KR20090055993A - Chemical-coating apparatus having slit nozzle - Google Patents

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KR20090055993A KR1020070122913A KR20070122913A KR20090055993A KR 20090055993 A KR20090055993 A KR 20090055993A KR 1020070122913 A KR1020070122913 A KR 1020070122913A KR 20070122913 A KR20070122913 A KR 20070122913A KR 20090055993 A KR20090055993 A KR 20090055993A
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세메스 주식회사
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Abstract

A chemical-coating apparatus having a slit nozzle is provided to prevent swirl of the chemical solution inside slit nozzle by rounding a region where the chemical solution is passed. A slit nozzle(150) comprises a first body(210) and a second body(220) which is combined while facing each other to form a bent discharge port. A supply line is formed at one side of the first body is inserted into a supply hole(240), and a plurality of supply holes is arranged according to the longitudinal direction of a slit nozzle by a certain period. After a chemical solution is flowed into the first body stays inside of the supply hole temporarily, the chemical solution is discharged to the surface of the substrate through the discharge port.

Description

슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치{Chemical-coating apparatus having slit nozzle}A chemical-coating apparatus having slit nozzle

본 발명은 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 원활하고 균일하게 약액을 토출할 수 잇는 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid applying apparatus including a slit nozzle, and more particularly, to a chemical liquid applying apparatus including a slit nozzle capable of discharging the chemical liquid smoothly and uniformly.

평판 디스플레이 패널의 제조 과정에는 다양한 약액을 이용하여 유리 기판의 표면을 처리하는 공정들이 있다. 예를 들어 현상 공정은 유리 기판에 현상액을 균일하게 공급하여 현상한다. 예를 들어 현상 설비는 노광된 유리 기판 표면에 현상액을 균일하게 도포하여 일정 시간 동안 퍼들(puddle)을 형성하여 현상한다. 이 때 현상 공정상 필요한 스프레이(spray)의 균일성을 얻기 위하여 저유량(예를 들어, 분 당 약 30 리터 이하)의 현상액을 공급하는 경우에도, 슬릿 노즐로부터 토출되는 현상액에 의해 형성되는 커튼(curtain)이 갈라짐 없는 일정한 형상으로 유지되어야 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION A manufacturing process of a flat panel display panel includes processes for treating a surface of a glass substrate using various chemical liquids. For example, the developing process develops by supplying a developing solution uniformly to a glass substrate. For example, the development facility develops by uniformly applying a developer on the exposed glass substrate surface to form a puddle for a predetermined time. At this time, even in the case of supplying a low flow rate (for example, about 30 liters or less) developer in order to obtain the uniformity of the spray necessary for the developing process, the curtain formed by the developer discharged from the slit nozzle ( The curtain should be kept in a constant shape without cracking.

또한 반도체 제조용 현상액은 초 고순도를 요구하기 때문에 고가이다. 그러므로 현상 공정에서 가능하면 최소의 사용으로 기판 표면을 균일하게 도포하는 것 이 바람직하다.In addition, the developer for semiconductor manufacturing is expensive because it requires ultra high purity. Therefore, it is desirable to apply the substrate surface evenly with the least use possible in the development process.

따라서 유리 기판 상의 현상액 도포 상태 및 저유량의 현상액 공급에 따른 슬릿 노즐의 스프레이 균일성 확보가 현상 공정에서는 중요한 관건이다.Therefore, securing the spray uniformity of the slit nozzle according to the developer application state on the glass substrate and the supply of the low flow developer is an important issue in the development process.

