KR20090051113A - 노, 특히 아크로 - Google Patents

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푹스 테크놀로지 아게
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Abstract

용광로의 노 용기의 수용 공간을 가변적으로 형성하여, 상기 용광로에서 의도되는 태핑 웨이트를 달성하기 위하여 상이한 공급원료(가벼운 파철, 무거운 파철)를 위해 필요한 다양한 용적에 적합하게 될 수 있고, 원통형 상부 용기부(102)는 원통형의 제1하부 세그먼트(105) 및 제2상부 세그먼트(106)를 포함하고, 상기 세그먼트 중 하나는 다른 하나와 중첩되며 적어도 하나의 리프팅장치(21/1, 21/2)에 의해 다른 하나에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능하도록 구성된다.
Figure P1020097006678
노, 용광로, 전기 아크로, 공급원료, 리프팅

Description

노, 특히 아크로{FURNACE, IN PARTICULAR ARC FURNACE}
본 발명은 용광로, 구체적으로 용융될 공급원료, 특히 부스러기 금속(파철)을 수용하기 위한 하부 용기부와 원통형의 상부 용기부로 이루어진 노 용기 및 커버 지지구조체에 의해 지지되는 노의 용기 커버를 갖는 전기 아크로에 관한 것이다.
종래의 용광로에서는 용광로의 태핑 웨이트(탕출입 웨이트; tapping weight), 즉 상기 노가 태핑되는 용융 액체 금속의 웨이트를 달성하기 위해서 둘 또는 세 개의 충전 작동이 필요하다. 이는, 용융공정이 적어도 한번 중단되어야 하고, 노의 용기 커버가 제거되어야 하며, 더욱 많은 파철 덩어리의 공급원료가 충전되어야 한다는 것을 의미한다. 이에 의해, 탭대탭 시간(tap-to-tap time)의 로스가 발생될 수 있고, 탭대탭 시간이 길어질 수 있다.
전기 아크로에서, 상기 노 용기의 높이는 용기에 침지된(잠겨진) 허용가능한 전극의 길이에 의해 결정된다. 상기 전극의 길이가 3m에서 3.5m를 초과하면, 상기 전극에 작용하는 로렌쯔 힘에 의해 전극 파손이 빈번하게 발생되고, 이러한 파손은 상기 용융공정을 중단시킨다. 상기 전극은, 특히 제련공정 동안에 전기 아크가 배스(bath)의 상면에서 가장 버닝될 수 있도록 침지되어야 하기 때문에, 상기 커버를 통해 삽입되는 전극을 위해 상기 노 용기의 높이는 전극 파손에 의해 발생되는 중단을 방지할 수 있게 상기 전극의 제한된 허용 길이에 의해 제한된다.
충전될 공급원료의 용적은 공급원료의 밀도에 따라 좌우된다. 가벼운 파철(밀도나 비중 등이 적은 파철, 금속 컷팅)이 용융되는 경우, 주조 금속의 태핑 웨이트를 달성하기 위해 무거운 파철(밀도나 비중 등이 큰 파철)보다 큰 용적이 필요하다. 상기 노 용기의 수용 공간은 상기 용광로의 작동 조건을 공급원료의 공급에 적합하도록 하기 위하여 상기 상이한 용적에 적합하도록 이루어질 수 있다.
본 발명의 목적은 용광로, 특히 전술한 타입의 전기 아크로의 노 용기의 수용 공간을 증가시켜서, 상기 노의 태핑 웨이트에 대한 전체의 공급원료를 수용할 수 있고, 이에 따라 용융공정은 태핑될 때까지 추가적인 충전에 의해 중단될 필요가 없다. 전기 아크로에서, 이는 허용가능한 전극 길이에 따르는 동안 가능하게 될 수 있다.
본 발명의 다른 목적은 상기 노 용기의 수용 공간을 가변적으로 형성하여, 상기 용광로에서 의도되는 태핑 웨이트를 달성하기 위하여 다양한 공급원료(가벼운 파철, 무거운 파철, 펠릿)를 위해 필요한 상이한 용적에 적합하게 될 수 있다.
이러한 목적은 청구항 1의 특징을 갖는 용광로에 의해 달성될 수 있다. 본 발명의 유리한 실시예는 종속항으로부터 유도될 수 있다.
