KR20080104971A - Cleaning and drying apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 세정건조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a washing and drying apparatus.
종래, 일본특개평 제7-109590호 공보에 개시되어 있는 형태로써, 두 개 조(槽) 타입의 진공 탈지세정장치가 공지되었다. 상기 세정장치는, 도 2에 도시된 바와 같이, 세정실(101) 위에 건조실(102)이 배치된 상하 2조로 구성되어 있다. 세정장치는 세정실(101)에 저류(貯溜)된 세정액에 의해 피세정물(W)을 세정하고, 그 후 승강장치(103)에 의해 피세정물(W)을 건조실(102)까지 끌어 올리고, 건조실(102) 내부를 진공으로 함으로써 피세정물(W)을 건조시킨다. 또한, 세정액 중의 오염성분이 피세정물(W)에 부착되는 일을 고려하여, 상기 세정장치에서는 피세정물(W)을 건조시키기 전에 피세정물(W)에 세정액을 퍼붓는 샤워부재(104)를 건조실(102)에 설치하는 형태로 하고 있다.2. Description of the Related Art As a type disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-109590, two sets of vacuum degreasing cleaners are known. As shown in FIG. 2, the washing apparatus includes two upper and lower sets in which a
한편, 일본특개평 제6-84872호 공보에 개시되어 있는 형태로써, 한 개 조 타입의 세정장치도 공지되었다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 세정장치에서는 세정조(111)가 세정액에 의한 피세정물(W)의 세정을 행할 뿐만 아니라, 순수(純水)에 의한 순수세정과 피세정물(W)의 건조를 행하는 형태로 되고 있다. 또한 세정 조(111)에서는 세정액을 순환시켜서 오염 성분을 필터(112)에서 제거하는 순환여과장치(113)가 설치되어 있다. 따라서 세정액에 의한 세정시에는 순환여과장치(113)를 작동시켜서 세정액의 청정도를 유지시키는 형태로 하고 있다. 또한 세정 후에는, 오염된 세정액을 배수관(114)을 통해서 배출시키는 한편, 순수공급라인(115)을 통해서 세정조(111)에 순수를 공급하고, 순환여과장치(113)를 작동시키는 것으로부터 피세정물(W)의 수세를 행하고 있다. 따라서, 최후에 순수를 배출하는 것과 함께, 공기공급덕트(116)를 통해서 세정조(111)에 건조공기를 공급하여 피세정물(W)을 건조시키고, 일련의 세정공정을 종료하는 형태로 되어 있다.On the other hand, as a form disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-84872, a cleaning apparatus of one set type is also known. As shown in FIG. 3, in the cleaning apparatus, the
상기의 일본특개평 제6-84872호 공보의 세정장치에서는 한 개 조(槽) 타입으로 됨으로써 장치의 소형화가 가능하지만, 상기 장치에서는 순수 세정을 위해서는 세정액을 배출(폐기)하여 세정조(111) 내부를 빈 상태로 하지 않으면 안된다. 상기 세정장치는 세정액에 따른 세정 후에 순수 세정이 필요한 피세정물(W)을 대상으로 한 장치이지만, 상기 세정장치에서는 1회마다 세정액을 폐기해야할 필요가 있기 때문에, 대량의 세정액이 필요하게 되는 문제점이 있었다.In the washing apparatus of Japanese Patent Laid-Open No. 6-84872, the size of the apparatus can be reduced by being a single tank type, but in the apparatus, the washing liquid is discharged (disposed) for the pure water cleaning, and the
한편, 일본특개평 제7-109590호 공보의 장치에서는, 순수 세정 공정이 없는 일로부터, 1회마다 세정액을 폐기할 필요가 없지만, 세정액이 세정실(101)에 오랫동안 남아있게 됨으로써, 세정액은 차례로 오염된다. 이 때문에 오염된 세정액으로 피세정물(W)을 세정시키는 것을 얻지 못하는 문제점이 있었다. 또한, 피세정물(W)에 부착된 오염물을 샤워부재(104)로 씻어서 떼어내는 형태로 하고 있지만, 이 구성은 세정공정에서 시간이 추가로 걸리게 되는 문제점이 있었다. On the other hand, in the apparatus of Japanese Patent Laid-Open No. 7-109590, the cleaning liquid does not need to be disposed of once since there is no pure water washing step, but the cleaning liquid remains in the
본 발명의 목적은, 순수 세정의 생략을 허용하여 피세정물을 세정하는 장치에 있어서, 세정시간이 길게 되는 것을 방지함과 함께 세정액의 긴 수명화를 도모하고자 하기 위한 것이다.An object of the present invention is to prevent the washing time from prolonging and to increase the life of the washing liquid in the apparatus for washing the object to be cleaned, by allowing the elimination of pure water washing.
본 발명의 하나의 국면에 따르면, 피세정물을 세정액으로 세정하는 것과 함께 피세정물에 부착된 세정액을 건조시키는 세정건조장치에 있어서, 외측 용기와, 상기 외측용기 내부에 배치되고 상기 세정액이 저류되게 함과 동시에 피세정물을 입출가능하게 하는 개구부가 설치된 내측용기와, 피세정물에 부착된 세정액이 증발하는 정도로 상기 외측용기의 내부를 감압시키기 위한 감압수단과, 상기 세정액을 정화시키기 위한 정화수단과, 상기 내측용기의 상기 개구부를 기밀 상태로 막기 위한 덮개를 구비한다. According to one aspect of the present invention, there is provided a cleaning and drying apparatus for drying a cleaning liquid adhered to a object to be cleaned while washing the object to be cleaned with a cleaning liquid, the outer container being disposed inside the outer container and the cleaning liquid is stored. An inner container provided with an opening for allowing the object to be taken out and simultaneously to be cleaned, a decompression means for depressurizing the inside of the outer container to the extent that the cleaning liquid attached to the object is evaporated, and a purification for purifying the cleaning liquid. Means and a lid for preventing the opening of the inner container from being hermetically sealed.