하지만 종래의 슬릿 노즐의 경우 토출구와 인접한 슬릿 노즐의 내부에서 약액의 와류가 발생하여 약액이 슬릿 노즐로부터 균일하게 토출되지 못하는 문제가 있다.However, in the case of the conventional slit nozzle, a vortex of the chemical liquid is generated inside the slit nozzle adjacent to the discharge port, thereby preventing the chemical liquid from being uniformly discharged from the slit nozzle.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 원활하게 약액을 토출할 수 있는 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치를 제공하고자 하는 것이다.An object of the present invention is to provide a chemical liquid applying apparatus including a slit nozzle capable of smoothly discharging a chemical liquid.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 도포 장치는, 약액을 보관하는 약액 공급원과, 상기 약액 공급원과 연결되어 상기 약액을 전달하는 배관과, 상기 약액을 기판 상에 토출하는 슬릿 노즐을 포함한다. 여기서, 슬릿 노즐은, 약액이 흐르는 토출구를 내부에 형성하도록 서로 대향하며 결합된 제1 몸체부 및 제2 몸체부와, 상기 제2 몸체부와 대향하는 상기 제1 몸체부의 일면에 형성된 제1 홈부 및 제2 홈부와, 상기 제1 및 제2 홈부에 각각 삽입되며 상기 제2 몸체부에 형성된 제1 돌출부 및 제2 돌출부를 포함한다. 여기서, 상기 토출구의 끝단에 인접한 상기 제2 홈부는 라운딩 처리된 내부를 가질 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a chemical liquid applying apparatus, a chemical liquid supply source for storing a chemical liquid, a pipe connected to the chemical liquid supply source for delivering the chemical liquid, and a discharge of the chemical liquid on a substrate. Slit nozzle. Here, the slit nozzle has a first body portion and a second body portion that are opposed to each other to form a discharge port through which the chemical liquid flows, and a first groove portion formed on one surface of the first body portion facing the second body portion. And a first protrusion and a second protrusion which are respectively inserted into a second groove portion and the first and second groove portions and are formed in the second body portion. Here, the second groove portion adjacent to the end of the discharge port may have a rounded interior.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있 다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치에 의하면, 슬릿 노즐 내부에서 약액이 지나가는 부분을 라운딩 처리함으로써 슬릿 노즐 내부에서 약액의 와류가 발생하는 것을 억제하여 균일하게 약액이 토출될 수 있다. 또한 약액의 흐름을 제어하는 슬릿 노즐 내의 돌출부의 크기를 조절함으로써 약액의 와류를 억제할 수 있다.As described above, according to the chemical liquid applying apparatus including the slit nozzle according to the present invention, by rounding a portion through which the chemical liquid passes, the vortex of the chemical liquid is suppressed from occurring within the slit nozzle to uniformly discharge the chemical liquid. Can be. In addition, the vortex of the chemical liquid can be suppressed by adjusting the size of the protrusion in the slit nozzle that controls the flow of the chemical liquid.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 슬릿 노즐을 포함하는 약액 도포 장치에 대하여 상세히 설명한다. 이하 설명되는 실시예들에서는 설명의 편의를 위하여 약액 도포 장치로서 반도체 제조 공정에서 현상액을 도포하는 현상액 도포 장치를 예시로 들고 있으나 본 발명은 이에 한정되지 않으며 기판 상에 약액을 고르게 도포하기 위하는 임의의 반도체 제조 장치를 포함할 수 있다.Hereinafter, a chemical liquid applying apparatus including a slit nozzle according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the embodiments described below, a developer coating device for applying a developer in a semiconductor manufacturing process is illustrated as a chemical coating device for the convenience of description. However, the present invention is not limited thereto. And a semiconductor manufacturing apparatus.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 도포 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 약액 도포 장치에 포함된 슬릿 노즐의 측면도이다.1 is a perspective view schematically showing a chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a side view of a slit nozzle included in the chemical liquid applying apparatus of FIG.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 도포 장치(100)는 기판(10) 상에 약액을 도포하는 슬릿 노즐(slit nozzle 또는 puddle knife)(150)과, 약액을 보관하는 약액 공급원(110)과, 약액 공급원(110)에 연결되어 약액을 전달하는 배관(120, 122)과, 슬릿 노즐(150) 및 배관(120, 122) 사이에 연결되어 약액을 슬릿 노즐(150)에 공급하는 공급라인(140)을 포함한다. 또한 약액 도포 장치(100)는 약액 도포를 위해 기판(10)을 이동시키는 기판 이송 장치(20)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a chemical liquid applying apparatus 100 according to an embodiment of the present invention includes a slit nozzle 150 for applying a chemical liquid on a substrate 10 and a chemical liquid for storing the chemical liquid. It is connected between the supply source 110 and the chemical liquid supply source 110 to deliver the chemical liquid, and the slit nozzle 150 and the pipe 120 and 122 are connected between the chemical liquid to the slit nozzle 150. It includes a supply line 140 for supplying. In addition, the chemical liquid applying apparatus 100 includes a substrate transfer device 20 for moving the substrate 10 for chemical liquid application.