본 발명의 해결에 있어서, 상기 원통형 상부 용기부는 원통형의 제1하부 세그먼트 및 제2상부 세그먼트를 포함하고, 상기 세그먼트 중 하나는 다른 하나와 중첩되며 적어도 하나의 장치에 의해 다른 하나에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능하도록 구성된다. 이에 의하여, 상기 공급원료를 위한 노 용기의 수용 공간의 크기는 상기 원통형 상부 세그먼트가 얼마나 멀리 텔레스코핑적으로 연장되느냐에 따른 높이로 변경될 수 있다. 이는 상기 공급원료에 대하여 상기 노 용기의 수용 공간을 확장되며 적합하게 하고, 전기 아크로의 경우에 있어서, 상기 전극은 커버를 통해 삽입되고, 또한 상기 공급원료의 높이의 가변성으로 인하여 이점을 갖고, 상기 커버는 용융 크리에이터에 공급원료를 안착시킴으로써 상기 공급원료의 높이를 감소시키기 때문에 용융공정 동안에 전극 지지암과 함께 내려질 수 있어서, 허용가능한 길이로 제한된 길이를 갖는 전극의 전극 팁은 주조 배스의 상면에 대하여 필요한 거리만큼 아래로 이동될 수 있다.
상기 원통형 하부 세그먼트에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능한 상기 상부 노 부분의 원통형 상부 세그먼트는 상기 하부 세그먼트의 내측 또는 외측에 배치될 수 있다. 상기 하부 세그먼트의 외측에 상부 세그먼트를 배치하는 것이, 중첩시키는 것이 바람직하다.
상기 노 용기의 원주를 따라 분산되는 방법으로 배치된 리프팅장치에 의해 상기 상부 세그먼트가 지지될 수 있고, 이에 따라 상기 상부 세그먼트는 상부 노 부분에 할당될 수 있다. 그러나, 상기 상부 노 부분의 원통형 상부 세그먼트는 상기 노 용기 커버의 에지에 부착되고, 상기 상부 노 부분의 원통형 하부 세그먼트에 대하여 커버 리프팅장치로 텔레스코핑적으로 이동가능하게 되는 것이 바람직하다.
전술한 경우에 있어서, 상기 커버 리프팅장치는 또한 텔레스코핑적으로 이동되는 것을 포함하고, 비교적 정밀한 수직 리프팅이 필요하기 때문에, 상기 커버 리프팅장치는 실제 다른 웨이트가 가해지게 되며, 상기 커버 리프팅장치의 리프팅 높이는 대략 증가되고; 그러나, 이는 상세히 설명된 커버 지지구조체로 달성되고, 상기 커버 지지구조체는 정의된 커버의 3개의 지지부 및 전술한 상기 커버 지지구조체용 리프팅장치를 갖는다.
상기 상부 노 부분의 원통형 상부 세그먼트의 텔레스코핑적인 이동가능성으로 인하여, 또한 상기 전기 아크로에서는 텔레스코핑적인 이동가능성을 고려하여 큰 리프팅 높이를 갖도록 구성되는 별개의 전극 리프팅장치를 갖는 것이 필요하다. 그러나, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상기 커버 지지구조체, 특히 상기 커버의 L형상 지지부재의 수평 다리는 전극 리프팅장치를 지지한다. 이 경우, 텔레스코핑적인 이동가능성의 리프팅 높이에 적합하게 함으로써, 상기 전극 리프팅장치 자체의 리프팅 높이를 증가시킬 필요가 없다.
상기 용기에 전극을 침지시킬 수 있는 깊이를 고려해서, 상기 커버가 전형적으로 상측방향으로 굽어 있지 않고 평평하게 구성되는 경우에 훨씬 바람직하다. 상기 커버에 리브를 보강함으로써 필요한 안정성은 향상될 수 있다.
본 발명은 9개의 도면과 예시적인 실시예를 이용하여 더 상세하게 설명될 것이다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따라, 상부 노 부분의 텔레스코핑적으로 이동가능한 상부 세그먼트를 내린 상태에서 부분적인 단면과 함께 나타낸 사시도이다.
도 2는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ라인에 따른 본 발명의 제1실시예의 측면도이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에의 평면도이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따라, 상부 노 부분의 텔레스코핑적으로 이동가능한 상부 세그먼트를 올린 상태에서 나타낸 도 2에 대응하는 도면이다.
도 5 및 도 6은 도 2 및 도 4의 원 Ⅴ 및 원 Ⅵ 부분을 각각 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따라, 도 8의 Ⅶ-Ⅶ라인에 따른 부분적인 단면과 함께 나타낸 측면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 평면도이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따라, 올려진 상부 노 부분의 상부 세그먼트를 갖는 도 7에 대응하는 도면이다.
