KR101461675B1 - Heat treatment apparatus - Google Patents

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본 발명은 열처리 시에 피열처리물로부터 발생된 승화물이 기체도출공 이후로 유출되는 것을 곤란하게 하는 열처리장치를 제공한다.The present invention provides a heat treatment apparatus which makes it difficult for a vapor generated from a heat treatment article to flow out after a gas lead-out hole at the time of heat treatment.

상기 장치는, 피열처리물이 입출가능하게 수용되게 하는 열처리실(11)과, 상기 열처리실과 연통하는 가열실(12)을 가진 장치본체(10)를 구비하고, 상기 가열실(12)에 설치된 기체도입공(14)을 통해서 상기 가열실(12)에 도입된 열처리용 기체를 상기 가열실(12)에서 가열하는 일에 따라 상기 피열처리물을 열처리하고, 상기 열처리실(11)에 설치된 기체도출공(16)을 통해서 열처리 시의 기체를 상기 열처리실(11)로부터 도출하는 열처리장치이다. 상기 열처리장치에서는, 상기 열처리 시 기체에 포함된 상기 피열처리물에서 발생한 승화물을 분해할 수 있는 촉매(22)가 상기 기체도출공(16)의 입구(16a)를 막는 형태로 설치된다.The apparatus comprises a heat processing chamber (11) for allowing a material to be heat-treated to be received and received therein and a device body (10) having a heating chamber (12) communicating with the heat treatment chamber, The heat treatment object is subjected to heat treatment by heating the heat treatment gas introduced into the heating chamber 12 through the gas introduction hole 14 in the heating chamber 12, And the gas at the time of heat treatment is led out from the heat treatment chamber 11 through the lead-out hole 16. In the heat treatment apparatus, a catalyst (22) capable of decomposing the sludge generated in the heat treatment product contained in the gas during the heat treatment is installed in such a manner as to block the inlet (16a) of the gas discharge hole (16).

열처리, 피열처리물, 가열실, 기체도입공, 기체도출공, 승화물 Heat treatment, heat treatment material, heating chamber, gas introduction hole, gas extraction hole,

Description

열처리장치{Heat treatment apparatus}[0001] Heat treatment apparatus [0002]

본 발명은 피열처리물을 열처리하는 열처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating a subject to be heat-treated.

종래, 열처리실 내부의 공기를 순환시켜서 열처리실 내부를 가열하는 일에 따라 열처리실에 수용된 피열처리물을 가열하는 열처리장치가 공지되어 있다. 상기 형태의 열처리장치는, 예를 들면, 에프피디(평판 디스플레이, FPD(Flat Panel Display)) 제조공정에 있어서의 포토레지스트(photoresist)나 유기물박막의 프리베이크(prebake), 포스트베이크(postbake) 공정에 이용되고 있다. 상기의 공정에서는, 글라스 기판등 피열처리물을 열처리할 때에, 포토레지스트 등에 포함된 휘발성 성분이 기화하여 다량의 승화물이 발생하게 된다. 상기 승화물이 재결정화되고 열처리장치 주변에 비산하여서 주변에 부착되는 등의 문제가 발생하였다.BACKGROUND ART Conventionally, there is known a heat treatment apparatus for heating an object to be heat-treated accommodated in a heat treatment chamber by circulating air in the heat treatment chamber and heating the inside of the heat treatment chamber. The above-described heat treatment apparatus can be used for, for example, prebaking photoresist or organic thin film in a process of manufacturing an FPD (flat panel display, FPD), postbaking process . In the above process, volatile components contained in the photoresist or the like are vaporized when the heat-treated article such as a glass substrate is heat-treated, and a large amount of the vaporized component is generated. There arises a problem that the above-mentioned sludge is recrystallized and scattered around the periphery of the heat treatment apparatus and adhered to the periphery.

상기 문제의 해결책으로, 예를 들면 일본특허공개평 제10-141868호 공보에서는. 외기(外氣)를 가열하여 상기 열처리실 내부로 불어넣어서, 상기 열처리실 내부의 공기를 도출 덕트(duct)를 통해서 유출시키는 일에 따라 열처리실 내부를 환기하는 것이 기재되어 있다. 상기 형태의 열처리실 내부를 환기하는 일에 따라, 승화물의 재결정화 및 주변의 부착을 억제시키는 일이 가능하였다.As a solution to the above problem, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-141868. It is described that the outside air is heated and blown into the heat treatment chamber to ventilate the inside of the heat treatment chamber as the air in the heat treatment chamber flows out through the duct. It was possible to suppress the recrystallization of the sublimate and the adherence of the periphery by ventilating the inside of the heat treatment chamber of the above form.

그런데, 상술한 열처리실내의 환기에 대하여 또는 환기에 더하여, 열처리실 내부에 있는 승화물을 제거하기 위해서는 촉매를 배치해야하는 일이 고려되고 있다. 그러나, 촉매를 배치하는 일에 대해서도, 그의 배치 위치에 따라서는 열처리에 따라 발생된 승화물이 촉매에 의해 처리되지 않고 기체 도출공으로 유출하여서, 기체 도출공과 그와 접속된 도출 덕트에 승화물의 재결정화되어 부착하는 일이 발생하였다. 이 때문에, 상술한 열처리장치에서도 개선되어야할 문제점이 남아있다.However, in addition to the ventilation of the heat treatment room or the ventilation, it is considered to arrange a catalyst in order to remove the sludge in the heat treatment chamber. However, even in the case of disposing the catalyst, depending on the arrangement position thereof, the sludge generated by the heat treatment flows out to the gas outlet hole without being treated by the catalyst, and the gas outlet outlet and the outlet duct connected thereto are recrystallized So that it was attached. Therefore, there remains a problem to be improved in the above-mentioned heat treatment apparatus.

본 발명의 목적은 열처리 시에 피열처리물로부터 발생한 승화물이 기체도출공 이후로 유출되지 않게 하는 열처리장치를 제공하는 데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a heat treatment apparatus that prevents a vaporized product generated from a heat-treated product from flowing out after a gas discharge hole at the time of heat treatment.