여기서 약액 공급원(110)은 기판(10)의 표면에 도포될 약액, 예를 들어 현상액(예를 들어, 2.38 %의 TMAH 용액)을 보관하고 있다. Here, the chemical solution source 110 stores a chemical solution to be applied to the surface of the substrate 10, for example, a developer (eg, a 2.38% TMAH solution).

배관(120, 122)은 약액을 전달하는 제1 배관(120)과, 제1 배관(120)으로 공급되는 약액 내부의 에어(air)를 제거하기 위한 제2 배관(122)을 포함한다. 제1 배관(120)은 약액 공급량 조절용의 제1 밸브(130)를 구비하고, 제1 밸브(130)의 조절을 통해 약액의 공급량을 조절한다. 그리고 제1 배관(120)은 약액 공급원(110)으로부터 다수의 공급라인(140)을 통해 슬릿 노즐(150)과 연결되며, 공급라인(140)을 통해 2 슬릿 노즐(150) 전체로 약액을 균일하게 공급한다. 이 때 제2 배관(122)은 제1 배관(120)으로 공급되는 약액 내부의 에어를 제거하기 위하여 제2 밸브(132)를 구비한다. The pipes 120 and 122 include a first pipe 120 for delivering a chemical liquid and a second pipe 122 for removing air in the chemical liquid supplied to the first pipe 120. The first pipe 120 includes a first valve 130 for adjusting the chemical liquid supply amount, and adjusts the chemical liquid supply amount by adjusting the first valve 130. In addition, the first pipe 120 is connected to the slit nozzle 150 from the chemical supply source 110 through a plurality of supply lines 140, and uniformly distributes the chemical solution to the entire 2 slit nozzle 150 through the supply line 140. Supply it. At this time, the second pipe 122 is provided with a second valve 132 to remove the air in the chemical liquid supplied to the first pipe (120).

제1 밸브(130)는 현상액 공급량을 조절하기 위하여 스프레이(spray)되는 유량을 고정 설정한다. 제2 밸브(132)는 제1 배관(120) 내부의 에어를 제거하기 위하 여 순간 대용량 밸브로 구비되며, 개폐 동작을 주기적(예를 들어, 약 5초 간격)으로 반복시킨다. 예를 들어 현상 공정에서, 에어(air, micro bubble)는 현상액이 기판 표면에 균일하게 도포되지 않는 등 공정 트러블의 원인이 되기 때문이다. The first valve 130 fixedly sets the flow rate sprayed to adjust the developer supply amount. The second valve 132 is provided as an instantaneous large capacity valve to remove air in the first pipe 120, and the opening and closing operation is repeated periodically (for example, about 5 seconds). For example, in the developing step, air (air, micro bubble) is a cause of process trouble, such as the developer is not uniformly applied to the substrate surface.

그리고 공급라인(140)은 예를 들어, PFA(Perfluoroalkoxy) 튜브 등으로 형성될 수 있으며, 제1 배관(120)으로부터 공급되는 약액을 슬릿 노즐(150)로 빠르고 균일하게 공급하기 위하여 다수개가 구비될 수 있다. 공급라인(140)은 배관(120, 122) 내부에서의 에어 발생시, 슬릿 노즐(150)에 잔류하지 않고 배관(120, 122) 쪽 방향으로 올라오도록 하기 위하여 도 2에 도시된 바와 같이, 공급라인(140)의 길이를 'ㄷ' 자 형태로 길게 하여 에어가 올라오는데 필요로 하는 공간을 확보하도록 구성한다. 이는 가동 초기에 최대한 많은 에어를 제거해주는 것이 중요하며, 초기에 대유량 밸브를 이용하여 슬릿 노즐(150)로 배출되도록 하고, 약액의 커튼이 형성된 이후의 에어는 슬릿 노즐(150)로 배출될 수 없기 때문에 동작 중에 발생되는 에어는 슬릿 노즐(150) 내부에 들어가지 않도록 배관(120, 122) 및/또는 공급라인(140)에 머물도록 하는 것이 바람직하다.In addition, the supply line 140 may be formed of, for example, a PFA (Perfluoroalkoxy) tube, or the like, and a plurality of chemical liquids supplied from the first pipe 120 may be provided to the slit nozzle 150 quickly and uniformly. Can be. As shown in FIG. 2, the supply line 140 ascends toward the pipes 120 and 122 without remaining in the slit nozzle 150 when air is generated in the pipes 120 and 122. The length of the 140 is formed in the 'c' shape to secure the space required for the air to rise. This is important to remove as much air as possible at the beginning of the operation, the large flow valve to be discharged to the slit nozzle 150, and the air after the curtain of the chemical liquid can be discharged to the slit nozzle 150 Since the air generated during the operation is not present in the slit nozzle 150, it is preferable to stay in the pipe (120, 122) and / or supply line 140.