전술한 목적, 특징들 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 실시예를 통하여 보다 분명해질 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세히 설명한다.
철설(steel scrap)과 같은 철 함유 재료를 용융시키기 위한 용광로는 커버(2)로 상부를 폐쇄시킬 수 있는 노 용기(furnace vessel)(1)를 포함한다. 전기 아크로에서, 하나의 전극(직류 전기 아크로) 또는 3개의 전극(3, 4, 5)(3상 교류 노)은 용융공정 및 제련공정을 위해 개구부(6, 7) 및/또는 미도시된 3개의 개구부를 통해 상기 노 용기의 내부로 각각 삽입될 수 있다. 일반적으로, 배기가스 관에 연결가능한 배기가스 개구부(9)도 커버에 제공된다. 또한, 상기 용기의 돌출부(10) 또는 플로어에 태핑 개구부(tapping opening)(11)가 위치되고, 대향되는 용기 벽에 워크 개구부(work opening)(12)가 위치된다. 상기 노 용기(1)는 틸팅되도록 구성된다. 이러한 용광로 및/또는 전기 아크로의 특징은 대체로 알려져 있어서, 상기 용광로와 전기 아크로에 대해서는 추가로 설명하지 않고 및/또는 상세한 방법으로 나타내지 않는다.
전술한 바와 같이, 상기 용기로 용융될 공급원료가 도입될 경우, 전기 아크로의 경우에 있어서 상기 커버 및 전극은 충전작동을 위해 상기 용기로부터 제거되어야 한다. 이를 위하여, 전기 아크로의 경우에, 전극 리프팅장치(14) 및 커버 리프팅 피벗장치(13)가 제공되고; 전기 아크로의 경우에서, 상기 전극 리프팅장치(14)는 커버 리프팅 피벗장치(13)에 통합된다.
상기 노 용기(1)에 배치된 커버(2)를 올리고, 내리고, 피벗시키기 위한 상기 커버 리프팅 피벗장치는 상기 노 용기(1)의 측부에 배치되는 피벗 갠트리(pivoting gantry)(15)를 포함하고; 상기 피벗 갠트리(15)는, 노 용기(1)의 중앙인, 수직축(16)에 평행하게 지향되는 가이드축(17)에서 피벗 베어링(18)에 의해 회전가능하 게 지지되고, 미도시된 장치를 이용하여 상기 가이드축(17)에 대하여 피벗가능하다. 상기 피벗 갠트리는 측면에서 봤을 때 L형상의 형태이고(도 2 참조), 상기 피벗 베어링(18)을 지지하는 수평 다리(15/1) 및 롤러(19)에서 지지되는 수직 다리(15/2)를 구비한다.
본 경우에 있어서, 상기 커버 리프팅 피벗장치(13)는 수평 다리(20/1) 및 수직 다리(20/2)로 구성된 커버 지지구조체를 갖는 L형상의 지지부(20)를 포함한다. 상기 지지부(20)는 적어도 하나의 리프팅장치에 의해 올려지거나 내려질 수 있다. 본 실시예에서, 두개의 리프팅장치, 즉 후방 리프팅장치(21/1)(도 2 참조)와 전방 리프팅장치(21/2)(도 1 참조)가 있다. 상기 리프팅장치(21/1, 21/2)는 피벗 갠트리(15)와 커버 지지구조체(13) 사이에서 서로 수평적으로 이격되게 각각 배치된다. 이러한 특별한 경우에 있어서, 상기 리프팅장치(21/1, 21/2)는 피벗 갠트리(15)의 수직 다리(15//2)의 브라켓(15/22)과 L형상 지지부(20)의 수평 다리(20/1)의 브라켓(20/13) 사이에 각각 배치된다. 미도시된, 도 2에 나타낸 후방 리프팅장치(21/1)용 브라켓은, 유사한 방법으로 구성되는데, 상기 전방 리프팅장치(21/2)용의 도시된 브라켓(15/22, 20/13)과 좌우대칭이다.