본 발명의 일 형태에 의하면, 피열처리물이 입출가능하게 수용되게 하는 열처리실과, 상기 열처리실과 연통하는 가열실을 가진 장치본체를 구비하고, 상기 가열실에 설치된 기체도입공을 통해서 상기 가열실에 도입된 열처리용 기체를 상기 가열실에서 가열하는 일에 따라 상기 피열처리물을 열처리하고, 상기 열처리실에 설치된 기체도출공을 관통해서 열처리 시의 기체를 상기 열처리실로부터 도출하는 열처리장치에 있어서, 상기 열처리 시 기체에 포함된 상기 피열처리물에서 발생한 승화물을 분해할 수 있는 촉매가 상기 기체도출공의 입구를 막는 형태로 설치되는 것을 특징으로 한다.According to one aspect of the present invention, there is provided a heat treatment apparatus comprising: a heat treatment chamber for allowing a heat-treated product to be received and received; and a device body having a heating chamber communicating with the heat treatment chamber, A heat treatment apparatus for heat-treating the heat-treated article according to heating the introduced heat-treating gas in the heating chamber, passing through a gas outlet hole provided in the heat-treating chamber and drawing gas from the heat-treatment chamber, And a catalyst capable of decomposing the sludge generated in the heat treatment material contained in the gas during the heat treatment is installed in a manner blocking the inlet of the gas outlet hole.

본 발명의 열처리장치는 열처리 시에 피열처리물로부터 발생한 승화물이 기체도출공으로부터 유출되지 않게 하고, 촉매의 온도저하를 억제하는 일이 가능하여 촉매의 처리효율을 향상시키고, 촉매에 따른 승화물의 산화분해반응의 촉진을 보다 향상시키는 일을 가능하게 하고, 기체도출공으로부터 배기된 열처리시의 기체의 일부가 기체도입공으로 되돌아가게 함으로써 열처리시의 기체가 가지고 있는 열을 피열처리물의 열처리에 다시 이용하는 일이 가능하며, 기체도입공으로부터 도입된 신 선한 기체로 열처리를 행하는 일을 가능하게 함으로써 촉매가 열화되어도 열처리실 내에서 승화물 농도의 증가를 억제하는 일이 가능하게 하는 효과를 제공한다.The heat treatment apparatus of the present invention can prevent the condensate generated from the heat-treated product from flowing out from the gas lead-out hole at the time of the heat treatment, suppress the temperature decrease of the catalyst and improve the treatment efficiency of the catalyst, It is possible to further improve the acceleration of the oxidative decomposition reaction and to cause part of the gas at the time of the heat treatment discharged from the gas lead-out hole to return to the gas introduction hole so that the heat of the gas at the time of heat treatment is used again for the heat treatment of the heat- And it is possible to perform the heat treatment with the fresh gas introduced from the gas introduction hole, so that it is possible to suppress the increase of the concentration of the vaporization in the heat treatment chamber even if the catalyst deteriorates.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 바람직한 실시 형태에 대해서는 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(제1 실시형태)(First Embodiment)

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 열처리장치의 개략적인 구성을 보인 도면이다. 상기 열처리장치(1A)는, 예를 들어 에프피디(FPD)의 제조공정에 이용되고 있다. 상기 열처리장치(1A)는 클린룸(clean room) 내에 설치되며, 소위 클린오븐(clean oven)으로 불리워지고 있다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention; Fig. The heat treatment apparatus 1A is used, for example, in a manufacturing process of an FPD. The heat treatment apparatus 1A is installed in a clean room and is called a so-called clean oven.

열처리장치(1A)는 피열처리물(W, 이하, 소재라한다)이 입출가능하게 수용되게 하는 열처리실(11)과 상기 열처리실(11)로 가열공기를 공급하기 위한 가열실(12) 등을 내부에 가진 장치본체(10)를 구비한다. 상기 도면에 도시된 바와 같이, 상기 가열실(12)은 열처리실(11)의 상측에 배치된다.The heat treatment apparatus 1A includes a heat treatment chamber 11 for allowing a heat treatment product W (hereinafter referred to as a material) to be received and received and a heating chamber 12 for supplying heated air to the heat treatment chamber 11 And a main body 10 of the apparatus. As shown in the drawing, the heating chamber 12 is disposed above the heat treatment chamber 11.

상기 장치본체(10)는 4개의 측면(측벽)과, 천정면(천부)과, 저면(저부) 등을 구비하고, 단면이 장방형(사변형)상의 상자 형태로 형성되어 있다. 여기서, 우측 측면(우측벽)을 10a라 하고, 내부 측면(내부 측벽)을 10b로 하고, 좌측 측면(좌측벽)을 10c로 하고, 천정면을 10d로 하며, 저면을 10e로 한다. The apparatus main body 10 is provided with four side surfaces (side walls), a ceiling surface (bottom surface), a bottom surface (bottom surface), and the like and has a rectangular cross section. Here, the right side wall (right side wall) is denoted by 10a, the inner side face (inner side wall) is denoted by 10b, the left side face (left side wall) by 10c, the ceiling face by 10d and the bottom face by 10e.

상기 우측 측면(10a)에 대해서, 가열실(12)에 대응하는 높이의 위치에는 기체도입공(14)이 설치되어 있다. 즉, 기체도입공(14)은 가열실(12)의 측벽에 설치된 다. 상기 기체도입공(14)에는 우측 측면(10a)의 외측에 설치된 도입덕트(15)가 연통하여 연결된다. 또한, 우측 측면(10a)에 대해서, 열처리실(11)에 대응하는 높이의 위치(도면을 통해 예를 들면 열처리실(11)의 아래 부근의 하측위치)에는 기체도출공(16)이 설치되어 있다. 즉, 기체도출공(16)은 열처리실(11)의 측벽에 설치된다. 상기 기체도출공(16)에는 우측 측면(10a)의 외측에 설치된 도출덕트(17)가 연통하여 연결된다.A gas introducing hole 14 is provided at a position corresponding to the heating chamber 12 with respect to the right side face 10a. That is, the gas introduction holes 14 are provided on the side wall of the heating chamber 12. An introduction duct (15) provided outside the right side face (10a) is connected to the gas introduction hole (14). A gas outlet hole 16 is provided at a position corresponding to the height of the right side face 10a of the heat treatment chamber 11 (for example, a lower position near the bottom of the heat treatment chamber 11 through the figure) have. That is, the gas lead-out hole 16 is provided on the side wall of the heat treatment chamber 11. And a draft duct 17 provided on the outside of the right side face 10a is connected to the gas lead-out hole 16 to communicate therewith.

