KR20090035433A - 노광 장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents
노광 장치 및 디바이스 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090035433A KR20090035433A KR1020080096432A KR20080096432A KR20090035433A KR 20090035433 A KR20090035433 A KR 20090035433A KR 1020080096432 A KR1020080096432 A KR 1020080096432A KR 20080096432 A KR20080096432 A KR 20080096432A KR 20090035433 A KR20090035433 A KR 20090035433A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- stage
- support
- vibration
- holding unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
Claims (7)
- 투영 광학계를 통해서 원판의 패턴을 기판에 노광하도록 구성된 노광 장치로서,상기 투영 광학계를 홀드하도록 구성된 홀딩 유닛과,상기 홀딩 유닛을 지지하도록 구성된 적어도 3개 제진 마운트들과,상기 적어도 3개 이상의 제진 마운트들을 각각 지지하도록 구성된 적어도 3개의 지지부재들을 구비하고,상기 적어도 3개의 지지부재들은, 서로 연결되지 않고 서로 독립적인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 원판을 홀드하는 원판 스테이지, 상기 원판을 노광용의 조명 광으로 조명하는 조명 광학계, 상기 원판을 반송하는 반송 장치 및 상기 기판을 반송하는 반송 장치의 적어도 하나를 지지하도록 구성된 베이스 구조체를 더 구비하고,상기 베이스 구조체는, 상기 지지부재들과 연결되지 않고 상기 지지부재들과는 독립적인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 기판을 홀드하는 기판 스테이지와, 상기 기판 스테이지를 구동하는 구동기구와, 기판 스테이지 정반을 포함하는 스테이지 기구를 더 구비하고,상기 기판 스테이지 정반은, 상기 베이스 구조체에 의해 지지되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 기판을 홀드하는 기판 스테이지와, 상기 기판 스테이지를 구동하는 구동 기구와, 기판 스테이지 정반을 포함하는 스테이지 기구를 더 구비하고,상기 기판 스테이지 정반은, 상기 베이스 구조체 및 상기 지지부재들과 연결되지 않고 상기 베이스 구조체 및 상기 지지부재들과는 독립적인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 베이스 구조체에 대한 상기 홀딩 유닛의 상대 위치를 검출하도록 구성된 위치 검출기와,상기 위치 검출기로부터의 출력에 의거하여 상기 베이스 구조체와 상기 홀딩 유닛과의 거리 및 상기 홀딩 유닛의 경사각의 적어도 한쪽을 제어하도록 구성된 제 어기를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 홀딩 유닛의 진동을 감지하도록 구성된 진동 센서와,상기 진동 센서로부터의 출력에 의거하여 상기 홀딩 유닛의 진동을 줄이는 힘을 상기 베이스 구조체와 상기 홀딩 유닛과의 사이에서 발생시키도록 구성된 힘 액추에이터를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 기재된 노광장치를 이용해서 기판을 노광하는 스텝과,노광된 기판을 현상하는 스텝과,현상된 기판을 처리해서 디바이스를 제조하는 스텝을 포함한 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007262730A JP5188135B2 (ja) | 2007-10-05 | 2007-10-05 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JPJP-P-2007-262730 | 2007-10-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090035433A true KR20090035433A (ko) | 2009-04-09 |
KR100986165B1 KR100986165B1 (ko) | 2010-10-07 |
Family
ID=40522962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080096432A KR100986165B1 (ko) | 2007-10-05 | 2008-10-01 | 노광 장치 및 디바이스 제조방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8009273B2 (ko) |
JP (1) | JP5188135B2 (ko) |
KR (1) | KR100986165B1 (ko) |
TW (1) | TWI403860B (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8905369B2 (en) * | 2011-09-09 | 2014-12-09 | Mapper Lithography Ip B.V. | Vibration isolation module and substrate processing system |
KR20150013605A (ko) * | 2012-04-26 | 2015-02-05 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP6218459B2 (ja) * | 2013-07-02 | 2017-10-25 | キヤノン株式会社 | 除振装置、除振方法、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 |
DE102018210996A1 (de) * | 2018-07-04 | 2020-01-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abstützung einer optischen einheit |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5528118A (en) * | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
US6330052B1 (en) * | 1997-06-13 | 2001-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method |
JP3554186B2 (ja) * | 1998-04-08 | 2004-08-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法 |
JP2002305140A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Nikon Corp | 露光装置及び基板処理システム |
JP2002367893A (ja) * | 2001-06-08 | 2002-12-20 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2003309055A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-31 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
JP3977214B2 (ja) * | 2002-09-17 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP2004165416A (ja) | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Nikon Corp | 露光装置及び建屋 |
JP2005136120A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Nikon Corp | Euv光投影露光装置及び方法 |
JP2005236078A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Nikon Corp | 露光装置 |
-
2007
- 2007-10-05 JP JP2007262730A patent/JP5188135B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-09-30 TW TW097137554A patent/TWI403860B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-10-01 KR KR1020080096432A patent/KR100986165B1/ko active IP Right Grant
- 2008-10-03 US US12/245,207 patent/US8009273B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5188135B2 (ja) | 2013-04-24 |
JP2009094253A (ja) | 2009-04-30 |
US8009273B2 (en) | 2011-08-30 |
KR100986165B1 (ko) | 2010-10-07 |
US20090091733A1 (en) | 2009-04-09 |
TWI403860B (zh) | 2013-08-01 |
TW200931188A (en) | 2009-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6359679B1 (en) | Positioning device, exposure device, and device manufacturing method | |
JP3554186B2 (ja) | 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法 | |
US8164737B2 (en) | Lithographic apparatus having an active damping subassembly | |
US5781277A (en) | Projection exposure apparatus and exposure method and semiconductor device production method therewith | |
KR100399452B1 (ko) | 노광 장치 | |
US20020012108A1 (en) | Anti-vibration system for exposure apparatus | |
JPWO2007040254A1 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
KR101010043B1 (ko) | 스테이지 장치 및 노광 장치 | |
JP2001148341A (ja) | 露光装置 | |
KR100986165B1 (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조방법 | |
TW201510671A (zh) | 移動體裝置及曝光裝置、以及元件製造方法 | |
JP2000040650A (ja) | 走査型露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP5350139B2 (ja) | 露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
JP2010080624A (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
JPWO2008093617A1 (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
JP2006040927A (ja) | 支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
WO2005074015A1 (ja) | 板部材の支持方法、板部材支持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
JP2011100947A (ja) | 防振装置とその制御方法及びステージ装置並びに露光装置 | |
JP4123558B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2005217303A (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2769897B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2009283790A (ja) | 露光装置及び露光装置の防振方法 | |
JPH11316607A (ja) | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP4586872B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 | |
JP2001217172A (ja) | ステージ装置及び露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130926 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140924 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150923 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160926 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170925 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180928 Year of fee payment: 9 |