상기 피벗 갠트리(15)의 피벗 움직임을 L형상 지지부(20)로 형성된 지지구조체로 전달하기 위하여, 상기 지지부(20)의 수직 다리(20/2)는 결합장치(22)에 의해 피벗 갠트리(15)의 수직 다리(15/2)와 연결되어, 함께 회전된다. 본 경우에 있어서, 상기 결합장치(22)는 L형상 지지부(20)의 수직 다리(20/2)에서의 수직 홈(23) 및 상기 피벗 갠트리(15)의 수직 다리(15/2)에 부착되며 상기 수직 홈(23)과 결합 하는 결합 돌출부(24)에 의해 형성된다. 상기 커버 지지구조체(20)를 올리고 내리는 동안의 수직 가이던스는 상기 다리(20/2)의 바닥에 부착된 베어링(25)을 통해 발생되고; 상기 베어링(25)은 가이드축(17)을 갖는 커버 지지구조체(20)를 회전가능하며 축방향으로 이동가능하게(axially-diaplaceably) 연결시킨다.
상기 전극 리프팅장치(14)는, 전기 아크로의 전극(3, 4, 5)용 지지암(29, 30, 31)을 각각 지지하며, 상기 커버 지지구조체(13), 특히 상기 L형상 지지부(20)의 수평 다리(20/1)에서 지지되는 3개의 리프팅 칼럼(26, 27, 28)을 포함한다. 상기 전극 리프팅장치(14)는 공지된 방법으로 구성되어 있어, 더 자세한 설명은 하지 않는다.
상기 리프팅장치(21/2, 21/2)는 알려진 구조에서와 같이 상기 커버 지지구조체의 단부에서 작용하지 않고, 상기 L형상 지지부(20)의 베어링(25)으로부터의 거리와 같으며 상기 리프팅 칼럼(26, 27, 28)의 베어링 지점에 인접한 수평 다리(20/1)에서 작용하기 때문에, 상기 커버 지지구조체(13)를 올리는 동안의 상기 커버 지지구조체(13)의 굽힘응력은 알려진 구조에 비해 대략 감소될 수 있다. 이의 해결을 위해, 상기 노 커버로부터 떨어진 측방향에 있는 상기 지지부(20)의 세그먼트, 본질적으로는 상기 지지부의 수직 다리(20/2) 및 베어링(25)은 상기 노 커버의 웨이트 하중, 제공된다면 상기 지지부에서 지지되는 전극 리프팅장치에 대하여 카운터 웨이트(counter weight)를 형성한다.
예시적인 실시예에 있어서, 상기 L형상 지지부(20)의 수평 다리(20/1)는 평면에서 봤을 때 U형상으로 형성되고, 베이스부(20/10)에 의해 연결되는 두개의 지 지암(20/11, 20/12)(도 1 및 도 3 참조)을 구비하고; 상기 지지암(20/11, 20/12)은 서로 분리된 채 상기 커버(2)의 제1직경축(32)에 대하여 대칭적으로 배치된다.
상기 커버(2)는, 본 경우에 있어서 상기 커버의 제1직경축(32)에 수직한 제2직경축(33)까지 완전히 이르지 않고, 상기 지지부(20)의 지지암(20/11, 20/12)에 의해 부분적으로만 가로질러 있고, 상기 지지부(20)의 각 지지암(20/11, 20/12)의 각 자유 단부에 근접한 커버 서스펜딩장치(cover suspending device)(34, 35)를 포함하고; 상기 커버 서스펜딩장치(34, 35)는 탈부착가능하도록 구성되는 것이 바람직하다. 본 경우에 있어서, 상기 커버에 구멍, 예를 들면 액츄에이터에 의해 작동되는 볼트가 삽입될 수 있는 구멍이 제공되고, 상기 볼트는 지지부(20)의 지지암(20/11, 20/12)의 자유 단부에 부착된다. 상기 커버의 비대칭적인 서스펜션으로 인하여, 상기 커버의 에지 영역에 커버 억제장치(cover hold-down device)를 제공할 필요가 있고; 본 경우에 있어서, 상기 커버 억제장치는 지지부(20)의 수평 다리(20/1)의 베이스부(20/10)의 바닥에 부착된 지지 돌출부(36)에 의해 형성되고; 상기 지지 돌출부(36)는 커버 서스펜딩장치(34, 35)와 함께 상기 커버의 3개의 안정된 지지점을 생성한다. 이에 의하여, 상기 커버의 정확한 수직 리프팅이 용이하게 이루어진다.
상기 커버를 대체하기 위하여, 상기 커버(2)가 용기 에지에 놓이는 경우에 상기 커버 서스펜딩장치(34, 35)의 볼트가 분리되고; 상기 지지부(20)는 리프팅장치(21/1, 21/2)를 이용해서 올려진 후에 상기 피벗 갠트리(15)를 이용해서 측부에 대하여 피벗된다.