도입덕트(15) 및 기체도입공(14)은 외기가 가열실(12) 내부로 도입되게 하고, 기체도출공(16) 및 도출덕트(17)는 열처리실(11) 내부의 공기가 외부로 도출되게 한다.The introduction duct 15 and the gas introduction hole 14 allow the outside air to be introduced into the heating chamber 12 and the gas lead-out hole 16 and the lead-out duct 17 are arranged in such a manner that air in the heat- .

상기 가열실(12)과 열처리실(11) 사이에는 분리판(13)이 설치된다. 상기 분리판(13)은 내부 측면(10b)과 그에 대항하는 바로 전방측 측면(미도시)에 가로질러 수평으로 설치되어 있고, 분리판(13)과 우측 측면(10a) 사이에는 간극(間隙, 13a)이, 분리판(13)과 좌측 측면(10c)의 사이에는 간극(13b)이 형성된다. 즉, 장치본체(10)에는 기체도입공(14) 및 기체도출공(16)에서 가까운 측부에 구비된 간극(13a)과 기체도입공(14) 및 기체도출공(16)에서 먼 측부에 구비된 간극(13b)이 설치된다.A separation plate 13 is provided between the heating chamber 12 and the heat treatment chamber 11. The separator plate 13 is installed horizontally across the inner side surface 10b and a front side surface (not shown) facing the inner side surface 10b, and a gap (gap) is formed between the separator plate 13 and the right side surface 10a. 13a. A gap 13b is formed between the separation plate 13 and the left side face 10c. That is, the apparatus main body 10 is provided with a gap 13a provided at a side close to the gas introducing hole 14 and the gas discharging hole 16, a gas introducing hole 14 and a gas introducing hole 16, A gap 13b is formed.

분리판(13)의 상측에 위치한 가열실(12)에는 가열기(20)와 송풍기(21)가 설치되어 있다. 가열기(20)는 도입덕트(15) 및 기체도입공(14)을 통과하여 도입된 외기 및 장치본체(10) 내에서 순환하는 공기를 가열한다. 송풍기(21)는 가열된 외기 및 공기를 열처리실(11)로부터 송출한다. 간극(13a)은 송풍기(21)에 대하여 흡입측 에 배치되고, 간극(13b)은 송풍기(21)에 대하여 송출측에 배치된다.A heater 20 and a blower 21 are installed in the heating chamber 12 located above the separator plate 13. The heater 20 heats the outside air introduced through the introduction duct 15 and the gas introduction hole 14 and air circulating in the apparatus main body 10. [ The blower 21 sends out the heated outside air and air from the heat treatment chamber 11. The gap 13a is disposed on the suction side with respect to the blower 21 and the gap 13b is disposed on the delivery side with respect to the blower 21. [

열처리실(11)의 우측 측면(10a)에는 기체도출공(16)의 전방측에 촉매(22)가 부착되어 있으며, 상기 촉매(22)에 의해 기체도출공(16)의 입구(16a)가 막혀있게 된다. 여기서, 촉매(22)는 고정부재(미도시)에 의해 고정된다. The catalyst 22 is attached to the front side of the gas outlet 16 in the right side surface 10a of the heat treatment chamber 11. The inlet 16a of the gas outlet 16 through the catalyst 22 It becomes blocked. Here, the catalyst 22 is fixed by a fixing member (not shown).

또한, 열처리실(11)의 내측에는, 예를 들면 한 개 또는 두 개 이상의 피열처리물(W)을 소정 상태로 유지할 수 있는 유지부재(미도시)가 설치된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 유지부재의 위치를 2점쇄선으로 나타내었다.Further, a holding member (not shown) is provided inside the heat treatment chamber 11, for example, to hold one or two or more heat treatments W in a predetermined state. As shown in Fig. 2, the position of the holding member is indicated by a chain double-dashed line.

촉매(22)는 열처리 시 공기에 포함된 승화물의 산화분해반응을 촉진시키기 위한 것으로서, 예를 들면 백금(Pt)과 팔라듐(Pd) 등의 귀금속과, 상기 귀금속의 합금 등의 활성금속이 채용된다. 상기 형태의 촉매(22)는 약 150~200℃ 정도의 온도 분위기하에서 촉매활성화를 보인다.The catalyst 22 is for promoting the oxidative decomposition reaction of the sublimate contained in the air during the heat treatment, and for example, an active metal such as platinum (Pt) and a noble metal such as palladium (Pd) and an alloy of the noble metal is employed . The catalyst 22 of this type exhibits catalytic activation under a temperature atmosphere of about 150 to 200 ° C.

상기 형태로 구성된 열처리장치(1A)에서는 도입덕트(15) 및 기체도입공(14)을 통해서 가열실(12)로 도입된 공기가 가열기(20)에 의해 가열되고, 송풍기(21)에 의해 간극(13b)을 통해서 열처리실(11)로 공급된다. 열처리실(11)로 도입된 가열공기는, 간극(13a)을 지나 가열실(12)로 다시 한번 공급되어서 순환한다. 상기 순환시 공기의 일부는 기체도출공(16) 및 도출덕트(17)를 통과해서 외부로 배기된다. 또한, 간극(13a)을 지나서 가열실(12)로 재공급되는 순환공기는 기체도입공(14)으로부터 도입된 공기와 혼합한다.The air introduced into the heating chamber 12 through the introduction duct 15 and the gas introduction hole 14 is heated by the heater 20 and the air is introduced into the gap 21 by the blower 21, (13b) to the heat treatment chamber (11). The heated air introduced into the heat treatment chamber 11 is once again supplied to the heating chamber 12 through the gap 13a and circulated. During the circulation, a part of the air passes through the gas outlet hole 16 and the outlet duct 17 and is exhausted to the outside. The circulating air supplied again to the heating chamber 12 through the gap 13a is mixed with the air introduced from the gas introducing hole 14.

그리고, 상기 형태로 유동하는 공기에 의해 열처리실(11) 내의 소재(W)가 열처리된다. 이때, 소재(W)로부터 승화물(A)이 발생하는데, 그 승화물(A)은 열처리 시에 공기와 혼합되어 이동한다. 승화물(A)이 기체도출공(16)의 입구(16a)에 배치된 촉매(22)와 접촉하면 승화물(A)은 산화분해반응을 일으켜서 제거된다. 승화물(A)이 제거된 공기는 기체도출공(16) 및 도출덕트(17)를 통과하여 배기된다. Then, the work W in the heat treatment chamber 11 is heat-treated by the air flowing in the above-described manner. At this time, the ascending material A is generated from the work W, and the ascending material A is mixed with the air during the heat treatment and moved. When the ascending cargo A comes into contact with the catalyst 22 disposed at the inlet 16a of the gas outlet 16, the ascending cargo A is oxidized and decomposed to remove it. The air from which the ascending freight A is removed passes through the gas outlet hole 16 and the outlet duct 17 and is exhausted.

