의 횡단면도.
도3의 (a) 내지 (f)는 로드 포트부에 있어서의 후프의 덮개의 개폐 동작을 설명하는 설명도.
도4의 (a), (b)는 웨이퍼 이동 탑재부에 있어서 후프의 덮개의 개폐를 행하는 도어 기구의 개폐 동작을 설명하는 설명도.
도5는 노치 얼라이너의 일례를 개략적으로 도시하는 사시도.
도6의 (a) 내지 (d)는 노치 얼라이너의 작동을 설명하는 설명도.
도7의 (a), (b)는 후프 반송 기구의 승강 동작을 설명하는 설명도.
도8은 후프 반송 기구의 아암 신장 시의 상태를 도시하는 도면.
도9의 (a), (b)는 웨이퍼 이동 탑재부에 있어서의 지진 시의 후프 캐처의 동작을 설명하는 설명도.
도10의 (a), (b)는 열처리로로부터의 보트의 언로드 중에 있어서의 지진 시의 동작을 설명하는 설명도.
도11의 (a) 내지 (c)는 제1 재치대 상의 보트를 개략적으로 도시하는 도면으로, 이 중 도11의 (a)는 사시도, 도11의 (b)는 보트의 천장판 및 지주를 생략한 상태의 확대 평면도, 도11의 (c)는 도11의 (b)의 c-c선 단면도.
도12는 본 발명의 다른 실시 형태인 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템을 개략적으로 도시하는 도면.
Claims (20)
- 피처리체를 수납하는 동시에 덮개를 갖는 수납 용기를 반입·반출하는 반송 영역과,로구를 갖는 피처리체의 열처리로와,열처리로의 하방에 배치되어, 반송 영역과 개구부를 갖는 격벽에 의해 구획된 작업 영역을 구비하고,반송 영역은 수납 용기의 반입·반출부와, 수납 용기용의 보관 선반부와, 개구부 근방에 설치된 수납 용기용의 이동 탑재부와, 수납 용기를 반송하는 반송 기구를 갖고,작업 영역은 로구를 개폐하는 덮개 상에 피처리체를 탑재한 유지구를 탑재하여 열처리로 내로 반입·반출하는 승강 기구와, 격벽의 개구부를 개폐하는 동시에 이동 탑재부 상의 수납 용기의 덮개를 개폐하는 도어 기구를 갖는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법에 있어서,통신 회선을 통하여 배신되는 초기 미동에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하거나 또는 초기 미동을 직접 검지하는 공정과,수신한 긴급 지진 정보 또는 검지한 초기 미동에 기초하여 열처리로의 운전을 정지하는 제1 공정과,상기 제1 공정과 병행하여 상기 도어 기구가 개방 상태에 있을 때에 상기 도어 기구를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 열처리로는 히터와, 감압 펌프와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터 및 상기 감압 펌프를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 / 또는 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터 및 / 또는 감압 펌프를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 열처리로는 히터와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 / 또는 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 반도체 제조 장치는 상기 반입·반출부 상의 수납 용기로부터 덮개를 제거하여 수납 용기 내의 피처리체의 위치를 검출하는 검출 기구를 더 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 검출 기구가 작동 중일 때에는 상기 검출 기구를 초기 상태로 복귀시켜 덮개를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 반도체 제조 장치는 상기 작업 영역측으로부터 피처리체를 수용하여 그 원주 상의 표식의 위치를 일치시키는 정렬 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 정렬 기구에 설치된 중심 위치 정렬 기구를 작동시켜 피처리체를 구속하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 승강 동작 중일 때에는 상기 반송 기구를 최하강 위치까지 이동시켜 정지시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 반송 장치는 반송 아암을 갖고, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 반송 아암을 신장시켜 수납 용기를 보관 선반부에 재치할 때 또는 보관 선반부로부터 취출할 때에는 반송 아암을 신장시킨 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 반도체 제조 장치는, 상기 반송 기구로부터 이동 탑재부에 수납 용기를 전달하는 전달 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 전달 기구가 수납 용기를 이동 탑재부로 전달했을 때에는 전달 기구가 수납 용기를 파지한 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 공정은 상기 승강 기구가 유지구를 열처리로 내로부터 반출 중일 때에는 상기 유지구를 열처리로 내로 다시 반입하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 제1항에 있어서, 반도체 제조 장치는, 상기 피처리체의 이동 탑재를 행하기 위해 유지구를 재치하는 유지구 재치대와, 상기 유지구 재치대 상에 재치된 유지구를 로크하는 로크 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 유지구 재치대 상에 유지구가 재치되어 있을 때에는 상기 로크 기구가 상기 유지구를 로크하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 방법.