본 발명의 용광로에 있어서, 하부 용기부(101) 및 원통형의 상부 용기부(102)로 형성된 노 용기는 용융될 공급원료를 위하여 확장가능하며 가변적인 수용 공간(103)으로 구성된다. 이를 위하여, 상기 원통형의 상부 용기부(102)는, 필요한 경우 액체-냉각되며 상기 하부 용기부(101)에 셋팅된 통상의 벽 세그먼트(104) 외에, 먼저 원통형 하부 세그먼트(105) 및 상기 원통형 하부 세그먼트(105)를 중첩시키며 상기 원통형 하부 세그먼트(105)에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능한 원통형 상부 세그먼트(106)를 포함한다. 이를 위하여, 상기 상부 용기부(102)의 원통형 상부 세그먼트(106)는 노 용기 커버(2)의 에지에 부착되고, 상기 커버 지지구조체(20)에 따라 작동하는 커버 리프팅장치, 즉 리프팅장치(21/1, 21/2)에 의해서 상기 상부 용기부(102)의 원통형 하부 세그먼트(105)에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능하다. 그 결과, 상기 커버 리프팅장치(15/1, 15/2)는 리프팅 높이가 대응하도록 높게 구성되어야 한다. 상기 커버 에지에 부착된 상부 용기부(102)의 상부 세그먼트(106)가 하부 용기부(105)의 상부 에지 위로 올려질 만큼 상기 리프팅 높이는 높아져야 하고, 이에 따라 상기 커버는 공급원료를 충전하기 위해 피벗될 수 있다. 특히, 상기 커버(2)가 평평한 구성을 갖는 경우에 상기 용기의 충전과 관련해서, 상기 상부 용기 커버(102)의 원통형 상부 세그먼트(106)의 하부 에지가 원통형 하부 세그먼트(105)의 상부 에지 위로 약 0.3m에서 0.8m로 올려질 수 있는 경우에 유리하다.
도 4는 올려진 상태에서 원통형 상부 세그먼트(106)를 갖는 용광로를 나타낸 것이다. 도 2 및 도 4의 Ⅴ 및 Ⅵ의 확장된 부분인 도 5 및 도 6은 두 위치를 더 명확하게 알 수 있도록 나타낸 것이다. 여기에서, 상기 하부 세그먼트(105)의 상부 에지에는 텔레스코핑적으로 이동가능하고 동시에 가이드로서 역할을 하는 환형 플랜지(107)가 제공된다는 것을 알 수 있다. 이 지점에, 또는 부가적인 지점에, 가이드 비드(guide bead) 또는 가이드 요소도 제공될 수 있다.
본 경우에 있어서, 상기 상부 용기부(102)가 3개의 원통형 벽 세그먼트(104, 105, 106)로 형성될지라도, 예를 들면 도 7 및 도 9에 따른 두 실시예와 같이, 두개의 고정된 벽 세그먼트(104, 105)는 결합되어 하나의 고정된 벽 세그먼트로 될 수 있다.
또한, 상기 상부 벽 세그먼트(106)가 하부 벽 세그먼트(105)의 외측에서 텔레스코핑적으로 이동가능하지 않고, 즉 예시적인 실시예에서와 같이 중첩시키고, 오히려 상기 하부 벽 세그먼트(105)의 내측에서 텔레스코핑적으로 이동가능하도록 상기 상부 벽 세그먼트(106)와 하부 벽 세그먼트(105) 사이에서 텔레스코핑적으로 이동가능하게 구성될 수 있다. 이러한 변형은 도시되어 있지 않다.
상기 확장된 수용 공간, 즉 도 4에 따라 올려진 상부 세그먼트(206)를 갖는 노 용기를 충전한 후, 상기 용융공정 동안에 상기 전극을 버닝함으로써 공급원료 재료에 크리에이터(creater)가 형성되고; 상기 크리에이터로 공급원료가 낙하되어 상기 커버가 내려갈 수 있고, 이에 따라 상기 전극이 내려갈 수 있다. 그 결과, 상기 전극 팁과 (미도시된) 하부 용기부에서의 주조 배스(bath) 사이의 수직 거리는 도 2에 나타낸 위치로 줄어들 수 있다.
도 7 및 도 9에 나타낸 예시적인 실시예에 있어서, 상기 상부 용기부(106)는 커버(2)의 에지에 부착되지 않고, 상기 노 용기(1)의 원주에 분산된 방법으로 배치되는 4개의 리프팅장치(108)에서 지지된다. 이외에, 상기 구조는 제1예시적인 실시예에 대응되어, 관련된 사항은 설명을 위한 본 실시예에 대하여 이루어질 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.