슬릿 노즐(150)은 기판(10)의 폭 방향에 대응하여 길게 형성된 노즐을 통해 약액, 예를 들어 현상액을 기판(10) 표면에 균일하게 도포하는 슬릿(slit) 방식의 도포 장치이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 도포 장치(100)는 기판(10) 표면에 약액을 균일하게 도포하기 위하여 약액의 유량 또는 유속의 차이를 두고 있는 하나 이상의 슬릿 노즐(150)을 구비할 수 있다. The slit nozzle 150 is a slit coating apparatus for uniformly applying a chemical solution, for example, a developing solution, to the surface of the substrate 10 through a nozzle formed long corresponding to the width direction of the substrate 10. The chemical liquid applying apparatus 100 according to the exemplary embodiment of the present invention may include one or more slit nozzles 150 having a difference in flow rate or flow rate of the chemical liquid in order to uniformly apply the chemical liquid to the surface of the substrate 10. .

이하 도 3 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐에 대하여 자세히 설명한다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 분해 사시도이고, 도 4는 도 3의 슬릿 노즐의 결합 사시도이고, 도 5는 도 4의 슬릿 노즐을 A-A'선으로 절단한 단면도이다.Hereinafter, the slit nozzle according to the exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5. 3 is an exploded perspective view of a slit nozzle according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a perspective view of the slit nozzle shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of the slit nozzle of FIG. 4. .

도 3 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐(150)은 내부에 절곡된 토출구(260)를 형성하기 위하여 서로 대항하며 결합된 제1 몸체부(210) 및 제2 몸체부(220)를 포함한다. 3 to 5, the slit nozzle 150 according to the exemplary embodiment of the present invention opposes and combines with each other to form a discharge hole 260 that is bent therein. It includes a body portion 220.

여기서 제1 몸체부(210)의 일면에는 공급라인(도 1의 도면부호 140 참조)이 삽입 고정되어 약액(15)을 공급받는 공급홀(240)이 형성되어 있다. 약액(15)이 슬릿 노즐(150)로 빠르고 균일하게 공급되도록 하기 위하여 공급라인의 개수에 대응하여 공급홀(240)도 다수 개로 형성하는 것이 바람직하다. 또한 다수의 공급홀(240)은 슬릿 노즐(150)의 길이 방향을 따라 일정한 간격으로 배열될 수 있다.Here, one side of the first body portion 210 is provided with a supply hole (240) for supplying the chemical solution 15 is inserted into the supply line (see reference numeral 140 in FIG. 1). In order to supply the chemical liquid 15 to the slit nozzle 150 quickly and uniformly, a plurality of supply holes 240 may be formed corresponding to the number of supply lines. In addition, the plurality of supply holes 240 may be arranged at regular intervals along the length direction of the slit nozzle 150.

공급홀(240)과 토출구(260)은 연결되어 있으므로, 제1 몸체부(210)로 유입된 약액(15)은 우선 공급홀(240) 내에 공간에 일시적으로 체류된 후 토출구(260)를 통하여 기판 표면으로 토출된다. 제1 몸체부(210)의 타면, 즉 제2 몸체부(220)와 대향하는 면에는 절곡된 토출구(260)를 형성하기 위한 제1 홈부(212) 및 제2 홈부(214)가 형성되어 있다. 제1 홈부(212)는 공급홀(240)과 인접한 부분에 형성되고, 제2 홈부(214)는 제1 홈부(212)와 토출구(260)의 끝단 사이에 형성된다.Since the supply hole 240 and the discharge port 260 are connected, the chemical liquid 15 introduced into the first body part 210 first stays temporarily in the space in the supply hole 240 and then through the discharge hole 260. It is discharged to the substrate surface. On the other surface of the first body portion 210, that is, the surface facing the second body portion 220, a first groove portion 212 and a second groove portion 214 are formed to form the bent discharge port 260. . The first groove portion 212 is formed at a portion adjacent to the supply hole 240, and the second groove portion 214 is formed between the first groove portion 212 and the end of the discharge port 260.