본 발명의 실시예에 따른 순수 세정의 생략이 허용된 피세정물을 세정하는 세정건조장치를 이용하면, 세정시간이 길게 되는 것을 방지할 수 있고 세정액의 사용 수명을 길게 하는 것을 가능하게 한다.The use of a washing and drying apparatus for washing a to-be-cleaned object which is permitted to omit pure water cleaning according to an embodiment of the present invention can prevent the cleaning time from being prolonged and make it possible to prolong the service life of the cleaning liquid.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 바람직한 실시 형태에 대해서는 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 본 발명에 따른 세정건조장치의 일실시 형태를 개략적으로 보인 도면이다. 본 실시 형태에 따른 세정건조장치(10)는 반도체와 정밀기계부품 등을 세정건조하기 위한 장치이다. 상기 도면에 도시된 바와 같은 형태로, 세정건조장치(10)는 케이스(12)를 구비하고, 상기 케이스(12) 내부에 외측용기(14)가 수납되어 구성되고 있다.1 is a view schematically showing an embodiment of the washing and drying apparatus according to the present invention. The cleaning and
외측용기(14)는 상측이 개방된 용기이고, 상기 외측용기(14)에는 외부덮개(15)가 설치되어 있다. 상기 외부덮개(15)는 외측용기(14)의 상측에 형성된 외측개구(16)를 개폐가능한 구성으로 되게 하여서 외부덮개(15)에 의해 그의 외측개부(16)를 기밀상태로 막는 것이 가능해진다. 상기 외측개구(16)는 피세정물(W)을 외측용기(14) 내부에 반입시킬 때에 이용된다.The
외측용기(14)에는 외측용기(14) 내부를 감압하기 위한 감압수단(20)이 설치된다. 상기 감압수단(20)은 흡인로(20a)와 진공펌프(20b)를 구비한다. 상기 흡인로(20a)의 일단부는 외측용기(14)에 설치된 진공포트(22)에 접속된다. 상기 흡인로(20a)에는 제1 역지(逆止)밸브(23), 상기 진공펌프(20b) 및 제2 역지밸브(24)가 설치되어 있다. 진공펌프(20b)를 구동시키는 일에 따라 외측용기(14) 내부가 감압된다.The
흡인로(20a)의 타단부는 기액분리기(26)에 접속된다. 상기 기액분리기(26)는 흡인로(20a)를 통해서 흡인된 공기를 포함하는 기화세정액을 공기로부터 분리시키는 역할을 한다. 상기 기액분리기(26)에는 응축수단으로서 가압펌프(28)가 설치되어있다. 상기 가압펌프(28)는 기액분리기(26)에 접속되고, 상기 가압펌프(28)를 구 동시키는 일에 따라, 감압상태에 따라서 기액분리기(26) 내부를 가압할 수 있다. 기액분리기(26) 내부가 가압되는 일에 따라, 기화된 세정액을 액화시키는 일이 가능하게 된다. 액화된 세정액은 세정액 회수탱크(30)로 회수된다.The other end of the
기액분리기(26)에는 배기로(32)가 접속된다. 상기 배기로(32)는 기액분리기(26) 내부의 공기를 케이스(12)의 외부로 배기시키기 위해 이용된다. 배기로(32)에는 역지밸브(33)가 설치되어 있다. 또한 기액분리기(26)에는 액면센서(35)가 설치되어 있다.An
상기 외측용기(14) 내에는 내측용기(38)가 수용된다. 상기 내측용기(38) 이외의 외측용기(14) 내부의 공간은 피세정물(W)을 건조시키기 위한 건조용 공간(S1)으로서 기능을 한다. 상기 내측용기(38)는 상측이 개방된 측벽(외벽)(38a)를 가진 용기이고, 상기 내측용기(38)에는 세정액(약액(藥液))이 저류된다. 상기 내측용기(38)의 내부는 분할벽(38b)에 의해 제1실(39)과 제2실(40)로 분할된다. 제1실(39)은 피세정물(W)을 삽입할 수 있는 크기로 구성되고, 제2실(40)은 분할벽(38b)을 사이에 두고 제1실(39)의 측방에 배치되어 있다. 분할벽(38b)은 내측용기(38)의 측벽(38a)보다 낮은 높이로 이루어짐으로써 분할벽(38b)을 넘을 정도로 세정액이 제1실(39) 내에 공급될 경우에는 제1실(39) 내의 세정액이 분할벽(38b)을 초과하여 제2실(40) 내에 저류되는 형태로 된다.The
제2실(40)에는 액면센서(42)와 배출포트(44)가 설치된다. 액면센서(42)는 제2실(40) 내의 액면을 검출가능하게 구성되고, 제2실(40) 내의 액체량을 소정 범위내로 제어하기 위해 이용된다. 액면센서(42)는 컨트롤러(46)에 접속된다. 제2 실(40) 내의 액면이 하한의 높이로 하회(下回)하면 공급포트(48)를 구동시켜서 세정액공급탱크(49)로부터 세정액을 공급하고, 상한의 높이를 초과하면 세정액공급탱크(49)로부터 세정액 공급을 정지시키는 형태로 된다. 배출포트(44)는 제2실(40) 내의 세정액을 전부 배출시키기 위해서 사용된다.The
