KR20090034600A - Apparatus for coating photoresist - Google Patents

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Abstract

An apparatus of coating photoresist is provided to form the blocking plate which is parallel with the direction of the slit nozzle and prevent the damage of the slit nozzle. The substrate is settled in the stage. The photoresist is coated onto the top of the substrate through the slit nozzle(300). The traveling direction of the slit nozzle is parallel with the stage. The vibration sensor(380) is adhered to the slit nozzle. The blocking plate(350) is adhered to the front part of the slit nozzle. The blocking plate is formed parallel with the slit direction of the slit nozzle.

Description

포토 레지스트 도포 장치{Apparatus for coating photoresist}Photoresist coating apparatus {Apparatus for coating photoresist}

본 발명은 포토 레지스트 도포 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 슬릿 노즐의 파손을 방지하여 슬릿 노즐의 교체 비용을 줄이고 작업 효율을 높일 수 있는 포토 레지스트 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a photoresist coating apparatus, and more particularly, to a photoresist coating apparatus that can prevent damage to the slit nozzle, thereby reducing the cost of replacing the slit nozzle and increasing work efficiency.

일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display) 장치는 액정 표시 소자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이 장치는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching) 및 이온 주입(ion implant) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다. In general, a flat panel display device refers to a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic light emitting diode. Such flat panel display devices are manufactured by repeatedly performing processes such as photo, diffusion, deposition, etching, and ion implantation on a substrate.

이러한 반복되는 제조 공정들 중, 사진 공정은 기판에 포토 레지스트를 코팅하는 공정, 포토 레지스트 상에 미세 패턴을 형성하는 노광 공정 및 포토 레지스트를 현상하는 현상 공정을 순차적으로 수행함으로써 기판 상에 미세 패턴을 형성한다.Among these repetitive manufacturing processes, a photo process is performed by sequentially coating a photoresist on a substrate, an exposure process for forming a fine pattern on the photoresist, and a developing process for developing the photoresist. Form.

이 중, 기판 표면에 포토 레지스트를 코팅하는 공정에서는 공정 테이블 상에 기판을 안착시키고, 포토 레지스트를 공급하는 슬릿 노즐이 기판 표면을 일정 속도 로 이동하면서 기판 상에 포토 레지스트를 도포하게 된다. 이 때, 기판 표면에 균일하게 포토 레지스트를 형성하기 위해서는 슬릿 노즐을 기판 표면에 평행하게 조정한 상태에서 포토 레지스트를 도포해야 한다. Among them, in the process of coating the photoresist on the substrate surface, the substrate is seated on the process table, and the slit nozzle for supplying the photoresist applies the photoresist onto the substrate while moving the substrate surface at a constant speed. At this time, in order to form a photoresist uniformly on the substrate surface, the photoresist should be applied while the slit nozzle is adjusted in parallel with the substrate surface.

이와 같은 포토 레지스트를 도포하는 공정은 매우 정밀하게 진행된다. 포토 레지스트를 도포하는 슬릿 노즐과 기판과의 간격은 수 ㎛ 단위로 제어될 정도로 정밀도를 요하게 된다.The process of applying such photoresist proceeds very precisely. The distance between the slit nozzle for applying the photoresist and the substrate requires precision to be controlled in units of several micrometers.

이와 같은 포토 레지스트를 도포하는 공정은 매우 정밀하게 진행된다. 포토 레지스트를 도포하는 슬릿 노즐과 기판과의 간격은 수 ㎛ 정도를 유지할 정도로 정밀도를 요하게 된다. 따라서, 기판 상에 미세한 먼지 혹은 이물질이 존재하는 경우 이동하는 슬릿 노즐에 영향을 주게 된다. 즉, 미세한 먼지 또는 이물질은 기판과 슬릿 노즐에 물리적인 저항을 가하게 되어 기판 및 슬릿 노즐은 손상시키는 문제점이 발생한다.The process of applying such photoresist proceeds very precisely. The distance between the slit nozzle for applying the photoresist and the substrate requires precision to maintain a few μm or so. Therefore, when the fine dust or foreign matter on the substrate affects the moving slit nozzle. That is, fine dust or foreign matters cause physical resistance to the substrate and the slit nozzle, thereby causing damage to the substrate and the slit nozzle.