제2 몸체부(220)는 토출구(260)를 형성하도록 소정의 간격을 두고 제1 몸체부(210)와 대향하여 결합한다. 제1 몸체부(210)와 대향하는 제2 몸체부(220)의 일면에는 제1 몸체부(210)의 제1 홈부(212) 및 제2 홈부(214)에 각각 대응하는 제1 돌출부(222) 및 제2 돌출부(224)가 형성되어 있다. 제1 홈부(212) 내로 제1 돌출부(222)가 삽입되고 제2 홈부(214) 내로 제2 돌출부(224)가 삽입되어 소정 간격으로 이격되어 배치됨으로써 약액(15)이 이동하는 토출구(260)가 수회에 걸쳐 절곡된 형상을 가지게 된다. 이와 같이 토출구(260)를 절곡된 형상으로 형성함으로써 슬릿 노즐(150)로 유입된 약액(15)의 토출되는 속도가 지나치게 증가하는 것을 방지할 수 있다. The second body part 220 is coupled to face the first body part 210 at a predetermined interval so as to form the discharge hole 260. The first protrusion 222 corresponding to the first groove 212 and the second groove 214 of the first body 210 may be formed on one surface of the second body 220 facing the first body 210. ) And a second protrusion 224 are formed. The discharge port 260 in which the first liquid 222 is inserted into the first groove 212 and the second protrusion 224 is inserted into the second groove 214 and spaced at predetermined intervals so that the chemical liquid 15 moves. Has a bent shape several times. In this way, by forming the discharge port 260 in a bent shape, it is possible to prevent the discharge rate of the chemical liquid 15 introduced into the slit nozzle 150 from being excessively increased.

이와 같이 제1 홈부(212)와 제2 홈부(214) 및 이들에 대응하는 제1 돌출부(222)와 제2 돌출부(224)에 의해 약액(15)의 토출속도를 제어할 수 있다. 다만, 토출구(260)의 끝단에 인접한 제2 홈부(214) 내의 일정 영역에 약액(15)이 정체될 경우, 전체적으로 토출구(260)를 통하여 토출되는 약액(15)의 흐름에 와류가 발생할 수 있다. 예를 들어, 제2 홈부(214)가 모서리지게 형성되는 경우 이러한 모서리 부분에서 약액(15)이 정체될 수 있다. 이에 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐(150)과 같이, 제2 홈부(214) 내부를 라운딩(rounding) 처리를 함으로써, 제2 홈부(214) 내에 약액(15)이 정체하는 것을 방지할 수 있다.As described above, the discharge speed of the chemical liquid 15 may be controlled by the first groove 212 and the second groove 214, and the first protrusion 222 and the second protrusion 224 corresponding thereto. However, when the chemical liquid 15 is stagnated in a predetermined region in the second groove 214 adjacent to the end of the discharge hole 260, vortices may occur in the flow of the chemical liquid 15 discharged through the discharge hole 260 as a whole. . For example, when the second groove 214 is formed to be cornered, the chemical liquid 15 may be stagnant at this corner portion. Accordingly, as in the slit nozzle 150 according to the exemplary embodiment of the present invention, the inside of the second groove part 214 is rounded to prevent stagnation of the chemical liquid 15 in the second groove part 214. Can be.

또한, 제2 돌출부(224)의 끝단을 라운딩 처리하는 경우, 약액(15)의 흐름을 더욱 원활하게 유지할 수 있다. 즉, 제2 돌출부(224)와 제2 홈부(214) 사이의 토출구(260)가 전체적으로 유선형 유로를 형성함으로써 약액(15)의 흐름에서 와류가 발생하는 것을 억제할 수 있다.In addition, when the end of the second protrusion 224 is rounded, the flow of the chemical liquid 15 may be more smoothly maintained. That is, since the discharge port 260 between the second protrusion 224 and the second groove 214 forms a streamlined flow path as a whole, the generation of vortices in the flow of the chemical liquid 15 can be suppressed.