내측용기(38)에는 천정부(38c)가 설치된다. 천정부(38c)는 내측용기(38)의 개구의 일부를 막는 형태로 측벽(38a) 위에 설치된다. 상기 천정부(38c)에는 세정액공급탱크(49)를 연결하는 공급관(50)의 출구단에 고정된다.The
또한, 내측용기(38)에는 상측개구를 개폐하기 위한 덮개(52)가 설치된다. 덮개(52)는 내측용기(38)의 측벽(38a)에 회동가능하게 설치되고, 덮개(52)는 수평으로 향하게 되는 폐쇄위치와 상기 폐쇄위치에서 기립하여 종방향으로 향하게 되는 개방위치의 2가지 위치를 취득한다. 따라서, 폐쇄위치에서는 덮개(52)는 상측 입구를 기밀상태로 막히게 하는 형태로 된다. 폐쇄위치에서는 덮개(52)는 천정부(38c)와 면 접합하는 일로 기밀성이 확보된다. 또한, 도 1에서는, 폐쇄위치에 있는 덮개(52)를 실선으로 보이고 있으며, 개방위치에 있는 덮개(52)를 점선으로 보이고 있다.In addition, the
내측용기(38)에는 세정액을 순환시키기 위한 순환로(55)가 접속된다. 순환로(55)의 일단부(55a)(상류측 단부)는 제2실(40)의 저부에 접속되고, 타단부(55b)(하류측 단부)는 제1실(39)의 저부에 접속된다. 상기 타단부(55b)는, 예를 들면, 수평방향으로 연장하는 관 형상으로 구성되며, 그의 관 벽면에 설치된 다수의 관통공(미도시)을 통해서 순환로(55) 내의 세정액을 내측용기(38) 내부로 유출시킨 다. A
순환로(55)에는 순환펌프(57)와 정화수단으로서의 필터(58)가 설치된다. 순환펌프(57)는 세정액을 강제적으로 유동시키기 위한 것이고, 상기 순환펌프(57)는 제2실(40)에 접속된 일단부(55a)로부터 제1실(39)에 접속된 타단부(55b)를 향하여 세정액을 유동시킨다. 순환펌프(57)를 구동시키면, 제2실(40) 내의 세정액을 흡인하는 한편, 순환로(55) 내의 세정액을 제1실(39) 내로 유출시킨다. 이에 따라, 내측용기(38)와 순환로(55)의 사이에서 세정액이 순환하는 일로 된다. 필터(58)는 세정액을 정화시키기 위한 것이며, 세정액에 함유된 오염 성분을 포착할 수 있게 구성된다.The
내측용기(38)에는 초음파세정수단(60)이 설치된다. 상기 초음파세정수단(60)은 내측용기(38) 내의 세정액에 초음파진동을 부여하는 일에 따라 세정액의 세정력을 향상시킬 수 있게 한다.Ultrasonic cleaning means 60 is installed in the
순환로(55)에는 세정액을 가열할 수 있는 히터(62)가 설치된다. 상기 히터(62)는 컨트롤러(46)에 의해서 제어가능하게 구성된다. 또한, 내측용기(38)에는 세정액의 온도를 검출하기 위한 액온계(液溫計, 64)가 설치된다. 상기 액온계(64)도 제어기(46)에 접속된다. 히터(62)에서 세정액을 가열하는 형태로 하는 것은, 외측용기(14) 내의 건조용 공간(S1)을 감압하는 일에 따라 외측용기(14) 내의 세정액이 증발하고, 그에 반하여 흡열작용에 의한 내측용기(38) 내의 세정액이 냉각되어 응고하는 것을 방지하기 위해서이다. 한편, 세정액의 온도를 감시하는 일에 따라 세정액이 비등점까지 가열되는 일이 방지된다. 또한, 순환펌프(57), 필터(58) 및 히터(62)는 외측용기(14)의 외측 케이스(12) 내에 배치된다.The
순환로(55)에는 히터(62)에 체류하는 세정액을 배출시키기 위한 히터측 배출관(65)과, 필터(58)에 체류하는 세정액을 배출시키기 위한 필터측 배출관(66)이 접속된다. 이러한 배출관(65, 66)은 어느 것이라도 배수탱크(68)에 접속되는 것이 가능하다. 또한, 히터측 배출관(65)에는 역지밸브(69)가, 또한 필터측 배출관(66)에는 니들밸브(70)가 각각 설치된다. 또한, 외측용기 내에 잔류되어 있는 세정액은 배수관(72)을 통해서 배수탱크(68)에 회수된다. The
세정건조장치(10)에는 피세정액(W)을 내측용기(38)의 내부와 외부 사이에서 반송시키기 위한 반송수단(74)이 설치된다. 반송수단(74)은 미도시된 모터에 의해 구동된 리프터(74a)를 구비하고 있고, 상기 리프터(74a)는 상하로 연장하는 가이드(74b)에 따라서 상하방향으로 이동가능하게 구성된다. 따라서, 반송수단(74)은, 리프터(74a)에 재치(載置)된 피세정물(W)을 세정공정에 선행되는 내측용기(38)의 외부에서 내부로 반송하는 한편, 세정이 종료되고 내측용기(38)의 내부에서 외부(건조용 공간 S1)으로 피세정물(W)을 반송한다. 또한, 미도시되었지만, 외측용기(14)의 벽에는 상항방향으로 수직하게 구멍이 관통하여 형성되어있으며, 상기 구멍을 리프터의 지지부재(미도시)가 관통한다. 따라서, 리프터(74a)의 상하이동시 지지부재는 그의 구멍 내측으로 상하이동한다. 상기 구멍은 벨로즈(bellows)에 의해서 봉해지고, 그에 따라 외측용기(14)의 밀폐도가 확보된다.The cleaning and drying