이에, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 슬릿 노즐의 파손을 방지하여 슬릿 노즐의 교체 비용을 줄이고 작업 효율을 높일 수 있는 포토 레지스트 도포 장치를 제공하고자 하는 것이다.Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a photoresist coating apparatus that can prevent the slit nozzle breakage, thereby reducing the replacement cost of the slit nozzle and increasing the work efficiency.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치는 기판이 안착되는 스테이지와, 상기 스테이지에 대한 상대적인 이동 방향이 상기 스테이지와 평행하고, 상기 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 슬릿 노즐과, 상기 슬릿 노즐에 부착된 진동 센서와, 상기 스테이지에 대한 상대적인 이동 방향인 상기 슬릿 노즐의 전반부에 부착되며, 상기 슬릿 노즐의 슬릿 방향과 평행 한 방향으로 길게 형성된 차단판을 포함한다.The photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above object is a stage on which the substrate is seated, the relative movement direction with respect to the stage is parallel to the stage, the slit for applying a photoresist on the substrate And a nozzle, a vibration sensor attached to the slit nozzle, and a blocking plate attached to the first half of the slit nozzle, which is a relative movement direction with respect to the stage, and formed to extend in a direction parallel to the slit direction of the slit nozzle.

상술한 바와 같은 본 발명에 실시예들에 따른 포토 레지스트 도포 장치는 슬릿 노즐의 파손을 방지하여 슬릿 노즐의 교체 비용을 줄이고 작업 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.The photoresist coating apparatus according to the embodiments of the present invention as described above has the effect of preventing damage to the slit nozzle to reduce the replacement cost of the slit nozzle and increase work efficiency.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

이하, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치에 대하여 상세히 설명한다. 여기서, 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치의 사시도이고, 도 2는 도 1의 포토 레지스트 도포 장치에 포함되는 슬릿 노즐의 사시도이고, 도 3은 도 2의 슬릿 노즐을 III-III' 선으로 절단한 단면도이다.Hereinafter, a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 3. 1 is a perspective view of a photoresist coating apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of a slit nozzle included in the photoresist coating apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is a slit nozzle of FIG. 2. It is sectional drawing cut by the -III 'line.

본 발명의 일 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치(10)는 스테이지(100), 분사 어셈블리(200), 제1 이송 레일(400a) 및 제2 이송 레일(400b)을 포함한다. The photoresist coating apparatus 10 according to an embodiment of the present invention includes a stage 100, an injection assembly 200, a first transfer rail 400a, and a second transfer rail 400b.

스테이지(100)는 기판(G)이 안착되는 안착면을 형성하며, 기판(G)에 포토 레지스트가 균일하게 도포될 수 있도록 수평을 유지한다. 스테이지(100)는 기판(G)을 고정하는 고정 수단(미도시)을 포함할 수 있으며, 고정 수단으로는 기판(G)을 진공압으로 흡착할 수 있는 진공 흡착 수단일 수 있다.The stage 100 forms a seating surface on which the substrate G is mounted, and is horizontally maintained so that the photoresist may be uniformly applied to the substrate G. The stage 100 may include fixing means (not shown) for fixing the substrate G, and the fixing means may be vacuum adsorption means capable of adsorbing the substrate G under vacuum pressure.

스테이지(100)의 양측에는 분사 어셈블리(200)가 이동할 수 있는 제1 이송 레일(400a) 및 제2 이송 레일(400b)을 포함한다. 제1 이송 레일(400a) 및 제2 이송 레일(400b)은 분사 어셈블리(200)가 기판(G)과 평행인 수평 방향으로 이동할 수 있도록 한다. 이와 같은 제1 이송 레일(400a) 및 제2 이송 레일(400b)은 분사 어셈블리(200)의 슬릿 노즐(300)이 기판(G)과 소정의 간격을 유지하면서 정밀하게 포토 레지스트를 도포할 수 있도록 한다.Both sides of the stage 100 include a first transfer rail 400a and a second transfer rail 400b to which the injection assembly 200 may move. The first conveyance rail 400a and the second conveyance rail 400b allow the injection assembly 200 to move in a horizontal direction parallel to the substrate G. The first conveyance rail 400a and the second conveyance rail 400b as described above may allow the slit nozzle 300 of the injection assembly 200 to apply the photoresist precisely while maintaining a predetermined distance from the substrate G. do.

스테이지(100)의 위에는 분사 어셈블리(200)가 위치한다. 분사 어셈블리(200)는 스테이지(100) 상에서 평형 이동하면서 기판(G) 상에 포토 레지스트를 균일하게 도포한다. 분사 어셈블리(200)는 슬릿 노즐(300), 고장판(230) 제1 지지체(210a) 및 제2 지지체(210b)를 포함한다.The injection assembly 200 is positioned on the stage 100. The spray assembly 200 uniformly spreads the photoresist on the substrate G while equilibrating on the stage 100. The injection assembly 200 includes a slit nozzle 300, a fault plate 230, a first support 210a and a second support 210b.

슬릿 노즐(300)은 포토 레지스트가 도포되는 기판(G)의 폭(W)과 동일한 길이로 형성되며, 기판(G)의 일단부에서 타단부까지 이동하면서 일정한 두께로 포토 레지스트를 도포한다. 슬릿 노즐(300)은 제1 몸체(310), 제2 몸체(320), 버퍼부(330) 및 토출구(340)를 포함하며, 진동 센서(380) 및 차단판(350)을 더 포함할 수 있다.The slit nozzle 300 is formed to have the same length as the width W of the substrate G to which the photoresist is applied, and applies the photoresist to a certain thickness while moving from one end of the substrate G to the other end. The slit nozzle 300 may include a first body 310, a second body 320, a buffer unit 330, and an outlet 340, and may further include a vibration sensor 380 and a blocking plate 350. have.

제1 몸체(310)와 제2 몸체(320)는 서로 결합하여 슬릿 노즐(300)의 몸체를 이루게 된다. 제1 몸체(310)와 제2 몸체(320) 사이에는 버퍼부(330)가 형성된다. 버퍼부(330)는 슬릿 노즐(300)을 통해 분사되는 포토 레지스트가 일정한 압력으로 일정하게 분사되도록 완충하는 역할한다. 포토 레지스트 공급구(370)를 통하여 슬릿 노즐(300) 내부로 유입되는 포토 레지스트는 버퍼부(330)를 경유하여 토출구(340)로 유출된다.The first body 310 and the second body 320 are combined with each other to form a body of the slit nozzle 300. A buffer unit 330 is formed between the first body 310 and the second body 320. The buffer unit 330 buffers the photoresist sprayed through the slit nozzle 300 to be sprayed at a constant pressure. The photoresist flowing into the slit nozzle 300 through the photoresist supply port 370 flows out to the discharge port 340 via the buffer unit 330.

토출구(340)는 포토 레지스트가 슬릿 노즐(300)의 외부로 방출되는 통로가 되며, 슬릿 노즐(300)이 이동하는 방향과 수직인 방향으로 길게 슬릿(slit) 형상으로 형성된다.The discharge port 340 is a passage through which the photoresist is discharged to the outside of the slit nozzle 300, and is formed in a slit shape long in a direction perpendicular to the direction in which the slit nozzle 300 moves.

버퍼부(330)에 일시 저장된 포토 레지스트는 일정한 압력으로 토출구(340)를 통하여 슬릿 노즐(300) 외부로 유출되며, 토출구(340)를 따라 균일한 양으로 기판(G) 상에 도포된다. 토출구(340)를 통하여 분사되는 포토 레지스트는 연속적으로 방출되어 기판(G) 상에 코팅면을 형성하게 된다.The photoresist temporarily stored in the buffer unit 330 flows out of the slit nozzle 300 through the discharge opening 340 at a constant pressure and is applied on the substrate G in a uniform amount along the discharge opening 340. Photoresist injected through the discharge port 340 is continuously discharged to form a coating surface on the substrate (G).

차단판(350)은 기판(G) 상의 이물질에 의하여 슬릿 노즐(300)의 노즐팁이 물리적인 손상을 입는 것을 방지하는 역할을 한다. 차단판(350)은 슬릿 노즐(300)의 토출구(340)와 평행한 방향으로 길게 형성되며, 슬릿 노즐(300)이 이동하는 방향의 전반부에 위치한다. 즉, 차단판(350)은 노즐팁(360) 보다 슬릿 노즐(300)이 이동하는 방향의 전단에 부착되어, 슬릿 노즐(300)이 기판(G) 위를 평행 이동할 때 노즐팁(360)을 선행하여 이동하게 된다.The blocking plate 350 serves to prevent the nozzle tip of the slit nozzle 300 from being physically damaged by the foreign matter on the substrate G. The blocking plate 350 is elongated in a direction parallel to the discharge port 340 of the slit nozzle 300, and is positioned in the first half of the direction in which the slit nozzle 300 moves. That is, the blocking plate 350 is attached to the front end of the direction in which the slit nozzle 300 moves rather than the nozzle tip 360, so that the slit nozzle 300 moves the nozzle tip 360 when the slit nozzle 300 moves on the substrate G in parallel. It moves ahead.

