KR20080100713A - Wheel with grinding grain, grinding apparatus and dresser - Google Patents

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KR20080100713A
KR20080100713A KR1020070046735A KR20070046735A KR20080100713A KR 20080100713 A KR20080100713 A KR 20080100713A KR 1020070046735 A KR1020070046735 A KR 1020070046735A KR 20070046735 A KR20070046735 A KR 20070046735A KR 20080100713 A KR20080100713 A KR 20080100713A
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grinding
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하지메 이시와타리
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아사히 다이아몬드코교 가부시끼가이샤
가부시키가이샤 시라이텍크
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Abstract

A wheel with grinding grain, a grinding apparatus and a dresser which is welded to successively by the rotation axis direction of the wheel are provided to improve precision and efficiency in grinding work the chamfer of the board material cross section. A grinding grain wheel(1000) is comprised of a wheel part and a grain part(1020) formed in the circumferential surface of wheel part. The grinding grain wheel performs grinding work of the cross section of the board material. The abrasive layer of at least two different layers the grain part of the particle size is successively formed in the circumferential surface of the wheel part into the rotation axis direction. At least two layers grinding layers having different particle size is successivelyformed in the circumferential surface of the wheel part. More than two wheel layers are formed the wheel part, by successively welding in axis direction.

Description

지립 회전휠, 연삭장치 및 드레서{WHEEL WITH GRINDING GRAIN, GRINDING APPARATUS AND DRESSER}Abrasive wheel, grinding device and dresser {WHEEL WITH GRINDING GRAIN, GRINDING APPARATUS AND DRESSER}

도1은 제1실시예에 관한 연삭장치의 사시도이다.1 is a perspective view of a grinding apparatus according to the first embodiment.

도2는 도1의 ⅠⅠ-ⅠⅠ선에서 화살표 방향에서 본 연삭장치의 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of the grinding apparatus seen from the arrow direction in the II-II line of FIG.

도3은 도1의 ⅠⅠⅠ-ⅠⅠⅠ선에서 화살표 방향에서 본 연삭장치의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of the grinding device as seen from the arrow direction in the line II-II of FIG.

도4는 도1의 ⅠV-ⅠV선에서 화살표 방향에서 본 연삭장치의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the grinding device as seen from the arrow direction in the line I′-I ′ of FIG. 1.

도5는 연삭체 및 지립부의 구조 단면도이다.5 is a structural sectional view of the grinding body and the abrasive grains.

도6은 연삭체 및 지립부의 구조 단면도이다.6 is a structural sectional view of the grinding body and the abrasive grains.

도7은 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 방법을 설명하는 설명도이다.7 is an explanatory diagram for explaining a method for performing chamfer grinding of a cross section.

도8은 각진 코너부의 연삭가공을 하는 방법을 설명하는 설명도이다.8 is an explanatory diagram for explaining a method for grinding an angled corner portion.

도9는 제2실시예에 관한 연삭체 및 지립부의 구조 단면도이다.9 is a structural sectional view of the grinding body and the abrasive grain according to the second embodiment.

도10은 제2실시예에 관한 연삭체 및 지립부의 구조 단면도이다.10 is a structural sectional view of the grinding body and the abrasive grain according to the second embodiment.

도11은 제3실시예에 관한 연삭체의 구조 단면도이다.11 is a structural sectional view of the grinding body according to the third embodiment.

도12는 제4실시예에 관한 연삭장치의 단면도이다.12 is a sectional view of a grinding apparatus according to the fourth embodiment.

도13은 제5실시예에 관한 연삭장치의 단면도이다.13 is a sectional view of a grinding apparatus according to the fifth embodiment.

도14는, 도13에 나타내는 연삭장치의 연삭체 및 지립부의 구조 단면도이다.14 is a structural sectional view of the grinding body and the abrasive grain of the grinding apparatus shown in FIG.

도15는, (a)는 제6실시예에 관한 드레서의 단면 구조 및 사용방법을 나타내는 도면이고, (b)는 드레서의 단면 구조를 상세하게 나타내는 확대도이다.Fig. 15 is a diagram showing the cross-sectional structure and method of using the dresser according to the sixth embodiment, and (b) is an enlarged view showing the cross-sectional structure of the dresser in detail.

도16은, (a)는 제7실시예에 관한 드레서의 단면 구조 및 사용방법을 나타내는 도면이고, (b)는 드레서의 단면 구조를 상세하게 나타내는 확대도이다.Fig. 16 is a diagram showing the cross-sectional structure and method of using the dresser according to the seventh embodiment, and (b) is an enlarged view showing the cross-sectional structure of the dresser in detail.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

10, 20 ... 연삭장치(硏削裝置)10, 20 ... grinding device

100, 200, 400, 500, 700, 970, 1000 ... 지립 회전휠(砥粒 回轉wheel)100, 200, 400, 500, 700, 970, 1000 ... abrasive wheel

110, 210, 310, 710, 910, 990, 1110 ... 휠부(wheel部)110, 210, 310, 710, 910, 990, 1110 ... wheel

120, 220, 320, 720, 920, 1020 ... 지립부(砥粒部)120, 220, 320, 720, 920, 1020 ... abrasives

121∼125, 221∼223, 721∼724, 1021∼1023 ... 지립층(砥粒層)121 to 125, 221 to 223, 721 to 724, 1021 to 1023 ... abrasive grain layer

121F, 123F, 125F, 221F, 721F, 723F, 725F ... 경사면(傾斜面)121F, 123F, 125F, 221F, 721F, 723F, 725F ... inclined surfaces

122C, 722C ... 중간층(中間層)122C, 722C ... middle layer

126, 726 ... 일방의 층(一方의 層)126, 726 ... one layer

127, 727 ... 타방의 면(他方의 面)127, 727 ... the other side

130, 230, 1030 ... 스페이서(spacer)130, 230, 1030 ... spacer

140, 240, 1040 ... 베어링(bearing)140, 240, 1040 ... bearing

141, 241, 1041 ... 플랜지부(flange部)141, 241, 1041 ... flange

150, 250 ... 육각 구멍 접시머리 작은 나사150, 250 ... hexagon socket head cap screw

190, 290, 790, 작아지고 있0, 999, 1090 ... 연삭체(硏削體)190, 290, 790, 0, 999, 1090 ... grinding bodies

300, 600, 900 ... 회전연삭공구(回轉硏削工具)300, 600, 900 ... rotary grinding tools

991, 992, 993 ... 휠층(wheel層)991, 992, 993 ... wheel layer

A1, A2, B1, B2 ... 회전축(回轉軸),A1, A2, B1, B2 ... rotating shaft,

C1, C2 ... 회전방향(回轉方向)C1, C2 ... direction of rotation

P ... 판재(板材)P ... Plate

P1, P2, P3, P4 ... 단면(端面)P1, P2, P3, P4 ... end face

1100, 1200 ... 드레서(dresser)1100, 1200 ... dresser

1100A, 1200A ... 접촉면(接觸面)1100A, 1200A ... contact surface

1121∼1125, 1221∼1223 ... 드레싱 부재(dressing 部材)1121 to 1125, 1221 to 1223 Dressing members

1121A∼1125A, 1221A∼1223A ... 드레스면(dress 面)1121A to 1125A, 1221A to 1223A ... dress surface

Q1, Q2, Q3 ... 설치위치(設置位置)Q1, Q2, Q3 ... Mounting position (設置 位置)

X ... 기준축선(基準軸線)X ... reference axis

본 발명은, 판재(板材)의 단면(端面)의 모떼기 연삭가공(chamfering 硏削加工)을 하는 지립 회전휠(砥粒回轉wheel), 연삭장치(硏削裝置) 및 드레서(dresser)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to an abrasive wheel, a grinding device, and a dresser for chamfering and grinding a cross section of a plate. will be.

취성재료(脆性材料)나 수지재료(樹脂材料)로 이루어지는 판재는, 임의의 형상으로 절단되어서 사용된다. 절단된 이 판재의 단면은, 보통 각(角)진 엣지(edge) 모양을 구비하고 있는 것이 많다. 이 때문에 종래부터 단면의 모떼기 연삭가공이나, 각진 코너부의 연삭가공이 이루어지고 있다. 하기 특허문헌1에 기재된 연삭장치나 하기 특허문헌2에 기재된 양 모떼기(chamfering) 가공장치에 있어서는, 복수 매의 숫돌 단판(單板)이나 휠 모양 연삭체라고 하는 휠 숫돌이, 소정의 간격을 두고 평행하게 배치된 멀티 숫돌이 구성되어 있고, 이 멀티 숫돌에 의하여 일차, 2차, 마무리의 연삭가공이 효율적으로 이루어지고 있다.The board | plate material which consists of a brittle material and a resin material is cut | disconnected to arbitrary shapes, and is used. The cross section of this cut board material is usually provided with the shape of an angular edge. For this reason, the chamfer grinding processing of the cross section and the grinding processing of an angled corner part are conventionally performed. In the grinding device described in Patent Document 1 below and the chamfering processing device described in Patent Document 2 below, wheel grindstones such as a plurality of grindstone end plates and wheel-shaped grinding bodies have a predetermined interval. Multi-grindstones are arranged parallel to each other, and the multi-grindstones are efficiently processed for primary, secondary and finish grinding.

특허문헌1 일본국 공개특허공보 특개2003-266304호 공보Patent Document 1: Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-266304

특허문헌2 일본국 공개특허공보 특개소62-176746호 공보Patent Document 2: Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-176746

그러나 상기의 휠 숫돌을 얇게 한 장치를 사용하여 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 경우에, 이 휠 숫돌이 얇기 때문에 휘어지기 쉬워져 연삭의 정밀도 및 효율이 낮아지게 된다고 하는 문제가 있다.However, when chamfering grinding of a cross section using the above-mentioned wheel grinding machine is performed, this wheel grinding wheel has a problem that it is easy to bend because the wheel grinding wheel is thin and the precision and efficiency of grinding are lowered.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 판재의 단면(端面)의 모떼기 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 정밀도 및 효율을 높이는 것이 가능한 지립 회전휠, 연삭장치 및 드레서를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an abrasive wheel, a grinding device and a dresser capable of improving the accuracy and efficiency of grinding in the case of chamfering grinding of a cross section of a plate. do.

본 발명에 관한 지립 회전휠은, 회전되는 휠부와, 휠부의 원주면에 형성된 지립부를 구비하고, 판재의 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 지립 회전휠로서, 지립부는, 입도가 서로 다른 2층 이상의 지립층이 휠부의 원주면에 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지는 것을 특징으로 한다.An abrasive grain wheel according to the present invention is an abrasive grain wheel having a wheel portion to be rotated and an abrasive grain portion formed on the circumferential surface of the wheel portion, and performing chamfer grinding processing of a cross section of a sheet material, wherein the abrasive grain portion has two or more layers having different particle sizes. It is characterized in that the abrasive grain is formed sequentially on the circumferential surface of the wheel part in the rotation axis direction.

이러한 지립 회전휠에 있어서, 지립부는, 입도가 서로 다른 2층 이상의 지립층이 휠부의 원주면에 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어진다. 여기에서 2층 이상의 지립층이 같은 휠부의 원주면에 형성됨으로써 1층과 비교하여 휠부를 두텁게 할 수 있고, 이 결과, 강성(剛性)을 높일 수 있어 지립 회전휠은 휘기 어려워진다. 이 때문에 지립 회전휠을 회전시키는 상태에서 판재를 연삭함으로써 입도가 서로 다른 2층 이상의 지립층에 의하여 판재의 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 정밀도 및 효율을 높일 수 있다.In such an abrasive wheel, the abrasive part is formed by sequentially forming two or more abrasive layers having different particle sizes in the rotational axis direction on the circumferential surface of the wheel part. Here, two or more abrasive grain layers are formed on the circumferential surface of the same wheel portion, so that the wheel portion can be thickened as compared with the first layer. As a result, the rigidity can be increased, and the abrasive wheel becomes difficult to bend. For this reason, by grinding a plate material in the state which rotates an abrasive wheel, the precision and efficiency of grinding at the time of carrying out the chamfer grinding processing of the cross section of a plate material by the abrasive layer of two or more layers of different particle sizes can be improved.

또한 휠부는, 2층 이상의 휠층이 휠부의 회전축 방향으로 순차적으로 접합되어 이루어지는 것도 바람직하다. 이에 따라 휠부는 2층 이상의 휠층이 접합되어 이루어지기 때문에, 이 휠층이 1층의 경우와 비교하여 휠부는 휘기 어려워진다. 이 결과, 2층 이상의 휠층을 접합시키는 것 만으로, 이 휠층이 1층으로 이루어지는 휠부를 구비하는 지립부의 휠보다 휘기 어려운 지립 회전휠을 용이하게 얻을 수 있다.It is also preferable that the wheel portion is formed by sequentially joining two or more wheel layers in the rotation axis direction of the wheel portion. As a result, the wheel portion is formed by joining two or more wheel layers, so that the wheel portion is more difficult to bend as compared with the case where the wheel layer is one layer. As a result, only by joining two or more wheel layers, an abrasive grain wheel which is harder to bend than a wheel of an abrasive grain provided with a wheel portion composed of one wheel layer can be easily obtained.

또한 지립부는, 제1지립층과 제2지립층과 제3지립층을 포함하는 3층 이상의 지립층이, 휠부의 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지고, 제1지립층은 축방향의 배열에 있어서 최외층의 일방의 층에 위치하고, 제3지립층은 최외층의 타방의 층에 위치하고, 지립부가 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 최외층의 일방의 층에 위치하는 제1지립층으로부터 제2지립층을 향함에 따라 작아짐과 아울러 최외층의 타방의 층에 위치하는 제3지립층으로부터 제2지립층을 향함에 따라 작아지는 것도 바람직하다.In addition, the abrasive grains are formed by sequentially forming three or more abrasive grain layers including the first abrasive grain layer, the second abrasive grain layer, and the third abrasive grain layer in the rotational axis direction of the wheel portion, and the first abrasive grain layer is arranged in the axial direction. The third abrasive layer is located in the other layer of the outermost layer, and each particle size of the abrasive layer provided by the abrasive part is from the first abrasive layer located in one layer of the outermost layer. It is also preferable to become smaller as it faces a 2nd abrasive grain layer, and to become smaller as it goes to a 2nd abrasive grain layer from the 3rd abrasive grain layer located in the other layer of an outermost layer.

이에 따라 지립부가 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 최외층의 일방의 층에 위치하는 제1지립층으로부터 제2지립층을 향함에 따라 작아짐과 아울러 최외층의 타방의 층에 위치하는 제3지립층으로부터 제2지립층을 향함에 따라 작아지고 있다. 이 때문에 지립 회전휠을 회전시킨 상태에서 판재를 연마할 때에, 휠부의 회전축 방향을 따라 제1지립층으로부터 제3지립층을 향하는 방향으로 판재를 이동시킨 후에, 제3지립층으로부터 제1지립층을 향하는 방향으로 판재를 이동시키면서 연삭함으로써 판재를 왕복 이동시키면서 연삭을 할 수 있다. 이 결과, 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다.As a result, each particle size of the abrasive grain layer included in the abrasive grain portion decreases from the first abrasive grain layer located in one layer of the outermost layer toward the second abrasive grain layer and is located in the other layer of the outermost layer. It is decreasing as it goes from an abrasive grain layer to a 2nd abrasive grain layer. For this reason, when grinding a board | plate material in the state which rotated the abrasive wheel, after moving a board material from the 1st abrasive grain layer to the 3rd abrasive grain layer along the rotation axis direction of a wheel part, a 1st abrasive grain layer from a 3rd abrasive grain layer The grinding can be performed while the plate is reciprocated by grinding while the plate is moved in the direction toward. As a result, the efficiency of grinding can be further improved.

또한 지립부는, 제1지립층과 제2지립층을 포함하는 2층 이상의 지립층이, 휠부의 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지고, 제1지립층은 축방향의 배열에 있어서 최외층의 일방의 층에 위치하고, 제2지립층은 최외층의 타방의 층에 위치하고, 지립부가 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 제1지립층으로부터 제2지립층을 향함에 따라 작아지는 것도 바람직하다.The abrasive grains are formed by sequentially forming two or more abrasive grain layers including the first abrasive grain layer and the second abrasive grain layer in the rotational axis direction of the wheel portion, and the first abrasive grain layer is one of the outermost layers in the axial alignment. It is also preferable that the second abrasive layer is located in the other layer of the outermost layer, and each particle size of the abrasive grain layer which an abrasive grain part has is made small as it goes to a 2nd abrasive grain layer from a 1st abrasive grain layer.

지립부가 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 최외층의 일방의 층에 위치하는 제1지립층으로부터 최외층의 타방의 층에 위치하는 제2지립층을 향함에 따라 작아지고 있다. 제1지립층으로부터 제2지립층을 향하는 방향으로만 판재를 이동시키면서 연삭하는 경우에, 작은 지립에 의하여 연마된 연삭장소가, 다시 큰 지립에 접촉하지 않고 회전휠로부터 떨어지므로, 깊은 직선 모양의 연삭흔적을 표면에 남기는 않고 판재가 연삭가공 된다. 그에 따라 연삭흔적에 의한 판재의 깨어짐이 방지되어 연마되는 판재의 수율(收率)이 향상되기 때문에 연삭의 효율을 높일 수 있다. 또한 연마된 판재의 표면 조도(表面粗度)가 저감되므로 연삭의 정밀도를 높일 수 있다.Each particle size of the abrasive grain layer provided with an abrasive grain part becomes small as it goes to the 2nd abrasive grain layer located in the other layer of an outermost layer from the 1st abrasive grain layer located in one layer of an outermost layer. In the case of grinding while moving the plate only in the direction from the first abrasive layer to the second abrasive layer, the grinding place polished by the small abrasive grains falls away from the rotating wheel without contacting the large abrasive grains. The plate is ground without leaving grinding marks on the surface. Thereby, the crack of the board | plate material by grinding traces is prevented and the yield of the board | plate material to be grind | polish improves, and the efficiency of grinding can be improved. Moreover, since the surface roughness of the polished sheet material is reduced, the precision of grinding can be improved.

또한 제1지립층은, 제2지립층 측을 향하여 외경이 커지도록 경사진 제1경사면을 구비하고, 제3지립층은, 제2지립층 측을 향하여 외경이 커지도록 경사진 제2경사면을 구비하는 것도 바람직하다.In addition, the first abrasive layer includes a first sloped surface inclined so as to have an outer diameter toward the second abrasive layer side, and the third abrasive layer has a second sloped surface inclined so as to have an outer diameter toward the second abrasive layer side. It is also preferable to provide.

이에 따라 제1지립층은 제1경사면을 구비하고, 제3지립층은 제2경사면 을 구비하고 있다. 이 때문에 판재의 각진 코너부와 제1 또는 제2경사면과를 접촉시켜서 판재를 연마할 때에, 휠부의 회전축 방향을 따라 판재를 지립 회전휠을 향하여 이동시킴으로써 판재의 각진 코너부의 연삭가공을 할 수 있다.Accordingly, the first abrasive layer has a first sloped surface, and the third abrasive layer has a second sloped surface. For this reason, when grinding a plate by contacting an angled corner part of a plate and a 1st or 2nd inclined surface, it can grind the angled corner part of a plate by moving a plate material toward an abrasive wheel along the rotation axis direction of a wheel part. .

또한 지립부가 구비하는 지립층의 각각이 구비하는 지립은, 초지립인 것도 바람직하다.Moreover, it is also preferable that the abrasive grain which each of the abrasive grain layers with which an abrasive grain part is equipped is a super abrasive grain.

이에 따라 초지립을 사용한 연삭을 할 수 있으므로, 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다. 또한 지립부의 형상 유지가 좋아진다.Thereby, since grinding using super abrasive grains can be performed, the efficiency of grinding can be further improved. Moreover, shape retention of an abrasive grain is improved.

본 발명에 관한 연삭장치는, 접근 및 이격을 함과 아울러 기준축선에 대하여 각각 평행하고 또한 서로 역의 회전방향으로 회전하고 서로 평행한 제1회전축 및 제2회전축과, 제1회전축에 부착된 상기 어느 하나의 지립 회전휠과, 제2회전축에 부착된 상기 어느 하나의 제2지립 회전휠과, 지립이 형성됨과 아울러 제2회전축에 부착되어서 회전되는 회전연삭공구를 구비하고, 기준축선 방향에서 제1지립 회전휠의 설치위치는 제2지립 회전휠의 설치위치와 회전연삭공구의 설치위치의 사이에 있는 것을 특징으로 한다.The grinding apparatus according to the present invention includes a first rotary shaft and a second rotary shaft, which are parallel to the reference axis and rotate in opposite rotation directions and are parallel to each other, while being approached and spaced apart from each other and attached to the first rotary shaft. Any one abrasive wheel, any one of the second abrasive wheels attached to the second axis of rotation, and a grinding tool which is formed and is attached to the second axis of rotation and rotated, The installation position of the first abrasive wheel is characterized by being between the installation position of the second abrasive wheel and the installation position of the rotary grinding tool.

이러한 연삭장치에 있어서는, 접근 및 이격을 함과 아울러 서로 역의 회전방향으로 회전하고 서로 평행한 제1회전축 및 제2회전축의 각각에 제1 및 제2지립 회전휠의 각각이 부착되어 있다. 또한 지립이 형성되는 회전연삭공구가 제2회전축에 부착되어 있다. 여기에서 제1지립 회전휠의 설치위치는, 제2지립 회전휠의 설치위치와 회전연삭공구의 설치위치의 사이에 있다. 이 때문에 제1 및 제2지립 회전휠과 회전연삭공구 각각을 회전시킨 상태에서, 제1회전축 및 제2회전축 각각을 접근 및 이격을 시켜, 제1회전축에 부착된 제1지립 회전휠과, 제2회전축에 부착된 제2지립 회전휠 및 회전연삭공구의 사이에서 판재를 연마할 때에, 판재를 지지하면서 판재의 제1회전축 측 및 제2회전축 측을 동시에 연삭할 수 있다. 이 결과, 판재의 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다.In such a grinding device, each of the first and second abrasive grain rotating wheels is attached to each of the first and second rotary shafts which rotate in the opposite rotational direction and are parallel to each other while approaching and separating each other. In addition, a rotary grinding tool in which abrasive grains are formed is attached to the second rotary shaft. Here, the installation position of the first abrasive wheel is between the installation position of the second abrasive wheel and the installation position of the rotary grinding tool. For this reason, the first abrasive wheel and the first abrasive wheel are attached to the first rotary shaft while the first and second abrasive wheels and the rotary grinding tool are rotated, respectively, approaching and spaced apart from each other; When grinding the plate between the second abrasive wheel and the rotary grinding tool attached to the two rotary shafts, the first rotary shaft side and the second rotary shaft side of the plate can be simultaneously ground while supporting the plate. As a result, the grinding efficiency at the time of chamfering grinding of the cross section of a board | plate material can be improved further.

본 발명에 관한 연삭장치는, 접근 및 이격을 함과 아울러 서로 역의 회전방향으로 회전하고 서로 평행한 제1회전축 및 제2회전축과, 제1회전축에 부착된 상기 어느 하나의 제1지립 회전휠과, 제2회전축에 부착된 상기 어느 하나의 제2지립 회전휠을 구비하고, 제1지립 회전휠과 제2지립 회전휠은, 서로 대향하는 위치에 부착되어 있는 것을 특징으로 한다.The grinding apparatus according to the present invention, the first and second rotary shafts attached to the first rotary shaft and the first rotary shaft and the second rotary shaft which rotates in the opposite rotational direction and parallel to each other while approaching and spaced apart from each other. And a second abrasive grain wheel attached to the second rotary shaft, wherein the first abrasive grain wheel and the second abrasive grain wheel are attached to positions facing each other.

이러한 연삭장치에 있어서는, 접근 및 이격을 함과 아울러 서로 역의 회전방향으로 회전하고 서로 평행한 제1회전축 및 제2회전축의 각각에, 제1 및 제2지립 회전휠의 각각이 부착되어 있다. 그리고 제1지립 회전휠과 제2지립 회전휠은 서로 나란한 위치에 부착되어 있다. 이 때문에 제1 및 제2지립 회전휠을 회전시킨 상태에서, 제1회전축 및 제2회전축의 각각을 접근 및 이격시켜, 서로 나란한 위치에 부착된 제1지립 회전휠 및 제2지립 회전휠의 사이에서 판재를 연마할 때에, 판재를 지지하면서 판재의 제1회전축 측 및 제2회전축 측을 동시에 연삭할 수 있다. 이 결과, 판재의 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다.In such a grinding device, each of the first and second abrasive grain rotating wheels is attached to each of the first and second rotary shafts which rotate in the opposite rotational direction and are parallel to each other while being approached and spaced apart. In addition, the first abrasive wheel and the second abrasive wheel are attached to the position parallel to each other. For this reason, in the state which rotated the 1st and 2nd abrasive wheels, each of the 1st and 2nd rotary shafts approached and spaced apart, and between the 1st abrasive wheels and the 2nd abrasive wheels which were attached in parallel with each other. When polishing the plate, the first rotary shaft side and the second rotary shaft side of the plate can be simultaneously ground while supporting the plate. As a result, the grinding efficiency at the time of chamfering grinding of the cross section of a board | plate material can be improved further.

본 발명에 관한 드레서는, 지립 회전휠의 지립부를 드레싱 하는 드레서로서, 입도가 서로 다른 2이상의 드레스면이 연속하도록 입도가 서로 다른 2이상의 드레싱 부재를 연속하도록 설치하는 것을 특징으로 한다.A dresser according to the present invention is a dresser for dressing an abrasive grain of an abrasive wheel, characterized in that two or more dressing members having different particle sizes are arranged so as to be continuous so that two or more dressing surfaces having different particle sizes are continuous.

이러한 드레서에 있어서는, 입도가 서로 다른 2이상의 드레스면이 연속한다. 입도의 배열이 이 드레스면과 같은 층구성(層構成)의 지립부를 구비하는 지립 회전휠에 대하여 드레스면을 접촉시켜서 드레싱을 하면, 지립층의 지립의 크기에 따라 각각 드레싱 부재를 교환하지 않고 한번에 드레싱을 할 수 있다. 그 때문에 2층 이상의 지립층을 구비하는 지립 회전휠의 드레싱 시간이 단축되므로, 드레싱을 한 뒤에 판재의 연삭가공을 하는 경우에 있어서도 그 연삭가공 효율을 높일 수 있다.In such a dresser, two or more dress surfaces having different particle sizes are continuous. When the dressing is made by contacting the dressing surface with an abrasive wheel having a layered abrasive grain having the same layer size as the dressing surface, dressing is performed at once without replacing the dressing members according to the size of the abrasive grains. Dressing can be done. Therefore, since the dressing time of the abrasive wheel provided with two or more abrasive layers is shortened, even when dressing is performed, the grinding efficiency can be improved.

또한 상기 드레서는, 제1드레싱 부재와 제2드레싱 부재와 제3드레싱 부재를 포함하는 3 이상의 드레싱 부재가 연속하도록 형성되어서 이루어지고, 제1드레싱 부재는 연속하도록 설치된 드레싱 부재의 배열에 있어서의 최외부의 일방에 위치하고, 제3드레싱 부재는 최외부의 타방에 위치하고, 드레싱 부재의 각각의 입도는 제1드레싱 부재로부터 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아짐과 아울러 제3드레싱 부재로부터 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아지는 것도 바람직하다.In addition, the dresser is formed by forming three or more dressing members including the first dressing member, the second dressing member, and the third dressing member so as to be continuous, and the first dressing member is arranged in the arrangement of the dressing members arranged so as to be continuous. Located in the outer one, the third dressing member is located in the outermost other side, and each particle size of the dressing member becomes smaller as it faces from the first dressing member to the second dressing member, and from the third dressing member to the second dressing member. It is also preferable to decrease as it faces.

이에 따라 드레서가 구비하는 드레싱 부재의 각각의 입도는, 최외부 의 일방에 위치하는 제1드레싱 부재로부터 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아짐과 아울러 최외부의 타방에 위치하는 제3드레싱 부재로부터 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아지고 있다. 입도의 배열이 상기와 같은 「소-밀-소」 구성을 구비하는 지립 회전휠의 지립부에 대하여도, 드레싱을 한 뒤에 판재의 연삭가공을 하는 경우의 연삭가공 효율을 높일 수 있다.As a result, each particle size of the dressing member included in the dresser is reduced from the first dressing member located at the outermost one toward the second dressing member and is formed from the third dressing member located at the outermost other. 2, it becomes small as it goes to a dressing member. Also in the abrasive grains of the abrasive grain wheel having the above-described "small-mill-small" configuration, the grinding efficiency in the case of grinding the sheet material after dressing can be improved.

또한 상기 드레서는, 제1드레싱 부재와 제2드레싱 부재를 포함하는 2이상의 드레싱 부재가 연속하도록 형성되어서 이루어지고, 제1드레싱 부재는 연속하도록 설치된 드레싱 부재의 배열에 있어서의 최외부의 일방에 위치하고, 제2드레싱 부재는 최외부의 타방에 위치하고, 드레싱 부재의 각각의 입도는 제1드레싱 부재로부터 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아지는 것도 바람직하다.In addition, the dresser is formed by forming two or more dressing members including the first dressing member and the second dressing member so as to be continuous, and the first dressing member is located at the outermost side in the arrangement of the dressing members provided to be continuous. It is also preferable that the second dressing member is located on the other side of the outermost part, and each particle size of the dressing member becomes smaller as it is directed from the first dressing member to the second dressing member.

이에 따라 드레서가 구비하는 드레싱 부재의 각각의 입도는, 최외부의 일방에 위치하는 제1드레싱 부재로부터 최외부의 타방에 위치하는 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아지고 있다. 입도의 배열이 상기와 같은 「소-밀」 구성을 구비하는 지립 회전휠의 지립부에 대하여도, 드레싱을 한 뒤에 판재의 연삭가공을 하는 경우의 연삭가공 효율을 높일 수 있다.Thereby, each particle size of the dressing member with which a dresser is equipped becomes small as it goes to the 2nd dressing member located in the outermost part from the 1st dressing member located in the outermost one. Also in the abrasive grain part of the abrasive grain wheel in which the particle size arrangement has the above-mentioned "small-mill" structure, the grinding efficiency in the case of grinding a sheet material after dressing can be improved.

(실시예)(Example)

이하, 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명에 관한 지립 회전휠 및 연삭장치의 적합한 실시예에 대하여 상세하게 설명한다. 여기에서 동일요소에는 동일한 부호를 사용하고 중복하는 설명은 생략한다. 또한 도면의 치 수비율은 설명의 내용과 반드시 일치하지는 않고 있다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, a preferred embodiment of the abrasive wheel and the grinding device according to the present invention will be described in detail. Here, the same reference numerals are used for the same elements, and redundant descriptions are omitted. In addition, the dimension ratio of drawing does not necessarily correspond with content of description.

[제1실시예][First Embodiment]

도1은, 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공과 판재P의 각진 코너부의 연삭가공을 하는 제1실시예에 관한 연삭장치10, 20의 사시도이다. 또한 도2는, 도1의 ⅠⅠ-ⅠⅠ선에서 화살표 방향에서 본 연삭장치10의 단면도이다. 또한 도3은, 도1의 ⅠⅠⅠ-ⅠⅠⅠ선에서 화살표 방향에서 본 연삭장치10, 20의 단면도이다. 또한 도4는, 도1의 ⅠV-ⅠV선에서 화살표 방향에서 본 연삭장치10, 20의 단면도이다. 또한 도4는, 후술하는 바와 같이 연삭장치를 사용하여 연삭가공을 하는 방법을 설명하는 설명도도 겸하고 있다. 연삭장치10, 20의 각각은, 판재P를 사이에 두고 선대칭(線對稱)의 배치구조를 구비하고 있다. 이하에서는 양 장치 중에서 연삭장치10 쪽을 대표로 하여 이 구조 등에 대하여 도1∼4를 참조하면서 설명한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a perspective view of grinding devices 10 and 20 according to a first embodiment in which a chamfer grinding process of a cross section of a plate P and a angular corner portion of the plate P are performed. 2 is a sectional view of the grinding apparatus 10 as seen from the arrow direction in the line II-I of FIG. 3 is sectional drawing of the grinding apparatus 10, 20 seen from the arrow direction in the II-III line of FIG. 4 is sectional drawing of the grinding apparatus 10, 20 seen from the arrow direction in the line IV'-I 'of FIG. In addition, FIG. 4 also serves as an explanatory view for explaining a method of grinding using a grinding device as described later. Each of the grinding devices 10 and 20 has a line symmetrical arrangement structure with the plate material P therebetween. Hereinafter, the structure and the like will be described with reference to Figs.

연삭장치10은 지립 회전휠을 구비하고 있어, 이 지립 회전휠에 의하여 판재P에 대하여 상기한 연삭가공을 하는 장치이다 판재P는, 예를 들면 글라스 재료, 세라믹 재료, 실리콘 재료 등과 같이 취성재료나 수지재료로 이루어지는 판 형상의 부재이다.The grinding device 10 is provided with an abrasive wheel, and the grinding wheel is a device for performing the above-mentioned grinding processing on the plate P. The plate P is a brittle material such as a glass material, a ceramic material, a silicon material, or the like. It is a plate-shaped member made of a resin material.

연삭장치10은, 제1회전축A1 및 제2회전축A2와, 제1지립 회전휠100, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300을 구비하고 있다. 제1지립 회전휠100은 제1회전축A1에 부착되어 있고, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300은 제2회전축A2에 부착되어 있다.The grinding device 10 includes a first rotary shaft A1 and a second rotary shaft A2, a first abrasive wheel 100, a second abrasive wheel 200 and a rotary grinding tool 300. The first abrasive wheel 100 is attached to the first rotary shaft A1, the second abrasive wheel 200 and the rotary grinding tool 300 is attached to the second rotary shaft A2.

우선, 제1회전축A1 및 제2회전축A2에 대하여 설명한다. 제1회전축A1 및 제2회전축A2는, 각각의 회전축의 위치를 이동시키면서 회전시키는 것이 가능한 회전구동장치(도면에는 나타내지 않는다)에 부착되어 있다. 제1회전축A1 및 제2회전축A2는, 이 회전구동장치에 의하여 기준축선X에 대하여 서로 평행한 위치관계를 구비하면서, 서로 접근 및 이격을 할 수 있다. 여기에서 기준축선X 방향에서, 제1지립 회전휠100, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300의 설치위치는, 제1지립 회전휠의 설치위치Q1(도2 참조)이, 제2지립 회전휠의 설치위치Q2와 회전연삭공구의 설치위치Q3의 사이에 위치한다. 또한 제1회전축A1 및 제2회전축A2는, 이 회전구동장치에 의하여 회전할 수 있다. 또, 제1회전축A1이 회전방향C1(예를 들면 도3에 나타나 있는 바와 같이 시계방향)의 방향으로 회전하는 경우에는, 제2회전축A2는 회전방향C2(도3에 나타나 있는 바와 같이 반시계방향)의 방향으로 회전한다. 즉 제1회전축A1 및 제2회전축A2는 서로 역의 회전방향으로 내측을 향하여 회전한다. 판재P는, 제1회전축A1 측의 제1지립 회전휠100과, 제2회전축A2 측의 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300에 끼워져 있는 상태에서 연삭가공 된다.First, the first rotating shaft A1 and the second rotating shaft A2 will be described. The 1st rotation shaft A1 and the 2nd rotation shaft A2 are attached to the rotation drive apparatus (not shown) which can be rotated, moving the position of each rotation shaft. The first rotary shaft A1 and the second rotary shaft A2 can approach and be spaced apart from each other while having a positional relationship parallel to each other with respect to the reference axis X by this rotary drive device. Here, in the reference axis X direction, the installation position of the first abrasive wheel 100, the second abrasive wheel 200, and the rotary grinding tool 300 is the installation position Q1 (see Fig. 2) of the first abrasive wheel; It is located between the installation position Q2 of the rotary wheel and the installation position Q3 of the rotary grinding tool. The first rotary shaft A1 and the second rotary shaft A2 can be rotated by this rotary drive device. In addition, when the first rotation shaft A1 rotates in the direction of the rotation direction C1 (for example, clockwise as shown in FIG. 3), the second rotation shaft A2 is counterclockwise as shown in FIG. Direction). That is, the first rotary shaft A1 and the second rotary shaft A2 rotate inward in the rotational direction opposite to each other. The board member P is ground in a state of being sandwiched between the first abrasive wheel 100 on the first rotary shaft A1, the second abrasive wheel 200 on the second rotary shaft A2, and the rotary grinding tool 300.

다음에 제1지립 회전휠100에 대하여 설명한다. 제1지립 회전휠100은, 휠부110과 지립부120을 구비하고 있다.Next, the first abrasive wheel 100 will be described. The first abrasive wheel 100 includes a wheel part 110 and an abrasive part 120.

도5(a)는, 제1지립 회전휠100을 포함하는 연삭체190의 일례의 단면 구조도이다. 또한 도5(b)는 지립부120의 단면 구조도이다.5A is a cross-sectional structural view of an example of a grinding body 190 including a first abrasive wheel 100. FIG. 5 (b) is a cross-sectional structure diagram of the abrasive grain portion 120.

우선, 휠부110에 대하여 도5(a)를 참조하면서 설명한다. 휠부110은, 플랜지부141을 구비하는 베어링140으로 관통되고, 베어링140이 지지하는 제1회전축A1을 중심으로 하여 회전 가능한 스테인레스(SUS)제의 원반(圓盤)이다. 베어링140은, 알루마이트(alumite) 처리된 Al합금으로 이루어지고 대략 원통 형상을 구비하고 있고, 제1회전축A1을 지지한다. 또한 휠부110과 플랜지부141의 사이에는 스페이서130이 위치하고 있다. 휠부110, 스페이서130 및 플랜지부141에 순차적으로 육각 구멍 접시머리 작은 나사150이 나사결합 함으로써, 휠부110 및 플랜지부141이 고정되어 있다. 여기에서 연삭체190의 치수에 대하여 그 일례를 이하에 나타낸다. 베어링140이 제1회전축A1을 지지하는 부분의 지름은 42mm이다. 또한 베어링140의 높이는 71mm이다. 또한 플랜지부141의 지름은 80mm이다. 또한 제1지립 회전휠100의 지름은 130mm이다. 또한 지립부120의 축방향의 길이는 24mm이다. 또한 지립부120의 두께(즉 휠부110의 반경방향의 길이)는 6mm이다.First, the wheel unit 110 will be described with reference to Fig. 5A. The wheel part 110 penetrates through the bearing 140 provided with the flange part 141, and is a disk made of stainless steel (SS) which can rotate around the 1st rotating shaft A1 which the bearing 140 supports. The bearing 140 is made of an aluminum alloy treated with an alumite, has a substantially cylindrical shape, and supports the first rotating shaft A1. The spacer 130 is positioned between the wheel portion 110 and the flange portion 141. The wheel portion 110 and the flange portion 141 are fixed by screwing the hexagon socket head cap screw 150 sequentially into the wheel portion 110, the spacer 130, and the flange portion 141. Here, an example is shown below about the dimension of the grinding body 190. The diameter of the portion where the bearing 140 supports the first rotating shaft A1 is 42 mm. The height of the bearing 140 is 71 mm. In addition, the diameter of the flange part 141 is 80 mm. In addition, the diameter of the first abrasive wheel 100 is 130mm. The length of the abrasive grain 120 in the axial direction is 24 mm. In addition, the thickness of the abrasive grain 120 (that is, the radial length of the wheel portion 110) is 6 mm.

다음에 지립부120에 대하여 도5(b)를 참조하면서 설명한다. 지립부120은, 입도가 서로 다른 5층의 지립층121, 124, 122, 125, 123이 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지는 부분이다. 여기에서 「입도(粒度)」라고 함은, 지립의 크기의 범위를 규정하는 단위이다(예를 들면 JⅠSB4130, JⅠSR6001을 참조). 본 명세서에서는, 입도가 작게 될 수록 지립이 통과해야 만 하는 시험용 체의 눈의 치수가 작아지는 것을 나타낸다. 또, 지립부120은, 2층 이상의 지립층으로 구성되어 있으면 특별하게 한정되지 않는다. 더 상세하게는, 지립부120은, 제1지립층121, 중간 지립층 124, 제2지립층122, 중간 지립층125 및 제3지립층123을 포함하는 5층의 지립층이, 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서(예를 들면 전착(電着)에 의하여 붙여진) 이루어진다. 또, 지립부120은, 중간 지립층124, 125를 구비하지 않고 있어도 좋다. 여기에서 지립층121, 124, 122, 125, 123의 각각에 포함되는 지립으로서는, 초지립(超砥粒)인 것이 바람직하여 예를 들면 다이아몬드나 CBN(입방정 질화붕소(立方晶窒化硼素)) 등을 들 수 있다.Next, the abrasive grain portion 120 will be described with reference to Fig. 5B. The abrasive grain portion 120 is a portion formed by sequentially forming five abrasive grain layers 121, 124, 122, 125, and 123 having different particle sizes in the first rotation axis A1 direction. Here, "particle size" is a unit which prescribes the range of the magnitude | size of an abrasive grain (for example, refer to GBS4130, GBSR6001). In the present specification, the smaller the particle size, the smaller the size of the eye of the test sieve through which the abrasive grain must pass. Moreover, if the abrasive grain part 120 is comprised from two or more abrasive grain layers, it will not specifically limit. More specifically, the abrasive part 120 includes five abrasive layers including a first abrasive layer 121, an intermediate abrasive layer 124, a second abrasive layer 122, an intermediate abrasive layer 125, and a third abrasive layer 123. It is formed sequentially in the direction A1 (for example, attached by electrodeposition). In addition, the abrasive grain part 120 may not be equipped with the intermediate abrasive grain layers 124 and 125. Here, as the abrasive grains contained in the abrasive layer 121, 124, 122, 125, and 123, it is preferable that they are super abrasive grains, for example, diamond, CuN (cubic boron nitride), etc. Can be mentioned.

여기에서 제1지립층121은, 제1회전축A1의 배열에 있어서의 최외층의 일방의 층126(즉 지립부120의 일방의 면을 구비하는 층)에 위치하고 있다. 또한 제3지립층123은, 이 최외층의 타방의 층127(즉 지립부120의 타방의 면을 구비하는 층)에 위치하고 있다. 또, 제1지립층121, 중간 지립층124, 제2지립층122, 중간 지립층125 및 제3지립층123의 각각의 지립의 번수(番手)는, #400, #500, #600, #500 및 #400이다. 즉 지립부120이 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 상기한 최외층의 일방의 층126에 위치하는 제1지립층121로부터 제2지립층122를 향함에 따라 작아지고 있다. 마찬가지로, 상기한 최외층의 타방의 층127에 위치하는 제3지립층123으로부터 제2지립층122를 향함에 따라 작아지고 있다.Here, the 1st abrasive grain layer 121 is located in one layer 126 (namely, the layer provided with one surface of the abrasive grain part 120) of the outermost layer in the 1st rotation axis A1 arrangement. The third abrasive layer 123 is located at the other layer 127 (that is, the layer having the other surface of the abrasive grain 120) of the outermost layer. The number of abrasive grains of the first abrasive layer 121, the intermediate abrasive layer 124, the second abrasive layer 122, the intermediate abrasive layer 125, and the third abrasive layer 123 is 400, 400, 600 and 600, respectively. 500 and 400. That is, each particle size of the abrasive grain layer which the abrasive grain part 120 has has become small as it goes to the 2nd abrasive grain layer 122 from the 1st abrasive grain layer 121 located in one layer 126 of the outermost layer. Similarly, it becomes smaller as it goes to the 2nd abrasive grain layer 122 from the 3rd abrasive grain layer 123 located in the other layer 127 of the outermost layer mentioned above.

또, 제1지립층121은, 지립부120의 일방의 면(面) 측으로 제1경사면121F를 구비하고 있다. 마찬가지로, 제3지립층123은, 지립부120의 타방의 면 측으로 제2경사면123F를 구비하고 있다. 제1경사면121F 및 제2경사면123F의 각각은, 제2지립층122 측을 향하여 외경이 커지도록 경사져 있고, 휠부110 의 제1회전축A1에 대하여 45도의 각도를 구비하고 있는 경사면이다. 또한 이들의 경사면의 각도는, 1∼89도이라면 특별하게 한정되지 않아, 예를 들면 30도라도 좋고 85도라도 좋다.Moreover, the 1st abrasive grain layer 121 is equipped with the 1st inclined surface 121F in the one surface side of the abrasive grain part 120. As shown in FIG. Similarly, the third abrasive grain layer 123 is provided with the second inclined surface 123F on the other surface side of the abrasive grain portion 120. Each of the first inclined surface 121F and the second inclined surface 123F is inclined so as to increase the outer diameter toward the second abrasive layer 122 side, and is an inclined surface having an angle of 45 degrees with respect to the first rotating shaft A1 of the wheel part 110. Moreover, if the angle of these inclined surfaces is 1-89 degree, it will not specifically limit, For example, it may be 30 degree or 85 degree.

여기에서 지립부120의 치수에 대하여 그 일례를 이하에 나타낸다. 제1지립층121, 중간 지립층124, 제2지립층122, 중간 지립층125 및 제3지립층123의 각각의 축방향의 최장길이는, 6mm, 3mm, 6mm, 3mm 및 6mm이다. 또한 제1경사면121F 및 제2경사면123F의 각각의 축방향의 길이는 3mm이다. 또한 제2지립층122는 제1회전축A1 방향에 있어서 중간에 위치하는 층인 중간층122C를 구비하고 있고, 이 중간층122C의 축방향의 길이는 2mm이다. 또한 중간층122C로부터 지립부120의 일방의 층126까지의 최단 거리와, 중간층122C로부터 지립부120의 타방의 층127까지의 최단 거리는 각각 11mm이다. 또한 중간층122C의 각진 코너부에서부터 지립부120의 일방의 층126 및 타방의 층127을 향하여 1도 30분의 제3경사면125F가 형성되어 있다. 또한 제3경사면125F가 형섬됨으로써 제3경사면125F와 최초로 접촉하는 판재P의 일단으로부터의 연삭가공의 시작이 용이하도록 되어 있다. 또한 제1지립층121에 있어서, 제3경사면125F와 제1경사면121F는, 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면에 의하여 접속되어 있고, 이 원호의 곡률반경은 3mm이다.Here, an example is shown below about the dimension of the abrasive grain part 120. FIG. The longest length of each of the first abrasive layer 121, the intermediate abrasive layer 124, the second abrasive layer 122, the intermediate abrasive layer 125, and the third abrasive layer 123 is 6 mm, 3 mm, 6 mm, 3 mm, and 6 mm. The length of each of the first inclined plane 121F and the second inclined plane 123F in the axial direction is 3 mm. The second abrasive layer 122 is provided with an intermediate layer 122C which is a layer located in the middle in the direction of the first rotation axis A1, and the length of the intermediate layer 122C in the axial direction is 2 mm. The shortest distance from the intermediate layer 122C to one layer 126 of the abrasive grain 120 and the shortest distance from the intermediate layer 122C to the other layer 127 of the abrasive grain 120 are 11 mm, respectively. Further, a third inclined plane 125F for 1 degree 30 is formed from the angled corner portion of the intermediate layer 122C toward one layer 126 and the other layer 127 of the abrasive grain 120. Further, since the third inclined surface 125F is shaped, it is easy to start grinding from one end of the plate P first contacting the third inclined surface 125F. In the first abrasive layer 121, the third inclined plane 125F and the first inclined plane 121F are connected by a curved surface formed by rotating an arc, and the radius of curvature of the arc is 3 mm.

다음에 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300에 대하여 설명한다. 제2지립 회전휠200은, 휠부210과 지립부220을 구비하고 있다. 또한 회전연삭공구300은, 휠부310과 지립이 형성되어 있는 지립부320을 구비하고 있다.Next, the second abrasive wheel 200 and the rotary grinding tool 300 will be described. The second abrasive grain wheel 200 includes a wheel portion 210 and an abrasive grain portion 220. Further, the rotary grinding tool 300 includes an abrasive grain portion 320 in which a wheel portion 310 and abrasive grains are formed.

도6(a)는, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300을 포함하는 연삭체290의 일례의 구조 단면도이다. 또한 도6(b)는, 지립부220 및 지립부320의 구조 단면도이다.6A is a structural cross-sectional view of an example of a grinding body 290 including a second abrasive wheel 200 and a rotary grinding tool 300. FIG. 6 (b) is a cross-sectional view of the abrasive grain portion 220 and the abrasive grain portion 320.

우선, 휠부210 및 휠부310에 대하여 도6(a)를 참조하면서 설명한다. 휠부210 및 휠부310의 각각은, 플랜지부241을 구비하는 베어링240으로 관통되고, 베어링240이 지지하는 제2회전축A2를 중심으로 하여 회전 가능한 원반이다. 베어링240은 대략 원통 형상을 구비하고 있고, 제2회전축A2를 지지한다. 또한 휠부210과 휠부310의 사이에는 스페이서230이 위치하고 있다. 휠부310, 스페이서230, 휠부210 및 플랜지부241에 순차적으로 육각 구멍 접시머리 작은 나사250이 나사결합 함으로써, 휠부210 및 휠부310과 플랜지부241이 고정되어 있다.First, the wheel portion 210 and the wheel portion 310 will be described with reference to Fig. 6A. Each of the wheel portion 210 and the wheel portion 310 is a disk which penetrates through a bearing 240 having a flange portion 241 and is rotatable about a second rotation shaft A2 supported by the bearing 240. The bearing 240 has a substantially cylindrical shape, and supports the second rotating shaft A2. In addition, a spacer 230 is positioned between the wheel portion 210 and the wheel portion 310. The wheel part 210, the wheel part 310, and the flange part 241 are fixed by screwing the hexagonal countersunk head screw 250 into the wheel part 310, the spacer 230, the wheel part 210, and the flange part 241 sequentially.

여기에서 연삭체290의 치수에 대하여 그 일례를 이하에 나타낸다. 베어링240이 제2회전축A2를 지지하는 부분의 지름은 42mm이다. 또한 베어링240의 높이는 71mm이다. 또한 플랜지부241의 지름은 80mm이다. 또한 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300의 각각의 지름은 130mm이다. 또한 지립부220 및 지립부320의 각각의 축방향의 길이는 14mm이다. 또한 지립부220과 지립부320 사이의 거리는 26mm이다. 또한 지립부220 및 지립부320의 각각의 두께(즉 휠부210의 반경방향의 길이)는 3mm이다.Here, an example is shown below about the dimension of the grinding body 290. The diameter of the part where the bearing 240 supports the second rotating shaft A2 is 42 mm. The height of the bearing 240 is 71 mm. The diameter of the flange portion 241 is 80 mm. In addition, each of the diameters of the second abrasive wheel 200 and the rotary grinding tool 300 is 130 mm. The length of each of the abrasive grains 220 and the abrasive grains 320 in the axial direction is 14 mm. In addition, the distance between the abrasive grain 220 and the abrasive grain 320 is 26 mm. In addition, each of the abrasive grains 220 and the abrasive grains 320 has a thickness of 3 mm (ie, the radial length of the wheel portion 210).

다음에 지립부220 및 지립부320에 대하여 도6(b)를 참조하면서 설명한다.Next, the abrasive part 220 and the abrasive part 320 will be described with reference to Fig. 6B.

지립부220 및 지립부320은, 상기한 스페이서230을 사이에 두고 선대칭의 배치구조를 구비하고 있다. 이하에서는 양 지립부 중에서 지립부220 쪽을 대표로 하여 이 구조 등에 대하여 설명한다. 지립부220은, 입도가 서로 다른 3층의 지립층221, 222, 223이 제2회전축A2 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지는 부분이다. 지립층221, 222, 223의 각각의 지립의 번수는, #400, #500 및 #600이다.The abrasive grain portion 220 and the abrasive grain portion 320 have a line symmetrical arrangement structure with the spacer 230 interposed therebetween. Hereinafter, the structure and the like will be described with representative part 220 of the abrasive grains. The abrasive grain portion 220 is a portion formed by sequentially forming three abrasive grain layers 221, 222, and 223 having different particle sizes in the second rotation axis A2 direction. The number of abrasive grains of the abrasive layers 221, 222, and 223 is # 400, # 500 and # 600, respectively.

여기에서 지립부220의 치수에 대하여 그 일례를 이하에 나타낸다. 지립층221, 222, 223의 각각의 축방향의 최장의 길이는 6mm, 3mm 및 5mm이다. 또한 지립층223에 있어서 스페이서230 측의 코너부는 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면으로 되어 있고, 이 원호의 곡률반경은 0.5mm이다. 또한 지립층223에 있어서 스페이서230 측의 면으로부터 3mm의 위치로부터 지립부220의 일방의 면을 향하여 1도 30분의 제4경사면221F가 형성되어 있다. 또, 제4경사면221F가 형성되어 있음으로써 제4경사면221F와 최초에 접촉하는 판재P의 일단으로부터의 연삭가공의 시작이 용이하도록 되어 있다. 또한 지립부220의 이 일방의 면 측의 코너부는 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면으로 되어 있고, 이 원호의 곡률반경은 0.5mm이다.Here, an example is shown below about the dimension of the abrasive grain part 220. FIG. The longest lengths in the axial directions of the abrasive layers 221, 222, and 223 are 6 mm, 3 mm, and 5 mm, respectively. In the abrasive layer 223, the corner portion on the spacer 230 side is a curved surface formed by rotating an arc, and the radius of curvature of the arc is 0.5 mm. In the abrasive layer 223, a fourth inclined surface 221F for 1 degree 30 minutes is formed from the position of 3 mm from the surface on the spacer 230 side toward one surface of the abrasive grain 220. Moreover, since the 4th inclined surface 221F is formed, it becomes easy to start grinding from the one end of the board | plate material P which contacts the 4th inclined surface 221F for the first time. Moreover, the corner part of this one surface side of the abrasive grain part 220 is a curved surface formed by rotating a circular arc, and the radius of curvature of this circular arc is 0.5 mm.

다음에 연삭장치10, 20을 사용하여 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공과, 판재P의 각진 코너부의 연삭가공을 하는 방법에 대하여 도4, 7 및 8을 참조하면서 설명한다. 여기에서는, 판재P는 직사각형이라고 하여 설명하지만, 판재P의 형상은 특별하게 한정되지 않고, 예를 들면 정사각형이더라도 좋다. 판재P에 있어서 긴 쪽의 변을 구비하는 단면을 단면P1, P2라 하고, 짧은 쪽의 변을 구비하는 단면을 단면P3, P4라고 한다. 또한 판재P의 연삭가공은, 연삭장치10, 20을 사용하여 하는 것으로 한다.Next, the chamfer grinding processing of the cross section of the board | plate material P and the grinding process of the angular corner part of the board | plate material P using the grinding devices 10 and 20 are demonstrated, referring FIGS. 4, 7, and 8. FIG. Although the board | substrate P is demonstrated here as a rectangle, the shape of the board | plate material P is not specifically limited, For example, it may be square. In the board | plate material P, the cross section which has a long side is called cross section P1, P2, and the cross section which has a short side is called cross section P3, P4. In addition, the grinding processing of the board | plate material P shall be performed using the grinding apparatus 10,20.

도4는, 단면P1, P2를 연마하는 방법을 설명하는 설명도이고, 도7은, 단면P3, P4의 모떼기 연삭가공을 하는 방법을 설명하는 설명도이며, 도8은, 판재P의 각진 코너부의 연삭가공을 하는 방법을 설명하는 설명도이다.4 is an explanatory diagram for explaining a method for polishing the end faces P1, P2, and FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining a method for chamfering grinding the end faces P3, P4, and FIG. 8 is an angle of the plate P. FIG. It is explanatory drawing explaining the method of grinding the corner part.

우선, 단면P1, P2를 연마하는 방법에 대하여 도4를 참조하면서 설명한다. 연삭장치10, 20의 각각은 판재P를 사이에 두고 선대칭의 배치구조를 구비하고 있다. 즉 연삭장치10의 제1회전축A1과 연삭장치20의 제1회전축B1이 평행하게 되도록 설치되어 있다. 그리고 판재P가 연삭장치10, 20에 의하여 끼워져 있는 상태에서 단면P1, P2의 연삭을 한다. 더 상세하게는, 단면P1은 연삭장치10에 의하여 연마되고, 단면P2는 연삭장치20에 의하여 연마된다. 연삭장치10에 있어서는, 제1지립 회전휠100, 제2지립 회전휠200및 회전연삭공구300의 각각을 회전시킨 상태에서, 제1회전축A1 및 제2회전축A2의 각각을 접근 및 이격시켜, 제1지립 회전휠100과 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300의 사이에서 판재P를 에워싸면서 판재P의 단면P1 측의 모떼기 연삭가공이 이루어진다.First, a method of polishing the end faces P1 and P2 will be described with reference to FIG. Each of the grinding devices 10 and 20 has a line symmetrical arrangement structure with the plate material P therebetween. That is, it is provided so that the 1st rotating shaft A1 of the grinding apparatus 10 and the 1st rotating shaft B1 of the grinding apparatus 20 may become parallel. Then, the sheet P is ground in the state where the plate P is sandwiched by the grinding devices 10 and 20. More specifically, the end face P1 is polished by the grinding device 10 and the end face P2 is polished by the grinding device 20. In the grinding apparatus 10, while rotating each of the 1st abrasive wheel 100, the 2nd abrasive wheel 200, and the rotary grinding tool 300, each of the 1st rotating shaft A1 and the 2nd rotating shaft A2 is approached and spaced apart, The chamfering grinding is performed on the end face P1 of the plate P while surrounding the plate P between the first abrasive wheel 100 and the second abrasive wheel 200 and the rotary grinding tool 300.

마찬가지로 연삭장치20에 있어서는, 제1지립 회전휠400, 제2지립 회전휠500 및 회전연삭공구600의 각각을 회전시킨 상태에서, 제1회전축B1 및 제2회전축B2의 각각을 접근 및 이격시켜, 제1지립 회전휠400과 제2지립 회전휠 500 및 회전연삭공구600의 사이에서 판재P를 에워싸면서 판재P의 단면P2 측의 모떼기 연삭가공이 이루어진다. 이러한 연삭가공이 이루어지고 있는 상태에서, 판재P를 지지하여 이동시키는 지지이동장치(도면에는 나타내지 않는다)를 사용하여 판재P를 제1회전축A1, B1의 축방향(즉 백화살표의 방향)으로 더 이동시킨다. 이렇게 함으로써 판재P의 단면P1, P2의 각각의 일단에서부터 타단까지 동시에 효율적으로 연삭할 수 있다.Similarly, in the grinding apparatus 20, while each of the first abrasive wheel 400, the second abrasive wheel 500, and the rotary grinding tool 600 are rotated, the first rotary shaft B1 and the second rotary shaft B2 are approached and spaced apart, The chamfering grinding of the cross section P2 of the plate P is made while enclosing the plate P between the first abrasive wheel 400, the second abrasive wheel 500, and the rotary grinding tool 600. In the state where such grinding is performed, the plate P is further moved in the axial direction of the first rotary shafts A1 and B1 (that is, the direction of the arrow) by using a support moving device (not shown in the drawing) that supports and moves the plate P. Move it. By doing in this way, it can grind efficiently from the one end to the other end of the end surface P1 and P2 of the board | plate material P simultaneously.

다음에 단면P3, P4를 연마하는 방법에 대하여 도7을 참조하면서 설명한다. 상기한 단면P1, P2의 연삭가공의 종료 후에, 제1회전축A1, B1을, 단면P3과 단면P4 사이의 거리 이상으로 서로 이격시킨다. 그리고 상기한 지지이동장치를 사용하여 도7에 나타나 있는 바와 같이 판재P를, 예를 들면 도7에 있어서의 시계방향의 방향으로 90도의 각도로 회전시킨다. 다시 제1회전축A1, B1을 서로 접근시켜, 단면P3을 연삭장치10에 의하여 연마하고, 단면P4를 연삭장치20에 의하여 연마한다. 이에 따라 제1지립 회전휠100과 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300의 사이에서 판재P를 에워싸면서, 판재P의 단면P3 측의 모떼기 연삭가공이 이루어진다. 마찬가지로, 제1지립 회전휠400과 제2지립 회전휠500 및 회전연삭공구600의 사이에서 판재P를 에워싸면서, 판재P의 단면P4 측의 모떼기 연삭가공이 이루어진다. 이러한 연삭가공이 이루어지고 있는 상태에서, 판재P를 제1회전축A1, B1의 축방향(즉 흑화살표의 방향)으로 더 이동시킨다. 이렇게 함으로써 판재P의 단면P3, P4의 각각의 일단으로부터 타단까지 동시에 효율적으로 연삭할 수 있다.Next, a method of grinding the end faces P3 and P4 will be described with reference to FIG. After completion of the grinding of the end faces P1 and P2, the first rotary shafts A1 and B1 are spaced apart from each other by more than a distance between the end faces P3 and the end faces P4. Then, as shown in Fig. 7, the plate P is rotated at an angle of 90 degrees in the clockwise direction in Fig. 7, for example, by using the above-described support moving device. The first rotary shafts A1 and B1 are brought closer to each other, the end face P3 is polished by the grinding device 10, and the end face P4 is polished by the grinding device 20. Thereby, while enclosing the board | plate material P between the 1st abrasive wheel 100, the 2nd abrasive wheel 200, and the rotary grinding tool 300, the chamfer grinding process of the cross section P3 side of the board material P is performed. Similarly, chamfering grinding is performed on the end face P4 side of the plate P while surrounding the plate P between the first abrasive wheel 400 and the second abrasive wheel 500 and the rotary grinding tool 600. In such a state of grinding processing, the plate P is further moved in the axial direction of the first rotary shafts A1 and B1 (that is, the direction of the black arrow). By doing in this way, it can grind efficiently from the one end to the other end of the end surface P3, P4 of the board | plate material P simultaneously.

다음에 판재P의 각진 코너부를 연마하는 방법에 대하여 도8을 참조하면서 설명한다. 상기한 단면P3, P4의 연삭가공이 종료한 상태에서, 제1회전축A1, B1을, 단면P3과 단면P4의 사이의 거리보다 약간 짧은 거리까지 서로 접근시킨다. 이 접근거리는 코너부의 원하는 가공치수에 의하여 결정된다. 이에 따라 지립 회전휠100, 200, 400, 500과 회전연삭공구300, 600을 판재P 측에 더 근접시킬 수 있다. 그리고 상기한 지지이동장치를 사용하여 도8에 나타나 있는 바와 같이 판재P를, 제1회전축A1, B1의 축방향(즉 백화살표의 방향)을 따라 이동시킨다. 이렇게 하여 판재P의 2개의 코너부의 각각에 제1경사면121F 또는 제2경사면123F를 접촉시켜서 판재P를 연마할 때에, 휠부110의 회전축 방향(즉 제1회전축A1, B1의 축방향)을 따라 판재P를 제1지립 회전휠100, 400을 향하여 이동시킴으로써 판재P의 각진 2개의 코너부의 각각을 동시에 효율적으로 연삭가공 할 수 있다.Next, a method of polishing the corner corners of the plate P will be described with reference to FIG. In the state in which the above-mentioned grinding processing of the end surfaces P3 and P4 is finished, the first rotary shafts A1 and B1 are brought close to each other to a distance slightly shorter than the distance between the end surfaces P3 and P4. This approach distance is determined by the desired machining dimensions of the corners. Accordingly, it is possible to bring the abrasive wheels 100, 200, 400, and 500 and the rotary grinding tools 300 and 600 closer to the sheet P side. As shown in Fig. 8, the plate shifter P is moved along the axial directions of the first rotary shafts A1 and B1 (that is, the direction of the white arrow) using the above-described support moving device. In this way, when polishing the plate P by contacting each of the two corner portions of the plate P with the first inclined surface 121F or the second inclined surface 123F, the plate along the rotation axis direction of the wheel portion 110 (that is, the axial directions of the first rotation shafts A1 and B1). By moving P toward the first abrasive wheels 100 and 400, it is possible to efficiently grind each of the two angled corner portions of the plate P simultaneously.

[제2실시예]Second Embodiment

도9(a)는, 제2실시예에 관한 연삭장치가 구비하는, 제1지립 회전휠700을 포함하는 연삭체790의 일례의 구조 단면도이다. 제1지립 회전휠700은, 휠부710과 지립부720을 구비하고 있다. 또한 도9(b)는 지립부720의 구조 단면도이다. 또, 제2실시예에 관한 연삭장치는, 제1회전축A1 및 제2회전축A2와, 제1지립 회전휠700, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구900을 구비하고 있다. 제1지립 회전휠700은 제1회전축A1에 부착되어 있고, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구900은 제2회전축A2에 부착되어 있다.Fig. 9A is a structural cross sectional view of an example of the grinding body 790 including the first abrasive wheel 700 which the grinding apparatus according to the second embodiment includes. The first abrasive grain wheel 700 includes a wheel portion 710 and an abrasive grain portion 720. 9 (b) is a structural cross-sectional view of the abrasive grain 720. In addition, the grinding apparatus according to the second embodiment includes a first rotary shaft A1 and a second rotary shaft A2, a first abrasive wheel 700, a second abrasive wheel 200 and a rotary grinding tool 900. The first abrasive wheel 700 is attached to the first rotary shaft A1, the second abrasive wheel 200 and the rotary grinding tool 900 is attached to the second rotary shaft A2.

우선, 휠부710에 대하여 도9(a)를 참조하면서 설명한다. 휠부710은, 플랜지부141을 구비하는 베어링140으로 관통되고, 베어링140이 지지하는 제1회전축A1을 중심으로 하여 회전 가능한 원반이다. 여기에서 연삭체790의 치수에 대하여 그 일례를 이하에 나타낸다. 지립부720의 축방향의 길이는 20mm이다. 또한 지립부720의 두께(즉 휠부710의 반경방향의 길이)는 6mm이다.First, the wheel portion 710 will be described with reference to Fig. 9A. The wheel part 710 penetrates through the bearing 140 provided with the flange part 141, and is a disk which can be rotated centering around the 1st rotating shaft A1 which the bearing 140 supports. Here, an example is shown below about the dimension of the grinding body 790. The length of the abrasive grain 720 in the axial direction is 20 mm. In addition, the thickness of the abrasive grain 720 (ie, the radial length of the wheel portion 710) is 6 mm.

다음에 지립부720에 대하여 도9(b)를 참조하면서 설명한다. 지립부720은, 입도가 서로 다른 4층의 지립층721, 724, 722, 723이 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지는 부분이다. 더 상세하게는, 지립부720은, 제1지립층721, 중간 지립층724, 제2지립층722및 제3지립층723으로 이루어지는 4층의 지립층이 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서(예를 들면 접합되어서) 이루어진다.Next, the abrasive grain 720 will be described with reference to Fig. 9B. The abrasive grain portion 720 is a portion formed by sequentially forming four abrasive grain layers 721, 724, 722, and 723 having different particle sizes in the first rotation axis A1 direction. More specifically, in the abrasive part 720, four abrasive layers composed of the first abrasive layer 721, the intermediate abrasive layer 724, the second abrasive layer 722, and the third abrasive layer 723 are sequentially formed in the direction of the first axis of rotation A1. (For example by joining).

여기에서 제1지립층721은, 제1회전축A1의 배열에 있어서의 최외층의 일방의 층726(즉 지립부720의 일방의 면을 구비하는 층)에 위치하고 있다. 또한 제3지립층723은, 이 최외층의 타방의 층727(즉 지립부720의 타방의 면을 구비하는 층)에 위치하고 있다. 또한 제1지립층721, 중간 지립층724, 제2지립층722 및 제3지립층723의 각각의 지립의 번수는, #400, #500, #600 및 #500이다.Here, the 1st abrasive grain layer 721 is located in one layer 726 (namely, the layer provided with one surface of the abrasive grain part 720) of the outermost layer in the 1st rotation axis A1 arrangement. The third abrasive layer 723 is located at the other layer 727 (that is, the layer having the other surface of the abrasive grain 720) of the outermost layer. The number of abrasive grains of the first abrasive layer 721, the intermediate abrasive layer 724, the second abrasive layer 722, and the third abrasive layer 723 is # 400, # 500, # 600, and # 500, respectively.

또, 제1지립층721은, 지립부720의 일방의 면(面) 측에 제1경사면721F를 구비하고 있다. 마찬가지로, 제3지립층723은, 지립부720의 타방의 면 측에 제2경사면723F를 구비하고 있다. 제1경사면721F 및 제2경사면723F의 각 각은, 제2지립층722 측을 향하여 외경이 커지도록 경사져 있고, 휠부710의 제1회전축A1에 대하여 45도의 각도를 구비하고 있는 경사면이다.Moreover, the 1st abrasive grain layer 721 is equipped with the 1st inclined surface 721F in the one surface side of the abrasive grain part 720. As shown in FIG. Similarly, the third abrasive grain layer 723 is provided with the second inclined surface 723F on the other surface side of the abrasive grain portion 720. Each angle of the 1st inclined surface 721F and the 2nd inclined surface 723F is inclined so that an outer diameter may become large toward the 2nd abrasive grain layer 722 side, and is an inclined surface which has an angle of 45 degrees with respect to the 1st rotating shaft A1 of the wheel part 710. As shown in FIG.

여기에서 지립부720의 치수에 대하여 그 일례를 이하에 나타낸다. 제1지립층721, 중간 지립층724, 제2지립층722 및 제3지립층723의 각각의 축방향의 최장 길이는, 6mm, 3mm, 6mm 및 5mm이다. 또한 제1경사면721F 및 제2경사면723F의 각각의 축방향의 길이는 3mm이다. 또한 제2지립층722는 제1회전축A1 방향에 있어서 중간에 위치하는 층인 중간층722C를 구비하고 있고, 이 중간층722C의 축방향의 길이는 2mm이다. 또한 중간층722C로부터 지립부720의 타방의 면까지의 최단 거리는 7mm이다. 또한 중간층722C의 각진 코너부에서부터 지립부720의 일방의 층726 및 타방의 층727을 향하여, 1도 30분의 제3경사면725F가 형성되어 있다. 또한 제1지립층721에 있어서 제3경사면725F와 제1경사면721F는, 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면에 의하여 접속되어 있고, 이 원호의 곡률반경은 3mm이다.Here, an example is shown below about the dimension of the abrasive grain part 720. FIG. The longest lengths in the axial directions of the first abrasive layer 721, the intermediate abrasive layer 724, the second abrasive layer 722, and the third abrasive layer 723 are 6 mm, 3 mm, 6 mm, and 5 mm, respectively. In addition, the length of each axial direction of the 1st inclined surface 721F and the 2nd inclined surface 723F is 3 mm. The second abrasive layer 722 is provided with an intermediate layer 722C which is a layer located in the middle in the first rotation axis A1 direction, and the length of the intermediate layer 722C in the axial direction is 2 mm. The shortest distance from the middle layer 722C to the other side of the abrasive grain 720 is 7 mm. Further, a third inclined surface 725F for 1 degree 30 is formed from the angled corner portion of the intermediate layer 722C toward one layer 726 and the other layer 727 of the abrasive grain 720. In the first abrasive layer 721, the third inclined surface 725F and the first inclined surface 721F are connected by a curved surface formed by rotating an arc, and the radius of curvature of the arc is 3 mm.

다음에 회전연삭공구900에 대하여 설명한다. 회전연삭공구900은, 휠부910과 지립이 형성되어 있는 지립부920을 구비하고 있다.Next, the rotary grinding tool 900 will be described. The rotary grinding tool 900 includes an abrasive grain portion 920 in which a wheel portion 910 and abrasive grains are formed.

도10(a)는, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구900을 포함하는 연삭체890의 일례의 구조 단면도이다. 또한 도10(b)는 지립부220 및 지립부920의 구조 단면도이다.10A is a structural cross-sectional view of an example of a grinding body 890 including a second abrasive wheel 200 and a rotary grinding tool 900. FIG. 10 (b) is a cross sectional view of the abrasive grain 220 and the abrasive grain 920.

우선, 휠부910에 대하여 도10(a)를 참조하면서 설명한다. 휠부910은, 플랜지부241을 구비하는 베어링240으로 관통되고, 베어링240이 지지하는 제2 회전축A2를 중심으로 하여 회전 가능한 원반이다. 휠부910과 휠부210의 사이에는 스페이서230이 위치하고 있다. 휠부910, 스페이서230, 휠부210 및 플랜지부241에 순차적으로 육각 구멍 접시머리 작은 나사250이 나사결합 함으로써, 휠부910 및 휠부210과 플랜지부241이 고정되어 있다.First, the wheel portion 910 will be described with reference to Fig. 10A. The wheel part 910 penetrates through the bearing 240 provided with the flange part 241, and is a disk which can be rotated centering on the 2nd rotating shaft A2 which the bearing 240 supports. The spacer 230 is positioned between the wheel portion 910 and the wheel portion 210. The wheel part 910, the wheel part 210, and the flange part 241 are fixed by screwing the hexagonal hole flat head screw 250 sequentially to the wheel part 910, the spacer 230, the wheel part 210, and the flange part 241.

여기에서 연삭체890의 지립부920의 치수에 대하여, 그 일례를 이하에 나타낸다. 지립부920의 축방향의 길이는 3mm이다. 또한 지립부920과 지립부220의 사이의 거리는 22mm이다. 또한 지립부920의 두께(즉 휠부910의 반경방향의 길이)는 3mm이다.Here, an example is shown about the dimension of the abrasive grain part 920 of the grinding body 890 here. The length of the abrasive grains 920 in the axial direction is 3 mm. The distance between the abrasive grains 920 and the abrasive grains 220 is 22 mm. In addition, the thickness of the abrasive grains 920 (ie, the radial length of the wheel portion 910) is 3 mm.

다음에 지립부920에 대하여 도10(b)를 참조하면서 설명한다. 지립부920은 1층의 지립층으로 이루어지는 부분이다. 지립부920의 번수는 #600이다. 여기에서 지립부920의 치수에 대하여, 그 일례를 이하에 나타낸다. 지립부920에 있어서의 2개의 코너부의 각각은, 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면에 의하여 형성되어 있고, 이 원호의 곡률반경은 0.5mm이다.Next, the abrasive part 920 will be described with reference to Fig. 10B. The abrasive grain part 920 is a part which consists of one abrasive grain layer. The number of abrasive grains 920 is # 600. Here, an example is shown below about the dimension of the abrasive grain 920. Each of the two corner portions in the abrasive grain 920 is formed by a curved surface formed by rotating an arc, and the radius of curvature of the arc is 0.5 mm.

[제3실시예]Third Embodiment

도11은, 제3실시예에 관한 연삭장치가 구비하는, 제1지립 회전휠970을 포함하는 연삭체 999의 일례의 구조 단면도이다. 제3실시예에 관한 연삭장치는, 제1실시예에 관한 연삭장치10의 제1지립 회전휠100의 대신에, 제1지립 회전휠970을 구비하고 있는 장치이다. 제1지립 회전휠970은, 휠부990과 지립부120을 구비하고 있다.Fig. 11 is a structural sectional view of an example of a grinding body 999 including a first abrasive wheel 970 provided in the grinding apparatus according to the third embodiment. The grinding device according to the third embodiment is a device including the first abrasive wheel 970 instead of the first abrasive wheel 100 of the grinding device 10 according to the first embodiment. The first abrasive wheel 970 includes a wheel portion 990 and an abrasive grain portion 120.

휠부990은, 3층의 휠층991, 992, 993이 휠부990의 제1회전축A1 방향으 로 순차적으로 접합되어서 일체화 되어 이루어지는 부분이다. 휠부990이 구비하는 휠층은, 2층 이상이면 특별하게 한정되지 않아, 예를 들면 2층이라도 좋고 4층이라도 좋다.The wheel part 990 is a part in which the wheel layers 991, 992, and 993 of three layers are sequentially joined in the 1st rotation axis A1 direction of the wheel part 990, and are integrated. The wheel layer included in the wheel portion 990 is not particularly limited as long as it is two or more layers. For example, two or four layers may be used.

[제4실시예]Fourth Embodiment

도12는, 제4실시예에 관한 연삭장치를, 이 연삭장치가 구비하는 제1회전축A1 및 제2회전축A2에 수직인 방향으로부터 본 단면도이다. 제4실시예에 관한 연삭장치는, 제1회전축A1 및 제2회전축A2와 제1지립 회전휠100 및 제2지립 회전휠200을 구비하고 있다. 제1지립 회전휠100은 제1회전축A1에 부착되어 있고, 제2지립 회전휠200은 제2회전축A2에 부착되어 있다. 제1지립 회전휠100과 제2지립 회전휠200은, 도12에 나타나 있는 바와 같이 서로 나란한 위치에 부착되어 있다. 즉 제1지립 회전휠100과 제2지립 회전휠200은, 서로 대향하는 위치에 부착되어 있다.Fig. 12 is a sectional view of the grinding device according to the fourth embodiment as seen from the direction perpendicular to the first rotary shaft A1 and the second rotary shaft A2 included in the grinding apparatus. The grinding device according to the fourth embodiment includes a first rotary shaft A1 and a second rotary shaft A2, a first abrasive wheel 100 and a second abrasive wheel 200. The first abrasive wheel 100 is attached to the first rotary shaft A1, the second abrasive wheel 200 is attached to the second rotary shaft A2. The first abrasive wheel 100 and the second abrasive wheel 200 are attached at positions parallel to each other, as shown in FIG. That is, the first abrasive wheel 100 and the second abrasive wheel 200 are attached to positions facing each other.

[제5실시예][Example 5]

도13은, 제5실시예에 관한 연삭장치를, 이 연삭장치가 구비하는 제1회전축A1 및 제2회전축A2에 수직인 방향으로부터 본 단면도이다. 제5실시예에 관한 연삭장치는, 제1회전축A1 및 제2회전축A2와 제1지립 회전휠1000 및 제2지립 회전휠1000을 구비하고 있다. 본 실시예의 구성과 제4실시예의 구성과의 차이점은, 지립 회전휠100및 200의 대신에 지립 회전휠1000이 사용되고 있다는 점이다.Fig. 13 is a sectional view of the grinding device according to the fifth embodiment as seen from directions perpendicular to the first and second rotary shafts A1 and A2 provided in the grinding apparatus. The grinding apparatus according to the fifth embodiment includes a first rotary shaft A1 and a second rotary shaft A2, a first abrasive wheel 1000 and a second abrasive wheel 1000. The difference between the configuration of this embodiment and the configuration of the fourth embodiment is that an abrasive grain wheel 1000 is used instead of the abrasive grain wheels 100 and 200.

다음에 도14를 참조하여 지립 회전휠1000에 대하여 설명한다. 여기에 서 도14(a)는, 제5실시예에 관한 연삭장치가 구비하는, 제1지립 회전휠1000을 포함하는 연삭체1090의 일례를 나타내는 구조 단면도이다. 도14(b)는 지립부1020의 구조 단면도이다.Next, the abrasive wheel 1000 will be described with reference to FIG. Here, Fig. 14A is a structural cross-sectional view showing an example of the grinding body 1090 including the first abrasive wheel 100, which the grinding apparatus according to the fifth embodiment includes. 14B is a structural sectional view of the abrasive grain 1020. FIG.

제4실시예에 나타나 있는 제1지립 회전휠100과 제5실시예의 지립 회전휠1000과의 차이점은, 지립부1020의 단면 구조에 있다. 도14(b)를 참조하면, 지립부1020은, 입도가 서로 다른 3층의 지립층1021, 1022, 1023이 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서(예를 들면 접합되어서) 이루어지는 부분이다.The difference between the first abrasive wheel 100 shown in the fourth embodiment and the abrasive wheel 1000 in the fifth embodiment lies in the cross-sectional structure of the abrasive part 1020. Referring to Fig. 14B, the abrasive grain portion 1020 is a portion formed by sequentially forming (for example, joining) three abrasive grain layers 1021, 1022, and 1023 having different particle sizes in the first rotation axis A1 direction.

여기에서 제1지립층1021은, 제1회전축A1의 배열에 있어서 최외층의 일방의 층1026(즉 지립부1020의 일방의 면을 구비하는 층)에 위치하고 있다. 또한 제2지립층1023은, 이 최외층의 타방의 층1027(즉 지립부1020의 타방의 면을 구비하는 층)에 위치하고 있다. 지립부1020이 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 최외층의 일방의 층1026에 위치하는 제1지립층1021로부터 최외층의 타방의 층1027에 위치하는 제2지립층1023을 향함에 따라 작아진다. 제1지립층1021, 중간 지립층1022 및 제2지립층1023의 각각의 지립의 크기의 범위는, 예를 들면 #400, #500, #600이다.Here, the 1st abrasive grain layer 1021 is located in the one layer 1026 (namely, the layer provided with one surface of the abrasive grain part 1020) of an outermost layer in the 1st rotation axis A1 arrangement. In addition, the second abrasive grain layer 1023 is located at the other layer 1027 (that is, the layer having the other surface of the abrasive grain portion 1020) of the outermost layer. Each particle size of the abrasive grain layer which the abrasive grain part 1020 has is small as it goes from the 1st abrasive grain layer 1021 located in one layer 1026 of an outermost layer toward the 2nd abrasive grain layer 1023 located in the other layer 1027 of an outermost layer. Lose. The range of sizes of the abrasive grains of the first abrasive layer 1021, the middle abrasive layer 1022, and the second abrasive layer 1023 is, for example, # 400, # 500, or # 600.

지립부1020의 치수에 대하여는, 그 일례를 이하에 나타낸다. 제1지립층1021, 중간 지립층1022 및 제3지립층1023의 각각의 축방향의 최장길이는, 5mm, 3mm 및 6mm이다. 또한 지립층1023에 있어서 스페이서1030 측의 코너부는, 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면으로 되어 있어, 이 원호의 곡률 반경은 0.5mm이다.About the dimension of the abrasive grain 1020, the example is shown below. The longest length of each of the first abrasive layer 1021, the intermediate abrasive layer 1022, and the third abrasive layer 1023 in the axial direction is 5 mm, 3 mm, and 6 mm. In the abrasive layer 1023, the corner portion on the spacer 1030 side is a curved surface formed by rotating an arc, and the radius of curvature of the arc is 0.5 mm.

또한 제2지립층1023에 있어서 스페이서1030 측에 위치하는 면에서 3mm의 위치로부터 지립부1020의 타방의 면을 향하여, 1도 30분의 제5경사면1021F가 형성되어 있다. 또, 제5경사면1021F가 형성됨으로써 제5경사면1021F와 최초에 접촉하는 판재P의 일단으로부터의 연삭가공의 시작이 용이하도록 되어 있다. 또한 지립부1020의 이 일방의 면 측의 코너부는, 원호를 회전시켜서 형성되는 곡면으로 되어 있고, 이 원호의 곡률반경은 0.5mm이다.In the second abrasive layer 1023, a fifth inclined surface 1021F for 1 degree 30 is formed from the position located at the spacer 1030 side toward the other surface of the abrasive grain portion 1020. Moreover, since the 5th inclined surface 1021F is formed, it is easy to start grinding from the one end of the board | plate material P which contacts the 5th inclined surface 1021F for the first time. Moreover, the corner part of this one surface side of the abrasive grain part 1020 is a curved surface formed by rotating a circular arc, and the radius of curvature of this circular arc is 0.5 mm.

다음에 도13을 참조하여 제5실시예에 관한 연삭장치를 사용한 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공 방법 및 그 이점에 대하여 설명한다. 제1실시예에 나타낸 모떼기 연삭가공 방법과 본 실시예에 있어서의 연삭가공 방법과의 차이점은, 판재P의 이송방법에 있다. 제1실시예에 나타낸 모떼기 연삭가공 방법(도4)에 있어서는, 판재P의 이송방향은 제1회전축A1의 축방향이면 좋아, 제1지립층121 및 제3지립층123 중의 어느 쪽의 측으로부터 판재P를 보내도 좋다. 제5실시예에 있어서는, 제1회전축A1의 축방향에서 그리고 제1지립층1021 측에서부터 제2지립층1023 측의 일방향으로 판재P를 보냄으로써 판재P의 모떼기 연삭가공을 한다.Next, with reference to FIG. 13, the chamfer grinding processing method of the cross section of the board | plate material P using the grinding apparatus which concerns on 5th Example, and its advantage are demonstrated. The difference between the chamfer grinding processing method shown in the first embodiment and the grinding processing method in the present embodiment lies in the transfer method of the sheet material P. In the chamfer grinding processing method (FIG. 4) shown in the first embodiment, the conveying direction of the sheet material P may be any axial direction of the first rotary shaft A1, and either of the first abrasive layer 121 and the third abrasive layer 123 You may send board P from. In the fifth embodiment, the chamfering grinding of the plate P is performed by sending the plate P in the axial direction of the first rotary shaft A1 and in one direction from the first abrasive layer 1021 side to the second abrasive layer 1023 side.

이렇게 하면, 작은 입도를 구비하는 제2지립층1023에 의하여 연마된 연삭장소가, 다시 큰 지립을 구비하는 지립층에 접촉하지 않고 지립 회전휠1000으로부터 떨어지므로, 직선 모양의 깊은 연삭흔적을 표면에 남기지 않고 판재P가 연삭가공 된다. 그렇게 됨으로써 연삭흔적에 의한 판재P의 깨어짐이 방지되어 연마되는 판재의 수율이 향상되기 때문에 연삭의 효율을 높일 수 있다. 또한 연마된 판재의 표면조도가 저감되므로 연삭의 정밀도를 높일 수 있다.In this case, since the grinding place polished by the second abrasive layer 1023 having a small particle size is separated from the abrasive wheel 1000 without contacting the abrasive layer having the large abrasive grains, a straight deep grinding trace is applied to the surface. Plate P is ground without leaving it. As a result, cracking of the plate material P due to the grinding traces is prevented and the yield of the plate material to be polished is improved, so that the efficiency of grinding can be improved. In addition, since the surface roughness of the polished sheet material is reduced, the accuracy of grinding can be improved.

[제6실시예][Sixth Embodiment]

다음에 도15를 참조하여 제6실시예에 관한 스틱 타입의 드레서의 구성에 대하여 설명한다. 여기에서 도15(a)는, 제6실시예에 관한 드레서의 단면 구조 및 사용방법을 나타내는 도면이다. 도15(b)는 드레서의 단면 구조를 상세하게 나타내는 확대도이다.Next, referring to Fig. 15, the configuration of the stick type dresser according to the sixth embodiment will be described. Fig. 15A is a diagram showing the cross-sectional structure of the dresser according to the sixth embodiment and the method of use thereof. Fig. 15B is an enlarged view showing the cross-sectional structure of the dresser in detail.

우선, 도15(b)를 참조하여 드레서1100의 구성에 대하여 설명한다. 드레서1100은, 제1드레싱 부재1121과, 제2드레싱 부재1122와, 제3드레싱 부재1123을 포함하는 3 이상의 드레싱 부재가 연속하도록 설치되어 있는 막대 모양의 부재이다. 예를 들면 제1드레싱 부재1121∼제3드레싱 부재1123 및 중간 드레싱 부재1124, 1125가 연속하도록 설치된다. 드레싱 부재1121∼1125는, 각각 드레싱을 하는 대상(對象)에 접촉하는 드레스면1121A∼1125A를 구비한다. 이 드레스면1121A∼1125A는 연속하도록 형성되어 있고 접촉면1100A를 형성한다. 각 드레싱 부재1121∼1125는, 예를 들면 다이아몬드 등의 초지립을 결착재(結着材)와 함께 굳혀서 형성되고, 예를 들면 소결(燒結) 시에 일체(一體) 소결에 의하여 접합되어 있다. 또한 각 드레싱 부재를 각각 형성하고, 그 뒤에 접착 등의 방법으로 접합하더라도 좋다.First, the configuration of the dresser 1100 will be described with reference to Fig. 15B. The dresser 1100 is a rod-shaped member provided with three or more dressing members including the first dressing member 1121, the second dressing member 1122, and the third dressing member 1123 to be continuous. For example, the first dressing member 1121 to the third dressing member 1123 and the intermediate dressing members 1124 and 1125 are provided so as to be continuous. The dressing members 1121 to 1125 are provided with dress surfaces 1121A to 1125A, respectively, in contact with the object to be dressed. The dress surfaces 1121A to 1125A are formed to be continuous and form a contact surface 1100A. Each of the dressing members 1121 to 1125 is formed by hardening super abrasive grains, such as diamond, together with a binder, and, for example, are joined by one-piece sintering at the time of sintering. In addition, each dressing member may be formed, and then bonded by a method such as adhesion.

여기에서 제1드레싱 부재1121은, 연속하도록 설치된 드레싱 부재의 배 열에 있어서의 최외부의 일방1126에 위치하고, 제3드레싱 부재1123은 최외부의 타방1127에 위치한다. 드레싱 부재의 각각의 입도는, 최외부의 일방1126에 위치하는 제1드레싱 부재1121로부터 제2드레싱 부재1122를 향함에 따라 작아짐과 아울러 최외부의 타방1127에 위치하는 제3드레싱 부재1123으로부터 제2드레싱 부재1122를 향함에 따라 작아지도록 구성되어 있다. 예를 들면 제1드레싱 부재1121, 중간 드레싱 부재1124, 제2드레싱 부재1122, 중간 드레싱 부재1125 및 제3드레싱 부재1123의 각각의 지립의 번수는, #400, #500, #600, #500 및 #400이다.Here, the 1st dressing member 1121 is located in the outermost one side 1126 in the arrangement | positioning of the dressing member provided so that a 3rd dressing member 1123 is located in the outermost other side 1127. Each particle size of the dressing member decreases toward the second dressing member 1122 from the first dressing member 1121 located at the outermost one side 1126 and is second from the third dressing member 1123 located at the outermost other side 1127. It is comprised so that it may become small as it goes to the dressing member 1122. For example, the number of abrasive grains of the first dressing member 1121, the intermediate dressing member 1124, the second dressing member 1122, the intermediate dressing member 1125, and the third dressing member 1123 is 400, 500, 600, 500 and 500, respectively. # 400.

다음에 도15(a)를 참조하여 드레서1100의 사용방법 및 이점에 대하여 설명한다.Next, a method and advantages of the dresser 1100 will be described with reference to FIG. 15A.

지립 회전휠100의 지립부120을 드레싱 하는 경우에, 우선 드레스면1121A∼1125A가 노출하도록 드레서1100을 고정용 치구(도면에 나타내지 않는다) 등에 의하여 고정한다. 다음에 제1회전축A1을 축으로 하여 지립 회전휠100을 회전시키면서, 드레서1100의 접촉면1100A를 지립부120에 밀착시킨다. 더 상세하게는, 도15(b)에 나타나 있는 바와 같이 드레서1100의 드레스면1121A∼1125A의 배열과 지립부120의 지립층121∼125의 배열이 대면(對面)하도록 접촉면1100A를 지립부120에 밀착시킨다. 이렇게 하면, 지립층121∼125의 입도와 드레스면1121A∼1125A의 입도가 정합(整合)하기 때문에 지립부120의 지립층121∼125에 대하여 드레싱에 사용하는 드레서를 교환하지 않고 드레싱을 할 수 있다. 예를 들면 입도의 배열이 「소-밀-소」 구성을 구비하는 지립부120의 지립층121∼125에 대하여도, 서로 다른 5층의 지립층에 따라 각각 드레서를 교환하지 않고 드레싱을 할 수 있다.When dressing the abrasive grain 120 of the abrasive wheel 100, the dresser 1100 is first fixed by a fixing jig (not shown) so as to expose the dress surfaces 1121A to 1125A. Next, the contact surface 1100A of the dresser 1100 is brought into close contact with the abrasive part 120 while the abrasive rotating wheel 100 is rotated with the first rotating shaft A1 as the axis. More specifically, as shown in Fig. 15 (b), the contact surface 1100A is placed on the abrasive portion 120 such that the dressing surface 1121A to 1125A of the dresser 1100 and the arrangement of the abrasive layers 121 to 125 of the abrasive portion 120 face each other. Close contact In this case, since the grain sizes of the abrasive grain layers 121 to 125 and the particle sizes of the dress surfaces 1121A to 1125A are matched, the dressing can be applied to the abrasive grain layers 121 to 125 of the abrasive grain portion 120 without changing the dresser used for dressing. . For example, with respect to the abrasive grain layers 121 to 125 of the abrasive grain portion 120 having a particle size arrangement of "small-mill-small", dressing can be performed without changing the dresser according to five different abrasive layers. have.

[제7실시예][Example 7]

다음에 도16을 참조하여 제7실시예에 관한 드레서의 구성에 대하여 설명한다. 여기에서 도16(a)는, 제7실시예에 관한 드레서의 단면 구조 및 사용방법을 나타내는 도면이다. 도17(b)는, 드레서의 단면 구조를 상세하게 나타내는 확대도이다.Next, referring to Fig. 16, the configuration of the dresser according to the seventh embodiment will be described. Here, Fig. 16A is a diagram showing the cross-sectional structure of the dresser according to the seventh embodiment and the method of use thereof. Fig. 17B is an enlarged view showing the cross-sectional structure of the dresser in detail.

제7실시예에 관한 드레서1200과 제6실시예의 드레서1100의 차이점은 그 층구성(層構成)에 있다. 도16(b)를 참조하면, 드레서1200은, 제1드레싱 부재1221과, 제2드레싱 부재1223을 포함하는 2이상의 드레싱 부재가 연속하도록 설치되어 있는 막대 모양 부재이다. 예를 들면 제1드레싱 부재1221, 제2드레싱 부재1223 및 중간 드레싱 부재1222가 연속하도록 설치된다. 드레싱 부재1221∼1223은, 각각 드레싱을 하는 대상에 접촉하는 드레스면1221A∼1223A를 구비한다. 이 드레스면1221A∼1223A는 연속하도록 형성되어 있어 접촉면1200A를 형성한다.The difference between the dresser 1200 according to the seventh embodiment and the dresser 1100 of the sixth embodiment lies in its layer structure. Referring to Fig. 16B, the dresser 1200 is a rod-shaped member in which two or more dressing members including the first dressing member 1221 and the second dressing member 1223 are provided so as to be continuous. For example, the first dressing member 1221, the second dressing member 1223, and the intermediate dressing member 1222 are provided to be continuous. The dressing members 1221 to 1223 are provided with dress surfaces 1221A to 1223A which are in contact with the object to be dressed, respectively. The dress surfaces 1221A to 1223A are formed to be continuous to form a contact surface 1200A.

여기에서 제1드레싱 부재1221은, 연속하도록 설치된 드레싱 부재의 배열에 있어서의 최외부의 일방1226에 위치하고, 제2드레싱 부재1223은 최외부의 타방1227에 위치한다. 드레싱 부재의 각각의 입도는, 최외부의 일방의 층1226에 위치하는 제1드레싱 부재1221로부터 최외부의 타방의 층1227에 위치하는 제2드레싱 부재1223을 향함에 따라 작아지도록 구성되어 있다. 예를 들면 제1드레싱 부재1221, 중간 드레싱 부재1222 및 제2드레싱 부재1223의 지립의 크기의 범위는, 각각 #400, #500, #600이다.Here, the 1st dressing member 1221 is located in the one outermost part 1226 in the arrangement | positioning of the dressing member provided so that the 2nd dressing member 1223 is located in the outermost 1227. Each particle size of a dressing member is comprised so that it may become small from the 1st dressing member 1221 located in outermost one layer 1226 toward the 2nd dressing member 1223 located in the outermost other layer 1227. For example, the sizes of the abrasive grains of the first dressing member 1221, the intermediate dressing member 1222, and the second dressing member 1223 are # 400, # 500, and # 600, respectively.

다음에 도16(a)를 참조하여 드레서1200의 사용방법 및 이점에 대하여 설명한다.Next, with reference to Fig. 16A, the use method and advantages of the dresser 1200 will be described.

지립 회전휠1000의 지립부1020을 드레싱 하는 경우에, 우선 드레스면1221A∼1223A가 노출하도록 드레서1200을 고정용 치구(도면에 나타내지 않는다) 등에 의하여 고정한다. 다음에 제6실시예와 마찬가지로, 도16(b)에 나타나 있는 바와 같이 드레서1200의 드레스면1221A∼1223A의 배열과 지립부1020의 지립층1021∼1023의 배열이 대면하도록 접촉면1200A를 지립부120에 밀착시킨다. 이렇게 하면, 입도의 배열이 「소-밀」의 구성을 구비하는 지립부1200의 지립층1021∼1023에 대하여도, 서로 다른 3층의 지립층에 따라 각각 드레서를 교환하지 않고 지립부1020을 드레싱 할 수 있다.When dressing the abrasive grain 1020 of the abrasive grain wheel 1000, first, the dresser 1200 is fixed by a fixing jig (not shown) so as to expose the dress surfaces 1221A to 1223A. Next, as in the sixth embodiment, as shown in Fig. 16B, the contact surface 1200A is disposed such that the dress surface 1221A to 1223A of the dresser 1200 and the array of the abrasive layers 1021 to 1023 of the abrasive portion 1020 face each other. In close contact. In this manner, the abrasive grains 1021 to 1023 of the abrasive grains 1200 having the arrangement of the "small-mill" particle size dressing the abrasive grains 1020 without changing the dressers according to the three abrasive grain layers. can do.

계속하여 본 실시예에 관한 지립 회전휠 및 드레서의 작용 및 효과에 대하여 설명한다.Subsequently, the operation and effects of the abrasive wheel and the dresser according to the present embodiment will be described.

예를 들면 제1지립 회전휠100에 있어서, 도5에 나타나 있는 바와 같이, 지립부120은, 입도가 서로 다른 2층 이상의 지립층121, 124, 122, 125, 123이 휠부110의 원주면에 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어진다. 여기에서 2층 이상의 지립층121, 124, 122, 125, 123이 같은 휠부110의 원주면에 형성됨으로써 지립부를 1층으로 하였을 경우에 비하여, 몸체로서의 휠부110을 두텁게 할 수 있고, 이 결과, 강성을 높일 수 있 어, 제1지립 회전휠100은 휘기 어려워지므로 연삭가공 시에 판재P로부터 받는 충격을 견딜 수 있다. 또한 1층의 지립층을 사용한 연삭가공에 있어서는, 판재P의 이송속도를 고속으로 하면, 강성이 없기 때문에 상면(上面)을 문지르는 상태가 되어서 팁핑(tipping)의 원인이 되기 때문에 직선 모양(이송 흔적)이 남아버리지만, 제1지립 회전휠100을 사용하는 연삭에서는 직선을 남기지 않고 가공할 수 있다. 이 때문에 제1지립 회전휠100을 회전시킨 상태에서 판재P를 연삭함으로써 입도가 서로 다른 2층 이상의 지립층121, 124, 122, 125, 123에 의하여 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공이나 각진 코너부의 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 정밀도 및 효율을 높일 수 있다.For example, in the first abrasive wheel 100, as shown in Fig. 5, the abrasive part 120 includes two or more abrasive layers 121, 124, 122, 125, and 123 having different particle sizes on the circumferential surface of the wheel part 110. It is formed by sequentially forming the first rotation axis A1 direction. Here, two or more abrasive layers 121, 124, 122, 125, and 123 are formed on the same circumferential surface of the same wheel part 110, so that the wheel part 110 as a body can be thickened as compared with the case where the abrasive part is made of one layer. Since the first abrasive wheel 100 becomes difficult to bend, it can withstand the impact received from the plate P during grinding. In addition, in the grinding process using the abrasive grain layer of one layer, when the feed speed of the plate P is made high speed, since there is no rigidity, since it becomes a state which rubs the upper surface, and causes tipping, it is a linear shape (feed trace) ) Remains, but the grinding using the first abrasive wheel 100 can be carried out without leaving a straight line. Therefore, by grinding the plate P while the first abrasive wheel 100 is rotated, chamfering grinding or angular corners of the cross section of the plate P by two or more abrasive layers 121, 124, 122, 125, and 123 having different particle sizes. In the case of negative grinding, the accuracy and efficiency of grinding can be improved.

또한 휠부990은, 도11에 나타나 있는 바와 같이 2층 이상의 휠층991, 992, 993이 접합되어 이루어지기 때문에, 휠층이 1층인 경우(예를 들면 휠층991 만인 경우)와 비교하여 휠부990은 휘기 어려워진다. 이 결과, 2층 이상의 휠층991, 992, 993을 접합시키는 것 만으로, 휠층이 1층으로 이루어지는 휠부를 구비하는 지립부의 휠보다 휘기 어려운 제1지립 회전휠970을 용이하게 얻을 수 있다. 이 결과, 제1지립 회전휠970을 회전시킨 상태에서 판재P를 연마할 때에, 지립부120에 더하여 휠부990도 휘기 어려워지기 때문에 연삭의 정밀도 및 효율을 보다 더 높일 수 있다.In addition, since the wheel portion 990 is formed by joining two or more wheel layers 991, 992, and 993 as shown in FIG. 11, the wheel portion 990 is more difficult to bend as compared with the case where the wheel layer is one layer (for example, only the wheel layer 991). Lose. As a result, only by joining two or more wheel layers 991, 992, and 993, a first abrasive wheel 970 which is harder to bend than a wheel of an abrasive grain having a wheel portion of which the wheel layer is formed of one layer can be easily obtained. As a result, when grinding the plate material P while the first abrasive grain rotating wheel 970 is rotated, the wheel portion 990 also becomes difficult to bend in addition to the abrasive grain portion 120, so that the accuracy and efficiency of grinding can be further improved.

또한 예를 들면 지립부120이 구비하는 지립층121, 124, 122, 125, 123의 각각의 입도는, 도5(b)에 나타나 있는 바와 같이 제1회전축A1 방향의 배열에 있어서 최외층의 일방의 층126에 위치하는 제1지립층121로부터 제2지립층122를 향함에 따라 작아짐과 아울러 최외층의 타방의 층127에 위치하는 제3지립층123으로부터 제2지립층122를 향함에 따라 작아지고 있다. 이 때문에 제1지립 회전휠100을 회전시킨 상태에서 판재P를 연마할 때에, 도4에 나타나 있는 바와 같이 휠부110의 제1회전축A1 방향을 따라 제1지립층121로부터 제3지립층123을 향하는 방향(즉 도4에 나타내는 백화살표의 방향)으로 판재P를 이동시킨 후에, 제3지립층123으로부터 제1지립층121을 향하는 방향(즉 도4에 나타내는 백화살표와는 반대의 방향)으로 판재P를 이동시키면서 연삭함으로써 판재를 왕복 이동시키면서 연삭을 할 수 있다. 이 결과, 판재P를 1회 왕복 이동시키는 것 만으로 판재의 단면의 모떼기 연삭가공을 2회 할 수 있으므로 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다.For example, each particle size of the abrasive grain layers 121, 124, 122, 125, and 123 included in the abrasive grain portion 120 is one of the outermost layers in the arrangement in the first rotation axis A1 direction as shown in FIG. 5 (b). Smaller as the first abrasive layer 121 located at the layer 126 of the second abrasive layer 122 and smaller toward the second abrasive layer 122 from the third abrasive layer 123 located at the other layer 127 of the outermost layer. Getting lost. Therefore, when the plate P is ground while the first abrasive wheel 100 is rotated, as shown in FIG. 4, the first abrasive layer 121 is directed from the first abrasive layer 121 to the third abrasive layer 123 along the direction of the first rotation axis A1 of the wheel part 110. After moving plate P in the direction (that is, the direction of the white arrow shown in FIG. 4), the plate in the direction from the third abrasive layer 123 toward the first abrasive layer 121 (that is, the direction opposite to the white arrow shown in FIG. 4). By grinding while moving P, grinding can be carried out while reciprocating a board | plate material. As a result, since the chamfer grinding process of the cross section of a board | plate material can be performed twice only by reciprocating the board | substrate P once, the efficiency of grinding can be improved further.

또한 예를 들면 제5실시예에 관한 연삭장치에 있어서는, 도13및 도14에 나타나 있는 바와 같이 판재P의 모떼기 연삭가공은, 제1회전축A1의 축방향에서 그리고 제1지립층1021 측으로부터 제2지립층1023 측으로 일방향으로 판재P를 보냄으로써 이루어진다.For example, in the grinding apparatus according to the fifth embodiment, as shown in Figs. 13 and 14, the chamfer grinding processing of the sheet material P is performed in the axial direction of the first rotary shaft A1 and from the first abrasive layer 1021 side. It is made by sending the plate P in one direction to the second abrasive layer 1023 side.

지립부1020은, 입도가 서로 다른 3층의 지립층1021, 1022, 1023이 제1회전축A1 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어진다. 여기에서 제1지립층1021은, 제1회전축A1의 배열에 있어서 최외층의 일방의 층1026에 위치하고 있다. 또한 제2지립층1023은 이 최외층의 타방의 층1027에 위치하고 있다. 지립부1020이 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 최외층의 일방의 층1026에 위치하는 제1지립층1021로부터 최외층의 타방의 층1027에 위치하는 제2지립층1023을 향함에 따라 작아진다.The abrasive grain portion 1020 is formed by sequentially forming three abrasive grain layers 1021, 1022, and 1023 having different particle sizes in the first rotation axis A1 direction. Here, the first abrasive layer 1021 is located in one layer 1026 of the outermost layer in the arrangement of the first rotary shaft A1. The second abrasive layer 1023 is located at the other layer 1027 of the outermost layer. Each particle size of the abrasive grain layer which the abrasive grain part 1020 has is small as it goes from the 1st abrasive grain layer 1021 located in one layer 1026 of an outermost layer toward the 2nd abrasive grain layer 1023 located in the other layer 1027 of an outermost layer. Lose.

이에 따라 작은 입도를 구비하는 제2지립층1023에 의하여 연마된 연삭장소가, 다시 큰 지립을 구비하는 지립층에 접촉하지 않고 지립 회전휠1000으로부터 떨어지므로, 깊은 직선 모양의 연삭흔적을 표면에 남기는 않고 판재P가 연삭가공 된다. 그 때문에 연삭흔적에 의한 판재P의 깨어짐이 방지되어 연마되는 판재의 수율이 향상되기 때문에 연삭의 효율을 높일 수 있다. 또한 연마된 판재의 표면조도가 저감되므로 연삭의 정밀도를 높일 수 있다.As a result, the grinding sites polished by the second abrasive layer 1023 having a small particle size fall away from the abrasive wheel 1000 without again contacting the abrasive layer having the large abrasive grains, thereby leaving a deep straight grinding trace on the surface. Plate P is ground without grinding. Therefore, since the crack of the board | plate material P by grinding traces is prevented and the yield of the board | plate material to be polished improves, the efficiency of grinding can be improved. In addition, since the surface roughness of the polished sheet material is reduced, the accuracy of grinding can be improved.

또한 도5(b)에 나타나 있는 바와 같이 지립부120의 제1지립층121은 제1경사면121F를 구비하고, 제3지립층123은 제2경사면123F를 구비하고 있다. 이 때문에 제1지립 회전휠100을 회전시킨 상태에서 판재P의 단면P3, P4와 제2지립층122를 접촉시켜서 판재P를 연마할 때에, 도7에 나타나 있는 바와 같이 휠부110의 제1회전축A1 방향을 따라 판재P를 이동시킴으로써 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공을 할 수 있고, 또한 판재P의 일단으로부터 타단까지의 이동이 종료한 상태에서, 도8에 나타나 있는 바와 같이 제1지립 회전휠100을 판재P측에 더 근접시켜 판재P의 각진 코너부와 제1경사면121F 또는 제2경사면123F를 접촉시켜서 판재P를 연마할 때에, 휠부110의 제1회전축A1 방향을 따라 판재P를 제1지립 회전휠100을 향하여 이동시킴으로써 판재P의 각진 코너부의 연삭가공을 할 수 있다.As shown in Fig. 5B, the first abrasive layer 121 of the abrasive grain portion 120 has a first slope surface 121F, and the third abrasive layer 123 has a second slope surface 123F. Therefore, when polishing the plate P by contacting the end surfaces P3, P4 of the plate P and the second abrasive layer 122 in the state where the first abrasive wheel 100 is rotated, as shown in Fig. 7, the first rotating shaft A1 of the wheel part 110 is shown. By moving the plate P along the direction, the chamfer grinding processing of the cross section of the plate P can be performed, and in the state where the movement from one end of the plate P to the other end is finished, the first abrasive wheel as shown in Fig. 8 is shown. When the plate P is polished by bringing 100 closer to the plate P side and bringing the angled corner portion of the plate P into contact with the first inclined surface 121F or the second inclined surface 123F, the plate P is moved along the first rotation axis A1 direction of the wheel 110. By moving toward the abrasive wheel 100, it is possible to grind the angled corner portion of the plate P.

또한 지립부120이 구비하는 지립층121, 124, 122, 125, 123의 각각이 구비하는 지립이 초지립이기 때문에 초지립을 사용한 연삭을 할 수 있으므로, 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다. 또한 지립부120의 형상 유지가 좋아져, 지립부120의 사용에 관한 수명을 길게 할 수 있다.In addition, since the abrasive grains of the abrasive grain layers 121, 124, 122, 125, and 123 included in the abrasive grains 120 are ultra abrasive grains, grinding using ultra abrasive grains can be performed, and thus the efficiency of grinding can be further increased. In addition, the shape retention of the abrasive grains 120 is improved, and the service life of the abrasive grains 120 can be extended.

또한 예를 들면 연삭장치10에 있어서는, 도1∼4에 나타나 있는 바와 같이 제1지립 회전휠100 및 제2지립 회전휠200과 회전연삭공구300의 각각을 회전시킨 상태에서, 제1회전축A1 및 제2회전축A2의 각각을 접근 및 이격시킨다. 여기에서 기준축선X 방향에서, 제1지립 회전휠100, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300의 설치위치는, 제1지립 회전휠의 설치위치Q1(도2 참조)이, 제2지립 회전휠의 설치위치Q2와 회전연삭공구의 설치위치Q3의 사이에 위치한다. 이에 따라 제1지립 회전휠100과, 제2지립 회전휠200 및 회전연삭공구300의 사이에서 판재P를 에워싼 상태로 한 뒤에, 판재P를 지지하면서 판재P의 제1회전축A1 측 및 제2회전축A2 측을 동시에 연삭할 수 있다. 이 결과, 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공이나 각진 코너부의 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다.For example, in the grinding apparatus 10, as shown in FIGS. 1-4, the 1st abrasive wheel 100, the 2nd abrasive wheel 200, and the rotary grinding tool 300 were rotated, respectively, and the 1st rotating shaft A1 and Each of the second rotating shafts A2 is approached and spaced apart. Here, in the reference axis X direction, the installation position of the first abrasive wheel 100, the second abrasive wheel 200, and the rotary grinding tool 300 is the installation position Q1 (see Fig. 2) of the first abrasive wheel; It is located between the installation position Q2 of the rotary wheel and the installation position Q3 of the rotary grinding tool. Accordingly, after the plate P is enclosed between the first abrasive wheel 100, the second abrasive wheel 200, and the rotary grinding tool 300, the plate P is supported while the first rotary shaft A1 side and the second plate are supported. The rotating shaft A2 side can be ground simultaneously. As a result, the efficiency of grinding in the case of performing the chamfer grinding processing of the cross section of the plate material P or the angular corner portion can be further improved.

또한 예를 들면 제4실시예에 관한 연삭장치에 있어서는, 도12에 나타나 있는 바와 같이 제1지립 회전휠100 및 제2지립 회전휠200을 회전시킨 상태에서, 제1회전축A1 및 제2회전축A2의 각각을 접근 및 이격시킨다. 이에 따라 서로 나란한 위치에 부착된 제1지립 회전휠100 및 제2지립 회전휠200 사이에서 판재P를 에워싼 상태로 한 뒤에, 판재P를 지지하면서 판재P 의 제1회전축A1 측 및 제2회전축A2 측을 동시에 연삭할 수 있다. 이 결과, 판재P의 단면의 모떼기 연삭가공이나 각진 코너부의 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 효율을 보다 더 높일 수 있다.For example, in the grinding apparatus according to the fourth embodiment, as shown in Fig. 12, in the state where the first abrasive wheel 100 and the second abrasive wheel 200 are rotated, the first rotary shaft A1 and the second rotary shaft A2 are rotated. Approach and space each of them. Accordingly, after the plate P is enclosed between the first abrasive wheel 100 and the second abrasive wheel 200 attached to each other in parallel with each other, the plate P is supported and the first rotary shaft A1 and the second rotary shaft are supported. The A2 side can be ground simultaneously. As a result, the efficiency of grinding in the case of performing the chamfer grinding processing of the cross section of the plate material P or the angular corner portion can be further improved.

또한 제6실시예에 관한 드레서에 있어서는, 도15에 나타나 있는 바와 같이 드레서1100은, 제1드레싱 부재1121과 제2드레싱 부재1122와 제3드레싱 부재1123을 포함하는 3이상의 드레싱 부재가 연속하도록 설치되는 막대 모양의 부재이다. 드레싱 부재1121∼1125는, 각각 드레싱을 하는 대상에 접촉하는 드레스면1121A∼1125A를 구비하고, 드레스면1121A∼1125A가 연속하도록 형성되어 있다. 드레싱 부재1121∼1125의 각각의 입도는, 최외부의 일방1126에 위치하는 제1드레싱 부재1121로부터 제2드레싱 부재1122를 향함에 따라 작아짐과 아울러 최외부의 타방1127에 위치하는 제3드레싱 부재1123으로부터 제2드레싱 부재1122를 향함에 따라 작아지도록 구성되어 있다. 이에 의하면, 지립부120의 지립층121∼125에 대하여 드레서를 교환하지 않고, 한번에 드레싱을 할 수 있다. 예를 들면 입도의 배열이 「소-밀-소」 구성을 구비하는 지립부120의 지립층121∼125에 대하여도, 서로 다른 5층의 지립층에 따라 각각 드레서를 교환하지 않고 한번에 드레싱을 할 수 있다.In the dresser according to the sixth embodiment, as shown in Fig. 15, the dresser 1100 is provided such that at least three dressing members including the first dressing member 1121, the second dressing member 1122, and the third dressing member 1123 are continuous. It is a rod-shaped member. The dressing members 1121 to 1125 are provided with dress surfaces 1121A to 1125A in contact with the object to be dressed, respectively, and are formed such that the dress surfaces 1121A to 1125A are continuous. Each particle size of the dressing members 1121 to 1125 decreases toward the second dressing member 1122 from the first dressing member 1121 located at the outermost one 1126 and is located at the outermost 1127 of the third dressing member 1123. It is comprised so that it may become small as it goes to the 2nd dressing member 1122 from. In this way, dressing can be performed at once without replacing the dresser with respect to the abrasive grain layers 121 to 125 of the abrasive grain portion 120. For example, with respect to the abrasive layers 121 to 125 of the abrasive part 120 having a grain size arrangement of "small-mill-small", dressing can be performed at once without changing the dresser according to the five different abrasive layers. Can be.

또한 제7실시예에 관한 드레서에 있어서는, 도16에 나타나 있는 바와 같이 드레서1200은, 제1드레싱 부재1221과 제2드레싱 부재1223을 포함하는 2이상의 드레싱 부재가 연속하도록 설치되는 막대 모양의 부재이다. 드레싱 부재1221∼1223은, 각각 드레싱을 하는 대상에 접촉하는 드레스면1221A∼ 1223A를 구비하고, 드레스면1221A∼1223A가 연속하도록 형성되어 있다. 드레싱 부재1221∼1223 각각의 입도는, 최외부의 일방1226에 위치하는 제1드레싱 부재1121로부터 최외부의 타방1227에 위치하는 제2드레싱 부재1223을 향함에 따라 작아지도록 구성되어 있다. 이에 의하면, 입도의 배열이 「소-밀」 구성을 구비하는 지립부1000의 지립층1221∼1223에 대하여도, 서로 다른 3층의 지립층에 따라 각각 드레서를 교환하지 않고 지립부1020을 한 번에 드레싱을 할 수 있다.In the dresser according to the seventh embodiment, as shown in Fig. 16, the dresser 1200 is a rod-shaped member which is provided so that two or more dressing members including the first dressing member 1221 and the second dressing member 1223 are continuous. . The dressing members 1221 to 1223 each have dress surfaces 1221A to 1223A in contact with the object to be dressed, and are formed such that the dress surfaces 1221A to 1223A are continuous. The particle sizes of the dressing members 1221 to 1223 are configured to decrease from the first dressing member 1121 positioned at the outermost one 1226 toward the second dressing member 1223 positioned at the outermost other 1227. In this way, the abrasive grains 1021 to 1223 of the abrasive grains 1000 having an "small-mill" arrangement of particle sizes also have the abrasive grains 1020 once without changing the dressers according to three different abrasive grain layers. You can dress on.

이상, 본 발명자에 의하여 이루어진 발명을 실시예에 의거하여 구체적으로 설명했지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니라 여러 가지의 변형이 가능하다. 예를 들면 휠층과 휠층에 형성된 지립층을 구비하는 동일한 구조의 지립휠을 복수 준비하고, 이들 복수의 지립휠을, 휠층끼리 및 지립층끼리 순차적으로 서로 부착하게 하여 지립 회전휠을 구성하더라도 좋다.As mentioned above, although the invention made by this inventor was demonstrated concretely based on the Example, this invention is not limited to the said Example, A various deformation | transformation is possible for it. For example, a plurality of abrasive wheels having the same structure including the wheel layer and the abrasive layer formed on the wheel layer may be prepared, and the abrasive wheels may be configured by attaching the wheel layers and the abrasive layer to each other in sequence.

본 발명에 의하면, 판재의 단면의 모떼기 연삭가공을 하는 경우의 연삭의 정밀도 및 효율을 높이는 것이 가능한 지립 회전휠, 연삭장치 및 드레서가 제공된다.According to the present invention, there is provided an abrasive wheel, a grinding device and a dresser capable of increasing the accuracy and efficiency of grinding in the case of chamfering grinding of a cross section of a plate.

Claims (11)

회전되는 휠부(wheel部)와, 상기 휠부의 원주면(圓周面)에 형성된 지립부(砥粒部)를 구비하고, 판재(板材)의 단면(端面)의 모떼기 연삭가공(chamfering 硏削加工)을 하는 지립 회전휠(砥粒 回轉 wheel)로서,A wheel part rotated and an abrasive grain part formed in the circumferential surface of the wheel part, and the chamfering grinding processing of the end surface of a board | plate material As an abrasive wheel, 상기 지립부는, 입도(粒度)가 서로 다른 2층 이상의 지립층(砥粒層)이 상기 휠부의 상기 원주면에 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지는 것을 특징으로 하는 지립 회전휠.The abrasive grain is an abrasive grain wheel, characterized in that two or more grain layers having different particle sizes are formed sequentially on the circumferential surface of the wheel portion in the direction of the rotation axis. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 휠부는, 2층 이상의 휠층(wheel層)이 상기 휠부의 회전축 방향으로 순차적으로 접합되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 지립 회전휠.The wheel part is an abrasive wheel, characterized in that two or more wheel layers (wheel) are sequentially joined in the direction of the rotation axis of the wheel portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 지립부는, 제1지립층과 제2지립층과 제3지립층을 포함하는 3층 이상의 지립층(砥粒層)이, 상기 휠부의 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지고,The abrasive grain portion is formed by sequentially forming three or more abrasive grain layers including a first abrasive grain layer, a second abrasive grain layer, and a third abrasive grain layer in the direction of the rotation axis of the wheel portion, 상기 제1지립층은, 상기 축방향의 배열에 있어서 최외층(最外層)의 일방(一方)의 층(層)에 위치하고,The first abrasive grain layer is located in one of the outermost layers in the axial arrangement. 상기 제3지립층은, 상기 최외층의 타방(他方)의 층(層)에 위치하고,The third abrasive grain layer is located in the other layer of the outermost layer, 상기 지립부가 구비하는 지립층의 각각의 입도(粒度)는, 상기 최외층의 일방의 층에 위치하는 상기 제1지립층으로부터 상기 제2지립층을 향함에 따라 작아짐과 아울러 상기 최외층의 타방의 층에 위치하는 상기 제3지립층으로부터 상기 제2지립층을 향함에 따라 작아지는 것을Each particle size of the abrasive grain layer provided with the said abrasive grain part becomes small as it goes toward the said 2nd abrasive grain layer from the said 1st abrasive grain layer located in one layer of the said outermost layer, and the other of the said outermost layer It becomes smaller from the third abrasive layer located in the layer toward the second abrasive layer 특징으로 하는 지립 회전휠.An abrasive wheel characterized by. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 지립부는, 제1지립층과 제2지립층을 포함하는 2층 이상의 지립층이, 상기 휠부의 회전축 방향으로 순차적으로 형성되어서 이루어지고,The abrasive grains are formed by sequentially forming two or more abrasive grain layers including a first abrasive grain layer and a second abrasive grain layer in a direction of the rotation axis of the wheel portion, 상기 제1지립층은, 상기 축방향의 배열에 있어서의 최외층의 일방의 층에 위치하고,The said 1st abrasive grain layer is located in one layer of the outermost layer in the said axial arrangement, 상기 제2지립층은, 상기 최외층의 타방의 층에 위치하고,The second abrasive grain layer is located in the other layer of the outermost layer, 상기 지립부가 구비하는 지립층의 각각의 입도는, 상기 제1지립층으로부터 상기 제2지립층을 향함에 따라 작아지는 것을Each particle size of the abrasive grains provided by the abrasive grains decreases toward the second abrasive grain layer from the first abrasive grain layer. 특징으로 하는 지립 회전휠.An abrasive wheel characterized by. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 제1지립층은, 상기 제2지립층 측을 향하여 외경(外徑)이 커지도록 경사진 제1경사면을 구비하고,The first abrasive layer includes a first inclined surface that is inclined so that an outer diameter becomes large toward the second abrasive layer side. 상기 제3지립층은, 상기 제2지립층 측을 향하여 외경이 커지도록 경사진 제2경사면을 구비하는 것을The third abrasive layer has a second inclined surface that is inclined so that an outer diameter increases toward the second abrasive layer side. 특징으로 하는 지립 회전휠.An abrasive wheel characterized by. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 지립부가 구비하는 지립층의 각각이 구비하는 지립은, 초지립(超砥粒)인 것을 특징으로 하는 지립 회전휠.An abrasive grain provided in each of the abrasive grain layers included in the abrasive grain portion is an ultra abrasive grain. 접근(接近) 및 이격(離隔)을 함과 아울러 기준축선(基準軸線)에 대하여 각각 평행하고 또한 역의 회전방향으로 회전하고 서로 평행한 제1회전축 및 제2회전축과,First and second rotary shafts, which approach and space apart, are parallel with respect to the reference axis and rotate in opposite rotational directions and are parallel to each other, 상기 제1회전축에 부착된 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항의 제1지립 회전휠과,The first abrasive wheel of any one of claims 1 to 6 attached to the first rotary shaft, 상기 제2회전축에 부착된 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항의 제2지립 회전휠과,The second abrasive wheel of any one of claims 1 to 6 attached to the second rotary shaft, 지립이 형성됨과 아울러 상기 제2회전축에 부착되어서 회전되는 회전연삭공구를An abrasive grain is formed and the rotary grinding tool rotated by being attached to the second rotary shaft. 구비하고,Equipped, 상기 기준축선 방향에 있어서, 상기 제1지립 회전휠의 설치위치는, 상기 제2지립 회전휠의 설치위치와 상기 회전연삭공구의 설치위치의 사이에 있는 것을In the reference axis direction, the installation position of the first abrasive wheel is between the installation position of the second abrasive wheel and the installation position of the rotary grinding tool. 특징으로 하는 연삭장치.Grinding device characterized in that. 접근 및 이격함과 아울러 서로 역의 회전방향으로 회전하고 서로 평행한 제1회전축 및 제2회전축과,The first and second rotation shafts which rotate in the opposite rotational directions and are parallel to each other as well as approach and space apart, 상기 제1회전축에 부착된 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항의 제1지립 회전휠과,The first abrasive wheel of any one of claims 1 to 6 attached to the first rotary shaft, 상기 제2회전축에 부착된 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항의 제2지립 회전휠을The second abrasive wheel of any one of claims 1 to 6 attached to the second rotary shaft 구비하고,Equipped, 상기 제1지립 회전휠과 상기 제2지립 회전휠은, 서로 대향하는 위치에 부착되어 있는 것을The first abrasive wheel and the second abrasive wheel is attached to a position facing each other. 특징으로 하는 연삭장치.Grinding device characterized in that. 지립 회전휠의 지립부를 드레싱(dressing) 하는 드레서(dresser)로서,As a dresser for dressing the abrasive part of the abrasive wheel, 입도가 서로 다른 2이상의 드레스면이 연속하도록 입도가 서로 다른 2이상의 드레싱 부재를 연속하도록 설치하는 것을 특징으로 하는 드레서.A dresser characterized in that two or more dressing members having different particle sizes are arranged to be continuous so that two or more dressing surfaces having different particle sizes are continuous. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 제1드레싱 부재와 제2드레싱 부재와 제3드레싱 부재를 포함하는 3 이상의 드레싱 부재가 연속하도록 설치되어서 이루어지고,Three or more dressing members including the first dressing member, the second dressing member, and the third dressing member are provided so as to be continuous, 상기 제1드레싱 부재는, 연속하도록 설치된 드레싱 부재의 배열에 있어서의 최외부의 일방에 위치하고,The first dressing member is located at one of the outermost portions in the arrangement of the dressing members provided to be continuous, 상기 제3드레싱 부재는 상기 최외부의 타방에 위치하고,The third dressing member is located on the other side of the outermost portion, 상기 드레싱 부재의 각각의 입도는, 상기 제1드레싱 부재로부터 상기 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아짐과 아울러 상기 제3드레싱 부재로부터 상기 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아지는 것을The particle size of each of the dressing members decreases toward the second dressing member from the first dressing member and decreases toward the second dressing member from the third dressing member. 특징으로 하는 드레서.Dresser characterized by. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 제1드레싱 부재와 제2드레싱 부재를 포함하는 2이상의 드레싱 부재가 연속하도록 설치되어서 이루어지고,Two or more dressing members including the first dressing member and the second dressing member are provided so as to be continuous, 상기 제1드레싱 부재는, 연속하도록 설치된 드레싱 부재의 배열에 있어서의 최외부의 일방에 위치하고,The first dressing member is located at one of the outermost portions in the arrangement of the dressing members provided to be continuous, 상기 제2드레싱 부재는 상기 최외부의 타방에 위치하고,The second dressing member is located on the other side of the outermost portion, 상기 드레싱 부재의 각각의 입도는, 상기 제1드레싱 부재로부터 상기 제2드레싱 부재를 향함에 따라 작아지는 것을The particle size of each of the dressing members decreases toward the second dressing member from the first dressing member. 특징으로 하는 드레서.Dresser characterized by.
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CN108515411A (en) * 2018-05-23 2018-09-11 江苏禾兴泰触控科技有限公司 A kind of PC panels production labor makees platform

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