상기 리프터(71a)는 피세정물(W)을 세정할 때에 요동시키는 일이 가능하다. 예를 들면, 가이드(74b)에 따라서 리프터(74a)를 상하방향으로 요동시키는 형태로 구성되게 하는 것도 좋고, 또는 리프터(74a)를 가이드(74b)에 대하여 좌우로 요동 가능하게 구성시키는 것도 바람직하다.The lifter 71a can swing when the object to be cleaned W is washed. For example, the
다음, 본 실시형태에 따른 세정건조장치(10)의 동작에 대해서 설명한다. 상기 세정건조장치(10)의 동작에서는, 피세정물(W)을 세정하는 세정공정과, 젖은 피세정물(W)을 건조시키는 건조공정으로 된다. 세정공정에서는 피세정물(W)이 반송수단(74)에 의해서 내측용기(38) 내로 반송시켜서 세정액에 침적시킨다. 상기 반송시에는, 외부덮개(15)를 개방하여 외측용기(14)의 외측개구(16)를 통해서 외측용기(14) 내에 피세정물(W)을 넣은 다음 덮개(52)를 닫고 리프터(74a)를 강하시켜 내측용기(38) 내에 피세정물(W)을 반입한다. Next, the operation of the washing and drying
순환펌프(57)의 구동에 따라, 내측용기(38)의 제2실(40) 내의 세정액이 순환로(55)에 흡입되고, 그 세정액은 순환로(55)를 흐른 후, 타단부(55b)(하류측단부)를 통해서 제1실(39) 내에 공급된다. 순환로(55)의 타단부(55b)는 제1실(39)의 저부에 설치되어 있기 때문에, 내측용기(38)의 제1실(39) 내에서는, 아래에서부터 공급된 세정액이 분할벽(38b)을 넘치는 형태인 상향 유동이 발생한다. 그리고, 세정액은 내측용기(38)와 순환로(55)의 사이에서 순환하지만, 상기 순환에 따른 세정액에 포함된 오염 성분은 필터(58)에 의해 제거된다.As the
또한, 세정공정에서는 초음파세정수단(60)에 의해 세정액에 초음파진동이 발생하고, 또한 리프터(74a)의 요동에 의해 피세정물(W)이 요동한다. 이 때문에, 세정액의 유동에 가해진 초음파진동 및 피세정물(W) 자체의 요동에 의해 세정이 행해진다. 그리고, 세정이 완료되면, 리프터(74a)가 상승하고, 피세정물(W)은 내측용 기(38)의 외측, 즉 건조용 공간(S1) 내부로 운반 배출된다. 또한, 세정시에는 덮개(52)를 개방하는 것이 좋고, 또는 닫힌 상태로 하는 것도 바람직하다.In addition, in the washing step, ultrasonic vibration is generated in the cleaning liquid by the ultrasonic cleaning means 60, and the object to be cleaned W is shaken by the shaking of the
건조공정에서는 내측용기(38)의 덮개(52)가 닫히고 진공펌프(20b)가 구동한다. 이에 따라서, 내측용기(38)의 외측 공간(건조용 공간)(S1)이 감압되는 형태로 된다. 그리고, 감압에 수반하여 세정액이 증발하고, 이에 따라 피세정물(W)은 건조된다.In the drying process, the
한편, 기화된 세정액은 진공펌프(20b)에 의해서 흡인되고, 흡인로(20)를 통해서 기액분리기(26)에 도입된다. 상기 기액분리기(26)에서는 가압펌프(28)의 구동에 의해 기체상 세정액이 응축되어서 공기와 분리된다. 공기는 배기로(32)를 통해서 외부로 배기되고, 세정액은 세정액회수탱크(30)로 회수된다.On the other hand, the vaporized washing liquid is sucked by the
상기 건조공정에 있어서는, 건조용공간(S1)에서 세정액의 기화에 수반하여 주위의 열을 빼앗기기 때문에 온도가 저하되는 일이 발생한다. 상기 온도 저하에 수반하여 내측용기(38) 내의 세정액의 온도가 저하되고, 세정액이 응고하는 바람직하지 않은 일이 발생하게 된다. 이 때문에, 히터(62)를 통해서 세정액을 가열하는 일에 따라 세정액의 응고를 방지할 수 있게 된다. 또한, 내측용기(38) 내의 세정액 온도가 액온계(64)에 의해서 검출되고, 세정액이 비등점 이상까지의 온도로 가열되는 것을 방지한다. 또한, 세정액은 건조공정 완료시에 순환펌프(57)에 의해서 순환되는 형태로 있지만, 세정액 응고의 염려가 없는 형태인 경우 등에서는 세정공정과 함께 순환펌프(57)를 구동시키는 것이 바람직하다.In the drying step, the temperature is lowered because the surrounding heat is taken away with vaporization of the cleaning liquid in the drying space S1. In connection with the said temperature fall, the temperature of the washing | cleaning liquid in the
