KR20080104972A - Heat treatment apparatus - Google Patents

Heat treatment apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR20080104972A
KR20080104972A KR1020080048563A KR20080048563A KR20080104972A KR 20080104972 A KR20080104972 A KR 20080104972A KR 1020080048563 A KR1020080048563 A KR 1020080048563A KR 20080048563 A KR20080048563 A KR 20080048563A KR 20080104972 A KR20080104972 A KR 20080104972A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
duct
heat treatment
heater
introduction
Prior art date
Application number
KR1020080048563A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101450902B1 (en
Inventor
히사미쯔 테젠
Original Assignee
에스펙 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에스펙 가부시키가이샤 filed Critical 에스펙 가부시키가이샤
Publication of KR20080104972A publication Critical patent/KR20080104972A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101450902B1 publication Critical patent/KR101450902B1/en

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00Furnaces of a kind not covered by any preceding group
    • F27B17/0016Chamber type furnaces
    • F27B17/0025Especially adapted for treating semiconductor wafers
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00Furnaces of a kind not covered by any preceding group
    • F27B17/0016Chamber type furnaces
    • F27B17/0083Chamber type furnaces with means for circulating the atmosphere
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/02Supplying steam, vapour, gases, or liquids
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/04Circulating atmospheres by mechanical means
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/02Supplying steam, vapour, gases, or liquids
    • F27D2007/023Conduits
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D7/00Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
    • F27D7/04Circulating atmospheres by mechanical means
    • F27D2007/045Fans

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
  • Furnace Details (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

A heating treatment apparatus is provided to prevent the malfunction of blower or heater, washing the thermal processing chamber inside of the side of heat treatment. A heating treatment apparatus heat-treating the heat treated material comprises a respective connected gas entry site(12) in the thermal processing chamber in which it can be put in and outs, the heat treated material is admitted and side of heat treatment(10) having gas taking out portion(13); a gas processing unit(20A) including the gas path(21A) introducing the gas for the thermal process to the gas entry site, and for drawing the gas in the thermal process in the gas taking out portion are included; a catalyst(30) which disassembles the sublimate generated in the corresponding heat treated material when heat-treating the heat treated material in the gas path; a heater(31) heating up catalyst; and a blower(32) inducing the gas in the gas for the thermal process and thermal process to the predetermined direction.

Description

열처리장치{Heat treatment apparatus}Heat treatment apparatus

본 발명은 피열처리물을 열처리하는 열처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating a heat treated material.

종래, 열처리실 내부의 공기를 순환시켜서 열처리실 내부를 가열하는 일에 따라 열처리실에 수용된 피열처리물을 가열하는 열처리장치가 공지되어 있다. 상기 형태의 열처리장치는, 예를 들면, 에프피디(FPD, 평판 디스플레이(Flat Panel Display)) 제조공정에 있어서의 포토레지스트(photoresist)나 유기물박막의 프리베이크(prebake), 포스트베이크(postbake) 공정에 이용되고 있다. 상기의 공정에서는, 유기 기판등 피열처리물을 열처리할 때에, 포토레지스트 등에 포함된 휘발성 성분이 기화하여 다량의 승화물이 발생하게 된다. 상기 승화물이 재결정화되고 열처리장치 주변에 비산하여서 주변에 부착되는 등의 문제가 발생하였다.Background Art Conventionally, a heat treatment apparatus is known that heats an object to be processed contained in a heat treatment chamber by circulating air in the heat treatment chamber to heat the inside of the heat treatment chamber. The above-described heat treatment apparatus is, for example, a prebake or postbake process of a photoresist or organic thin film in an FPD (Flat Panel Display) manufacturing process. It is used for. In the above process, when heat-treating a to-be-processed object, such as an organic substrate, a volatile component contained in a photoresist etc. vaporizes and a large amount of sublimation generate | occur | produces. Problems such as the sublimation recrystallized and scattered around the heat treatment apparatus attached to the surroundings.

상기 문제의 해결책으로, 예를 들면 일본특허공개평 제10-141868호 공보에서는. 외기(外氣)를 가열하여 상기 열처리실 내부로 불어넣어서, 상기 열처리실 내부의 공기를 도출 덕트(duct)를 통해서 유출시키는 일에 따라 열처리실 내부를 환기하는 것이 기재되어 있다. 상기 형태의 열처리실 내부를 환기하는 일에 따라, 승화물의 재결정화 및 주변의 부착을 억제시키는 일이 가능하였다.As a solution of the above problem, for example, in Japanese Patent Laid-Open No. 10-141868. It is described to ventilate the inside of the heat treatment chamber by heating the outside air and blowing it into the inside of the heat treatment chamber to let the air inside the heat treatment chamber flow out through the duct. By ventilating the inside of the heat processing chamber of the said form, it was possible to suppress recrystallization and adhesion of the sublimation.

그러나, 일본특허공개평 제10-141868호 공보의 열처리장치에 있어서는, 열처리부의 외벽과 열처리실 사이에 열처리실 내외로 공기를 순환시키기 위한 송풍기나 가열기를 구비한 기체처리부가 설치되어 있기 때문에, 열처리실 내벽 등에 부착된 승화물을 세정에 의해 제거해야 하는 일에 따라서 기체처리부의 송풍기나 가열기 등의 전기기기가 세정에 이용된 세정액에 의해 고장이 발생될 우려가 있다.However, in the heat treatment apparatus of Japanese Patent Laid-Open No. 10-141868, since a gas treatment section including a blower and a heater for circulating air into and out of the heat treatment chamber is provided between the outer wall of the heat treatment portion and the heat treatment chamber, As the sublimation adhering to the inner wall of the chamber needs to be removed by washing, electric equipment such as a blower or a heater of the gas treatment unit may cause a failure due to the cleaning liquid used for cleaning.

본 발명의 목적은 송풍기나 가열기의 고장을 방지하는 상태에서 열처리부의 열처리실 내부를 세정할 수 있는 열처리장치를 제공하는 데에 있다.It is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus capable of cleaning the inside of a heat treatment chamber of a heat treatment portion in a state of preventing a failure of a blower or a heater.

본 발명의 청구항 1에 따른 발명은, 피열처리물이 입출가능하게 수용되는 열처리실에 각각 연통되는 기체도입부 및 기체도출부를 가진 열처리부와, 상기 기체도입부로 열처리용 기체를 도입하고 동시에 상기 기체도출부에서 열처리 시의 기체를 도출하기 위한 기체통로를 구비한 기체처리부를 구비하고, 상기 기체통로에는 상기 피열처리물을 열처리할 때에 해당 피열처리물에서 발생하는 승화물을 분해하는 촉매와 적어도 상기 촉매를 가열하는 가열기와, 상기 열처리용 기체 및 상기 열처리 시의 기체를 소정의 방향으로 유도하는 1 또는 2 이상의 송풍기가 설치되는 것을 특징으로 한다.The invention according to claim 1 of the present invention comprises a heat treatment section having a gas introduction section and a gas introduction section respectively connected to a heat treatment chamber in which a heat treated material is receivably received, and introducing a gas for heat treatment into the gas introduction section and simultaneously introducing the gas. And a gas treatment unit having a gas passage for deriving gas during heat treatment, wherein the gas passage includes a catalyst for decomposing a sublimation generated in the heat treated substance when the heat treated substance is heat treated, and at least the catalyst. And a heater for heating the gas and one or more blowers for guiding the heat treatment gas and the gas during the heat treatment in a predetermined direction.

본 발명의 열처리장치를 이용하면, 송풍기나 가열기의 고장을 확실하게 방지하는 상태에서 열처리부의 열처리실 내부를 세정하는 일이 가능하게 되고, 열처리부와 기체처리부 등을 분리시키는 일로써 열처리부만을 교환하는 일이나 또는 기체처리부만을 교환하는 일이 가능하게 되고, 피열처리물의 가열 온도에 좌우됨 없이 촉매를 최적의 활성 온도로 설정하는 일이 가능하게 되며, 열처리실의 용적이나 승화물의 발생량에 부합되어 기체처리부의 능력을 선정 및 선택하는 일을 가능하게 하는 효과를 제공한다.By using the heat treatment apparatus of the present invention, it is possible to clean the inside of the heat treatment chamber of the heat treatment portion in a state of reliably preventing the failure of the blower or the heater, and replace only the heat treatment portion by separating the heat treatment portion and the gas treatment portion. It is possible to replace the gas treatment unit or to replace only the gas treatment unit, and to set the catalyst to the optimum active temperature without depending on the heating temperature of the to-be-processed object, and to match the volume of the heat treatment chamber or the amount of sublimation generated. It provides the effect of selecting and selecting the capability of the gas treatment section.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 바람직한 실시 형태에 대해서는 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(제1 실시태양)(First embodiment)

도 1은 본 발명의 제1 실시태양에 따른 열처리장치의 개략적인 구성을 보인 도면이다. 상기 열처리장치(1A)는, 예를 들어 에프피디(FPD)의 제조공정에 이용되고 있고, 클린룸(clean room) 내에 설치되어 있으며 소위 클린오븐(clean oven)으로 불리워지고 있다.1 is a view showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention. 1 A of said heat processing apparatuses are used for the manufacturing process of FPD, for example, are installed in a clean room, and are called a clean oven.