- 피처리체를 수납하는 동시에 덮개를 갖는 수납 용기를 반입·반출하는 반송 영역과,로구를 갖는 피처리체의 열처리로와,열처리로의 하방에 배치되어, 반송 영역과 개구부를 갖는 격벽에 의해 구획된 작업 영역을 구비하고,반송 영역은 수납 용기의 반입·반출부와, 수납 용기용의 보관 선반부와, 개 구부 근방에 설치된 수납 용기용의 이동 탑재부와, 수납 용기를 반송하는 반송 기구를 갖고,작업 영역은 로구를 개폐하는 덮개 상에 피처리체를 탑재한 유지구를 재치하여 열처리로 내로 반입·반출하는 승강 기구와, 격벽의 개구부를 개폐하는 동시에 이동 탑재부 상의 수납 용기의 덮개를 개폐하는 도어 기구를 갖는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템에 있어서,통신 회선을 통하여 배신되는 초기 미동에 기초하는 긴급 지진 정보를 수신하는 수신부 또는 초기 미동을 직접 검지하는 초기 미동 검지부와,초기 미동 검출에서 수신한 긴급 지진 정보 또는 검지한 초기 미동에 기초하여 열처리로의 운전을 정지하는 제1 공정 및 상기 도어 기구가 개방 상태에 있을 때에는 상기 도어 기구를 폐쇄 작동시키는 제2 공정을 실행하는 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 열처리로는 히터와, 감압 펌프와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터 및 / 또는 상기 감압 펌프를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터 및 / 또는 감압 펌프를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 열처리로는 히터와, 처리 가스나 불활성 가스를 공급하는 밸브를 구비하고, 상기 제1 공정은, 예측 진도가 소정값 이상일 때에 상기 히터를 오프로 하고, 상기 처리 가스 및 불활성 가스의 밸브를 폐쇄하고, 예측 진도가 소정값 미만일 때에 상기 히터를 온인 상태로 두고, 상기 불활성 가스의 밸브를 개방 상태인 채로 두고, 상기 처리 가스의 밸브를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 반도체 제조 장치는 상기 반입·반출부 상의 수납 용기로부터 덮개를 제거하여 수납 용기 내의 피처리체의 위치를 검출하는 검출 기구를 더 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 검출 기구가 작동 중일 때에는 상기 검출 기구를 초기 상태로 복귀시켜 덮개를 폐쇄하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 반도체 제조 장치는 상기 작업 영역측으로부터 피처리체를 수용하여 그 원주 상의 표식의 위치를 일치시키는 정렬 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 정렬 기구에 설치된 중심 위치 정렬 기구를 작동시켜 피처리체를 구속하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 제2 공정은, 상기 반송 기구가 승강 동작 중일 때에는 상기 반송 기구를 최하강 위치까지 이동시켜 정지시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 반송 장치는 반송 아암을 갖고, 상기 제2 공정은 상기 반송 기구가 반송 아암을 신장시켜 수납 용기를 보관 선반부에 재치할 때 또는 보관 선반부로부터 취출할 때에는 반송 아암을 신장시킨 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 반도체 제조 장치는 상기 반송 기구로부터 이동 탑재부로 수납 용기를 전달하는 전달 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 전달 기구가 수납 용기를 이동 탑재부로 전달했을 때에는 전달 기구가 수납 용기를 파지한 상태로 유지하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 상기 제2 공정은 상기 승강 기구가 유지구를 열처리로 내로부터 반출 중일 때에는 상기 유지구를 열처리로 내로 다시 반입하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
- 제11항에 있어서, 반도체 제조 장치는 상기 피처리체의 이동 탑재를 행하기 위해 유지구를 재치하는 유지구 재치대와, 상기 유지구 재치대 상에 재치된 유지구를 로크하는 로크 기구를 구비하고, 상기 제2 공정은 상기 유지구 재치대 상에 유지구가 재치되어 있을 때에는 상기 로크 기구가 상기 유지구를 로크하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치에 있어서의 지진 피해 확산 저감 시스템.
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