이상 설명한 형태인 본 실시형태에 따르면, 세정액을 정화하는 필터(58)가 설치되기 때문에, 내측용기(38) 내에서 피세정물(W)을 세정하는 일에 따라 세정액이 오염되어있다 하더라도 세정액의 정화가 가능하게 된다. 따라서, 세정 후에 새롭게 세척하는 등의 대책을 강구할 필요가 없고, 세정공정이 길게 되는 것을 방지하는 일이 가능하다. 게다가 세정액을 오래 사용하는 것을 가능하게 한다. 또한, 외측용기(14)의 내부를 감압하는 일에 따라서 세정 후 피세정물(W)을 건조시킴으로써 피세정물(W)을 세부에 걸쳐서 건조시키는 일이 가능하게 된다. 이때, 내측용기(38)가 덮개(52)에 의해 기밀상태로 막히기 때문에 내측용기(38) 내의 세정액을 그곳에 모아두고 간간히 외측용기(14) 내부를 감압하는 일이 가능하다. 이 때문에, 피세정물(W)의 건조 시 세정액을 배출하는 시간을 생략할 수 있고, 건조공정의 시간을 단축시킬 수 있음과 함께, 쓸데없이 세정액의 폐기를 방지하는 일이 가능하다. 더욱이, 피세정물(W)의 건조에 이용되고 있는 외측용기(14) 내에 세정용의 내측용기(38)가 수용되는 구성으로 됨으로써, 밀폐용기로 구성할 필요가 있는 외측용기(14) 자체의 가공 공수의 증가를 억제시키는 일이 가능하게 된다. 또한, 외측용기(14)의 내측에 내측용기(38)가 배치되는 구성으로 이루어짐으로써, 장치의 배치시간에 있어서 내측용기(38)의 수평도를 조정할 때에 내측용기(38) 자체를 독립적으로 움직이게 할 수 있어 조정작업이 번잡하게 되는 것을 억제시킬 수 있게 한다. 결국, 도 2에 도시된 상하 두 개 조(槽)의 구성에서 세정실과 건조실 사이의 밀봉성을 확보하기 위해서, 세정실에는 건조실이 견고하게 고정되어 있어 상기 세정실의 수평도를 조정할 때에는 건조실이 일체로 된 장치의 기울기 조정을 행하지 않으면 안되는 바, 조정작업이 번잡하게 된다. 이에 대해서, 본 실시형태에 따른 외측 용기(14) 내의 내측용기(38)가 수용된 구성에서는, 외측용기(14)와 내측용기(38)의 접합부에서 밀봉성을 확보할 필요가 발생되지 않음으로써 내측용기(38) 단일체에서 기울기 조정을 행하는 일이 가능하게 되고, 조정작업에 필요한 노력이 경감된다. 특히, 본 실시형태에서는, 범람(overflow)시킨 구성으로 되게 함으로써 내측용기(38)의 세밀한 조정이 요구되고 있지만, 내측용기(38) 자체의 조정으로써 완료되기 때문에, 내측용기(38)의 미세조정작업이 용이하게 행해지게 된다. According to this embodiment which is the form described above, since the
또한, 본 실시형태에서는 세정액을 가열하는 히터(62)가 설치되어 짐으로써, 건조용 공간(S1) 내에서 세정액의 증발에 수반하여 온도 저하에 따른 내측용기(38) 내의 세정액 응고를 방지할 수 있게 한다. 또한, 세정액의 온도 상승에 의해 세정능력을 향상시키는 일이 가능하다. 또한, 처리온도를 일정하게 유지하는 일이 가능하다.In addition, in this embodiment, since the
또한, 본 실시형태에서는, 순환펌프(57)가 구동하면 제2실(40) 내의 세정액이 순환로(55)를 통해서 제1실(39)로 유입된다. 그리고, 제1실(39) 내의 세정액은 분할벽(38)을 넘쳐서 제2실(40) 내로 유입된다. 상기 형태로 하여 세정액을 강제적으로 순환시킬 수 있게 한다. 즉, 피세정물(W)이 침적된 제1실(39) 내의 세정액을 펌프(57)에 의해 강제적으로 유동시키는 일이 가능하게 됨으로써, 피세정물(W)의 세정능력을 향상시킬 수 있게 한다.In the present embodiment, when the
더욱이, 본 실시형태에서는 초음파세정수단(60)이 설치되어짐으로써, 피세정물(W)의 세정력을 더욱 향상시킬 수 있게 한다.Furthermore, in the present embodiment, the ultrasonic cleaning means 60 is provided so that the cleaning power of the object to be cleaned W can be further improved.
또한, 본 실시형태에서는, 진공펌프(20b)의 구동에 따라 흡인로(20a)를 통해 서 흡인된 공기가 기액분리기(26)으로 유입되지만, 상기 공기에 포함된 기화세정액이 기액분리기(26)에 저류(貯溜)되는 일로 된다. 상기 기액분리기(26)에는 응축수단이 설치되어 있기 때문에, 기화세정액을 액화시켜 분리하는 일이 가능하다.In addition, in this embodiment, although the air sucked through the
또한, 본 실시형태에서는, 세정시에 피세정물(W)을 요동시키는 것으로부터 피세정물(W)의 세정을 행하는 일이 가능함으로써 세정능력을 보다 향상시키는 일이 가능하다.In addition, in this embodiment, since the to-be-cleaned object W can be wash | cleaned by rocking the to-be-cleaned object W at the time of washing | cleaning, it is possible to improve a washing | cleaning ability further.