열처리장치(1A)는 열처리부(10)와 기체처리부(20A)를 구비하고 있다. 열처리부(10)는 피열처리물(W, 이하, 소재라 한다)을 입출가능하게 수용되게 하는 열처리실(11)을 구비한다. 기체처리부(20A)는 열처리실(11)로부터 열처리 시의 기체, 예를 들면 열처리 시의 공기를 도출하는 한편, 열처리부(10)의 열처리실(11)로 열처리용 기체, 예를 들면 가열 공기를 도입하는 기체통로(21A)를 구비한다.1 A of heat processing apparatuses are equipped with the heat processing part 10 and the gas processing part 20A. The heat treatment unit 10 includes a heat treatment chamber 11 that allows the heat-treatment material W, hereinafter referred to as a material, to be received therein. The gas treatment unit 20A derives the gas during the heat treatment, for example, the air during the heat treatment, from the heat treatment chamber 11, while the gas for the heat treatment, for example, the heated air, is applied to the heat treatment chamber 11 of the heat treatment unit 10. It is provided with a gas passage (21A) for introducing.

열처리부(10)는 기체처리부(20A)로부터 열처리용 기체가 도입되는 기체도입부(12)와, 열처리실(11)로부터 열처리 시의 공기를 도출하는 기체도출부(13)를 구비한다. 열처리실(11)의 외측은 단열벽(11a)에 의해서 에워싸여져 있다.The heat treatment unit 10 includes a gas introduction unit 12 through which a gas for heat treatment is introduced from the gas treatment unit 20A, and a gas extraction unit 13 which derives air during heat treatment from the heat treatment chamber 11. The outer side of the heat processing chamber 11 is surrounded by the heat insulation wall 11a.

열처리실(11)의 내측에는, 예를 들면 1 또는 2 이상의 피열처리물(W)이 소정 상태에서 유지될 수 있게 하는 지지부재(미도시)가 설치된다. 상기 지지부재는 도 1의 중심부에 2점쇄선으로 나타내어진 장소에 설치된다. 상기 기체도입부(12)는 열 처리실(11)과 연통하여 열처리실(11)의 단열벽(11a)으로부터 외측방향으로 연장된 관형상으로 이루어져 있고, 그의 유입측 단부에는 연결용 플랜지(14)가 구비되어 있다. 상기 기체도출부(13)도 열처리실(11)과 연통하여 열처리실(11)의 단열벽(11a)으로부터 외측방향으로 연장된 관 형상으로 이루어진다. 기체도출부(13)는 그의 출구측 단부에 연결용 플랜지(15)를 구비한다. Inside the heat treatment chamber 11, for example, a support member (not shown) is provided which allows one or more to-be-processed objects W to be held in a predetermined state. The support member is installed at the place indicated by the dashed-dotted line in the center of FIG. The gas introduction portion 12 has a tubular shape extending outward from the heat insulation wall 11a of the heat treatment chamber 11 in communication with the heat treatment chamber 11, and a connection flange 14 is provided at an inlet side thereof. It is provided. The gas extracting portion 13 also communicates with the heat treatment chamber 11 and has a tubular shape extending outward from the heat insulation wall 11a of the heat treatment chamber 11. The gas extraction portion 13 has a connecting flange 15 at its outlet end.

기체통로(21A)는 기체도입부(12)에 연결된 도입덕트(22)와, 기체도출부(13)에 연결된 도출덕트(23)와, 도입덕트(22)와 도출덕트(23) 사이에 설치된 기체처리덕트(24)를 구비한다. 도입덕트(22)의 출구측 단부에는 기체도입공(12)의 연결용 플랜지(14)에 연결된 연결용 플랜지(25)가 설치되고, 도출덕트(23)의 유입측 단부에는 기체도출부(13)의 연결용 플랜지(15)에 연결된 연결용 플랜지(26)가 설치된다. 그리고, 도입덕트(22)의 연결용 플랜지(25)와, 기체도입부(12)의 연결용 플랜지(14)를 체결하는 수단, 예를 들면 볼트 및 너트에 의해 연결되고, 도출덕트(23)의 연결용 플랜지(26)와 기체도출공(13)의 연결용 플랜지(15)를 체결하는 수단, 예를 들면 볼트 및 너트에 의해 연결되고, 열처리부(10)의 열처리실(11)과 기체처리부(20A)의 기체 통로(21A)가 연통 연결되어 순환통로가 형성된다. 또한, 기체통로(21A)에는 적소에 풍량조정용 댐퍼(미도시)가 설치된다.The gas passage 21A includes an introduction duct 22 connected to the gas introduction unit 12, an induction duct 23 connected to the gas extraction unit 13, and a gas provided between the introduction duct 22 and the induction duct 23. The processing duct 24 is provided. A connection flange 25 connected to the connection flange 14 of the gas introduction hole 12 is installed at the outlet side end of the introduction duct 22, and the gas extraction unit 13 is provided at the inlet side end of the induction duct 23. The connection flange 26 connected to the connection flange 15 of () is installed. Then, the connecting flange 25 of the introduction duct 22 and the connecting flange 14 of the gas introduction portion 12 are connected by means of, for example, a bolt and a nut, Means for fastening the connecting flange 26 and the connecting flange 15 of the gas extraction hole 13, for example, by means of bolts and nuts, connected to the heat treatment chamber 11 and the gas treatment unit of the heat treatment section 10 21 A of gas passages of 20A are connected in communication, and a circulation passage is formed. In addition, the air volume adjusting damper (not shown) is provided in the gas passage 21A.

또한, 상기 기체처리덕트(24)에는 촉매(30), 가열기(31), 송풍기(32) 및 전처리제(33)가 설치된다. 송풍기(32)는 상기 순환통로를 공기가 순환하여 흐를 수 있도록 하기 위한 것이고, 가열기(31)는 촉매(30) 및 공기를 가열하는 역할을 한다. 상기 가열기(31)에 의해 가열된 공기는 도입덕트(22)를 지나 열처리실(11)로 들어오고, 여기서 피열처리물(W)을 가열한다. 상기 피열처리물(W)을 가열하는 열처리 시에는 피열처리물(W)로부터 승화물이 발생하는 일이 있다. 열처리 시의 공기는 승화물을 포함한 것으로서, 상기 기체도출부(13) 및 기체도출덕트(23)를 지나 촉매(30)를 통과하게 된다.In addition, the gas treatment duct 24 is provided with a catalyst 30, a heater 31, a blower 32, and a pretreatment 33. The blower 32 is for allowing air to circulate through the circulation passage, and the heater 31 serves to heat the catalyst 30 and the air. The air heated by the heater 31 passes through the introduction duct 22 and enters the heat treatment chamber 11, where the heat-treated material W is heated. Sublimation may generate | occur | produce from the to-be-processed object W at the time of the heat processing which heats the said to-be-processed object W. FIG. Air at the time of heat treatment includes a sublimate, and passes through the catalyst 30 through the gas extraction unit 13 and the gas extraction duct 23.

촉매(30)는 열처리 시의 공기에 포함된 승화물의 산화분해반응을 촉진하기 위한 것으로서, 예를 들면 백금(Pt)이나 팔라듐(Pd) 등의 귀금속이나, 이런 것들의 귀금속 합금 등의 활성 금속이 채용된다. 상기 형태의 촉매(30)는 약 150~350℃ 정도의 온도분위기 하에서 촉매 활성을 보인다. 이 때문에, 본 실시형태에 있어서는 촉매(30)의 전방측(순환통로를 공기가 흐르게 하는 방향에 있어서 촉매(30)보다도 상류측)에 가열기(31)가 배치된다. 또한, 승화물에 촉매 독이라고 하는 물질, 예를 들면 Si, P, S 등을 포함한 유기화합물이 들어옴으로써 촉매(30)를 피독(被毒)하는 일이 있는 경우에는 그의 방지를 위해서 전처리제(33)를 촉매(30)의 전방측에 배치시키는 것이 바람직하다.The catalyst 30 is for promoting the oxidative decomposition reaction of the sublimate contained in the air during the heat treatment, and for example, a precious metal such as platinum (Pt) or palladium (Pd), or an active metal such as a noble metal alloy thereof Are employed. The catalyst 30 of this type exhibits catalytic activity under a temperature atmosphere of about 150 to 350 ° C. For this reason, in this embodiment, the heater 31 is arrange | positioned at the front side of the catalyst 30 (upstream side rather than the catalyst 30 in the direction through which air flows through a circulation path). In addition, when the catalyst 30 may be poisoned by the introduction of a substance called a catalyst poison, for example, Si, P, S, or the like into the sublimate, the pretreatment agent may be It is preferable to arrange 33 in front of the catalyst 30.