Claims (14)

  1. 용융될 공급원료, 특히 파철을 수용하기 위한 하부 용기부(101)와 상부 용기부(102)로 이루어진 노 용기(1), 및 커버 지지구조체(13, 20)에 의해 지지되는 노 용기 커버(2)를 갖는, 특히 전기 아크로인 용광로로서,
    상기 원통형 상부 용기부(102)는 원통형의 제1하부 세그먼트(105) 및 제2상부 세그먼트(106)를 포함하고, 상기 세그먼트 중 하나는 다른 하나와 중첩되며 적어도 하나의 리프팅장치(21/1, 21/2; 108)에 의해 다른 하나에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능하도록 구성되는
    용광로.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부 용기부(102)의 상부 세그먼트(106)는 상부 용기부(102)의 하부 세그먼트(105)를 중첩시키는
    용광로.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 노 용기(1)의 원주에 분산되는 방법으로 배치된 리프팅장치(108)는 상 기 상부 용기부(102)의 상부 세그먼트(106)를 올리고 내리기 위하여 제공되는
    용광로.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상부 용기부(102)의 원통형 상부 세그먼트(106)는, 노 용기 커버(2)의 에지에 부착되고, 상기 커버 지지구조체(20)에 따라 작동하는 커버 리프팅장치(21/1, 21/2)에 의해서 상기 상부 용기부(102)의 원통형 하부 세그먼트(105)에 대하여 텔레스코핑적으로 이동가능한
    용광로.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 상부 용기부(102)의 원통형 상부 세그먼트(106)의 하부 에지는 상기 원통형 하부 세그먼트(105)의 상부 에지 위로 약 0.3m에서 0.8m 올려질 수 있는
    용광로.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 상부 용기부(102)의 상부 세그먼트(106)를 텔레스코핑적으로 가이드하 기 위하여 상기 상부 용기부(102)의 하부 세그먼트(105)의 상부 에지에 적어도 하나의 가이드 요소가 제공되는
    용광로.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용기 커버는 보강 리브(110)를 갖고 평평하게 구성되는
    용광로.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 커버(2)를 지지하는 커버 지지구조체(13, 20)는 상기 노 용기(1)의 수직인 중앙축(16)에 평행하게 지향되며 상기 노 용기(1)의 측부에 배치되는 가이드축(17)에서 축방향으로 이동가능하게 지지되고, 상기 커버 지지구조체(13, 20)는 적어도 하나의 리프팅장치(21/1, 21/2)에 의해 올려지고 내려질 수 있는
    용광로.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 커버 지지구조체(13, 20)의 리프팅장치(21/1, 21/2)는, 상기 노 용 기(1)의 측부에 배치되는 피벗 갠트리(15)에서 지지되고, 상기 커버 지지구조체(13, 20)의 가이드축(16)에서 회전가능하게 지지되고, 드라이브에 의해 상기 가이드축(17)에 대하여 피벗가능하게 되고, 상기 커버(2)를 지지하는 커버 지지구조체(13, 20)는 가이드축에서 회전가능하게 지지되며 결합장치(22, 23, 24)에 의해 피벗 갠트리(15)와 연결되어 함께 회전되는
    용광로.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    상기 커버 지지구조체(13, 20)에 중공의 실린더(25)가 부착되고, 상기 중공의 실린더(25)는 가이드축(17)에서 회전가능하게 지지되는
    용광로.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 커버 지지구조체(13)는 커버(2)를 부분적으로 가로지르는 적어도 하나의 수평 다리(20/1)를 갖는 L형상 지지부(20, 20/1, 20/2)를 포함하는
    용광로.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 수평 다리(20/1)의 자유 단부에 근접한 L형상 지지부(20)에서 상기 커버의 직경축(32)의 각 측부에 커버 서스펜딩장치(34, 35)가 각각 제공되고, 상기 커버 에지 위의 영역에 커버 억제장치(36)가 제공되는
    용광로.
  13. 제8항 내지 제12항에 있어서,
    상기 커버 서스펜딩장치(34, 35)는 액츄에이터에 의해 작동가능한 볼트/구멍 연결부로 형성되는
    용광로.
  14. 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 커버 지지구조체(13, 20)는 적어도 하나의 전극 리프팅장치(14)를 지지하는
    용광로.
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