또한, 토출구(260)의 끝단과 이어지는 제2 홈부(214)의 입구 부분(P)을 라운딩 처리함으로써 약액(15)의 흐름을 더욱 원활하게 유지할 수 있다.In addition, it is possible to smoothly maintain the flow of the chemical liquid 15 by rounding the inlet portion P of the second groove portion 214 and the end of the discharge port 260.

제2 돌출부(224)가 제2 몸체부(220)로부터 돌출된 길이(D2)는 제1 돌출부(222)가 제2 몸체부(220)로부터 돌출된 길이(D1)보다 짧을 수 있다. 돌출부가 제2 몸체부(220)로부터 적게 돌출될수록, 약액(15)에 대한 흐름에 대한 저항이 작아지고 와류의 발생을 억제할 수 있다. 따라서, 공급홀(240)로부터 도입된 약액(15)은 초기 흐름의 제어를 위해 상대적으로 많이 돌출된 제1 돌출부(222)를 통과하는 것이 바람직하고, 약액(15)이 슬릿 노즐(150)로부터 토출되는 시점에서는 약액(15)의 흐름을 균일하게 하기 위하여 약액(15)이 상대적으로 적게 돌출된 제2 돌출부(224)를 통과하는 것이 바람직하다.The length D2 of the second protrusion 224 protruding from the second body 220 may be shorter than the length D1 of the first protrusion 222 protruding from the second body 220. As the protrusion protrudes from the second body portion 220, the resistance to the flow of the chemical liquid 15 decreases and the generation of vortices can be suppressed. Therefore, it is preferable that the chemical liquid 15 introduced from the supply hole 240 passes through the first protrusion 222 which protrudes relatively large for the control of the initial flow, and the chemical liquid 15 passes from the slit nozzle 150. At the time of discharging, in order to make the flow of the chemical liquid 15 uniform, it is preferable that the chemical liquid 15 passes through the second protrusion 224 having a relatively small protrusion.

또한, 제2 돌출부(224)로부터 제2 홈부(214)의 양내벽까지의 거리는 서로 다를 수 있다. 구체적으로, 제2 돌출부(224)로부터 토출구(260)의 끝단과 인접한 제2 홈부(214)의 내벽까지의 거리(D4)는 제2 돌출부(224)로부터 제1 홈부(212)에 인접한 제2 홈부(214)의 내벽까지의 거리(D3)보다 짧은 것이 바람직하다. 다시 말해, 제2 돌출부(224)로부터 공급홀(240) 방향으로 제2 홈부(214)와의 거리(D3)(이하, "토출구(260)의 제1 폭"이라 한다)보다 제2 돌출부(224)로부터 토출구(260) 끝단 방향으로 제2 홈부(214)와의 거리(D4)(이하, "토출구(260)의 제2 폭"이라 한다)를 짧게 함으로써 약액(15)의 토출 속도를 높일 수 있다. 일반적인 유체 역학에 따르면 유체의 속도와 유체가 지나가는 단면적과는 다음의 [식 1]과 같은 관계가 성립된다. In addition, the distances from the second protrusion 224 to both inner walls of the second groove 214 may be different. Specifically, the distance D4 from the second protrusion 224 to the inner wall of the second groove 214 adjacent to the end of the discharge port 260 is the second from the second protrusion 224 to the first groove 212. It is preferable to be shorter than the distance D3 to the inner wall of the groove portion 214. In other words, the second protrusion 224 is greater than the distance D3 from the second protrusion 224 to the supply hole 240 in the direction of the second groove 214 (hereinafter referred to as “the first width of the discharge hole 260”). ), The ejection speed of the chemical liquid 15 can be increased by shortening the distance D4 (hereinafter referred to as "the second width of the ejection opening 260") with the second groove portion 214 in the discharging port 260 end direction. . According to general fluid dynamics, the relationship between the velocity of the fluid and the cross-sectional area through which the fluid passes is established as shown in the following [Formula 1].