차단판(350)이 슬릿 노즐(300)의 노즐팁(360)을 선행하여 움직이면서 기판(G) 상에 미세 먼지 또는 이물질을 만나게 되면, 차단판(350)이 미세 먼지 또는 이물질과 물리적인 접촉을 하게 된다. 이와 같은 차단판(350)은 고도의 정밀도를 요하는 노즐팁(360)을 손상시킬 수 있는 미세 먼지 또는 이물질을 먼저 제거할 수 있다.When the blocking plate 350 encounters fine dust or foreign matter on the substrate G while moving the nozzle tip 360 of the slit nozzle 300, the blocking plate 350 may make physical contact with the fine dust or foreign matter. Done. The blocking plate 350 may first remove fine dust or foreign matter that may damage the nozzle tip 360 requiring high precision.

한편, 진동 센서(380)는 슬릿 노즐(300)의 진동을 측정하여, 슬릿 노즐(300)의 상태를 파악한다. 슬릿 노즐(300)은 제1 이송 레일(400a) 및 제2 이송 레일(400b)에 의해 기판(G) 위를 평행이동하게 되며, 이동하는 슬릿 노즐(300)은 일정한 진폭을 갖는 진동 주파수를 갖게 된다. 반면에, 슬릿 노즐(300)이 외부로부터 물리적인 영향을 받으면 진폭이 변하게 되어, 슬릿 노즐(300)의 진동을 모니터링하게 되면 외부로부터의 물리적인 영향을 쉽게 감지할 수 있다. 따라서, 기판(G) 상에 이물질이 존재할 때, 슬릿 노즐(300)의 이동에 선행하여 이동하는 차단판(350)이 먼저 이물질과 물리적인 접촉을 하게 되며, 이로 인해 차단판(350)과 슬릿 노즐(300)은 더 높은 진폭을 갖는 진동이 전달되어 진동 센서(380)가 이 진동을 감지한다. 진동 센서(380)가 외부로부터의 진동을 감지하면 슬릿 노즐(300)의 이동을 즉시 정지하게 되고, 슬릿 노즐(300)의 노즐팁(360)은 손상으로부터 보호될 수 있다.On the other hand, the vibration sensor 380 measures the vibration of the slit nozzle 300, to grasp the state of the slit nozzle 300. The slit nozzle 300 is moved in parallel on the substrate G by the first transfer rail 400a and the second transfer rail 400b, and the moving slit nozzle 300 has a vibration frequency having a constant amplitude. do. On the other hand, when the slit nozzle 300 is physically influenced from the outside, the amplitude is changed, and when the vibration of the slit nozzle 300 is monitored, the physical effect from the outside can be easily detected. Therefore, when foreign matter is present on the substrate G, the blocking plate 350 moving in advance of the movement of the slit nozzle 300 first comes into physical contact with the foreign matter, thereby blocking the blocking plate 350 and the slit. The nozzle 300 transmits a vibration having a higher amplitude so that the vibration sensor 380 detects the vibration. When the vibration sensor 380 detects vibration from the outside, the movement of the slit nozzle 300 is immediately stopped, and the nozzle tip 360 of the slit nozzle 300 may be protected from damage.

차단판(350)은 슬릿 노즐(300)의 높이 보다 낮거나 같은 높이로 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 차단판(350)과 기판(G) 사이의 간격은 슬릿 노즐(300)과 기판(G) 사이의 간격보다 작거나 같도록 형성하여야 슬릿 노즐(300)의 노즐팁(360)이 차단판(350)을 통과한 이물질에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있다. The blocking plate 350 is preferably formed at a height lower than or equal to the height of the slit nozzle 300. That is, the gap between the blocking plate 350 and the substrate G should be formed to be smaller than or equal to the gap between the slit nozzle 300 and the substrate G so that the nozzle tip 360 of the slit nozzle 300 is blocked. Damage to the foreign material having passed through 350 can be prevented.