따라서, 상기 형태의 구성으로 이루어진 제1 실시형태에 따른 열처리장치(1A)에서는 열처리부(10)로부터 떨어진 열처리부(10)의 외측의 기체통로(21A)에 송풍기(32) 및 가열기(31)를 배치함으로써, 송풍기(32)나 가열기(31)의 고장을 방지하는 상태로 해서 열처리실(11)의 내부를 세정하는 일이 가능하다. 추가로, 열처리부(10)의 기체도입부(12) 및 기체도출부(13)에 대해서, 연결용 플랜지(14, 15, 25, 26) 및 볼트·너트로 구성된 연결수단을 개재시켜서 기체통로(21A)가 착탈가능하게 연결되게 함으로써 그의 기체통로(21A)에 설치된 송풍기(32) 및 가열기(31)를 가진 기체처리부(20A)를 열처리부(10)로부터 따로 떼어내는 일에 따라, 열처리부(10)로부터 분리시키는 일이 가능하고, 이에 의해 송풍기(32)나 가열기(31)의 고장을 확실하게 방지하는 상태로 하여 열처리실(11)의 내부를 세정하는 일이 가능하게 된다.Therefore, in the heat treatment apparatus 1A according to the first embodiment having the above configuration, the blower 32 and the heater 31 are provided in the gas passage 21A on the outside of the heat treatment portion 10 away from the heat treatment portion 10. By arranging, it is possible to clean the inside of the heat treatment chamber 11 in a state of preventing failure of the blower 32 and the heater 31. In addition, the gas passage portion (12) and the gas extracting portion (13) of the heat treatment portion (10) are provided with a gas passage (via a connecting means composed of connecting flanges (14, 15, 25, 26) and bolts and nuts ( By detachably attaching the 21A to the gas passage 21A, the gas treatment unit 20A having the blower 32 and the heater 31 installed in the gas passage 21A is separately removed from the heat treatment unit 10. 10 can be separated from each other, whereby the inside of the heat treatment chamber 11 can be cleaned in a state where the failure of the blower 32 and the heater 31 is reliably prevented.

또한, 열처리실(11)로부터 도출된 기체가 도출덕트(23), 기체처리덕트(24) 및 도입덕트(22)를 차례로 지나서 다시 열처리실(11)로 되돌아가게 하는 순환경로가 구성되게 함으로써, 1개의 송풍기(32)로 기체를 순환시키는 일이 가능하게 되는 것과 함께, 가열기(31)에 의해 촉매(30)와 기체를 가열할 수 있게 한다. 또한, 열처리부(10)와 기체처리부(20A)를 서로 떼어놓은 일에 따라, 열처리부(10)만을 교환하는 일이나, 또는 기체처리부(20A)만을 교환하는 일이 가능하게 된다.In addition, by allowing the gas derived from the heat treatment chamber 11 to pass through the derivation duct 23, the gas treatment duct 24, and the introduction duct 22 in order to return to the heat treatment chamber 11 again, In addition to being able to circulate the gas with one blower 32, the catalyst 30 and the gas can be heated by the heater 31. In addition, by separating the heat treatment unit 10 and the gas treatment unit 20A from each other, it is possible to replace only the heat treatment unit 10 or to replace only the gas treatment unit 20A.

(제2 실시형태)(2nd embodiment)

도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 보인 도면이다. 여기서, 도 1과 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 부여한다.2 is a view showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention. Here, the same components as in FIG. 1 are given the same reference numerals.

상기 열처리장치(1D)는 제1 실시형태의 기체처리부(20A)와는 다른 기체처리부(20D)를 구비한다. 즉, 기체처리부(20D)는 도입덕트(22)의 유입측에 개방단부(22a)가 설치되는 것과 함께 기체처리덕트(24)의 출구측에 개방단부(24a)가 설치된 기체통로(21D)를 구비한다. 그리고, 기체처리부(20D)의 기체처리덕트(24)에는 촉매(30) 및 가열기(31)가 설치되고, 도입덕트(22)에는 송풍기(34) 및 가열기(35)가 설치된다. 또한, 도 2에서는 전처리제를 도시하지 않았지만, 전처리제를 설치하는 것이 바람직하다.The heat treatment apparatus 1D includes a gas treatment unit 20D different from the gas treatment unit 20A of the first embodiment. That is, the gas treatment unit 20D is provided with an open end 22a at the inlet side of the inlet duct 22 and a gas passage 21D having the open end 24a at the outlet side of the gas treatment duct 24. Equipped. The catalyst 30 and the heater 31 are installed in the gas treatment duct 24 of the gas treatment unit 20D, and the blower 34 and the heater 35 are provided in the introduction duct 22. In addition, although the pretreatment agent is not shown in FIG. 2, it is preferable to provide a pretreatment agent.

상기 형태의 구성으로 이루어진 열처리장치(1D)에서는 공기의 흐름은 다음과 같은 형태로 된다. 즉, 개방단부(22a)로부터 도입덕트(22)에 유입된 공기는 가열기(35)에 의해 가열되어서 열처리실(11)로 들어온다. 상기 가열된 공기는 소재(W)의 열처리에 제공된다. 상기 소재(W) 열처리에 제공된 공기(열처리시의 공기)는 승화물을 포함하여서, 도출덕트(23)에 유입된 후 기체처리덕트(24)로 유도된다. 기체처리덕트(24)에서는 열처리시의 공기가 촉매(30)에 의한 승화물의 산화분해반응을 받고, 그 후에 개방단부(24a)를 통해서 외부로 배출된다. 또한, 도 2의 중간부에 나타내어진 도면부호 16은 공기가 열처리실(11)의 내부에서 환류하는 일이 무사히 기체도입부(12)에서 기체도출부(13)로 흐르는 형태로 되도록 하기 위한 방해판이 되고, 열처리실(11)의 기체도입부(12)와는 반대측에 통로(16a)가 형성된다. In the heat treatment apparatus 1D having the above configuration, the air flows as follows. That is, the air flowing into the introduction duct 22 from the open end 22a is heated by the heater 35 and enters the heat treatment chamber 11. The heated air is provided to the heat treatment of the material (W). The air (air at the time of heat treatment) provided for the heat treatment of the raw material W includes a sublimate and is introduced into the derivation duct 23 and then guided to the gas treatment duct 24. In the gas treatment duct 24, the air during the heat treatment undergoes the oxidative decomposition reaction of the sublimation by the catalyst 30, and is then discharged to the outside through the open end 24a. In addition, reference numeral 16 shown in the middle of FIG. 2 is a baffle plate for allowing air to reflux in the interior of the heat treatment chamber 11 to flow from the gas introduction section 12 to the gas extraction section 13. The passage 16a is formed on the side opposite to the gas introduction portion 12 of the heat treatment chamber 11.

따라서, 상기 열처리장치(1D)에 있어서도 열처리부(10)로부터 분리된 열처리부(10) 외측의 기체통로(21D)에 송풍기(34) 및 가열기들(31, 35)이 설치되게 함으로써 송풍기(34)나 가열기(31, 35)의 고장을 방지하는 상태로 열처리실(11)의 내부를 세정하는 일을 가능하게 한다. 추가로, 열처리부(10)의 기체도입부(12) 및 기체도출부(13)에 대하여는, 연결용 플랜지(14, 15, 25, 26) 및 볼트·너트로 구성된 연결수단을 개재시켜 기체통로(21D)를 착탈가능하게 연결함으로써 그의 기체통로(21D)에 설치된 송풍기(34) 및 가열기(31, 35)를 가진 기체처리부(20D)를 열처리부(10)로부터 분리시키는 일이 가능하다. 이에 따라 송풍기(34)나 가열기(31, 35)의 고장을 확실하게 방지하는 형태로 하여 열처리실(11)의 내부를 세정하는 일이 가능하게 된다.Accordingly, in the heat treatment apparatus 1D, the blower 34 and the heaters 31 and 35 are installed in the gas passage 21D outside the heat treatment unit 10 separated from the heat treatment unit 10. ) And the inside of the heat treatment chamber 11 can be cleaned in a state of preventing the failure of the heaters 31 and 35. In addition, the gas introduction portion 12 and the gas extraction portion 13 of the heat treatment portion 10 are connected to the gas passage (via the connecting means consisting of the connecting flanges 14, 15, 25, 26 and bolts and nuts). By detachably connecting 21D, it is possible to separate gas processing unit 20D having blower 34 and heaters 31 and 35 provided in gas passage 21D thereof from heat treatment unit 10. Accordingly, the inside of the heat treatment chamber 11 can be cleaned in such a manner as to prevent failure of the blower 34 and the heaters 31 and 35.

또한, 열처리부(10)와 기체처리부(20D)를 서로 떼어내는 일에 따라, 열처리부(10)만을 교환하는 일이나, 또는 기체처리부(20D)만을 교환하는 일이 가능하게 된다.In addition, by removing the heat processing part 10 and the gas processing part 20D from each other, it becomes possible to replace only the heat processing part 10 or only the gas processing part 20D.