여기서, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않고, 그의 요지를 벗어나지 않은 범위 내에서 다양하게 변경, 개량하는 것이 가능하다. 예를 들면, 히터(62)는 순환로(55)에 설치되는 것으로 하고 있지만, 이에 대하여는 내측용기(38) 내에 배치하는 형태로 되는 것도 가능하다.Here, this invention is not limited to the said embodiment, It is possible to change and improve variously in the range which does not deviate from the summary. For example, although the
또한, 본 실시형태에서는, 세정시에 리프터(74a)를 요동시키는 것으로 하고 있지만, 피세정물(W)의 종류에 따라서 리프터(74a)가 요동하지 않은 형태인 것도 가능하다. 또한 초음파세정수단(60)을 생략하는 것도 가능하다.In addition, in this embodiment, although the
[실시형태의 개요]Outline of Embodiment
이상의 실시형태를 정리하면, 다음과 같다.The above embodiment is summarized as follows.
(1) 본 실시형태에서는, 세정액을 정화하는 정화수단이 설치되기 때문에, 내측용기 내에서 피세정물을 세정하는 일에 따라 세정액이 오염되어있다 하더라도 세정액의 정화가 가능하게 된다. 따라서, 세정 후에 새롭게 세척하는 등의 대책을 강구할 필요가 없고, 세정공정이 길게 되는 것을 방지하는 일이 가능하다. 게다가 세정액을 오래 사용하는 것을 가능하게 한다. 또한, 외측용기의 내부를 감압하는 일 에 따라서 세정 후 피세정물을 건조시킴으로써 피세정물을 세부에 걸쳐서 건조시키는 일이 가능하게 된다. 이때, 내측용기가 덮개에 의해 기밀상태로 막히기 때문에 내측용기 내의 세정액을 그곳에 모아두고 간간히 외측용기 내부를 감압하는 일이 가능하다. 이 때문에, 피세정물 건조 시 세정액을 배출하는 시간을 생략할 수 있고, 건조공정의 시간을 단축시킬 수 있음과 함께, 쓸데없이 행해지는 세정액의 폐기를 방지하는 일이 가능하다. 더욱이, 피세정물의 건조에 이용되고 있는 외측용기 내에 세정용의 내측용기가 수용되는 구성으로 됨으로써, 밀폐용기로 구성할 필요가 있는 외측용기 자체의 가공 공수의 증가를 억제시키는 일이 가능하게 된다. 또한, 외측용기의 내측에 내측용기가 배치되는 구성으로 이루어짐으로써, 장치의 배치시간에 있어서 내측용기의 수평도를 조정할 때에 내측용기 자체를 독립적으로 움직이게 할 수 있어 조정작업이 번잡하게 되는 것을 억제시킬 수 있게 한다. 결국, 도 2에 도시된 상하 두 개 조(槽)의 구성에서 세정실과 건조실 사이의 밀봉성을 확보하기 위해서, 세정실에는 건조실이 견고하게 고정되어 있어 상기 세정실의 수평도를 조정할 때에는 건조실이 일체로 된 장치의 기울기 조정을 행하지 않으면 안되는 바, 조정작업이 번잡하게 된다. 이에 대해서, 본 실시형태에 따른 외측용기 내의 내측용기가 수용된 구성에서는, 외측용기와 내측용기의 접합부에서 밀봉성을 확보할 필요가 발생되지 않음으로써 내측용기 단일체에서 기울기 조정을 행하는 일이 가능하게 되고, 조정작업에 필요한 노력이 경감된다. (1) In this embodiment, since purification means for purifying the cleaning liquid is provided, the cleaning liquid can be purified even if the cleaning liquid is contaminated due to cleaning the object to be cleaned in the inner container. Therefore, it is not necessary to take countermeasures such as fresh washing after washing, and it is possible to prevent the washing process from lengthening. In addition, the cleaning liquid can be used for a long time. In addition, it is possible to dry the object to be cleaned in detail by drying the object to be cleaned after washing in accordance with the pressure reduction of the inside of the outer container. At this time, since the inner container is clogged in the airtight state by the cover, it is possible to collect the cleaning liquid in the inner container there and to depressurize the inside of the outer container occasionally. For this reason, the time which discharges a washing | cleaning liquid at the time of drying of a to-be-cleaned object can be skipped, the time of a drying process can be shortened, and the waste of the washing liquid which is wastelessly performed can be prevented. Furthermore, the structure in which the inner container for cleaning is accommodated in the outer container used for drying the to-be-cleaned object becomes possible, and it becomes possible to suppress the increase of the processing time of the outer container itself which needs to be comprised by the closed container. In addition, since the inner container is arranged inside the outer container, the inner container itself can be moved independently when adjusting the horizontal level of the inner container in the arrangement time of the apparatus, thereby reducing the complicated operation. To be able. As a result, in order to ensure the sealing property between the cleaning chamber and the drying chamber in the configuration of the two upper and lower sets shown in Fig. 2, the drying chamber is firmly fixed to the cleaning chamber. Since the inclination adjustment of the integrated device must be performed, the adjustment work becomes complicated. On the other hand, in the structure in which the inner container in the outer container which concerns on this embodiment was accommodated, since the necessity of ensuring sealing property in the junction part of an outer container and an inner container does not arise, the inclination adjustment can be performed in an inner container single body. This reduces the effort required for coordination.