차단판(350)은 기판(G) 상의 이물질에 의하여 손상되지 않을 정도의 충분한 강성을 갖도록 형성될 수 있으며, 슬릿 노즐(300)의 제1 몸체(310) 또는 제2 몸 체(320)와 일체로 형성될 수 있다. 다만, 차단판(350)이 슬릿 노즐(300)과 일체로 형성될 수 있으나, 이에 한정될 것은 아니며 별도로 탈부착이 가능하도록 형성될 수 있다. 즉, 차단판(350)은 슬릿 노즐(300)의 일부를 형성하면서 그 기능을 나타낼 수도 있으나, 슬릿 노즐(300)에 부가되는 별도의 구성 요소가 될 수도 있다.The blocking plate 350 may be formed to have sufficient rigidity so as not to be damaged by foreign matter on the substrate G, and may be integrated with the first body 310 or the second body 320 of the slit nozzle 300. It can be formed as. However, the blocking plate 350 may be integrally formed with the slit nozzle 300, but is not limited thereto and may be formed to be detachable. That is, the blocking plate 350 may show a function while forming a part of the slit nozzle 300, but may be a separate component added to the slit nozzle 300.

슬릿 노즐(300)은 스테이지(100)를 가로 방향으로 길게 가로지르는 고장판(230)에 고정된다. 고장판(230)의 양측에는 제1 지지체(210a)와 제2 지지체(210b)가 형성되어 고장판(230)과 슬릿 노즐(300)을 고정한다.The slit nozzle 300 is fixed to the failure plate 230 that traverses the stage 100 in the horizontal direction. The first support 210a and the second support 210b are formed at both sides of the fault plate 230 to fix the fault plate 230 and the slit nozzle 300.

제1 지지체(210a)와 제2 지지체(210b)는 각각 제1 이송 레일(400a)과 제2 이송 레일(400b) 위를 슬라이딩 운동할 수 있다.The first support 210a and the second support 210b may slide on the first transport rail 400a and the second transport rail 400b, respectively.

한편, 슬릿 노즐(300)과 스테이지(100)는 상대적인 평행 이동을 하는 것으로서, 반드시 정지된 스테이지(100) 위를 슬릿 노즐(300)이 이동할 필요는 없다. 다시 말해서, 슬릿 노즐(300)을 일정한 위치에 고정시키고, 스테이지(100)를 평행이동하여 움직일 수 있다. On the other hand, the slit nozzle 300 and the stage 100 is a relatively parallel movement, it does not necessarily need to move the slit nozzle 300 on the stationary stage (100). In other words, the slit nozzle 300 may be fixed at a predetermined position, and the stage 100 may be moved in parallel.

이하, 도 4 및 도 5를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치를 설명한다. 여기서, 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치에 포함되는 슬릿 노즐의 사시도이고, 도 5는 도 4의 슬릿 노즐은 V-V' 선으로 절단한 단면도이다. 설명의 편의상 상기 일 실시예의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 동일 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. Hereinafter, a photoresist coating apparatus according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5. 4 is a perspective view of a slit nozzle included in a photoresist coating apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line V-V ′ of the slit nozzle of FIG. 4. For convenience of explanation, the same members having the same functions as the respective members shown in the drawings of the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and thus description thereof is omitted.

본 발명의 다른 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치(10)는 박판형의 차 단판(350)을 포함한다. 차단판(350)은 슬릿 노즐(300)의 이동 방향에 선행하는 위치에 형성된다. 이러한 차단판(350)은 슬릿 노즐(300)과 일체로 형성될 수도 있으나, 차단판(350)을 박판형으로 얇게 형성하기 위해서는 별도의 구성요소로 형성하여 슬릿 노즐(300)에 결합하는 것이 바람직하다.The photoresist coating apparatus 10 according to another embodiment of the present invention includes a thin-walled blocking plate 350. The blocking plate 350 is formed at a position preceding the moving direction of the slit nozzle 300. The blocking plate 350 may be formed integrally with the slit nozzle 300, but in order to form the blocking plate 350 thinly in a thin plate shape, the blocking plate 350 may be coupled to the slit nozzle 300 by forming a separate component. .

차단판(350)을 박판형으로 얇게 형성하면 미세한 이물질에 의한 물리적 영향에 의해서도 쉽게 인지될 수 있어, 포토 레지스트 도포 장치(10)의 정밀도를 더욱 높일 수 있다. 기판(G) 상의 포토 레지스트를 도포하는 과정은 매우 정밀한 작업을 요하는 것으로 미세한 이물질이나 진동에 의해서도 영향을 받을 수 있다. 따라서, 이물질과의 충돌에 의해서 진동이 입력되는 차단판(350)을 얇은 박판형으로 형성하고 차단판(350) 상에 진동 센서(380)를 부착하여 더욱 미세한 진동을 인지할 수 있도록 한다.When the blocking plate 350 is thinly formed in a thin plate shape, the blocking plate 350 may be easily recognized even by a physical influence caused by a fine foreign matter, thereby further increasing the precision of the photoresist coating apparatus 10. The process of applying the photoresist on the substrate G requires very precise work and may be affected by minute foreign matter or vibration. Therefore, the thin plate is formed in a thin plate shape and the vibration plate is input by the collision with the foreign matter and the vibration sensor 380 is attached on the blocking plate 350 to recognize the finer vibration.

한편, 차단판(350)은 슬릿 노즐(300)의 이동 속도, 기판(G)과 슬릿 노즐(300) 사이의 간격 등에 따라 두께 및 재질 등을 다양하게 변형할 수 있다. On the other hand, the blocking plate 350 may be variously modified in thickness and material according to the moving speed of the slit nozzle 300, the distance between the substrate (G) and the slit nozzle (300).

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a photoresist application apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 포토 레지스트 도포 장치에 포함되는 슬릿 노즐의 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view of a slit nozzle included in the photoresist coating device of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2의 슬릿 노즐을 III-III' 선으로 절단한 단면도이다.3 is a cross-sectional view taken along line III-III ′ of the slit nozzle of FIG. 2.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 포토 레지스트 도포 장치에 포함되는 슬릿 노즐의 사시도이다.4 is a perspective view of a slit nozzle included in a photoresist application apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 슬릿 노즐은 V-V' 선으로 절단한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line V-V ′ of the slit nozzle of FIG. 4.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10: 포토 레지스트 도포 장치 100: 스테이지10: photoresist coating device 100: stage

200: 분사 어셈블리 210a, 210b: 제1 및 제2 지지체200: injection assembly 210a, 210b: first and second supports

230: 고정판 300: 슬릿 노즐230: fixed plate 300: slit nozzle

310: 제1 몸체 320: 제2 몸체310: first body 320: second body

330: 버퍼부 340: 토출구330: buffer portion 340: discharge port

350, 450: 차단판 360: 노즐팁350, 450: blocking plate 360: nozzle tip

370: 포토 레지스트 공급구 380: 진동 센서370: photoresist supply port 380: vibration sensor

400a, 400b: 제1 및 제2 이송 레일400a, 400b: first and second transfer rails

Claims (5)

기판이 안착되는 스테이지;A stage on which the substrate is seated; 상기 스테이지에 대한 상대적인 이동 방향이 상기 스테이지와 평행하고, 상기 기판 상에 포토 레지스트를 도포하는 슬릿 노즐;A slit nozzle in which a direction of movement relative to the stage is parallel to the stage and which applies photoresist on the substrate; 상기 슬릿 노즐에 부착된 진동 센서; 및A vibration sensor attached to the slit nozzle; And 상기 스테이지에 대한 상대적인 이동 방향인 상기 슬릿 노즐의 전반부에 부착되며, 상기 슬릿 노즐의 슬릿 방향과 평행한 방향으로 길게 형성된 차단판을 포함하는 포토 레지스트 도포 장치.And a blocking plate attached to the first half of the slit nozzle, which is a direction of movement relative to the stage, and formed to extend in a direction parallel to the slit direction of the slit nozzle. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 차단판은 상기 기판과의 이격 거리가 상기 기판과 상기 슬릿 노즐의 이격 거리보다 작거나 같은 포토 레지스트 도포 장치.The blocking plate is a photoresist coating device is equal to or less than the separation distance between the substrate and the slit nozzle. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 차단판은 박판 부재로 형성된 포토 레지스트 도포 장치.The barrier plate is a photoresist coating device formed of a thin plate member. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 진동 센서는 상기 차단판에 부착되는 포토 레지스트 도포 장치.And the vibration sensor is attached to the blocking plate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 슬릿 노즐은 상기 진동 센서에 소정의 신호가 입력되면 이동을 멈추는 포토 레지스트 도포 장치.And the slit nozzle stops movement when a predetermined signal is input to the vibration sensor.
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