더욱이, 도입덕트(22)의 입구측 개방단부(22a)로부터 흡입된 공기가 가열기(35)에 의해서 가열되어 열처리실(11)로 도입되고, 도출덕트(23) 및 기체처리덕트(24)를 지나서 도출되는 형태로 구성되게 함으로써, 열처리실(11)에 도입된 공기에는 승화물이 없게 된다. 이 때문에, 열처리실(11)에는 항상 신선한 공기가 도입됨으로써, 촉매(30)에 의한 승화물의 산화분해반응을 저하시키지 못하게 하는 일이 가능하게 된다. 또한, 상기 열처리장치(1D)에서는 공기가 일방향으로 흐르는 형태로 형성하기 위한 것으로 도입덕트(22)에 송풍기(34)가 설치되게 함으로써 도입덕트(22)를 통해서 열처리실(11)로의 기체도입과 도출덕트(23)를 통해서 열처리실(11)로부터의 기체도출을 가능하게 한다.Furthermore, air sucked from the inlet side open end 22a of the inlet duct 22 is heated by the heater 35 to be introduced into the heat treatment chamber 11, and the inductor duct 23 and the gas treatment duct 24 are removed. By having it consist of the form derived past, the air introduce | transduced into the heat processing chamber 11 does not have a sublimation. For this reason, fresh air is always introduced into the heat treatment chamber 11, thereby making it possible to prevent the oxidative decomposition reaction of the sublimation by the catalyst 30 from being lowered. In addition, in the heat treatment apparatus 1D, the air flows in one direction, and the blower 34 is installed in the introduction duct 22, thereby introducing gas into the heat treatment chamber 11 through the introduction duct 22. The outflow duct 23 allows gas to be discharged from the heat treatment chamber 11.

또한, 상기 제2 실시형태에서는, 송풍기(34)를 도입덕트(22)에 설치하였지만, 이에 한정되지 않는다. 송풍기는 예를 들면 도출덕트(23)나 기체처리덕트(24)에 설치되는 것도 바람직하고, 또는 도입덕트(22), 기체처리덕트(24) 및 도출덕트(23)들 중 적어도 어느 하나에 설치되는 것도 바람직하다. In addition, although the blower 34 was provided in the introduction duct 22 in the said 2nd Embodiment, it is not limited to this. For example, the blower may be installed in the induction duct 23 or the gas treatment duct 24, or may be installed in at least one of the introduction duct 22, the gas treatment duct 24, and the induction duct 23. It is also preferable.

(제3 실시형태)(Third embodiment)

도 3은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 보인 도면이다. 또한, 도 2와 동일한 구성요소에는 동일한 부호를 부여한다.3 is a view showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG.

상기 열처리장치(1C)는 제2 실시형태의 기체처리부(20D)와는 다른 기체처리 부(20C)를 구비한다. 즉, 기체처리부(20C)는 도입덕트(22)와 기체처리덕트(24)를 연통시킨 연결덕트(28)을 구비한 기체통로(21C)를 구비한다. 연결덕트(28)의 일단부는 기체처리덕트(24)의 중간부에 촉매(30), 가열기(31) 및 송풍기(32)가 설치된 장소와 출구측 단부(24a)와의 사이의 부분에 연통연결되고, 기체통로(21C)의 타단부는 도입덕트(22)의 도중 부분에 연통연결된다. 기체처리부(20C)는 도입덕트(22)에 있어서 연결덕트(28)가 합류하는 부위보다도 하류 위치에 가열기(35)와 송풍기(34)가 설치되게 구성하는 것으로 한다. 또한, 도 3에서는 전처리제를 도시하지 않았지만, 전처리제를 설치하는 것도 바람직하다. 또한, 상기 송풍기(32)는 생략하는 일도 가능하다.The heat treatment apparatus 1C includes a gas treatment unit 20C different from the gas treatment unit 20D of the second embodiment. That is, the gas processing part 20C is provided with the gas passage 21C provided with the connection duct 28 which connected the introduction duct 22 and the gas processing duct 24. As shown in FIG. One end of the connection duct 28 is in communication with the portion between the outlet 30a and the place where the catalyst 30, the heater 31, and the blower 32 are installed in the middle of the gas treatment duct 24. The other end of the gas passage 21C is connected to the middle portion of the introduction duct 22. 20 C of gas processing parts are comprised so that the heater 35 and the blower 34 may be provided in the downstream position rather than the site | part which the connection duct 28 joins in the introduction duct 22. As shown in FIG. In addition, although the pretreatment agent is not shown in FIG. 3, it is also preferable to provide a pretreatment agent. In addition, the blower 32 may be omitted.

상기 형태로 구성된 열처리장치(1C)에서는, 공기의 흐름이 다음과 같은 형태로 이루어지게 된다. 즉, 개방단부(22a)로부터 도입덕트(22)에 유입된 공기는 가열기(35)에 의해 가열되어서 열처리실(11)로 유입된다. 상기 가열된 공기는, 소재(W)의 열처리에 기여한다. 열처리시의 공기에는 승화물이 포함되어 있지만, 열처리시의 공기는 도출덕트(23)에 유입된 후 기체처리덕트(24)로 유도된다. 기체처리덕트(24)에서는 열처리시의 공기가 촉매(30)에 의한 승화물의 산화분해반응을 받고, 그 후에, 개방단부(24a)로부터 배출되거나, 또는 연결덕트(28) 및 도입덕트(22)를 개재하여 열처리실(11)로 되돌아온다. 또한, 도 3의 중간부에 나타내어진 도면부호 16은 제2 실시형태와 동일한 방해판이다.In the heat treatment apparatus 1C having the above configuration, the flow of air is made as follows. That is, the air introduced into the introduction duct 22 from the open end 22a is heated by the heater 35 and flows into the heat treatment chamber 11. The heated air contributes to the heat treatment of the raw material (W). The air at the time of heat treatment contains the sublimate, but the air at the time of heat treatment flows into the induction duct 23 and is then led to the gas treatment duct 24. In the gas treatment duct 24, the air during the heat treatment undergoes the oxidative decomposition reaction of the sublimation by the catalyst 30, and thereafter, is discharged from the open end 24a, or the connecting duct 28 and the introduction duct 22. It returns to the heat treatment chamber 11 via. In addition, the code | symbol 16 shown in the middle part of FIG. 3 is the same baffle plate as 2nd Embodiment.

따라서, 상기 제3 실시형태에 따른 열처리장치(1C)에서도, 열처리부(10)로부터 분리된 열처리부(10) 외측의 기체통로(21C)에 송풍기(32, 34) 및 가열기(31, 35)가 설치되어짐으로써, 송풍기(32, 34)나 가열기(31, 35)의 고장을 방지하는 형태에서 열처리실(11)의 내부를 세정할 수 있게 된다. 추가로, 열처리부(10)의 기체도입부(12) 및 기체도출부(13)에 대해서, 연결용 플랜지(14, 15, 25, 26) 및 볼트, 너트로 구성된 연결수단을 개재시켜 기체통로(21C)가 착탈가능하게 연결되게 함으로써, 그의 기체통로(21C)에 설치된 송풍기(32, 34) 및 가열기(31, 35)를 가진 기체처리부(20C)를 열처리부(10)로부터 분리시키는 일이 가능하게 된다. 이에 따라 송풍기(32, 34)나 가열기(31, 35)의 고장을 확실하게 방지하는 상태에서 열처리실(11)의 내부를 세정하는 일이 가능함과 동시에, 열처리부(10)만을 교환하는 일이나 또는 기체처리부(20C)만을 교환하는 일이 가능하게 된다.Therefore, in the heat treatment apparatus 1C according to the third embodiment, the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 are provided in the gas passage 21C outside the heat treatment portion 10 separated from the heat treatment portion 10. Since the is provided, it is possible to clean the inside of the heat treatment chamber 11 in such a manner as to prevent failure of the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35. In addition, the gas passage portion (12) and the gas extracting portion 13 of the heat treatment portion 10, through the connecting means consisting of connecting flanges (14, 15, 25, 26) and bolts, nuts (gas passage) ( By detachably connecting the 21C, it is possible to separate the gas treatment unit 20C having the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 provided in the gas passage 21C from the heat treatment unit 10. Done. As a result, the inside of the heat treatment chamber 11 can be cleaned while the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 are reliably prevented, and only the heat treatment unit 10 can be replaced. Alternatively, only the gas treatment unit 20C can be replaced.

또한, 열처리장치(1C)에 있어서, 도입덕트(22)의 입구측 단부(22a)가 개방되어짐으로써 신선한 공기의 도입이 가능하게 된다. 또한, 도입덕트(22)에서는, 열처리실(11)로부터 도출된 촉매(30)에 의해 정화되고 가열기(31)에 의해 가열된 공기가 연결덕트(28)를 통해서 합류되어짐으로써 열손실을 적게 되는 일이 가능하다. 추가로, 도입덕트(22)에 설치된 기체가열용 가열기(35)가 열처리실(11)의 온도관리용으로서 이용되고 기체처리덕트(24)에 설치된 가열기(31)가 촉매(30)의 온도관리용으로 이용됨으로써, 이러한 가열기들(35, 31)을 각각 전유적(專宥的)으로 이용하는 일이 가능하게 된다. 따라서, 피열처리물(W)의 가열온도(설정온도)에 좌우되지 않고 촉매(30)를 최적의 활성온도로 설정하는 일이 가능하다.In addition, in the heat treatment apparatus 1C, the inlet end 22a of the introduction duct 22 is opened, so that fresh air can be introduced. In addition, in the inlet duct 22, the air that is purified by the catalyst 30 derived from the heat treatment chamber 11 and heated by the heater 31 is joined through the connection duct 28 so that the heat loss is reduced. Work is possible. In addition, a gas heating heater 35 installed in the introduction duct 22 is used for temperature management of the heat treatment chamber 11 and a heater 31 installed in the gas treatment duct 24 controls the temperature of the catalyst 30. By being used for the purpose, it becomes possible to use these heaters 35 and 31 exclusively, respectively. Therefore, it is possible to set the catalyst 30 to an optimum active temperature without being influenced by the heating temperature (set temperature) of the to-be-processed object W.

(제4 실시형태)(4th Embodiment)

도 4는 본 발명의 제4 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 보인 도면 이다. 또한, 도 3과 동일한 구성요소에 있어서는 동일한 부호가 부여된다. 4 is a view showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected in the same component as FIG.

상기 열처리장치(1B)는, 제2 연결덕트(27)를 가진 기체통로(21B)를 구비한다. 제2 연결덕트(27)의 일단부는, 도입덕트(22)에 있어서 연결덕트(28)가 합류하는 부위보다도 하류측에 있어 기체가열용 가열기(35)와 송풍기(34)가 설치되어 있는 위치보다도 상류측에 위치하여 연통연결된다. 제2 연결덕트(27)의 타단부는 도출덕트(23)의 도중에 연통연결된다. 제2 연결덕트(27)는 단열벽으로 에워싸인다.The heat treatment apparatus 1B includes a gas passage 21B having a second connection duct 27. One end of the second connection duct 27 is located on the downstream side from the position where the connection duct 28 joins in the introduction duct 22 than the position where the gas heating heater 35 and the blower 34 are provided. It is located upstream and connected. The other end of the second connection duct 27 is connected in the middle of the lead-out duct (23). The second connecting duct 27 is surrounded by a heat insulating wall.

기체처리부(20B)는 아래의 형태로 구성된다. 즉, 기체처리덕트(24)에는 촉매(30), 가열기(31) 및 송풍기(32) 등이 설치된다. 도입덕트(22)의 도중에 있어서 제2 연결덕트(27)의 합류점보다도 하류측 위치에는 상술한 형태인 송풍기(34) 및 가열기(35) 등이 설치된다. 가열기(35)는 열처리실(11)에 도입된 공기를 가열하기 위한 목적으로 설치된다. 또한, 열처리실(11)의 내부에는 상기 방해판(16)이 설치되어 있다. 여기에서, 도 4에서는 전처리제를 생략하였지만, 전처리제를 설치하는 형태가 바람직하다.The gas treatment unit 20B is configured in the following form. That is, the gas treatment duct 24 is provided with a catalyst 30, a heater 31, a blower 32, and the like. The blower 34, the heater 35, etc. of the above-mentioned form are provided in the position downstream of the joining point of the 2nd connection duct 27 in the middle of the introduction duct 22. As shown in FIG. The heater 35 is installed for the purpose of heating the air introduced into the heat treatment chamber 11. In addition, the baffle plate 16 is provided inside the heat treatment chamber 11. Here, although the pretreatment agent was abbreviate | omitted in FIG. 4, the form which provides a pretreatment agent is preferable.

상기 형태로 구성된 열처리장치(1B)에서는 공기의 흐름이 다음과 같은 형태로 이루어진다. 즉, 개방단부(22a)로부터 도입덕트(22)에 유입된 공기는 가열기(35)에 의해 가열되어서 열처리실(11)에 도입되고, 열처리실(11) 내에서 열처리에 기여한다. 상기 열처리시 시의 공기에는 승화물이 포함되는 일로 되며, 상기 열처리시의 공기는 도출덕트(23)에 유입된 후 제2 연결덕트(27)와 기체처리덕트(24)를 향하여 분류된다. 제2 연결덕트(27)에 도입된 공기는 도입덕트(22)에 있어서 다시 한번 가열기(35)에 의해 가열되어서 열처리실(11)로 되돌아간다. 즉, 공기의 일 부는 열처리실(11)과 제2 연결덕트(27) 사이를 순환한다. 한편, 기체처리덕트(24)를 향하여 도입된 승화물을 포함한 열처리시의 공기는 촉매(30)에 따라서 승화물의 산화분해반응을 받은 후 개방단부(24a)로부터 배출되거나, 또는 연결덕트(28) 및 도입덕트(22)를 개재하여 열처리실(11)로 되돌아간다.In the heat treatment apparatus 1B having the above configuration, the air flows as follows. In other words, the air introduced into the introduction duct 22 from the open end 22a is heated by the heater 35 to be introduced into the heat treatment chamber 11, and contributes to the heat treatment in the heat treatment chamber 11. The air at the time of the heat treatment is to include a sublimation, the air at the time of heat treatment flows into the lead-in duct 23 and is classified toward the second connection duct 27 and the gas treatment duct 24. The air introduced into the second connection duct 27 is heated by the heater 35 in the introduction duct 22 and returns to the heat treatment chamber 11. That is, part of the air circulates between the heat treatment chamber 11 and the second connection duct 27. On the other hand, the air during the heat treatment including the sublimate introduced toward the gas treatment duct 24 is discharged from the open end 24a after undergoing the oxidative decomposition reaction of the sublimate according to the catalyst 30, or the connection duct 28 And the heat return chamber 11 through the introduction duct 22.

따라서, 상기 열처리장치(1B)에 있어서도 열처리부(10)로부터 분리된 열처리부(10)의 외측 기체통로(21B)에 송풍기(32, 34) 및 가열기(31, 35)가 설치되어짐으로써, 송풍기(32, 34)나 가열기(31, 35)의 고장을 방지하는 형태에서 열처리실(11)의 내부를 세정할 수 있게 된다. 추가로, 열처리부(10)의 기체도입부(12) 및 기체도출부(13)에 대해서, 연결용 플랜지(14, 15, 25, 26) 및 볼트·너트로 구성된 연결수단을 개재시켜 기체통로(21B)가 착탈가능하게 연결되게 함으로써, 그의 기체통로(21B)에 설치된 송풍기(32, 34) 및 가열기(31, 35)를 가진 기체처리부(20B)를 열처리부(10)로부터 분리시키는 일이 가능하게 된다. 이에 따라 송풍기(32, 34)나 가열기(31, 35)의 고장을 확실하게 방지하는 상태에서 열처리실(11)의 내부를 세정하는 일이 가능함과 동시에, 열처리부(10)만을 교환하는 일이나 또는 기체처리부(20B)만을 교환하는 일이 가능하게 된다.Accordingly, in the heat treatment apparatus 1B, the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 are provided in the outer gas passage 21B of the heat treatment portion 10 separated from the heat treatment portion 10. It is possible to clean the inside of the heat treatment chamber 11 in such a manner as to prevent the failure of the 32 and 34 and the heaters 31 and 35. In addition, the gas passage (12) and the gas extracting portion (13) of the heat treatment portion (10), through the connecting means consisting of connecting flanges (14, 15, 25, 26) and bolts and nuts through the gas passage ( By detachably connecting the 21B, it is possible to separate the gas treatment unit 20B having the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 installed in the gas passage 21B from the heat treatment unit 10. Done. As a result, the inside of the heat treatment chamber 11 can be cleaned while the blowers 32 and 34 and the heaters 31 and 35 are reliably prevented, and only the heat treatment unit 10 can be replaced. Alternatively, only the gas processing unit 20B can be replaced.

또한, 상기 열처리장치(1B)에 있어서, 도입덕트(22)의 입구측 단부(22a)가 개방되고 연결덕트(28)를 개재하여 공기가 순환하는 구성으로 이루어지게 함으로써 제3 실시형태와 동일한 효과를 얻는 일이 가능하다. 게다가 연결덕트(28)에 의한 순환경로보다도 열처리실(11)의 부근에 순환경로가 제2 연결덕트(27)에 형성되고, 상기 제2 연결덕트(27)를 포함한 순환경로에 기체가열기용 가열기(35)가 설치되는 구성으로 이루어지게 함으로써 온도저하가 적은 공기를 다시 이용하는 일이 가능하게 된다. Further, in the heat treatment apparatus 1B, the inlet end 22a of the inlet duct 22 is opened and the air is circulated through the connection duct 28, thereby effecting the same effect as in the third embodiment. It is possible to get Furthermore, a circulation path is formed in the second connection duct 27 in the vicinity of the heat treatment chamber 11 rather than the circulation path by the connection duct 28, and a gas heater heater is provided in the circulation path including the second connection duct 27. By making it the structure which 35 is provided, it becomes possible to use the air with little temperature drop again.

여기서, 상술한 제1 내지 제4 실시형태에서는 열처리부(10)의 기체도입부(12) 및 기체도출부(13)와, 기체통로(21A~21D)를 연결하는 수단으로서, 연결용 플랜지(14, 15, 25, 26) 및 볼트·너트로 구성되는 것을 이용하고 있지만, 본 발명은 이에 국한되지 않는다. 예를 들면, 숫나사와 암나사를 조합시킨 연결수단이나 다른 기구 등이 이용될 수 있다.Here, in the above-described first to fourth embodiments, the connecting flange 14 is a means for connecting the gas introducing portion 12 and the gas extracting portion 13 of the heat treatment portion 10 and the gas passages 21A to 21D. , 15, 25, 26) and bolts and nuts are used, but the present invention is not limited thereto. For example, a connecting means or other mechanism in which a male screw and a female screw are combined may be used.

또한, 상술한 제1 내지 제4 실시형태에서는 열처리부(10)의 기체도입부(12) 및 기체도출부(13)와, 기체통로(21A~21D) 등을 연결수단(연결용 플랜지(14, 15, 25, 26) 및 볼트, 너트)에 의해 착탈 가능하게 연결하는 구성으로 하고 있지만, 본 발명은 이에 국한되지 않는다. 예를 들면, 기체도입부(12)와 도입덕트(22)를 용접 등으로 연결하고, 기체도출부(13)와 도출덕트(23)를 용접 등으로 연결한 구성도 바람직하다. 상기의 구성으로 할 경우에서도, 열처리부(10)로부터 분리된 열처리부(10) 외측의 기체통로(21A~21D)에 송풍기(32) 및 가열기(31) 등이 배치되게 하고, 송풍기(32) 및 가열기(31) 등에 세정액이 도달하기 어렵게 되게 함으로써, 송풍기나 가열기의 고장을 방지하는 상태에서 열처리실(11)을 세정하는 일이 가능하게 되며, 이에 본 발명의 목적을 달성할 수 있게 된다.In addition, in the above-described first to fourth embodiments, the gas introducing portion 12 and the gas extracting portion 13 of the heat treatment portion 10, the gas passages 21A to 21D, and the like are connected to each other (connection flanges 14, 15, 25, 26) and bolts and nuts), but the structure is detachably connected, but the present invention is not limited thereto. For example, the structure which connected the gas introduction part 12 and the introduction duct 22 by welding etc., and connected the gas delivery part 13 and the extraction duct 23 by welding etc. is also preferable. Also in the above configuration, the blower 32, the heater 31, and the like are arranged in the gas passages 21A to 21D outside the heat treatment unit 10 separated from the heat treatment unit 10, and the blower 32 is disposed. By making the cleaning liquid hardly reach the heater 31 and the like, it becomes possible to clean the heat treatment chamber 11 in a state of preventing the failure of the blower and the heater, thereby achieving the object of the present invention.

또한, 상술한 제1 내지 제4 실시형태에서는 1개의 열처리부(10)에 대하여 1개의 기체처리부(20A~20D)를 배치하는 구성으로 하고 있지만, 본 발명은 이에 국한되지 않는다. 1개의 열처리부(10)에 대하여 2개 이상의 기체처리부를 배치하는 구 성도 바람직하다. 예를 들면, 1개의 열처리부(10)에 대하여 2개의 기체처리부를 배치하는 경우를 예를 들어 도 5를 바탕으로 하여 설명한다.In addition, although the 1st thru | or 4th embodiment mentioned above arrange | positions one gas processing part 20A-20D with respect to one heat processing part 10, this invention is not limited to this. A configuration in which two or more gas treatment units are disposed with respect to one heat treatment unit 10 is also preferable. For example, a case where two gas treatment units are disposed with respect to one heat treatment unit 10 will be described based on, for example, FIG. 5.

도 5에 도시된 형태의 열처리부(10)에서는, 한 개 조의 기체도입부(12)와 기체도출부(13) 외에, 추가로 한 개 조의 기체도입부(12a)와 기체도출부(13a)가 설치된다. 기체도입부(12)와 기체도출부(13)에는 기체처리부(20A)의 기체통로(21A)가 연통연결되고, 기체도입부(12a)와 기체도출부(13a)에는 동일한 형태의 구성을 가진 기체처리부(20A)의 기체통로(21A)가 연통연결되는 구성으로 이루어지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 구성에 있어서, 한 개 조의 기체도입부(12)와 기체도출부(13)만을 사용하게 될 때는, 도 6에 나타난 형태로 추가된 기체통로(21A)를 떼어내어서 기체도입부(12a)와 기체도출부(13a)에 대하여 마개(18)을 부착하는 형태로 하지 않으면 안된다. In the heat treatment part 10 of the form shown in FIG. 5, in addition to a set of the gas introducing part 12 and the gas extracting part 13, an additional set of the gas introducing part 12a and the gas extracting part 13a are provided. do. A gas passage 21A of the gas treatment unit 20A is connected to the gas introduction unit 12 and the gas introduction unit 13, and a gas treatment unit having the same configuration as the gas introduction unit 12a and the gas introduction unit 13a. Preferably, the gas passage 21A of 20A is configured to communicate with each other. In the above configuration, when only one set of the gas introducing portion 12 and the gas extracting portion 13 is used, the gas introducing portion 12a is removed by removing the gas passage 21A added in the form shown in FIG. And the stopper 18 is attached to the gas extracting portion 13a.

이에 따라, 상술한 실시형태에서는 촉매(30)가 기체처리덕트(24)에 배치되는 구성으로 되어 있지만, 본 발명은 이에 국한되지 않는다. 예를 들면, 도 7에 도시된 바와 같은 형태로, 열처리실(11)의 내부에서도 별도의 촉매(17)을 배치하는 구성도 바람직하다. 이 때, 열처리실(11)의 내부에는 방해판(16)을 설치하는 것도 설치하지 않는 것도 상관없다. 상기 형태의 구성으로 함으로써 두 개의 촉매(30, 17)에 의해 승화물의 산화분해반응을 고효율로 행하는 일이 가능하게 된다.Accordingly, in the above-described embodiment, the catalyst 30 is arranged in the gas treatment duct 24, but the present invention is not limited thereto. For example, in the form as shown in FIG. 7, the structure which arrange | positions the separate catalyst 17 also in the inside of the heat processing chamber 11 is also preferable. At this time, the inside of the heat treatment chamber 11 may or may not install the baffle plate 16. With the above configuration, the oxidative decomposition reaction of the sublimation with the two catalysts 30 and 17 can be performed with high efficiency.

[실시형태의 개요]Outline of Embodiment

실시형태를 정리하면, 다음과 같은 종류들이 있다.In summary, there are the following types.

(1) 본 실시형태의 열처리장치에서는, 열처리부로부터 분리된 열처리부의 외 측에 배치된 기체통로에 송풍기나 가열기가 배치되게 함으로써 송풍기나 가열기의 고장을 방지하는 상태에서 열처리부의 열처리실 내부를 세정하는 일이 가능하다.(1) In the heat treatment apparatus of the present embodiment, the blower or the heater is disposed in the gas passage disposed on the outside of the heat treatment portion separated from the heat treatment portion to clean the inside of the heat treatment chamber in the state of preventing the blower or the heater from failure. You can do it.

(2) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 기체통로는 연결수단을 개재시켜 상기 기체도입부에 착탈가능하게 연결시킨 도입덕트와, 연결수단을 개재시켜 상기 기체도출부에 착탈가능하게 연결된 도출덕트를 구비하는 것이 바람직하다. 상기 형태에서는 기체처리부의 도입덕트와 도출덕트를 연결수단에 의해 열처리부로부터 분리하는 일이 가능하게 된다. 기체처리부가 열처리부로부터 분리된 상태에서는 송풍기나 가열기의 고장을 확실하게 방지하는 상태에서 열처리부의 열처리실 내부를 세정하는 일이 가능하다, 또한, 열처리부와 기체처리부 등을 분리시키는 일로써, 열처리부만을 교환하는 일이나, 또는 기체처리부만을 교환하는 일이 가능하게 된다.(2) The heat treatment apparatus, wherein the gas passage includes an introduction duct detachably connected to the gas introduction portion via a connecting means, and an induction duct detachably connected to the gas extracting portion via a connecting means. It is preferable. In this aspect, it is possible to separate the induction duct and the induction duct from the gas treatment unit from the heat treatment unit by the connecting means. When the gas treatment unit is separated from the heat treatment unit, it is possible to clean the inside of the heat treatment chamber in the heat treatment unit in a state that reliably prevents a blower or heater failure, and by separating the heat treatment unit from the gas treatment unit and the like. It is possible to replace only the parts or to replace only the gas treatment part.

(3) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 도입덕트의 입구측 단부와 상기 도출덕트의 출구측 단부 사이에 기체처리덕트를 개재시켜서 연결함으로써, 상기 기체처리덕트에 상기 촉매와 상기 가열기 등이 설치되게 한다. 상기 상태에서는 열처리실로부터 도출된 기체가 도출덕트, 기체처리덕트 및 도출덕트의 상기 순서로 지나서 다시 열처리실로 되돌아가는 순환경로가 구성된다. 이 때문에, 한 개의 송풍기로 기체를 순환시키는 일이 가능함과 동시에 기체처리덕트의 가열기에 의해 촉매와 기체 등을 가열하는 일이 가능하다. (3) In the heat treatment apparatus, a gas treatment duct is connected between an inlet end of the introduction duct and an outlet end of the lead duct so that the catalyst and the heater are installed in the gas treatment duct. . In this state, a circulation path is formed in which the gas derived from the heat treatment chamber passes in the order of the induction duct, the gas treatment duct, and the induction duct and returns to the heat treatment chamber again. For this reason, gas can be circulated by one blower, and a catalyst, gas, etc. can be heated by the heater of a gas processing duct.

(4) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 도출덕트의 입구측 단부가 개방되는 것과 함께, 상기 도입덕트에 기체가열용 가열기가 설치되고, 상기 도출덕트의 출구측 단부에 상기 촉매와 상기 가열기 등을 가진 기체처리덕트가 연결되게 하고, 상기 도출덕트, 상기 기체처리덕트 및 상기 도입덕트 중 적어도 어느 하나에 상기 송풍기가 설치되게 하는 것이 바람직하다.(4) In the heat treatment apparatus, an inlet end of the induction duct is opened, and a gas heating heater is installed in the introduction duct, and the catalyst and the heater are provided at an outlet end of the induction duct. Preferably, the gas treatment duct is connected and the blower is installed in at least one of the derivation duct, the gas treatment duct, and the introduction duct.

상기 형태에서는, 도입덕트의 개방된 입구측 단부로부터 흡입된 기체가 기체가열용 가열기에 의해 가열되어서 열처리실로 도입되고, 도출덕트 및 기체처리덕트를 지나서 도출되는 형태로 구성되게 함으로써, 열처리실에 도입된 기체가 승화물이 없는 형태로 된다. 이 때문에, 열처리실에는 항상 신선한 기체가 도입되게 함으로써, 촉매에 의한 승화물의 산화분해반응을 저하시키는 것을 어렵게 하는 일이 가능하게 된다. 또한, 상기 형태에서는 기체가 일방향으로 흐르게 함으로써 도입덕트, 도출덕트 및 기체처리덕트 중 적어도 하나에 송풍기를 설치할 수 있게 하여 열처리실로의 기체 도입과 열처리실로부터의 기체 도출을 가능하게 한다.In the above aspect, the gas sucked from the open inlet end of the introduction duct is heated by the gas heating heater to be introduced into the heat treatment chamber, and introduced into the heat treatment chamber by causing the gas to be led out through the leading duct and the gas treatment duct. The resulting gas is in the form of no sublimation. For this reason, it is possible to make it difficult to reduce the oxidative decomposition reaction of the sublimation by a catalyst by always introducing fresh gas into the heat treatment chamber. In addition, in the above embodiment, by allowing the gas to flow in one direction, it is possible to install a blower in at least one of the induction duct, the induction duct, and the gas treatment duct, thereby allowing gas introduction into the heat treatment chamber and gas extraction from the heat treatment chamber.

(5) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 도출덕트의 출구측 단부에 상기 촉매와 상기 가열기 등을 가진 기체처리덕트가 연결되는 경우에는, 상기 기체처리덕트에 있어서 상기 촉매와 상기 가열기 등이 설치된 장소보다도 하류측의 위치와 상기 도입덕트가 연결덕트를 개재하여 연통연결되고, 상기 도입덕트의 입구측 단부가 개방되는 일과 함께, 상기 도입덕트에 있어서 상기 연결덕트의 연결위치보다도 하류측에, 기체가열용 가열기와 상기 송풍기 등이 설치되는 것이 바람직하다. (5) In the heat treatment apparatus, when the gas treatment duct having the catalyst, the heater, and the like is connected to the outlet side end of the lead-in duct, the gas treatment duct may be used in a place where the catalyst, the heater, etc. are installed. The position on the downstream side and the introduction duct are in communication with each other via a connection duct, and the inlet side end portion of the introduction duct is opened, and the gas is heated downstream from the connection position of the connection duct in the introduction duct. It is preferable that a heater, the blower, and the like are provided.

상기 형태에서는 도입덕트의 입구측 단부가 개방되게 함으로써, 신선한 기체의 도입이 가능하게 된다. 또한, 열처리실로부터 도출된 기체가 촉매에 의해 정화되고, 그 다음 가열기에 의해 가열된 상태에서 연결덕트를 통해서 도입덕트에 도입된다. 이 때문에, 도입덕트의 개방 입구측 단부로부터 흡입된 기체를 승온시켜서 열처리실로 도입하는 일이 가능하게 됨으로써, 열손실을 적게 하는 일이 가능하게 된다. 또한, 도입덕트에 설치된 기체가열용 가열기가 열처리실의 온도관리용으로 이용되고, 기체처리덕트에 설치된 가열기가 촉매의 온도관리로 이용되게 함으로써, 이러한 가열기를 전유적으로 이용하는 일을 가능하게 한다. 따라서, 피열처리물의 가열 온도에 좌우됨 없이 촉매를 최적의 활성 온도로 설정하는 일이 가능하게 된다.In this aspect, fresh gas can be introduced by opening the inlet end of the introduction duct. In addition, the gas derived from the heat treatment chamber is purified by the catalyst and then introduced into the introduction duct through the connection duct in the state heated by the heater. For this reason, it is possible to raise the gas sucked from the open inlet side end of the introduction duct and introduce it into the heat treatment chamber, thereby reducing the heat loss. In addition, the gas heating heater provided in the introduction duct is used for temperature management of the heat treatment chamber, and the heater installed in the gas treatment duct is used for temperature management of the catalyst, thereby making it possible to use such a heater exclusively. Therefore, it is possible to set the catalyst to the optimum active temperature without depending on the heating temperature of the object to be treated.

(6) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 도입덕트에 있어서 상기 연결덕트가 연결되는 위치보다도 하류측에 있게 하고 상기 기체가열용 가열기 및 상기 송풍기보다도 상류측의 위치와, 상기 도출덕트 등이 제2 연결덕트를 개재하여 연통연결되게 하는 것이 바람직하다. 상기 형태에서는 도입덕트의 입구측 단부가 개방되고, 그 다음 연결덕트를 개재하여 기체가 순환하는 구성으로 되게 함으로써, 상기 열처리장치와 동일한 효과를 얻게 한다. 연결덕트에 의한 순환경로보다도 열처리실의 부근에 순환경로가 제2 연결덕트에 의해 형성되고, 그 다음 순환경로에 기체가열용 가열기가 설치되게 하는 구성으로 되게 함으로써, 온도 저하가 적은 기체를 재이용하는 일이 가능하게 된다.(6) In the above heat treatment apparatus, the connecting duct is positioned downstream from the position where the connection duct is connected, and the position of the upstream side of the gas heating heater and the blower, and the induction duct are connected to the second. It is desirable to be in communication via a duct. In this aspect, the inlet end of the introduction duct is opened, and then the gas is circulated through the connection duct, thereby obtaining the same effect as the heat treatment apparatus. The circulation path is formed by the second connection duct in the vicinity of the heat treatment chamber rather than the circulation path by the connection duct, and the gas heating heater is installed in the circulation path. Work is possible.

(7) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 열처리부의 상기 열처리실에도 촉매가 설치되는 것도 바람직하다. 이러한 형태에서는 열처리실의 용적이나 승화물의 발생량에 부합되어 기체처리부의 능력을 선정 및 선택하는 일을 가능하게 한다.(7) In the heat treatment apparatus, a catalyst is also preferably provided in the heat treatment chamber of the heat treatment portion. This configuration makes it possible to select and select the capacity of the gas treatment unit in accordance with the volume of the heat treatment chamber or the amount of sublimation generated.

상기에는 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 설명하고 있지만, 본 발명은 상기에 한정되는 것은 아니고, 청구범위와 발명의 상세한 설명의 범위 내에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention. Belongs to the scope of.

도 1은 본 발명의 제1 실시태양에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제2 실시태양에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.2 is a schematic structural diagram of a heat treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제3 실시태양에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.3 is a schematic structural diagram of a heat treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제4 실시태양의 따른 열처리장치의 개략구성도이다.4 is a schematic structural diagram of a heat treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 다른 실시태양에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.5 is a schematic structural diagram of a heat treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시태양에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.6 is a schematic structural diagram of a heat treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 또 다른 실시태양에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.7 is a schematic structural diagram of a heat treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 간략한 설명** Brief description of symbols for the main parts of the drawings *

10: 열처리부 11: 열처리실10: heat treatment unit 11: heat treatment chamber

12: 기체도입부 13: 기체도출부12: gas introduction portion 13: gas introduction portion

14, 15, 25, 26: 플랜지 22: 도입덕트14, 15, 25, 26: flange 22: introduction duct

23: 도출덕트 24: 기체처리덕트23: derived duct 24: gas treatment duct

28: 연결덕트28: connection duct

30: 촉매 31, 35: 가열기 30: catalyst 31, 35: heater

32, 34: 송풍기 33: 전처리제 32, 34: blower 33: pretreatment agent

Claims (7)

피열처리물이 입출가능하게 수용되는 열처리실에 각각 연통되는 기체도입부 및 기체도출부를 가진 열처리부와, A heat treatment portion having a gas introduction portion and a gas extraction portion respectively connected to the heat treatment chamber in which the heat treated material is receivably received; 상기 기체도입부로 열처리용 기체를 도입하고, 상기 기체도출부에서 열처리 시의 기체를 도출하기 위한 기체통로를 구비한 기체처리부를 구비하고, A gas treatment part having a gas passage for introducing a heat treatment gas into the gas introducing part and deriving gas during the heat treatment from the gas introducing part; 상기 기체통로에는 상기 피열처리물을 열처리할 때에 해당 피열처리물에서 발생하는 승화물을 분해하는 촉매와, 적어도 상기 촉매를 가열하는 가열기와, 상기 열처리용 기체 및 상기 열처리 시의 기체를 소정의 방향으로 유도하는 1 또는 2 이상의 송풍기가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.The gas passage includes a catalyst for decomposing a sublimate generated in the heat treated material when the heat treated material is heat treated, a heater for heating at least the catalyst, a gas for heat treatment and a gas during the heat treatment in a predetermined direction. Heat treatment apparatus characterized in that one or more blowers are installed to guide to. 제1항에 있어서, 상기 기체통로는, 연결수단을 개재하여 상기 기체도입부에 착탈가능하게 연결되는 도입덕트와, 연결수단을 개재하여 상기 기체도출부에 착탈가능하게 연결되는 도출덕트를 구비하는 것을 특징으로 하는 열처리장치.The gas passage according to claim 1, wherein the gas passage includes an introduction duct detachably connected to the gas introduction portion via a connecting means, and a lead duct detachably connected to the gas extracting portion via a connecting means. Heat treatment apparatus characterized in that. 제2항에 있어서, 상기 도입덕트의 입구측 단부와 상기 도출덕트의 출구측 단부가 기체처리덕트를 개재하여 연결되게 하고, 상기 기체처리덕트에 상기 촉매와 상기 가열기가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.The heat treatment according to claim 2, wherein the inlet end of the introduction duct and the outlet end of the lead duct are connected via a gas treatment duct, and the catalyst and the heater are installed in the gas treatment duct. Device. 제2항에 있어서, 상기 도입덕트의 입구측 단부가 개방되고, 상기 도입덕트에 기체가열용 가열기가 설치되고,According to claim 2, wherein the inlet end of the introduction duct is opened, the heater for gas heating is installed in the introduction duct, 상기 도출덕트의 출구측 단부에 상기 촉매와 상기 가열기를 가진 기체처리덕트가 연결되고, A gas treatment duct having the catalyst and the heater is connected to an outlet end of the lead-in duct; 상기 도출덕트, 상기 기체처리덕트 및 상기 도입덕트 중 적어도 하나에 상기 송풍기가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.And the blower is installed in at least one of the derivation duct, the gas treatment duct, and the introduction duct. 제2항에 있어서, 상기 도출덕트의 출구측 단부에는 상기 촉매와 상기 가열기를 가진 기체처리덕트가 연결되고, The gas treatment duct having the catalyst and the heater is connected to an outlet end of the lead-in duct. 상기 기체처리덕트에 있어서 상기 촉매와 상기 가열기가 설치되는 장소보다 하류측의 위치와, 상기 도입덕트가 연결덕트를 개재하여 연통연결되고,In the gas treatment duct, a position downstream from the place where the catalyst and the heater are installed, and the introduction duct is connected in communication with each other via a connection duct. 상기 도입덕트의 입구측 단부가 개방됨과 동시에, 상기 도입덕트에 있어서 상기 연결덕트의 연결위치보다도 하류측에는, 기체가열용 가열기와 상기 송풍기가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.And an inlet end of the introduction duct being opened, and a gas heating heater and the blower are provided downstream of the connection position of the connection duct in the introduction duct. 제5항에 있어서, 상기 도입덕트에 있어서 상기 연결덕트가 연결되는 위치보다도 하류측에 있는 상기 기체가열용 가열기 및 상기 송풍기보다도 상류측의 위치에, 상기 도출덕트가 제2 연결덕트를 개재하여 연통연결되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.6. The induction duct communicates with the induction duct via a second connection duct at a position upstream of the gas heater and the blower that is downstream from the position where the connection duct is connected. Heat treatment apparatus, characterized in that connected. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 열처리부의 상기 열처리실에도 별도의 촉매가 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.And a separate catalyst is installed in the heat treatment chamber of the heat treatment portion.
KR1020080048563A 2007-05-29 2008-05-26 Heat treatment apparatus KR101450902B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2007-00141427 2007-05-29
JP2007141427A JP4589941B2 (en) 2007-05-29 2007-05-29 Heat treatment equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080104972A true KR20080104972A (en) 2008-12-03
KR101450902B1 KR101450902B1 (en) 2014-10-14

Family

ID=40105675

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080048563A KR101450902B1 (en) 2007-05-29 2008-05-26 Heat treatment apparatus

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4589941B2 (en)
KR (1) KR101450902B1 (en)
CN (1) CN101314516B (en)
TW (1) TWI476356B (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010144939A (en) * 2008-12-16 2010-07-01 Tohoku Univ Circulation type substrate burning furnace
TWI404955B (en) * 2009-02-23 2013-08-11 Yang Electronic Systems Co Ltd Cooling and moisture-proofing apparatus for use in electric property test of flat panel display substrate
JP5639262B2 (en) * 2011-04-14 2014-12-10 シャープ株式会社 Display panel substrate manufacturing equipment
JP6855687B2 (en) * 2015-07-29 2021-04-07 東京エレクトロン株式会社 Substrate processing equipment, substrate processing method, maintenance method of substrate processing equipment, and storage medium
CA3008497A1 (en) * 2016-11-29 2018-06-07 Yue Zhang Hot-air oxygen-free brazing system
KR102012158B1 (en) * 2019-05-13 2019-08-20 정영문 air conditioning apparatus

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2222050B2 (en) * 1972-05-05 1975-08-21 Leybold-Heraeus Gmbh & Co Kg, 5000 Koeln Method and device for vacuum sintering pressed bodies containing hydrocarbons from powdered starting materials
JPH0424576Y2 (en) * 1985-01-29 1992-06-10
JPH03420U (en) * 1989-05-25 1991-01-07
JPH059556A (en) * 1991-07-02 1993-01-19 Daido Steel Co Ltd Gas feeding method for heat treating furnace
JP3461187B2 (en) * 1993-10-02 2003-10-27 大阪瓦斯株式会社 Paint drying oven
JP3000420U (en) * 1994-01-25 1994-08-09 日本電熱計器株式会社 Atmosphere cooling device for soldering equipment
JP3959141B2 (en) * 1996-11-12 2007-08-15 エスペック株式会社 Heat treatment equipment with sublimation countermeasures
JP2001201271A (en) * 2000-01-24 2001-07-27 Shinko Mex Co Ltd Exhaust gas treatment system of vertical blast furnace for copper
JP4402846B2 (en) * 2001-02-20 2010-01-20 中外炉工業株式会社 Continuous firing furnace for flat glass substrates
JP2002257314A (en) * 2001-03-02 2002-09-11 Ngk Insulators Ltd Hot blast generator
JP2003158082A (en) * 2001-11-22 2003-05-30 Hitachi Ltd Substrate processor
JP2003229425A (en) * 2002-02-05 2003-08-15 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
JP4111269B2 (en) * 2002-12-19 2008-07-02 株式会社日立国際電気 Substrate processing equipment
JP2004206983A (en) * 2002-12-25 2004-07-22 Pioneer Electronic Corp Manufacturing method of plasma display panel, and heat treatment device therefor
CN100501287C (en) * 2003-01-25 2009-06-17 北京环能海臣科技有限公司 Thermal gas recycling device for retrieving condensed water from dehydrating material
JP4010411B2 (en) * 2003-04-14 2007-11-21 光洋サーモシステム株式会社 Continuous firing furnace with exhaust gas treatment unit
JP2005037024A (en) * 2003-07-18 2005-02-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Baking furnace for plasma display panel
JP4098179B2 (en) * 2003-07-30 2008-06-11 日本碍子株式会社 Heat treatment furnace
JP2005071632A (en) * 2003-08-25 2005-03-17 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd Method and device for manufacturing plasma display panel
JP2007085702A (en) * 2005-09-26 2007-04-05 Espec Corp Glass substrate treating device, glass substrate treating system and glass substrate treating method
JP4291832B2 (en) * 2006-06-23 2009-07-08 株式会社フューチャービジョン Air supply and exhaust system for substrate firing furnace
JP4372806B2 (en) * 2006-07-13 2009-11-25 エスペック株式会社 Heat treatment equipment
JP4331784B2 (en) * 2008-07-22 2009-09-16 株式会社フューチャービジョン Supply and exhaust method for substrate firing furnace

Also Published As

Publication number Publication date
TW200907269A (en) 2009-02-16
KR101450902B1 (en) 2014-10-14
TWI476356B (en) 2015-03-11
CN101314516A (en) 2008-12-03
CN101314516B (en) 2012-05-30
JP4589941B2 (en) 2010-12-01
JP2008298300A (en) 2008-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20080104972A (en) Heat treatment apparatus
US9683747B2 (en) Combination oven with catalytic converter
JP4372806B2 (en) Heat treatment equipment
US10012392B2 (en) Oven appliance
US11607742B2 (en) Reflow oven
US20180020681A1 (en) Oven appliance with air curtain
KR20060048613A (en) Heat treatment apparatus
US9888692B2 (en) Oven appliance
US9420800B1 (en) Oven appliance
EP1816402B1 (en) Oven
KR20200069216A (en) Temperature adjustment apparatus for high temperature oven
KR20080104973A (en) Gas treatment unit
CN102445076A (en) Heat teratment apparatus
JP2009243879A (en) Heat treatment device
JP2009160304A (en) Sterilizing apparatus and sterilizing method
KR101461675B1 (en) Heat treatment apparatus
US20170059175A1 (en) Oven appliance
JP3937584B2 (en) Cooker
JP2921139B2 (en) Reflow equipment
DE102014105345A1 (en) Cooking appliance

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170919

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180918

Year of fee payment: 5