KR20090000256U - 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템 - Google Patents

이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템 Download PDF

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Abstract

본 고안에 의한 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템(90)은 이온건유니트(400)가 메인롤(325)에 대향하도록 장착되고, 이온건유니트(400)의 이온건챔버(500)로부터 혼합가스가 누기되는 현상이 방지되도록 함으로써, 플렉시블필름(F)에 증착된 금속물질이 산소, 질소에 의해 산화되는 현상이 방지되고, 이온건챔버(500)와 메인챔버(100)의 내압이 각각 0.0001 Torr, 0.001 Torr가 유지되도록 함으로써 전처리공정과 증착공정이 용이하게 이루어지고, 상기 이온건챔버(500)의 연결구(523)에 진공펌프에 연계된 연결관(600)이 용이하게 탈착되도록 한 고안에 관한 것이다.
Figure P2020070011092
롤투롤스퍼터 시스템, 전처리공정, 금속증착, 플렉시블필름

Description

이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템{Structure for preventing leakage of ion gun chamber of roll to roll sputter system}
본 고안은 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템(roll to roll sputter system)에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 이온건챔버로부터 가스가 누기되는 현상이 방지되고, 이온건챔버의 내압이 0.0001 Torr를 유지할 수 있도록 구성된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 관한 것이다.
이하 첨부되는 도면과 관련하여 종래기술의 구성과 작동례 및 문제점을 살펴보면 다음과 같다.
도 1은 종래의 기술이 적용된 롤투롤스퍼터 시스템을 도시한 사시도, 도 2는 종래의 기술이 적용된 롤투롤스퍼터 시스템으로서 메인챔버에서 양쪽의 챔버도어가 분리된 상태를 도시한 사시도로서 함께 설명한다.
일반적으로 플렉시블필름(F)은 LCD 표면이나 건축물의 외장재에 코팅되어 사용되는 것으로서 합성수지재인 필름의 일측면에 금속물질이 증착되어 형성된 것이다.
상기 플렉시블필름(F)은 롤투롤스퍼터 시스템(1)에 의해 제조되는데, 상기 롤투롤스퍼터 시스템(1)을 살펴보면 다음과 같다.
양측이 개방된 원통형이고, 측방으로 진공펌프(미도시)가 연결되는 배출관(15)이 형성되고, 상기 배출관(15)에 진공펌프가 연결된 메인챔버(10)가 구성되고, 상기 메인챔버(10)의 개방된 일측을 개폐하도록 이송하는 캐소드챔버도어(20)가 구성되며, 상기 캐소드챔버도어(20)의 맞은편에서 메인챔버(10)의 개방된 상대측을 개폐하도록 이송하는 구동부챔버도어(30)로 구성된다. 상기 캐소드챔버도어(20)와 구동부챔버도어(30) 그리고 메인챔버(10) 사이에 밀폐가 가능하도록 패킹 등이 구성됨은 물론이다.
상기 캐소드챔버도어(20)는 캐소드(21)를 작동시키는 작동부(미도시)와 상기 작동부를 수용하는 박스형의 커버(23)와 상기 커버(23)에서 메인챔버(10)에 접하는 면에 금속물질을 플렉시블필름(F)의 일측면에 뿌려서 증착처리하는 캐소드(21)가 부착되는데, 메인챔버(10)에 내입되어 하방에 위치하도록 상기 메인챔버(10)에 접하는 면의 하방에 부착된다.
상기 구동부챔버도어(30)는 구동부(40) 및 이온건을 작동시키는 작동부(미도시)와 상기 작동부를 수용하는 박스형의 커버(31)와 상기 커버(31)에서 메인챔버(10)에 접하는 면(P)에, 플렉시블필름(F)이 풀려서 와인딩되는 구동부(40)와 상기 구동부(40)를 통해 이송하는 플렉시블필름(F)의 일측면에 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스를 플라즈마 상태로 분사하여 필름(F)의 표면에 금속물질이 용이하게 증착되도록 전처리 공정을 수행하는 이온건유니트(50)가 구성되고, 상기 이온건유니 트(50)에 연결되어 내압을 일정하게 조정하는 진공펌프(미도시)로 구성된다.
상기 구동부(40)는 구동부챔버도어(30)의 커버(31)에서 메인챔버(10)에 접하는 면(P)에 플렉시블필름(F)이 풀리는 언와인딩롤(41)과 상기 언와인딩롤(41)에서 풀려난 플렉시블필름(F)을 안내하는 가이딩롤(43)과 상기 가이딩롤(43)을 통해 이송하는 플렉시블필름(F)이 감겨서 증착처리되도록 캐소드(21) 상방에 위치하는 메인롤(45)과 상기 메인롤(45)을 거친 플렉시블필름(F)을 안내하는 가이딩롤(47)과 상기 가이딩롤(47)을 통해 이송되는 증착처리된 플렉시블필름(F)을 다시 감는 리와인딩롤(49)로 구성된다.
상기 이온건유니트(50)는 상기 메인롤(45)에 진입하는 플렉시블 필름(F)에 대향하여 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스를 플라즈마 상태로 분사하도록 상기 커버(31)의 메인챔버(10)에 접하는 면(P)에 부착되는 이온건(미도시)과 상기 이온건을 수용하는 박스 형상으로서 일측에는 플렉시블필름(F)이 유입되는 진입슬로트(55)가 형성되고 상대측에는 플렉시블필름(F)이 배출되는 배출슬로트가 형성되며, 진공펌프에 연결되어 내부의 가스가 배출되도록 연결구(58)가 형성된 이온건챔버(53)가 구성된다. 상기 이온건챔버(53)에 진공펌프를 연결하기 위해서, 배관이 메인챔버(10)를 지나서 이온건챔버(53)의 연결구(58)에 연통됨은 물론이다.
상기 구성에 의한 종래 기술의 작동례를 살펴보면 다음과 같다.
메인챔버(10)에 캐소드챔버도어(20)를 이송시켜 부합시키고, 구동부챔버도어(30)를 이송시켜 부합시킴으로써, 메인챔버(10) 내부는 밀봉이 가능하게 되며, 메인롤(45) 하방에 캐소드(21)가 위치하게 된다.
이 상태에서 상기 구동부(40)를 작동시키면, 플렉시블필름(F)이 언와인딩롤(41)에서 풀려서 가이딩롤(43)을 거쳐서 이온건챔버(53)를 지나게 되는데, 이때, 이온건챔버(53) 속에 수용된 이온건에서는 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스를 플라즈마 상태로 분사하여 플렉시블필름(F)의 일측면에 금속물질의 증착이 용이하도록 전처리를 하게 된다. 이때, 진공펌프는 이온건챔버(53) 내부의 혼합가스를 필요 이상으로 공급된 양을 배출시켜서 내압이 0.0001 Torr가 유지되도록 한다.
상기 0.0001 Torr는 통상적으로 최적의 이온건챔버(53)의 내압으로서 당해업자라면 누구나 알고 있는 사항이다.
이렇게 이온건챔버(53)를 거친 플렉시블필름(F)은 메인롤(45)을 통해서 이송하게 되는데, 이때, 메인롤(45) 하방에 있던 캐소드(21)에서는 아르곤가스를 분사하여 아르곤의 분위기(안개처럼 분무된 상태)가 가능하도록 하여 금속물질을 플렉시블필름(F)의 전처리된 면에 뿌려서 증착되도록 한다. 상기 메인챔버(10)의 내압은 증착공정에 최적내압인 0.001 Torr가 유지되도록, 진공펌프는 아르곤가스가 공급된 만큼, 배출시키도록 세팅된다.
상기 메인롤(45)을 거친 플렉시블필름(F)은 가이딩롤(47)을 거쳐 리와인딩롤(49)에 감기게 됨으로써, 작업이 완료된다.
상기 구성과 작동례에 의한 종래기술은 다음과 같은 문제점이 있었다.
상기 이온건챔버(53)의 진입슬로트(55), 배출슬로트를 통해 이온건챔버 (53) 내부의 산소, 질소가 배출됨으로써, 플렉시블필름(F)에 증착된 금속물질을 산화시켜서 제품의 불량이 발생하는 문제점이 있었다.
상기 이온건챔버(53)의 진입슬로트(55), 배출슬로트를 통해 이온건챔버 (53) 내부의 산소, 질소, 아르곤가스가 배출되고, 캐소드(21)를 통해 배출되는 아르곤이 이온건챔버(53) 내부로 유입됨으로써, 이온건챔버(53)의 내압 및 메인챔버(10)의 내압은 적정압을 유지할 수 없게 되어 전처리 공정 및 증착공정이 제대로 수행되지 못하는 문제점이 있었다.
또한, 상기 구동부챔버도어(30)를 메인챔버(10)로부터 분리 및 부착시킬 때, 이온건챔버(53)의 연결구(58)로부터 진공펌프에 연결된 배관을 탈착시키기가 어려워 유지보수가 번거러운 문제점이 있었다.
이에 본 고안에서는 플렉시블필름에 증착된 금속물질이 산소, 질소에 의해 산화되는 현상이 방지되고, 이온건챔버와 메인챔버의 내압이 각각 적정압이 유지되도록 함으로써, 전처리공정과 증착공정이 용이하게 이루어지고, 상기 이온건챔버의 연결구에 진공펌프에 연결된 연결관이 용이하게 탈착되도록 한 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 고안에서는 상기 목적을 달성하기 위해, 이온건유니트가 메인롤에 대향하도록 장착되고, 이온건유니트의 이온건챔버로부터 혼합가스가 누기되는 현상이 방지되도록 구성한다.
본 고안에 의한 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템은 이온건유니트가 메인롤에 대향하도록 장착되고, 이온건유니트의 이온건챔버로부터 혼합가스가 누기되는 현상이 방지되도록 함으로써, 플렉시블필름에 증착된 금속물질이 산소, 질소에 의해 산화되는 현상이 방지되고, 이온건챔버와 메인챔버의 내압이 각각 적정압이 유지되도록 함으로써 전처리공정과 증착공정이 용이하게 이루어지고, 상기 이온건챔버의 연결구에 진공펌프에 연결된 연결관이 용이하게 탈착되도록 한 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이하, 첨부되는 도면과 관련하여 상기 목적을 달성하기 위한 본 고안의 구성과 작동례 및 효과를 살펴보면 다음과 같다.
도 3은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템을 도시한 사시도, 도 4는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템으로서 메인챔버에서 구동부챔버도어와 캐소드챔버도어가 분리된 상태를 도시한 사시도, 도 5는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템의 구동부챔버도어를 도시한 것으로서 이온건챔버가 이온건을 수용하는 과정을 도시한 사시도, 도 6은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템의 구동부챔버도어를 도시한 것으로서 이온건 챔버가 이온건을 수용한 상태를 도시한 사시도, 도 7은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트를 도시한 것으로서 도어가 개방되고 이온건이 후방으로 회동한 상태를 도시한 사시도, 도 8은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트의 이온건챔버를 도시한 분해사시도, 도 9는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트의 바디에 O링과 냉각관이 삽입된 예를 도시한 사시도, 도 10은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트의 커버에 분사관이 장착된 예를 도시한 사시도, 도 11은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트를 전방이 표현되도록 도시한 사시도, 도 12는 도 11의 A부를 도시한 확대도, 도 13은 도 11의 B부를 도시한 확대도, 도 14는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 연결관을 도시한 국부 단면도, 도 15는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템으로서 연결관이 이온건챔버에 연통된 예를 도시한 사시도, 도 16은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템으로서 연결관이 이온건챔버에서 분리된 예를 도시한 사시도로서 함께 설명한다.
일반적으로 롤투롤스퍼터 시스템(90)은 플렉시블필름(F)의 일측면에 금속물질을 증착시키는 장치로서 그 구성을 살펴보면 다음과 같다.
양측이 개방된 원통형이고, 측방으로 진공펌프(미도시)가 연결되도록 플랜지(107)가 형성된 배출관(105)이 형성되고 상기 배출관(105)에 진공펌프가 연결된 메인챔버(100)가 구성되고, 상기 메인챔버(100)의 개방된 일측을 개폐하도록 이송하는 캐소드챔버도어(200)가 구성되며, 상기 캐소드챔버도어(200)의 맞은편에서 메인챔버(100)의 개방된 상대측을 개폐하도록 이송하는 구동부챔버도어(300)로 구성된다.
상기 캐소드챔버도어(200)는 캐소드(210)를 작동시키는 작동부(미도시)와 상기 작동부를 수용하는 박스형의 커버(220)와 상기 커버(220)에서 메인챔버(100)에 접하는 면에 금속물질을 플렉시블필름(F)의 일측면에 뿌려서 증착처리하는 캐소 드(210)가 부착되는데, 메인챔버(100)에 내입되어 하방에 위치하도록 상기 메인챔버(100)에 접하는 면의 하방에 부착된다.
상기 구동부챔버도어(300)는 구동부(320) 및 이온건(410)을 작동시키는 작동부(미도시)와 상기 작동부를 수용하는 박스형의 커버(310)와 상기 커버(310)에서 메인챔버(100)에 접하는 면(P)에 플렉시블필름(F)이 풀려서 와인딩되는 구동부(320)와 상기 구동부(320)를 통해 이송하는 플렉시블필름(F)의 일측면에 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스를 플라즈마 상태로 분사하여 필름(F)의 표면에 금속물질이 용이하게 증착되도록 전처리 공정을 수행하는 이온건유니트(400)와 상기 이온건유니트(400)에 연결되어 내압을 일정하게 조정하는 진공펌프(미도시)로 구성된다.
상기 구동부(320)는 구동부챔버도어(300)의 커버(310)에서 메인챔버(100)에 접하는 면(P)에, 플렉시블필름(F)이 풀리는 언와인딩롤(321)과 상기 언와인딩롤(321)에서 풀려난 플렉시블필름(F)을 안내하는 가이딩롤(323)과 상기 가이딩롤(323)을 통해 이송하는 플렉시블필름(F)이 감겨서 증착처리되도록 캐소드(210) 상방에 위치하는 메인롤(325)과 상기 메인롤(325)을 거친 플렉시블필름(F)을 안내하는 가이딩롤(328)과 상기 가이딩롤(328)을 통해 이송되는 증착처리된 플렉시블필름(F)을 다시 감는 리와인딩롤(327)이, 구성된다.
상기 이온건 유니트(400)는 상기 플렉시블 필름(F)에 대향하여 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스를 분사하도록 상기 커버(310)의 메인챔버(100)에 접하는 면(P)에 부착되는 이온건(410))과 상기 이온건(410)을 수용하는 박스 형상으로서 상기 면(P)에 부착되며 진공펌프에 연결되어 내부의 가스가 배출되도록 하는 이온 건챔버(500)가 구성된다.
본 고안은 상기 롤투롤스퍼터 시스템(90)에서 이온건챔버(500)로부터 혼합가스가 유출되는 현상이 방지됨으로써, 플렉시블필름(F)의 일측면에 증착되는 금속물질의 산화가 방지되고, 이온건챔버(500)와 메인챔버(100)의 내압이 각각 적정압이 유지되도록 하고, 상기 이온건챔버(500)의 연결구(523)에 진공펌프에 연결된 연결관(600)이 용이하게 탈착되도록 한 것을 특징으로 한다.
이를 위하여 본 고안에서는 다음과 같이 구성한다.
상기 이온건(410)은 메인롤(325)에 대향하도록 상기 구동부챔버도어(300)에서 메인챔버(100)에 접하는 면(P)에 힌지 연결되도록 구성하는데, 상기 힌지연결은 이온건(410)이 메인롤(325) 방향(전방)과 그 역방향(후방)을 향하여 회동하도록 구성된다.
상기 이온건(410)을 수용하여, 구동부챔버도어(300)에서 메인챔버(100)에 접하는 면(P)에, 부착되는 이온건챔버(500)는 상기 이온건(410)을 수용하는 수용부(510)와 상기 수용부(510)의 전방에 부착되어 혼합가스의 배출을 차단하는 밀봉부(550)로 구성된다.
상기 수용부(510)는 박스형상으로서 메인롤(325)을 향하는 전방부에 혼합가스가 통과하는 전방개방구(512)가 형성되고, 그 반대편에는 후방개방구(513)가 형성되며 측방에는 이온건(410)이 내입되는 측방개방구(514)가 형성되어 이온건(410)이 내입되어 이온건(410)이 고정된 면(P)에 부착되는 바디(511)가 구성된다.
또한 상기 바디(511)의 후방 하면에 힌지연결되며 내부의 혼합가스가 배출되 도록 연결구(523)가 형성된 도어(520)가 구성되는 데, 상기 도어(520)는 볼팅에 의해 바디(511)의 후면에 부착하게 되며, 상호 부착 시, 밀봉이 가능하도록 O링(미도시)이 개재됨은 물론이다.
또한 상기 전방개방구(512) 둘레의 전면(515)에는 수용부(510)와 밀봉부(550) 사이에 누기가 방지되도록 O링(517)이 삽입되는 O링홈(516)이 형성되고, 상기 O링홈(516)에 O링(517)이 끼워진다. 또한 상기 전면(515)에는 외측에서 들어와서 전방개방구(512)를 돌아서 외측으로 나가는 형상으로서 냉각관(519)이 삽입되는 냉각관홈(518)이 형성되며, 상기 냉각관홈(518)에는 부합하는 냉각관(519)이 끼워지도록 형성되는데, 냉각수가 유입되는 유입구(a)와 배출되는 배출구(b)가 외측으로 연장되도록 형성된다.
상기 밀봉부(550)는 볼팅에 의해 상기 바디(511)의 전면(515)에 부착되고, 전면(515)이 메인롤(325)에 근접하여 이격되도록 내측으로 오목한 호형상으로 구성되고, 상기 전방개방구(512)에 부합되는 연통구(552)가 전후면으로 관통되어 형성된 판상의 커버(553)와, 상기 커버(553)의 전면(551)에 부착되어 아르곤 가스를 분출하는 분사관(554)으로 구성되는데, 상기 분사관(554)은 도 12 및 도 13처럼, 메인롤(325)을 향하여 아르곤가스가 분사되도록 분사관(554)에 다수개의 분출공(555)이 형성된다.
상기 분사관(554)은 상기 연통구(552) 둘레의 전면(551)에 아르곤가스가 분사되는 분사관(554)이 삽입되는 장착홈(557)이 형성되고, 상기 장착홈(557)에 아르곤가스가 공급되는 분사관(554)이 끼워져 부착되어 구성된다.
상기에서 아르곤 가스를 분사관(554)을 통해 분출시키는 이유는 아르곤 가스의 경우, 다른 가스나 물질과 반응을 하지 않기 때문이다.
아울러, 상기 이온건(410)의 하단면에는 전방(메인롤 쪽)으로의 회동이 방지되도록 판상의 부착판(411)이 형성되고, 상기 바디(511)의 내측 바닥면에는 상기 부착판(411)에 부합하는 멈춤판(521)이 형성되며 상기 부착판(411)과 멈춤판(521)은 볼팅에 의해 부착되도록 구성된다.
상기 메인챔버(100)에서 수용부(510)의 도어(520)에 형성된 연결구(523)에 일치하도록 상기 배출관(105)이 구성된다.
상기 배출관(105)에는 상기 연결구(523)에 착탈되는 연결관(600)이 부착되어 구성되는데, 상기 연결관(600)은 다음과 같이 구성된다.
전후방으로 개방된 관 형상으로서 측방에 진공펌프에 연통되는 배출관(611)이 형성된 바디(610)가 구성되고, 상기 바디(610)의 후방에는 플레이트(620)가 폐색하도록 부착되고, 상기 플레이트(620)에는 에어실린더(640)의 로드(650)가 관통하여 전방으로 나오도록 고정된다.
상기 바디(610)의 선단에는 지지판(670)이 부착되어 구성되는데, 상기 지지판(670)은 상기 로드(650)가 관통하는 지지홀(671)이 형성되고 상기 지지홀(671) 둘레에 혼합가스가 배출되는 배출홀(673)이 형성된다.
상기 지지판(670)의 후방에는 상기 배출관(105)의 플랜지(107)에 부착되는 플랜지(690)가 바디(610)의 외측면 둘레에 형성된다. 그리고 로드(650)의 선단에는 상기 연결구(523)를 덮어서 폐색할 수 있도록 구성되고 전면에 O링)(635)이 장착되 고 혼합가스가 배출되도록 배출홀(637)이 관통하여 형성된 탈착판(630)이 구성된다. 아울러 상기 탈착판(630)의 전후 이송이 가능하고 탈착판(630)과 지지판(670) 사이에 밀봉이 가능하도록 벨로우즈관(680)이 개재되어 구성된다.
상기 연결관(600)에는 배기 가스의 양을 조정하여 이온건챔버(500)의 내부압을 제어할 수 있도록 밸브(미도시)를 구성할 수 있는데, 일례로 상기 배출관(611)과 진공펌프에 연결된 배관(미도시) 사이에 개재되어 구성될 수 있다.
상기 구성에 의한 본 고안의 작동례를 살펴보면 다음과 같다.
메인챔버(100)를 구동부챔버도어(300)와 캐소드챔버도어(300)가 폐색하도록 이동시키면, 메인롤(325) 하방에 캐소드(210)가 위치하게 되며, 메인롤(325)에는 이온건유니트(400)가 대향한 상태가 된다. 그리고, 연결관(600)의 에어실린더(640)를 작동시켜 로드(650)가 전진하도록 함으로써 탈착판(630)이 이온건유니트(400)의 연결구(523)를 덮게 된다. 따라서 메인챔버(100)의 내부 공간과 이온건챔버(500)의 내부 공간은 구별된 상태가 된다.
이 상태에서 상기 구동부(320)를 작동시키면, 플렉시블필름(F)이 언와인딩롤(321)에서 풀려나와 가이딩롤(323)을 지나서 메인롤(325)을 거치게 되는데, 이온건유니트(400)와 메인롤(325) 사이의 공간을 지나게 된다. 따라서, 이온건유니트(400)의 전방을 플렉시블필름(F)이 통과할 때, 이온건(410)에서는 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스가 고온의 열에 의해 플라즈마 상태로 분사되어 플렉시블필름(F)의 일측면을 금속증착이 용이하도록 전처리시킨다.
이때, 플라즈마열에 의해 커버(553)는 고온이 되어, 열에 약한 플렉시블필 름(F)을 손상시킬 수 있지만, 냉각관(519)에 의해 커버(553)를 냉각시킴으로써 상기 문제를 해결할 수 있다.
또한 상기 밀봉부(550)에 있어서, 커버(553)의 전면에 부착된 분사관(554)에서 아르곤가스가 분출공(555)을 통해 메인롤(325)을 향하여 분사됨으로써 바디(511) 내부에 잔류하는 아르곤, 산소, 질소의 혼합가스가 누기되는 현상을 방지할 수 있다. 역으로 메인챔버(100) 내부의 아르곤 가스가 유입되는 현상도 예방할 수 있다.
아울러, 연결관(600)의 탈착판(630) 및 지지판(670)의 배출홀(637, 673)을 통해 이온건챔버(500) 내부의 혼합가스를 공급된 만큼 진공펌프에 의해 배출하도록 구성함으로써, 내압을 0.0001 Torr 즉 전처리에 적당한 내압을 유지할 수 있게 된다. 일례로 진공펌프에 연계된 밸브를 통해서 흡입량을 조절할 수 있으므로 상기 내압을 유지할 수 있게 된다.
이렇게 전처리된 플렉시블필름(F)은 메인롤(325)을 따라 이송되면서 캐소드(210)에 의해 금속물질이 증착되고 가이딩롤(328)에 의해 안내되어 리와인딩롤(327)에 다시 감기게 된다.
보수, 점검을 목적으로 구동부챔버도어(300)를 이탈시킬 때에는 상기 연결관(600)의 탈착판(630)을 에어실린더(640)에 의해 후진시킴으로써 가능하며, 이온건챔버(500)의 도어(520)를 열고 이온건(410)을 후방으로 회동시킴으로써 내부 구조를 명확하게 확인할 수 있게 된다.
상기 구성과 작동례에 의한 본 고안에 의하면, 이온건챔버(500) 내부의 혼합 가스가 메인챔버(100)로 누기되는 현상이 방지되고, 메인챔버(100) 내부의 아르곤가스가 유입되는 현상이 방지되므로 메인챔버(100)의 내압을 적정압인 0.001 Torr, 이온건챔버(500) 내부의 내압을 적정압인 0.0001 Torr 유지할 수 있으므로 전처리공정과 증착공정이 가능하게 된다.
또한, 산소와 질소가 이온건챔버(500)로부터 누기되는 현상이 방지되므로 산소와 질소로 인한 증착된 금속물질의 산화를 방지할 수 있다.
아울러, 상기 연결관(600)의 탈착이 용이함으로써 구동부챔버도어(300)를 신속하게 이탈시킬 수 있는 이점이 있으므로 유지보수가 용이하다.
도 1은 종래의 기술이 적용된 롤투롤스퍼터 시스템을 도시한 사시도.
도 2는 종래의 기술이 적용된 롤투롤스퍼터 시스템으로서 메인챔버에서 구동부챔버도어와 캐소드챔버도어가 분리된 상태를 도시한 사시도.
도 3은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템을 도시한 사시도.
도 4는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템으로서 메인챔버에서 구동부챔버도어와 캐소드챔버도어가 분리된 상태를 도시한 사시도.
도 5는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템의 구동부챔버도어를 도시한 것으로서 이온건챔버가 이온건을 수용하는 과정을 도시한 사시도.
도 6은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템의 구동부챔버도어를 도시한 것으로서 이온건 챔버가 이온건을 수용한 상태를 도시한 사시도.
도 7은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트를 도시한 것으로서 도어가 개방되고 이온건이 후방으로 회동한 상태를 도시한 사시도.
도 8은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트의 이온건챔버를 도시한 분해사시도.
도 9는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트의 바디에 O링과 냉각관이 삽입된 예를 도시한 사시도.
도 10은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트의 커버에 분사관이 장착된 예를 도시한 사시도.
도 11은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 이온건유니트를 전방이 표현되도록 도시한 사시도.
도 12는 도 11의 A부를 도시한 확대도.
도 13은 도 11의 B부를 도시한 확대도.
도 14는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템에 구성되는 연결관을 도시한 국부 단면도.
도 15는 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템으로서 연결관이 이온건챔버에 연통된 예를 도시한 사시도.
도 16은 본 고안의 기술이 적용된 이온건챔버의 가스유출방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템으로서 연결관이 이온건챔버에서 분리된 예를 도시한 사시도.
*도면의 주요 부분에 사용된 부호의 설명*
100: 메인챔버 200: 캐소드챔버도어
300: 구동부챔버도어 320: 구동부
321: 언와인딩롤 325: 메인롤
327: 리와인딩롤 323, 328: 가이딩롤
400: 이온건유니트 410: 이온건
411: 부착판 500: 이온건챔버
510: 수용부 511, 610: 바디
512: 전방개방구 513: 후방개방구
514: 측방개방구 518: 냉각관홈
519: 냉각관 520: 도어
550: 밀봉부 553: 커버
552: 연통구 554: 분사관
555: 분출공 557: 장착홈
600: 연결관 611: 배출관
612: 플랜지 620: 플레이트
630: 탈착판 637, 673: 배출홀
640: 에어실린더 650: 로드
670: 지지판 671: 지지홀
673: 배출홀 680: 벨로우즈관

Claims (3)

  1. 양측이 개방된 원통형이고, 측방으로 진공펌프가 연결되도록 플랜지(107)가 형성된 배출관(105)이 형성되고, 상기 배출관(105)에 진공펌프가 연결된 메인챔버(100)와,
    상기 메인챔버(100)의 개방된 일측을 개폐하도록 이송하는 캐소드챔버도어(200)와,
    상기 캐소드챔버도어(200)의 맞은편에서 메인챔버(100)의 개방된 상대측을 개폐하도록 이송하는 구동부챔버도어(300)로 구성되고,
    상기 구동부챔버도어(300)는 구동부(320) 및 이온건(410)을 작동시키는 작동부와,
    상기 작동부를 수용하는 박스형의 커버(310)와,
    상기 커버(310)에서 메인챔버(100)에 접하는 면(P)에 플렉시블필름(F)이 풀려서 와인딩되는 구동부(320)와,
    상기 구동부(320)를 통해 이송하는 플렉시블필름(F)의 일측면에 전처리 공정을 수행하는 이온건유니트(400)로 구성되고,
    상기 이온건 유니트(400)는 상기 메인롤(325)에 진입하는 플렉시블 필름(F)에 대향하여 전처리공정을 수행하도록 상기 면(P)에 부착되는 이온건(410)과,
    상기 이온건(410)을 수용하는 박스 형상으로서 상기 면(P)에 부착되며 진공펌프에 연결되어 내부의 가스가 배출되도록 하는 이온건챔버(500)로 구성되고,
    상기 구동부(320)는 플렉시블필름(F)이 풀리는 언와인딩롤(321)과,
    상기 언와인딩롤(321)에서 풀려난 플렉시블필름(F)을 안내하는 가이딩롤(323)과,
    상기 가이딩롤(323)을 통해 이송하는 플렉시블필름(F)이 감겨서 증착처리되도록 캐소드(210) 상방에 위치하는 메인롤(325)과,
    상기 메인롤(325)을 거친 플렉시블필름(F)을 안내하는 가이딩롤(328)과,
    상기 가이딩롤(328)을 통해 이송되는 증착처리된 플렉시블필름(F)을 다시 감는 리와인딩롤(327)이 상기 면(P)에 장착되어 구성되는 롤투롤스퍼터 시스템(90)에 있어서;
    상기 이온건(410)은 메인롤(325)에 대향하도록 상기 면(P)에 부착되어 구성되고,
    상기 이온건챔버(500)는 상기 이온건(410)을 수용하는 박스형의 수용부(510)와,
    상기 수용부(510)의 전방에 부착되어 혼합가스의 배출을 차단하는 밀봉부(550)로 구성되고,
    상기 수용부(510)는 전방부에 혼합가스가 통과하는 전방개방구(512)가 형성되고, 그 반대편에 후방개방구(513)가 형성되며 측방에는 이온건(410)이 내입되는 측방개방구(514)가 형성되어 이온건(410)이 내입된 후 상기 면(P)에 부착되는 바디(511)와,
    상기 바디(511)의 후방 하면에 힌지연결되며 내부의 혼합가스가 배출되도록 연결구(523)가 형성된 도어(520)로 구성되고,
    상기 밀봉부(550)는 상기 바디(511)의 전면(515)에 부착되고 상기 전방개방구(512)와 연통되는 연통구(552)가 전후면으로 관통되어 형성된 판상의 커버(553)와,
    상기 커버(553)의 전면(551)에 부착되어 아르곤 가스를 분출하는 분사관(554)이 구성되고,
    상기 분사관(554)에는 메인롤(325)을 향하여 아르곤가스가 분사되도록 다수개의 분출공(555)이 형성되고,
    상기 배출관(105)이 상기 연결구(523)에 일치하도록 메인챔버(100)에 구성되고,
    상기 배출관(105)에 상기 연결구(523)에 착탈되는 연결관(600)이 부착되어 구성되고,
    상기 연결관(600)은 전후방으로 개방된 관 형상으로서 측방에 진공펌프에 연통되는 배출관(611)이 구성되는 바디(610)와,
    상기 바디(610)의 후방에 폐색하도록 부착되는 플레이트(620)와,
    상기 플레이트(620)에 로드(650)가 관통하여 전방으로 나오도록 고정된 에어실린더(640)와,
    상기 바디(610)의 선단에 상기 로드(650)가 관통하는 지지홀(671)이 형성되고 상기 지지홀(671) 둘레에 혼합가스가 배출되는 배출홀(673)이 형성되어 부착된 지지판(670)과,
    상기 지지판(670)의 후방에 상기 플랜지(107)에 부착되도록 상기 바디(610)의 외측면 둘레에 형성된 플랜지(612)와,
    상기 로드(650)의 선단에 상기 연결구(523)를 덮을 수 있도록 형성되고 혼합가스가 배출되도록 배출홀(637)이 관통하여 형성된 탈착판(630)과,
    상기 탈착판(630)과 지지판(670) 사이에 밀봉이 가능하도록 개재된 벨로우즈관(680)으로 구성된 것을 특징으로 하는 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 이온건(410)은 상기 면(P)에 힌지 연결되고,
    상기 이온건(410)의 하단면에는 전방으로의 회동이 방지되도록 판상의 부착판(411)이 형성되고,
    상기 바디(511)의 내측 바닥면에는 상기 부착판(411)에 부합하는 멈춤판(521)이 형성되어 구성되는 것을 특징으로 하는 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 바디(511)와 커버(553) 사이에 O링(517)과 냉각관(519)이 개재되어 구성되는 것을 특징으로 하는 이온건챔버의 가스유출 방지가 가능한 롤투롤스퍼터 시스템.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110012182A (ko) * 2009-07-30 2011-02-09 지 . 텍 (주) 연속 스퍼터링을 구현하는 롤투롤 스퍼터 장치 및 연속 스퍼터링 방법
CN106460156B (zh) * 2014-04-03 2020-01-10 应用材料公司 用于在基板表面上溅射材料的溅射布置
KR101593477B1 (ko) * 2014-07-18 2016-02-12 플렉스피이(주) 롤투롤 유닛의 처짐 방지구조를 갖는 롤투롤 스퍼터링머신
KR101699543B1 (ko) * 2014-11-10 2017-02-14 (주)이루자 진공 성막 장치
KR101584191B1 (ko) 2014-11-21 2016-01-14 에이티 주식회사 필름 권취가 용이한 와인딩 유닛

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0925560A (ja) * 1995-07-06 1997-01-28 Teijin Ltd 真空成膜装置
US5948166A (en) * 1996-11-05 1999-09-07 3M Innovative Properties Company Process and apparatus for depositing a carbon-rich coating on a moving substrate
JP2002339055A (ja) 2001-03-15 2002-11-27 Sony Corp 薄膜形成装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101118196B1 (ko) * 2011-07-20 2012-02-24 김민호 하부 드럼 마스크가 부착된 드럼 마스크

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