따라서, 제1 실시 형태에 따른 열처리장치(1A)에서는 아래 형태의 효과가 얻어진다. Therefore, the following effects can be obtained in the heat treatment apparatus 1A according to the first embodiment.

(a) 기체도출공(16)의 입구(16a)를 막는 형태로 촉매(22)가 설치되어짐으로써, 피열처리물(W)로부터 발생된 승화물(A)을 포함하는 열처리 시의 공기 중 기체도출공(16)을 통과하여 배기된 모든 공기가 촉매(22)에 접촉된다. 따라서, 승화물(A)을 기체도출공(16)으로부터 유출되는 것을 곤란하게 하는 일이 가능하다. (a) Since the catalyst 22 is provided in such a manner as to block the inlet 16a of the gas lead-out hole 16, the air 22 in the air during the heat treatment, including the hydrogenation product A generated from the heat- All of the air exhausted through the extraction hole 16 is brought into contact with the catalyst 22. Therefore, it is possible to make it difficult for the ascending material A to flow out from the gas discharge hole 16.

(b) 승화물(A)을 포함한 열처리 시의 공기가 도출덕트(17) 중에 제거되기 전에, 촉매(22)에 의해 승화물(A)를 분해하는 일이 가능하다. 이 때문에, 촉매(22)의 온도저하를 억제하는 일이 가능하고, 촉매(22)의 처리효율을 향상시키는 일이 가능하다.(A) can be disassembled by the catalyst 22 before the air at the time of heat treatment including the ascending cargo (A) is removed into the outlet duct (b). Therefore, the temperature of the catalyst 22 can be suppressed from lowering, and the treatment efficiency of the catalyst 22 can be improved.

(c) 촉매(22)가 열처리실(11) 내에 설치되어짐으로써, 기체도출공(16) 내에서는 수용되지 않은 형태인 큰 것을 이용하는 일이 가능하다. 또한, 승화물(A)을 포함한 열처리 시의 공기가 열처리실(11) 내에서 순환함으로써, 촉매(22)가 열처리실(11) 내에 설치되는 일에 따라, 열처리실(11) 내를 유동하는 승화물(A)에 촉매(22)를 접촉시키는 빈도를 향상시키는 일이 가능하다. 이에 의해 촉매(22)에 따른 승화물의 산화분해반응의 촉진을 보다 향상시키는 일을 가능하게 한다. (c) Since the catalyst 22 is provided in the heat treatment chamber 11, it is possible to use a large one that is not accommodated in the gas discharge hole 16. The air during the heat treatment including the ascorbic acid A circulates in the heat treatment chamber 11 so that the catalyst 22 flows in the heat treatment chamber 11 as it is installed in the heat treatment chamber 11 It is possible to improve the frequency with which the catalyst 22 is brought into contact with the charged product A Thereby making it possible to further promote the promotion of the oxidative decomposition reaction of the sublimate according to the catalyst 22. [

(제2 실시 형태)(Second Embodiment)

도 2는, 본 발명의 제2 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 보인 도면이다. 여기서, 도 1과 동일한 구성요소는 동일한 부호로 나타내어진다.Fig. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention. Fig. Here, the same components as those in Fig. 1 are denoted by the same reference numerals.

상기 열처리장치(1B)는 제1 실시형태의 열처리장치(1A)의 분리판(13)에 대해서, 가열실(12)과 열처리실(11) 사이에 배치된 칸막이 판(30)을 구비한다. 상기 칸막이 판(30)은 장치본체(10)의 우측 측면(10a)과 내부 측면(10b)과의 전방측 측면에 따라서 수평으로 지지된다. 그리고, 칸막이 판(30)과 좌측 측면(10c)과의 사이에 간극(30a)이 형성된다. 결국, 상기 간극(30a)은 기체도입공(14) 및 기체도출공(16)이 설치된 우측 측면(10a)과는 반대측에 설치된다. 바꾸어 말하면, 송풍기(21)에 대하여 송출측으로는 간극(30a)이 설치되지만 송풍기(21)의 흡입측에는 간극이 형성되지 않는다.The heat treatment apparatus 1B is provided with a partition plate 30 disposed between the heating chamber 12 and the heat treatment chamber 11 with respect to the partition plate 13 of the heat treatment apparatus 1A of the first embodiment. The partition plate 30 is horizontally supported along the front side surfaces of the right side surface 10a and the inner side surface 10b of the apparatus main body 10. [ A gap 30a is formed between the partition plate 30 and the left side surface 10c. As a result, the gap 30a is provided on the opposite side of the right side surface 10a where the gas introduction hole 14 and the gas discharge hole 16 are provided. In other words, a gap 30a is provided on the delivery side with respect to the blower 21, but no gap is formed on the suction side of the blower 21.

상기 열처리장치(1B)에서는, 도입덕트(15) 및 기체도입공(14)을 통해서 가열실(12) 내부로 도입된 공기가, 가열기(20)에 의해 가열되어서 송풍기(21)에 의해 상기 간극(30a)을 통과하여 열처리실(11)로 공급된다. 그리고, 공기는 가열실(12)로 되돌아가는 일 없이 촉매(22)에 의해 승화물(A)이 제거되어서 기체도출공(16) 및 도출덕트(17)를 통해 배기된다. 결국, 기체도입공(14)으로부터 장치본체(10) 내로 도입된 공기는 가열실(12), 열처리실(11), 기체도출공(16)의 순으로 이동함으로써, 공기가 열처리실(11)로부터 가열실(12)로 되돌아오는 일이 없게 된다.In the heat treatment apparatus 1B, the air introduced into the heating chamber 12 through the introduction duct 15 and the gas introduction hole 14 is heated by the heater 20 and blown by the blower 21 to the gap (30a) and supplied to the heat treatment chamber (11). Then, the air is not returned to the heating chamber 12, and the vaporized product A is removed by the catalyst 22 and exhausted through the gas outlet hole 16 and the outlet duct 17. The air introduced into the apparatus main body 10 from the gas introduction hole 14 moves in the order of the heating chamber 12, the heat treatment chamber 11 and the gas outlet hole 16, It is not returned to the heating chamber 12.

따라서, 상기 제2 실시형태에 있어서도, 제1 실시형태와 동일한 (a)~(c)의 효과를 얻고, 이에 더하여 다음의 (d)의 효과를 얻는다.Therefore, in the second embodiment, the same effects (a) to (c) as those of the first embodiment are obtained, and in addition, the following effect (d) is obtained.

(d) 공기가 열처리실(11)로부터 가열실(12)로 되돌아가지 않음으로써, 가열 실(12)로부터 열처리실(11)로 공급된 공기는 승화물(A)이 포함되지 않은 새로운 공기로 된다. 이 때문에, 기체도입공(14)으로부터 도입된 새로운 공기로 열처리를 행하는 일이 가능하게 됨으로써, 촉매(22)가 열화(劣化)하여도 열처리실(11) 내에서 승화물농도의 증가를 억제하는 일이 가능하게 된다. 또한, 열처리실(11)에 있어서 공기의 정체가 발생하는 일을 억제하는 것이 가능하게 되고, 이에 따라서 촉매(22)의 열화와 동반하여 열처리실(11) 내에서 승화물농도의 증가를 억제시키는 일이 가능하게 된다.(d) Since the air does not return to the heating chamber 12 from the heat treatment chamber 11, the air supplied from the heating chamber 12 to the heat treatment chamber 11 is returned to the fresh air do. This makes it possible to carry out the heat treatment with the fresh air introduced from the gas introduction hole 14 so that even if the catalyst 22 is deteriorated, the increase in the concentration of the vaporization in the heat treatment chamber 11 is suppressed Work becomes possible. It is also possible to suppress the occurrence of stagnation of air in the heat treatment chamber 11 and to suppress the increase of the concentration of the condensate in the heat treatment chamber 11 accompanying the deterioration of the catalyst 22 Work becomes possible.

(제3 실시형태)(Third Embodiment)

도 3은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 보인 도면이다. 또한, 도 1과 동일한 구성요소는 동일한 부호를 부여한다.Fig. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention. 1 are denoted by the same reference numerals.

상기 열처리장치(1C)는 도출덕트(17)를 유동하는 공기의 일부를 도입덕트(15)로 되돌아가게 하는 환류덕트(18)가 설치되어 있는 점에서, 제1 실시형태의 열처리장치(1A)와 다르다. 환류덕트(18)는 일단부가 도입덕트(15)의 도중 부분에 연통 연결되는 한편, 타단부가 도출덕트(17)의 도중 부분에 연통 연결된다. 환류덕트(18)는 송풍기(19)를 내부에 구비하고 있어 상기 타단부로부터 상기 일단부를 향해서 공기를 유동시킨다.The heat treatment apparatus 1C is provided with the reflux duct 18 for returning a part of the air flowing through the lead duct 17 to the lead duct 15. The heat treatment apparatus 1C according to the first embodiment, . One end of the reflux duct 18 is communicatively connected to the middle portion of the introduction duct 15 while the other end of the reflux duct 18 is connected to the middle portion of the duct 17. The reflux duct 18 includes a blower 19 therein to allow air to flow from the other end toward the one end.

따라서, 상기 열처리장치(1C)에서는 제1 실시형태와 동일한 형태인 (a), (b) 및 (c)의 효과를 얻는 일이 가능하고, 이에 더하여 아래의 (e)의 효과를 얻는다. Therefore, in the heat treatment apparatus 1C, the effects (a), (b) and (c) can be obtained in the same manner as in the first embodiment, and the following effect (e) is obtained.

(e) 기체도출공(16)을 통해서 배기된 열처리 시의 공기의 일부가 환류덕트(18)를 통해서 기체도입공(14)(가열실 12)로 되돌아감으로써, 열처리시 가진 열 을 피열처리물(W)의 열처리에 다시 이용하는 일이 가능하게 된다. (e) A part of the air at the time of heat treatment exhausted through the gas lead-out hole 16 is returned to the gas introduction hole 14 (heating chamber 12) through the reflux duct 18, It is possible to use it again for the heat treatment of the water W.

또한, 상기 효과 (e)는 도 4에 나타내어진 형태로, 도 2와 동일한 열처리장치(1B)에 대해서 본 실시형태의 환류덕트(18)를 설치한 구성의 열처리장치(1D)에 있어서도, 동일한 형태를 얻는다.The effect (e) is the same as that shown in Fig. 4, and also in the heat treatment apparatus 1D having the reflux duct 18 of the present embodiment provided for the same heat treatment apparatus 1B as that of Fig. 2, Get the form.

(제4 실시형태)(Fourth Embodiment)

도 5는, 본 발명의 제4 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 보인 도면이다. 또한, 도 2와 동일한 구성요소에 있어서는 동일한 부호가 부여된다. Fig. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a heat treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. Fig. The same reference numerals are given to the same constituent elements as those in Fig.

상기 열처리장치(1E)에서는 도출덕트 선단부의 구성과 촉매의 배치방식 등이 제2 실시형태의 열처리장치(1B)와 다르게 된다. 그의 상위점은 아래에서 상술하기로 한다.In the heat treatment apparatus 1E, the configuration of the leading end of the lead-out duct, the arrangement method of the catalyst, and the like are different from the heat treatment apparatus 1B of the second embodiment. The difference between them is described in detail below.

촉매(32)는 도출덕트(31)의 선단부에 부착되어 있다. 촉매(32)는 도시되지 않은 수단에 의해 도출덕트(31)에 대해 착탈가능하게 설치된다. 도출덕트(31)는 외주면에서 외향으로 돌출하는 형태로 형성된 플랜지(31a)를 가진다. 도출덕트(31)는 플랜지(31a) 보다 선단측의 부위가 기체도출공(16) 내부로 삽입되게 한다. The catalyst 32 is attached to the leading end of the leading duct 31. The catalyst 32 is detachably attached to the duct 31 by means not shown. The leading duct 31 has a flange 31a formed to protrude outward from the outer circumferential surface. The leading duct 31 allows the tip end portion of the flange 31a to be inserted into the gas outlet hole 16.

선단부에 촉매(32)가 부착된 도출덕트(31)를 선단부에서 기체도출공(16) 내부로 삽입하고, 플랜지(31a)를 우측 측면(10a)의 외벽면에 접촉시킨다. 상기의 상태에 있어서, 플랜지(31a)를 우측 측면(10a)에 나사 등으로 고정시키는 일에 따라, 촉매(32)가 기체도출공(16)의 입구(16a)에 배치되는 형태로 된다. 상기 촉매(32)의 크기는 기체도출공(16)의 내단면(內斷面)과 거의 동일한 단면 형상으로 또는 거의 동일한 치수로 이루어진다. 또한, 촉매(32)와 기체도출공(16)의 입구(16a)와의 위 치관계는 촉매(32)의 열처리실(11) 측의 단면(端面)이 기체도출공(16)의 입구(16a)와 동일면에 있게 하고, 반대로, 촉매(32)의 열처리실(11) 측의 단면과 반대측의 단면이 기체도출공(16) 내로 들어오는 상태로 되고, 또한 촉매(32)의 열처리실(11) 측 단면이 기체도출공(16)의 입구(16a) 보다도 열처리실(11) 측으로 돌출된 상태로 있는게 바람직할 수 있다.The outlet duct 31 with the catalyst 32 attached to its tip end is inserted into the gas outlet hole 16 from the front end and the flange 31a is brought into contact with the outer wall surface of the right side face 10a. The catalyst 32 is arranged at the inlet 16a of the gas discharge hole 16 as the flange 31a is fixed to the right side face 10a with screws or the like. The size of the catalyst 32 is substantially the same as or substantially the same as that of the inner surface of the gas outlet hole 16. The positional relationship between the catalyst 32 and the inlet 16a of the gas outlet 16 is such that the end face of the catalyst 32 on the side of the heat treatment chamber 11 is connected to the inlet 16a of the gas outlet 16 The end face of the catalyst 32 on the side opposite to the end face on the side of the heat treatment chamber 11 comes into the gas discharge hole 16 and the end face of the catalyst 32 on the side opposite to the end face of the heat treatment chamber 11, It may be preferable that the side end face is projected toward the heat treatment chamber 11 side with respect to the inlet 16a of the gas lead-out hole 16. [

따라서, 상기 열처리장치(1E)에서는 제2 실시형태와 동일한 형태인 (a) ~ (d)의 효과를 얻고, 그에 더하여 하기와 같은 (f)의 효과를 얻는다. Therefore, in the heat treatment apparatus 1E, the effects (a) to (d) are obtained in the same manner as in the second embodiment, and in addition, the following effect (f) is obtained.

(f) 도출덕트(31)의 선단부를 기체도출공(16)으로 삽입하는 일에 따라, 기체도출공(16)의 입구(16a)를 막는 형태로 촉매(32)를 배치하는 것을 가능하게 한다. 반대로 도출덕트(31)를 기체도출공(16)으로부터 분리하는 일에 따라, 촉매(32)를 기체도출공(16)에서 외부에 두는 일이 가능하게 된다. 따라서, 촉매(32)의 교환을 용이하게 행하는 일이 가능하게 된다.(f) As the leading end of the leading duct 31 is inserted into the gas discharge hole 16, it is possible to arrange the catalyst 32 in such a manner as to block the inlet 16a of the gas discharge hole 16 . Conversely, as the leading duct 31 is separated from the gas lead-out hole 16, the catalyst 32 can be placed outside the gas lead-out hole 16. Therefore, the catalyst 32 can be easily exchanged.

또한, 상기 제4 실시형태에서는 도출덕트(31)의 선단부의 단면에 촉매(32)가 설치되어 있지만, 촉매를 도출덕트(31)의 선단부의 내측에 배치하는 일도 가능하다. 단, 기체도출공(16)과 도출덕트(31)와의 사이에 간극이 형성되지 않은 형태로 도출덕트(31)를 구성할 필요성이 있다.In the fourth embodiment, the catalyst 32 is provided on the end face of the leading duct 31, but the catalyst may be disposed inside the leading end of the leading duct 31. However, there is a need to construct the duct 31 in such a manner that a gap is not formed between the gas outlet 16 and the duct 31.

더욱이, 촉매(32)를 도출덕트(31)와는 별개로 설치하고, 촉매(32)를 기체도출공(16) 내에 우선 유입되게 함에 있어서, 그곳에 도출덕트(31)를 삽입하고, 도출덕트(31)에서 촉매(32)를 투입하는 입구(16a)를 덮어씌우는 형태로 배치시키는 것이 바람직하다. 이 경우에서는, 기체도출공(16)의 입구(16a)에 스토퍼를 설치하여 서, 위치 결정 및 이탈 방지를 간단하게 행하는 일을 가능하게 한다. In addition, the catalyst 32 is provided separately from the lead-out duct 31 and the lead-out duct 31 is inserted into the lead-out hole 16 at the time of introducing the catalyst 32 into the lead- It is preferable to dispose the inlet 16a in which the catalyst 32 is inserted. In this case, a stopper is provided at the inlet 16a of the gas discharge hole 16, thereby making it possible to easily perform positioning and prevention of departure.

그러나, 상기 효과 (f)는 도 1의 열처리장치(1A), 도 3의 열처리장치(1C) 및 도 4의 열처리장치(1D)에서, 제4 실시형태의 도출덕트(31)와 촉매(32)와를 조합시켜 구성할 경우에도, 물론 동일한 형태로 얻어지는 일이 가능하다.However, the effect (f) is the same as that in the heat treatment apparatus 1A of FIG. 1, the heat treatment apparatus 1C of FIG. 3 and the heat treatment apparatus 1D of FIG. 4, ), It is possible to obtain the same form of course.

상술한 제1 내지 제4 실시형태에서는 기체도입공(14)과 기체도출공(16)을 동일하게 우측측면(10a)에 배치된 구성으로 적용하고 있지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 이것들을 다른 3 측면의 하나에 배치시키는 구성과, 기체도입공(14)과 기체도출공(16)을 다른 측면에 배치시킨 구성에서도 본 발명을 동일한 형태로 적용하는 일이 가능하다.In the first to fourth embodiments described above, the gas introducing hole 14 and the gas lead-out hole 16 are similarly arranged on the right side surface 10a, but the present invention is not limited thereto. It is possible to apply the present invention to the same configuration in a configuration in which these are disposed on one of the other three sides and a configuration in which the gas introduction hole 14 and the gas discharge hole 16 are arranged on the other side.

또한, 상술한 제1 내지 제4 실시형태에서는, 가열실(12)을 열처리실(11)의 상측에 배치한 열처리장치를 일례로 열거하고 있지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 가열실을 열처리실 하측, 또는 횡측에 배치한 열처리장치에서도 동일한 형태로 적용하는 일이 가능하다.In the first to fourth embodiments described above, a heat treatment apparatus in which the heating chamber 12 is disposed above the heat treatment chamber 11 is exemplified. However, the present invention is not limited to this, It is possible to apply the same configuration to the heat treatment apparatus disposed on the lower side or on the transverse side.

[실시형태의 개요] [Outline of Embodiment]

실시형태를 정리하면, 다음과 같은 종류들이 있다.The embodiments are summarized as follows.

(1) 본 실시형태에서는, 기체도출공의 입구를 막는 형태로 촉매가 설치되게 함으로써, 피열처리물로부터 발생한 승화물을 포함하는 열처리시의 기체 중에, 기체도출공을 통해서 배기된 기체의 전부가 촉매에 접촉된다. 따라서, 승화물이 기체도출공으로부터 유출되는 것을 어렵게 하는 일이 가능하다. 더욱이, 승화물을 포함한 열처리시의 기체가 도출덕트의 중간부에서 냉각되기 전에 촉매에 의해 승화물을 분해하는 일이 가능하다. 이 때문에, 촉매의 온도저하를 억제하는 일이 가능하여서 촉매의 처리효율을 향상시킬 수 있게 한다.(1) In the present embodiment, by providing the catalyst in a form that blocks the inlet of the gas evacuation hole, all of the gas evacuated through the gas evacuation hole is introduced into the gas during the heat treatment including the vapor- Catalyst. Therefore, it is possible to make it difficult for the wastewater to flow out from the gas outlet hole. Furthermore, it is possible to decompose the vaporized product by the catalyst before the gas at the time of the heat treatment including the vaporized product is cooled in the intermediate portion of the duct. Therefore, it is possible to suppress the temperature drop of the catalyst, thereby improving the treatment efficiency of the catalyst.

(2) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 촉매가 열처리실 내측에 설치된다. 상기 형태에 의하면, 촉매가 열처리실의 내측에 설치되어짐으로써 열처리실 내부로 손을 집어넣어서 촉매를 교환하는 일이 가능하다. 또한, 촉매에 대해서 기체도출공 내에 들어가지 못하는 크기의 것을 이용할 수 있게 함으로써, 승화물을 함유한 열처리시의 기체를 열처리실 내에서 순환시킬 수 있고, 촉매에 접촉하는 빈도를 향상시키는 일이 가능하다. 이에 따라 촉매에 의한 승화물의 산화분해반응의 촉진을 보다 향상시킬 수 있게 한다.(2) In the heat treatment apparatus, the catalyst is provided inside the heat treatment chamber. According to this aspect, since the catalyst is provided inside the heat treatment chamber, it is possible to exchange the catalyst by inserting the hand into the heat treatment chamber. Further, by making it possible to use a gas having a size which can not enter the gas lead-out hole with respect to the catalyst, the gas at the time of heat treatment containing the sludge can be circulated in the heat treatment chamber and the frequency of contact with the catalyst can be improved Do. This makes it possible to further promote the promotion of the oxidative decomposition reaction of the sublimate by the catalyst.

(3) 상기 열처리장치에 대해서, 상기 장치본체의 외측으로부터 상기 기체도출공 내측에 대해서 선단부가 삽탈하는 도출덕트를 구비하고, 상기 촉매는 상기 기체도출공의 입구를 막는 크기로 되어서 도출덕트의 선단부에 설치된다. 따라서, 상기 도출덕트가 기체도출공에 삽입되는 일에 따라, 촉매가 기체도출공의 입구에 배치된다. 상기 형태에서는, 도출덕트의 선단부를 기체도출공으로 삽입하는 일에 따라 기체도출공의 입구를 막는 형태로 촉매를 배치하는 일이 가능하다. 반대로, 도출덕트를 기체도출공으로부터 분리시키는 일에 따라 촉매를 기체도출공으로부터 분리시키는 일이 가능하다. 따라서, 촉매 교환을 용이하게 행하는 일이 가능하게 된다.(3) The heat treatment apparatus according to any one of (1) to (4), further comprising an outlet duct through which the front end portion is inserted and removed from the outside of the apparatus main body to the inside of the gas outlet hole, the catalyst being sized to close the inlet of the gas outlet hole, Respectively. Therefore, as the derived duct is inserted into the gas outlet hole, the catalyst is disposed at the inlet of the gas outlet hole. In this embodiment, it is possible to arrange the catalyst in such a manner as to close the inlet of the gas outlet hole as the leading end of the outlet duct is inserted into the gas outlet hole. Conversely, it is possible to separate the catalyst from the gas evacuation hole by separating the evacuating duct from the gas evacuation hole. Therefore, the catalyst can be easily exchanged.

(4) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 기체도출공으로부터 배기된 기체의 일부가 기체도입공으로 되돌아가게 하는 형태로 구성된다. 상기 형태에서는 기체도출 공으로부터 배기된 열처리시의 기체의 일부가 기체도입공으로 되돌아가게 함으로써 열처리시의 기체가 가지고 있는 열을 피열처리물의 열처리에 다시 이용하는 일이 가능하게 된다.(4) In the above-described heat treatment apparatus, a part of the gas exhausted from the gas lead-out hole is returned to the gas lead-in hole. In this embodiment, a part of the gas at the time of heat treatment discharged from the gas lead-out hole is returned to the gas introduction hole, so that the heat of the gas at the time of heat treatment can be used again for the heat treatment of the heat-treated substance.

(5) 상기 열처리장치에 있어서, 상기 장치본체에는 가열실과 열처리실과의 사이에 가열실로부터 열처리실로 기체의 흐름을 허용하는 분리판이 설치되어 있다. 상기 형태에서는 기체도입공을 통해서 장치본체 내부로 도입된 기체가 가열실, 열처리실 및 기체도출공으로 항상 순차적으로 유동함으로써 가열실로부터 열처리실로 공급된 기체는 승화물이 함유되지 않은 신선한 기체로 된다. 이 때문에, 기체도입공으로부터 도입된 신선한 기체로 열처리를 행하는 일을 가능하게 함으로써, 촉매가 열화되어도 열처리실 내에서 승화물 농도의 증가를 억제하는 일이 가능하게 된다. 또한, 열처리실에 있어서 공기의 정체가 발생하는 일을 억제하는 것이 가능하게 되고, 이에 따라서 촉매의 열화와 동반하여 열처리실 내에서 승화물농도의 증가를 억제시키는 일이 가능하게 된다.(5) In the above-described heat treatment apparatus, the apparatus main body is provided with a separator plate between the heating chamber and the heat treatment chamber for permitting the flow of gas from the heating chamber to the heat treatment chamber. In this embodiment, the gas introduced into the apparatus main body through the gas introduction holes always flows sequentially to the heating chamber, the heat treatment chamber and the gas discharge hole, so that the gas supplied from the heating chamber to the heat treatment chamber becomes fresh gas containing no sludge. Therefore, it becomes possible to perform the heat treatment with the fresh gas introduced from the gas introduction hole, so that it becomes possible to suppress the increase of the concentration of the vaporization in the heat treatment chamber even if the catalyst deteriorates. Further, it is possible to suppress the occurrence of stagnation of air in the heat treatment chamber, and accordingly, it is possible to suppress the increase of the concentration of the condensate in the heat treatment chamber in conjunction with the deterioration of the catalyst.

(6) 상기 열처리장치에 있어서, 가열실에는 송풍기가 설치되고, 가열실과 열처리실을 연통하는 간극이 송풍기의 송출측에 설치된다. 상기 형태에서는, 기체도입공을 통해서 가열실 내부로 도입된 기체가 간극을 통해서 열처리실로 유동하여 기체도출공을 통해서 배기된다. 따라서, 기체는 가열실, 열처리실 및 기체도출공의 순서로 유동한다.(6) In the heat treatment apparatus, a blower is provided in the heating chamber, and a gap communicating the heating chamber and the heat treatment chamber is provided on the delivery side of the blower. In this embodiment, the gas introduced into the heating chamber through the gas introducing hole flows into the heat treatment chamber through the gap and is exhausted through the gas evacuation hole. Therefore, the gas flows in the order of the heating chamber, the heat treatment chamber, and the gas evacuation hole.

상기에는 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 설명하고 있지만, 본 발명은 상기에 한정되는 것은 아니고, 청구범위와 발명의 상세한 설명의 범위 내에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, .

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.1 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.2 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.3 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus according to a third embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제3 실시형태의 다른 열처리장치의 개략구성도이다.4 is a schematic configuration diagram of another heat treatment apparatus according to the third embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제4 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성도이다.5 is a schematic configuration diagram of a heat treatment apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 간략한 설명*BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.

1A: 열처리장치 10: 장치본체1A: Heat treatment apparatus 10: Device body

11: 열처리실 12: 가열실11: heat treatment chamber 12: heating chamber

13: 분리판 14: 기체도입공13: separation plate 14: gas introduction hole

15: 도입덕트 16: 기체도출공15: introduction duct 16:

17, 31: 도출덕트 18: 환류덕트17, 31: Derivation duct 18: Reflux duct

19: 송풍기 20: 가열기19: blower 20: heater

21: 송풍기 22, 32: 촉매21: blower 22, 32: catalyst

Claims (6)

피열처리물이 입출가능하게 수용되게 하는 열처리실과, 상기 열처리실과 연통하는 가열실을 가진 장치본체를 구비하고, 상기 가열실에 설치된 기체도입공을 통해서 상기 가열실에 도입된 열처리용 기체를 상기 가열실에서 가열하는 일에 따라 상기 피열처리물을 열처리하고, 상기 열처리실에 설치된 기체도출공을 통해서 열처리 시의 기체를 상기 열처리실로부터 도출하는 열처리장치에 있어서, And a device main body having a heating chamber communicating with the heat treatment chamber, wherein the heat treatment gas introduced into the heating chamber through a gas introduction hole provided in the heating chamber is heated by the heating A heat treatment apparatus for heat-treating a subject to be heat-treated in accordance with work in a room, and for drawing a gas during a heat treatment from the heat treatment chamber through a gas outlet hole provided in the heat treatment chamber, 상기 장치본체의 외측으로부터 상기 기체도출공의 내측에 대해서 선단부가 삽탈되는 도출덕트를 구비하고,And an outlet duct into which the front end portion is inserted and removed from the outside of the apparatus main body to the inside of the gas outlet hole, 상기 열처리 시의 기체에 포함된 상기 피열처리물에서 발생한 승화물을 분해할 수 있는 촉매가 상기 기체도출공의 입구를 막는 형태로 설치되고,Wherein a catalyst capable of decomposing the sludge generated in the heat treatment product contained in the gas at the time of the heat treatment is installed in such a manner as to block the inlet of the gas outlet hole, 상기 촉매는 상기 기체도출공의 입구를 막는 크기로 되어서 상기 도출덕트의 선단부에 배치되며,The catalyst is sized to block the inlet of the gas outlet and is disposed at the leading end of the outlet duct, 상기 도출덕트가 상기 기체도출공에 삽탈되게 설치됨에 따라 상기 촉매가 상기 기체도출공의 입구에 배치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.Wherein the catalyst is disposed at an inlet of the gas outlet hole as the outlet duct is installed to be detachable from the gas outlet hole. 제1항에 있어서, 상기 촉매가 상기 열처리실 내측에 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the catalyst is installed inside the heat treatment chamber. 삭제delete 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기체도출공으로부터 배기된 기체의 일부를 상기 기체도입공으로 되돌아가게 하는 것을 특징으로 하는 열처리장치.3. The heat treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein a part of the gas exhausted from the gas lead-out hole is returned to the gas introduction hole. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 장치본체에는 상기 가열실과 상기 열처리실 사이에 상기 가열실로부터 상기 열처리실로 기체의 흐름만을 허용하는 칸막이 판이 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.3. The heat treatment apparatus according to claim 1 or 2, wherein a partition plate is provided between the heating chamber and the heat treatment chamber to allow only the flow of gas from the heating chamber to the heat treatment chamber. 제5항에 있어서, 상기 가열실에는 송풍기가 설치되고, 6. The apparatus of claim 5, wherein the heating chamber is provided with a blower, 상기 가열실과 상기 열처리실을 연통하는 간극이 상기 송풍기의 송출측에 배치되는 것을 특징으로 하는 열처리장치.And a gap for communicating the heating chamber and the heat treatment chamber is disposed on the delivery side of the blower.
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