(2) 상기 세정건조장치에 있어서는, 바람직하게 세정액을 가열하는 히터가 구비된다. 외측용기 내에서는 감압에 수반하여 세정액이 증발되기 때문에 기화 잠 열에 따른 온도저하가 발생하고, 이 형태에서는 세정액을 가열하는 히터가 설치되게 함으로써 온도저하에 따른 내측용기 내의 세정액이 응고하는 것을 방지할 수 있게 된다. 또한, 세정액의 온도 상승에 따른 세정 능력을 향상시키는 일도 가능하다. 또한, 처리온도를 일정하게 확보하는 일이 가능하다.(2) In the washing drying apparatus, a heater for heating the washing liquid is preferably provided. In the outer container, since the cleaning liquid evaporates with reduced pressure, a temperature decrease occurs due to latent heat of vaporization. In this embodiment, a heater for heating the cleaning liquid is installed, thereby preventing the cleaning liquid in the inner container from coagulating due to the temperature decrease. Will be. Moreover, it is also possible to improve the washing | cleaning ability according to the temperature rise of a washing | cleaning liquid. In addition, it is possible to ensure a constant processing temperature.
(3) 상기 세정건조장치에 있어서, 상기 내측용기에는 용기내부를 피세정물이 침적하는 제1실과 제2실을 분할하는 분할벽이 구비되고, 상기 내측용기에는 일단부가 제1실에 접속되게 하고 타단부가 제2실에 접속되는 순환로가 설치되며 상기 순환로에 펌프가 설치되는 경우에는, 상기 펌프의 구동에 의해 제1실 내의 세정액을 바람직하게 분할벽으로부터 제2실 내로 범람시킨다. 이 형태에서는, 펌프가 구동하면 제2실 내의 세정액이 순환로를 통해서 제1실로 유입된다. 그리고, 제1실 내의 세정액은 분할벽으로부터 범람되어 제2실 내로 유입된다. 이러한 형태는 세정액을 강제적으로 순환시키는 일이 가능하다. 즉, 피세정물이 침적된 제1실 내의 세정액을 강제적으로 구동시키는 일이 가능함으로써 피세정물의 세정능력을 향상시킬 수 있게 된다.(3) The washing and drying apparatus, wherein the inner container is provided with a dividing wall for dividing the first chamber and the second chamber in which the object to be cleaned is deposited inside the container, and one end of the inner container is connected to the first chamber. When the other end is connected to the second chamber and a circulation path is provided, when the pump is installed in the circulation path, the cleaning liquid in the first chamber is preferably flooded from the dividing wall into the second chamber by the driving of the pump. In this embodiment, when the pump is driven, the washing liquid in the second chamber flows into the first chamber through the circulation passage. The cleaning liquid in the first chamber is flooded from the dividing wall and flows into the second chamber. This form makes it possible to circulate the cleaning liquid forcibly. That is, it is possible to forcibly drive the cleaning liquid in the first chamber in which the object to be cleaned is deposited, thereby improving the cleaning ability of the object to be cleaned.
(4) 상기 형태에 있어서, 정화수단으로서는, 바람직하게 순환로에 설치된 필터가 구성된다. 상기 형태에서는 펌프의 구동에 따라 세정액이 내측용기로부터 순환로로 유입하여서 상기 세정액이 순환로를 따라 이동한다. 그리고, 상기 세정액은 필터에 의해서 정화된다.(4) In the above aspect, the purification means preferably comprises a filter provided in the circulation passage. In this aspect, the cleaning liquid flows from the inner container into the circulation path as the pump is driven, and the cleaning liquid moves along the circulation path. The cleaning liquid is then purified by a filter.
(5) 상기 세정건조장치에 있어서, 바람직하게 내측용기에 초음파세정수단이 설치된다. 상기 형태에서는 피세정물의 세정력을 더욱 향상시키는 것을 가능하게 한다. (5) In the above washing and drying apparatus, preferably, ultrasonic cleaning means is provided in the inner container. This aspect makes it possible to further improve the cleaning power of the object to be cleaned.
(6) 상기 세정건조장치에 있어서, 상기 감압수단은 외측용기에 접속된 흡인로와 상기 흡인로에 설치된 펌프를 구비하고, 상기 흡인로는 기액분리기에 접속되며, 상기 기액분리기에는 응축수단이 설치된다. 상기 형태에서는 흡인로를 통해서 흡인된 공기가 기액분리기에 유입되어서, 상기 공기에 포함된 기화세정액이 기액분리기에 저류된다. 기액분리기에 응축수단이 설치되어 있기 때문에 기화세정액을 액화시켜서 분리하는 일이 가능하게 된다.(6) The washing and drying apparatus, wherein the decompression means includes a suction path connected to an outer container and a pump provided in the suction path, the suction path is connected to a gas-liquid separator, and the gas-liquid separator is provided with condensation means. do. In this aspect, the air sucked through the suction path flows into the gas-liquid separator, and the vaporized washing liquid contained in the air is stored in the gas-liquid separator. Since the condensation means is provided in the gas-liquid separator, it is possible to liquefy and separate the vaporized washing liquid.
