KR20080060708A - 박막 증착용 면 증발장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 소스물질을 포함하기 위한 내부공간을 구비하며 제1 사이즈를 갖는 용기;상기 용기와 결합하여 상기 내부공간을 외부로부터 밀폐시키며 상기 소스물질이 기화된 소스가스를 주변부로 안내하기 위한 가스 가이드 및 상기 가스 가이드와 연통하는 다수의 개구를 구비하고 제1 사이즈보다 큰 제2 사이즈를 갖는 덮개; 및상기 내부공간으로 열을 공급하기 위한 열 공급원을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제1항에 있어서, 상기 소스 물질은 Alq3(tris-(8-hydroxyquinoline) aluminum)를 포함하는 유기물인 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제1항에 있어서, 상기 용기는 상기 내부공간을 한정하는 용기 본체와 상기 용기 본체의 상단부로부터 돌출된 제1 걸림턱을 포함하며, 상기 제1 사이즈는 상기 제2 사이즈의 40% 내지 50%인 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제3항에 있어서, 상기 덮개는 상기 개구가 형성된 상판, 상기 가스 가이드를 구비하는 하판 및 상기 하판으로부터 돌출되며 상기 제1 걸림턱과 결합하는 제2 걸림턱을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제4항에 있어서, 상기 상판은 바닥면 주변부를 따라 제1 두께를 갖고 돌출한 돌출부를 포함하며, 상기 하판은 상면 주변부를 따라 상기 제1 두께에 대응하는 폭을 갖고 상기 돌출부를 수용하는 고정홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제5항에 있어서, 상기 상판 및 하판은 상기 고정홈 및 상기 돌출부 사이의 억지끼워맞춤에 의해 결합된 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제4항에 있어서, 상기 하판은 상면으로부터 일정한 깊이로 함몰된 리세스를 포함하며, 상기 리세스의 중앙부는 상기 제2 걸림턱을 경유하여 상기 용기의 내부공간과 연통하여 상기 소스가스를 유입하는 유입구를 형성하고 상기 리레스의 주변부는 상기 가스 가이드를 형성하는 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제7항에 있어서, 상기 가스 가이드는 상기 유입구를 중심으로 방사상으로 연장되는 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제4항에 있어서, 상기 상판의 상면은 주변부로부터 중심부 방향으로 형성된 적어도 하나의 단차를 포함하여, 상기 상판의 두께는 주변부로부터 중심부 방향으로 줄어드는 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 제1항에 있어서, 상기 열 공급원은 상기 내부공간으로 주울열을 공급하기 위한 전열선이며, 상기 용기는 전도성 부재인 것을 특징으로 하는 박막 증착용 면 증발장치.
- 증착공정을 수행할 공간을 한정하는 공정챔버;상기 공정챔버의 상부에 위치하여 증착대상 기판을 고정하는 지지대; 및상기 지지대와 대향하여 상기 공정챔버의 하부에 위치하며 소스물질을 포함하기 위한 내부공간을 구비하며 제1 사이즈를 갖는 용기, 상기 용기와 결합하여 상기 내부공간을 외부로부터 밀폐시키며 상기 소스물질이 기화된 소스가스를 주변부로 안내하기 위한 가스 가이드 및 상기 가스 가이드와 연통하는 다수의 개구를 구비하고 제1 사이즈보다 큰 제2 사이즈를 갖는 덮개 및 상기 내부공간으로 열을 공급하기 위한 열 공급원을 구비하는 면 증발장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
- 제11항에 있어서, 상기 공정챔버의 내부에 진공을 형성하기 위한 진공펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
- 제11항에 있어서, 상기 지지대는 상기 공정챔버의 상부면에 고정된 평판을 포함하며, 상기 기판은 진공흡착에 의해 상기 지지대에 고정되는 것을 특징으로 하 는 박막 증착장치.
- 제11항에 있어서, 상기 기판은 반도체 기판 또는 유리 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제1 사이즈는 상기 제2 사이즈의 40% 내지 50%인 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
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