[식 1][Equation 1]

유량 = 단면적 X 유속Flow rate = cross section X flow rate

따라서 공급홀(240)을 통하여 슬릿 노즐(150)에 공급되는 약액(15)의 양과 토출구(260)를 통하여 슬릿 노즐(150)로부터 토출되는 약액(15)의 양이 동일하므로(즉, 유량이 동일함), 약액(15)의 토출 속도는 토출구(260)의 폭에 의해 결정된다. 따라서, 토출구(260)의 제1 폭보다 토출구(260)의 제2 폭을 좁게 함으로써 약액(15)의 토출 속도를 높일 수 있다. 나아가 토출구(260)의 제1 폭을 토출구(260) 끝단의 폭과 실질적으로 동일하게 함으로써 약액(15)의 슬릿 노즐(150)로부터 토출되는 시점에서는 일정한 토출 속도의 변화량을 줄일 수 있고, 따라서 균일하게 약액(15)을 토출할 수 있다.Therefore, since the amount of the chemical liquid 15 supplied to the slit nozzle 150 through the supply hole 240 and the amount of the chemical liquid 15 discharged from the slit nozzle 150 through the discharge port 260 are the same (that is, the flow rate is The same, and the discharge speed of the chemical liquid 15 is determined by the width of the discharge port 260. Therefore, the discharge speed of the chemical liquid 15 can be increased by making the second width of the discharge port 260 narrower than the first width of the discharge port 260. Furthermore, by making the first width of the discharge port 260 substantially the same as the width of the end of the discharge port 260, the amount of change in the constant discharge speed can be reduced at the time of being discharged from the slit nozzle 150 of the chemical liquid 15, and thus uniform The chemical liquid 15 can be discharged.

제1 몸체부(210) 및/또는 제2 몸체부(220)는 다양한 형상으로 절곡된 토출구(260)를 형성하기 위하여 수지 계열의 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어 PVC 등으로 형성할 수 있다. 수지 계열로 슬릿 노즐(150)을 형성하는 경우 슬릿 노즐(150) 자체의 무게가 가벼워져서 약액 도포 장치에 슬릿 노즐(150)을 장착하거나 관리하기가 용이한 장점이 있다. 다만 본 발명은 이에 한정되지 않고 서스(SUS: Steel special Use Stainless) 재질로 슬릿 노즐(150)을 형성할 수도 있다.The first body portion 210 and / or the second body portion 220 may be formed of a resin-based material to form the discharge hole 260 bent in various shapes. For example, it can be formed from PVC. When the slit nozzle 150 is formed of a resin, the weight of the slit nozzle 150 itself is light, so that the slit nozzle 150 may be easily installed or managed in the chemical liquid applying apparatus. However, the present invention is not limited thereto, and the slit nozzle 150 may be formed of a stainless steel (SUS) material.

본 실시예에서는 제1 몸체부(210)에 제1 홈부(212) 및 제2 홈부(214)가, 제2 몸체부(220)에 제1 돌출부(222) 및 제2 돌출부(224)가 형성되어 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 절곡된 토출구(260)를 형성할 수 있는 임의의 형상의 제1 몸체부(210) 및 제2 몸체부(220)를 채용할 수 있다. 예를 들어 제1 몸체부(210)에 돌출부가 형성되고, 제2 몸체부(220)에 이러한 돌출부가 삽입되는 홈부가 형성될 수 있다.In the present embodiment, the first groove portion 212 and the second groove portion 214 are formed in the first body portion 210, and the first protrusion portion 222 and the second protrusion portion 224 are formed in the second body portion 220. However, the present invention is not limited thereto, and the first body part 210 and the second body part 220 may have any shape, which may form the bent discharge port 260. For example, a protrusion may be formed in the first body portion 210, and a groove portion into which the protrusion is inserted may be formed in the second body portion 220.

제1 몸체부(210) 및 제2 몸체부(220)는 각각에 형성된 결합공(252, 254) 및 스크류(250)를 이용하여 결합 고정될 수 있다. 다만 본 발명은 이에 한정되지 않으며 점착제, 접착제, 후크 결합 등 다양한 결합 수단에 의해 제1 몸체부(210) 및 제2 몸체부(220)를 결합 고정할 수 있다.The first body part 210 and the second body part 220 may be fixedly coupled using the coupling holes 252 and 254 and the screw 250 formed in the respective body parts 210 and 220. However, the present invention is not limited thereto, and the first body 210 and the second body 220 may be fixedly coupled by various coupling means such as adhesive, adhesive, and hook coupling.

본 실시예에서는 두 쌍의 홈부와 돌출부를 예로 들어 설명하고 있으나, 본 발명은 이러한 돌출부와 홈부의 개수에 한정되지 않으며 하나 이상의 돌출부 및 홈부를 슬릿 노즐에 형성할 수 있다.In the present embodiment, two pairs of grooves and protrusions are described as an example, but the present invention is not limited to the number of such protrusions and grooves, and one or more protrusions and grooves may be formed in the slit nozzle.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 도포 장치를 개략적으로 나타낸 사시도이다.1 is a perspective view schematically showing a chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 약액 도포 장치에 포함된 슬릿 노즐의 측면도이다.FIG. 2 is a side view of the slit nozzle included in the chemical liquid applying apparatus of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 슬릿 노즐의 분해 사시도이다.3 is an exploded perspective view of a slit nozzle according to an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 슬릿 노즐의 결합 사시도이다.4 is a perspective view of the slit nozzle of FIG.

도 5는 도 4의 슬릿 노즐을 A-A'선으로 절단한 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of the slit nozzle of FIG. 4.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)

10: 기판 15: 약액10: substrate 15: chemical liquid

20: 기판 이송 장치 100: 약액 도포 장치20: substrate transfer device 100: chemical liquid coating device

110: 약액 공급원 120, 122: 배관110: chemical supply source 120, 122: piping

130, 132: 밸브 140: 공급라인130, 132: valve 140: supply line

150: 슬릿 노즐 210: 제1 몸체부150: slit nozzle 210: first body portion

212, 214: 홈부 220: 제2 몸체부212 and 214: groove portion 220: second body portion

222, 224: 돌출부 240: 공급홀222, 224: protrusion 240: supply hole

250: 스크류 252, 254: 결합공250: screw 252, 254: coupling hole

260: 토출구260: discharge port

Claims (2)

약액을 보관하는 약액 공급원;Drug source for storing the drug solution; 상기 약액 공급원과 연결되어 상기 약액을 전달하는 배관; 및A pipe connected to the chemical liquid supply source to deliver the chemical liquid; And 상기 약액을 기판 상에 토출하는 슬릿 노즐을 포함하되,Slit nozzle for discharging the chemical on the substrate, 상기 슬릿 노즐은, 약액이 흐르는 토출구를 내부에 형성하도록 서로 대향하며 결합된 제1 몸체부 및 제2 몸체부; 상기 제2 몸체부와 대향하는 상기 제1 몸체부의 일면에 형성된 제1 홈부 및 제2 홈부; 및 상기 제1 및 제2 홈부에 각각 삽입되며 상기 제2 몸체부에 형성된 제1 돌출부 및 제2 돌출부를 포함하고,The slit nozzle may include: a first body part and a second body part which face each other and are coupled to form a discharge hole through which the chemical liquid flows; A first groove portion and a second groove portion formed on one surface of the first body portion facing the second body portion; And first and second protrusions respectively inserted into the first and second groove portions and formed on the second body portion. 상기 토출구의 끝단에 인접한 상기 제2 홈부는 라운딩 처리된 내부를 가지는 약액 도포 장치.And the second groove portion adjacent to the end of the discharge port has a rounded interior. 제1 항에 있어서, According to claim 1, 상기 제2 돌출부의 끝단은 라운딩 처리되고,The end of the second protrusion is rounded, 상기 토출구의 끝단과 이어지는 상기 제2 홈부의 입구 부분은 라운딩 처리되고,The inlet portion of the second groove portion which is connected to the end of the discharge port is rounded, 상기 제2 돌출부가 상기 제2 몸체부로부터 돌출된 길이는 상기 제1 돌출부가 상기 제2 몸체부로부터 돌출된 길이보다 짧고, The length of the second protrusion protruding from the second body portion is shorter than the length of the first protrusion protruding from the second body portion, 상기 제2 돌출부로부터 상기 토출구의 끝단에 인접한 상기 제2 홈부의 내벽까지의 거리는 상기 제2 돌출부로부터 상기 제1 홈부에 인접한 상기 제2 홈부의 내 벽까지의 거리보다 짧은 약액 도포 장치.And a distance from the second protrusion to the inner wall of the second groove portion adjacent to the end of the discharge port is shorter than the distance from the second protrusion to the inner wall of the second groove portion adjacent to the first groove.
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