(7) 상기 세정건조장치에 있어서, 상기 피세정물을 내측용기의 내부와 외부 사이에서 반송하기 위한 반송수단이 구비되는 경우에서는, 상기 반송수단은 내측용기 내에서 피세정물의 세정시에 해당 피세정물을 요동 가능한 형태로 구성되게 한다. 상기 형태에서는 피세정물을 요동시키는 일로부터 피세정물의 세정을 행하는 일이 가능하게 됨으로써, 세정 능력을 더울 향상시키는 일이 가능하게 된다.(7) In the cleaning and drying apparatus, in the case where a conveying means for conveying the object to be cleaned is provided between the inside and the outside of the inner container, the conveying means is used for cleaning the object to be cleaned in the inner container. Allow the cleaning material to be configured in a swingable form. In the above aspect, it becomes possible to wash the to-be-cleaned object by rocking the to-be-washed object, thereby further improving the washing ability.
상기에는 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 설명하고 있지만, 본 발명은 상기에 한정되는 것은 아니고, 청구범위와 발명의 상세한 설명의 범위 내에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다.Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention. Belongs to the scope of.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 세정건조장치의 전체 구성을 개략적으로 보인 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a view schematically showing the overall configuration of a washing and drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 종래의 세정건조장치의 구성을 보인 도면이다.2 is a view showing the configuration of a conventional washing and drying apparatus.
도 3은 종래의 세정건조장치의 구성을 보인 도면이다.3 is a view showing the configuration of a conventional washing and drying apparatus.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 간략한 설명** Brief description of symbols for the main parts of the drawings *
10: 세정건조장치 12: 케이스10: washing and drying device 12: case
14: 외측용기 15: 외부덮개14: outer container 15: outer cover
16: 외측개구 20: 감압수단16: outer opening 20: decompression means
22: 진공포트 23: 제1 역지밸브22: vacuum port 23: first check valve
24: 제2 역지밸브 26: 기액분리기24: second check valve 26: gas-liquid separator
28: 가압펌프 30: 세정액 회수탱크28: pressurized pump 30: cleaning liquid recovery tank
32: 배기로 33: 역지밸브32: exhaust passage 33: check valve
35: 액면센서 38: 내측용기35: liquid level sensor 38: inner container
39: 제1실 40: 제2실39:
42: 액면센서 44: 배출포트42: liquid level sensor 44: discharge port
46: 컨트롤러 48: 공급포트46: controller 48: supply port
49: 세정액공급탱크 50: 공급관49: cleaning liquid supply tank 50: supply pipe
52: 덮게 55: 순환로52: cover 55: circuit
57: 순환펌프 58: 필터57: circulation pump 58: filter
60: 초음파세정수단 62: 히터60: ultrasonic cleaning means 62: heater
64: 액온계 65: 히터측 배출관64: liquid thermometer 65: heater side discharge pipe
66: 필터측 배출관 68: 배수탱크66: filter side discharge pipe 68: drain tank
69: 역지밸브 70: 니들밸브69: check valve 70: needle valve
72: 배수관 74: 반송수단72: drain pipe 74: conveying means
Claims (7)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2007-00140798 | 2007-05-28 | ||
JP2007140798A JP2008294368A (en) | 2007-05-28 | 2007-05-28 | Cleaning dryer appparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080104971A true KR20080104971A (en) | 2008-12-03 |
Family
ID=40105392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080048561A KR20080104971A (en) | 2007-05-28 | 2008-05-26 | Cleaning and drying apparatus |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008294368A (en) |
KR (1) | KR20080104971A (en) |
CN (1) | CN101314158A (en) |
TW (1) | TW200846095A (en) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102010038799A1 (en) * | 2010-08-02 | 2012-02-02 | Dürr Ecoclean GmbH | Device for drying workpieces after a cleaning process |
AT509587B1 (en) * | 2010-10-11 | 2011-10-15 | Tms Transport Und Montagesysteme Gmbh | METHOD AND A CLEANING APPARATUS FOR CLEANING INDUSTRIALLY PREPARED COMPONENTS |
CN102059231B (en) * | 2011-01-07 | 2012-10-03 | 浙江宝纳钢管有限公司 | Ultrasonic cleaning equipment |
JP5977572B2 (en) | 2012-04-25 | 2016-08-24 | 株式会社Ihi | Vacuum cleaning device |
CN103350079B (en) * | 2013-07-26 | 2015-10-14 | 浙江皓鸿超声波科技有限公司 | Supersonic wave cleaning machine |
JP6473656B2 (en) * | 2015-05-07 | 2019-02-20 | ソマックス株式会社 | Metal object cleaning apparatus and metal object cleaning method |
DE102015215728A1 (en) * | 2015-08-18 | 2017-02-23 | Dürr Ecoclean GmbH | Plant for treating a workpiece with a process fluid |
CN108838179A (en) * | 2018-06-20 | 2018-11-20 | 袁静 | A kind of cleaning device for chemistry teaching instrument |
CN116013804A (en) * | 2021-10-22 | 2023-04-25 | 长鑫存储技术有限公司 | Cleaning device and cleaning method thereof |
CN117672926A (en) * | 2024-01-29 | 2024-03-08 | 东领科技装备有限公司 | Single-blade type semiconductor substrate cleaning device and cleaning method |
-
2007
- 2007-05-28 JP JP2007140798A patent/JP2008294368A/en active Pending
-
2008
- 2008-05-26 TW TW097119340A patent/TW200846095A/en unknown
- 2008-05-26 KR KR1020080048561A patent/KR20080104971A/en not_active Application Discontinuation
- 2008-05-26 CN CNA2008101001256A patent/CN101314158A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN101314158A (en) | 2008-12-03 |
JP2008294368A (en) | 2008-12-04 |
TW200846095A (en) | 2008-12-01 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |