KR20080053421A - 화상 형성 방법 및 기록물 - Google Patents
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Abstract
광 회절 구조를 이용하여 정보의 위조나 개찬 등을 방지하기 위한 보다 고도의 보안을 실현하는 화상 형성 방법 등을 제공한다. 인쇄 정보(2)가 기록된 피전사체(10) 상에 광 회절 구조 전사 시트(20)에 설치된 홀로그램 및 회절 격자를 포함하는 층(20d)을 전사함으로써, 기록된 인쇄 정보(2)와 광 회절 구조(3, 4, 5)가 포함된 화상을 형성하는 방법이며, 광 회절 구조를 포함하는 층(20d)은 전사되는 회절 격자(5)가 인쇄 정보(2)와의 대응 관계에 있어서 소정의 규칙성을 나타내는 회절 격자 정보(5)를 형성하도록 전사된다.
회절 격자, 열전사 시트, 박리층, 전사층, 홀로그램, 기재 시트
Description
본 발명은 광 회절 구조가 포함된 화상의 형성 방법 및 기록물에 관한 것이다.
인쇄 정보와 광 회절 구조가 포함된 화상의 형성 방법은 정보 개찬의 보안 대책으로서 널리 알려져 있다. 상기 화상 형성 방법으로서, 예를 들어 피전사체에 소정의 정보를 먼저 인쇄해 두고, 그 정보 위에 피전사체로 광 회절 구조 전사 시트의 광 회절 구조가 마련된 층을 전사하는 방법이 알려져 있다(예를 들어 특허문헌 1).
특허문헌 1 : 일본 특허 공개 평8-118857
그러나, 상술한 방법은 광 회절 구조의 제조나 복원의 곤란성에 착안하여 정보의 위조 방지를 주된 목적으로 하는 것이지만, 광 회절 구조에 관한 기술이 발달한 요즘에는, 위조를 방지해야 할 정보 상에 광 회절 구조를 단순히 전사하는 것만으로 보안상 완전하다고는 말하기 어려워졌다. 또한, 상술한 방법에서는, 피전사체 상에 먼저 인쇄된 정보가 열전사 방식으로 인쇄된 경우, 그 인쇄 부분 상에 광 회절 구조가 접착하지 않아 전사하기 어려운 문제가 있다.
그래서, 본 발명은 광 회절 구조를 이용하여 정보의 위조나 개찬 등을 방지하기 위한 보다 고도의 보안을 실현하는 화상 형성 방법 등, 또한 열전사 방식으로 먼저 형성된 부분이라도, 그 부분 위에 광 회절 구조를 마련할 수 있는 화상 형성 방법 등을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 제1 화상 형성 방법은 정보가 기록된 피전사체 상에, 광 회절 구조 전사 시트에 설치된 광 회절 구조를 포함하는 층을 전사함으로써, 상기 기록된 정보와 상기 광 회절 구조가 포함된 화상을 형성하는 방법이며, 상기 광 회절 구조를 포함하는 층은 전사되는 상기 광 회절 구조가 상기 기록된 정보와의 대응 관계에 있어서 소정의 규칙성을 나타내는 정보를 형성하도록 전사됨으로써, 상기의 과제를 해결한다.
본 발명에 의해 형성된 화상이 형성된 기록물에 따르면, 그 기록물에 있어서의 이미 기록된 정보와 전사된 광 회절 구조 사이에 소정의 규칙성을 생기게 할 수 있으므로, 기록된 정보를 개찬하고자 한 경우, 광 회절 구조에 의한 정보도 상기 규칙성을 충족시키도록 개찬해야만 한다. 따라서, 광 회절 구조를 단순히 복원이나 제조하는 것보다도 개찬이나 위조를 더 곤란하게 할 수 있어, 보다 고도의 보안을 실현할 수 있다. 또한, 피전사체에 미리 기록되는 정보의 내용이 바뀌어도, 그 정보에 따른 내용의 정보를 전사하면 되므로, 정보의 폭이 확대되어 다양한 용도로 이용할 수 있다.
「소정의 규칙성」이라 함은, 동일한 기록물 상에 포함되는, 즉 대응된 기록된 정보와 광 회절 구조가 형성하는 정보가 직접 특정한 관계를 갖고 있는 경우뿐만 아니라, 복수의 기록물 사이에 있어서의 각 기록된 정보와 각 광 회절 구조가 형성하는 정보로부터 도출할 수 있는 규칙성도 포함한다. 광 회절 구조의 전사 방법은 상기 소정의 규칙성을 갖는 정보를 형성하도록 전사할 수 있는 방법이면, 열전사, 레이저 광 등 종류는 상관없다. 광 회절 구조와는 소정 형상을 형성하는 간섭 줄무늬인 홀로그램과 똑같은 요철 패턴인 회절 격자를 포함한다. 「광 회절 구조」에는 일정한 요철 패턴의 반복인 이른바 회절 격자와, 소정의 형상을 표현하는 간섭 줄무늬로 구성되는 이른바 홀로그램을 포함한다.
본 발명의 제1 기록물은 정보가 기록된 피전사체 상에, 광 회절 구조 전사 시트에 설치된 광 회절 구조를 포함하는 층이 전사됨으로써 얻게 되는 상기 기록된 정보와 상기 광 회절 구조가 포함된 기록물이며, 상기 기록된 정보와 전사된 상기 광 회절 구조에 의해 형성된 정보가 소정의 규칙성이 생기도록 대응되어 있음으로써, 상기의 과제를 해결한다.
본 발명에 따르면, 기록물에 전사된 광 회절 구조가 기록된 정보와 소정의 규칙성을 갖도록 대응되어 있으므로, 상술한 바와 같이 보다 고도의 보안을 제공할 수 있다. 또한, 상기 기록된 정보와 전사된 상기 광 회절 구조에 의해 형성된 정보가 싱크로하고 있어도 좋다. 이에 의해, 광 회절 구조에 의해 형성되는 정보를 이미 기록된 정보에 싱크로시키는 것만으로 보다 고도의 보안을 제공할 수 있다. 싱크로하는 정보라 함은, 기록된 정보와 시각적, 청각적 또는 관념적으로 일치하는 정보를 말한다. 관념적으로 일치한다라 함은, 예를 들어 일본어와 그 영어 번역 등 동일한 것이 연상 가능한 관계를 말한다.
또한, 상기 기록된 정보는 가시광선에서는 시인(視認)할 수 없는 잉크로 인쇄되어 있어도 좋다. 이에 의해, 가시광선 하에서는 기록된 정보는 시인할 수 없고, 자외선 등 가시광선 이외의 광선에 의해서만 인지할 수 있으므로, 보다 고도의 보안을 실현할 수 있다.
본 발명에 있어서의 제2 화상 형성 방법은, 광 회절 구조 전사 시트로부터 광 회절 구조를 포함하는 광 회절 구조층을 피전사체로 그 피전사체의 특정 영역을 피해 전사하는 광 회절 구조 전사 공정과, 가시광 하에서는 시인할 수 없는 잉크로 구성된 불가시 잉크부를 포함하는 잉크층이 기재 시트 상에 적층된 잉크 전사 시트로부터 상기 잉크층을 상기 특정 영역으로 전사하는 잉크 전사 공정을 가짐으로써 상기의 과제를 해결한다.
본 발명에 따르면, 가시광선 하에서는 시인할 수 없는 잉크로 구성된 불가시 잉크부를 갖는 잉크층에 의해 화상이 형성되므로, 가시광선 하에서는 시인할 수 없는 정보를 부가할 수 있다. 또한 잉크층이 전사되는 특정 영역에는 광 회절 구조층은 전사되지 않으므로, 잉크층이 광 회절 구조층 상에 설치됨으로써 눈에 띄는 잉크층의 에지를 눈에 띄지 않게 할 수 있고, 특히 잉크층 전체가 거의 투명한 경우, 잉크층의 존재를 언뜻 보아 시인할 수 없도록 할 수 있다. 잉크 전사 공정에 있어서의 전사는 잉크층만을 전사하는 경우와 잉크층과 함께 다른 층을 전사하는 경우를 포함하고, 광 회절 구조 전사 공정에 있어서의 전사는 광 회절 구조층만을 전사하는 경우와 광 회절 구조층과 함께 다른 층을 전사하는 경우를 포함한다.
「가시광선 하에서 시인할 수 없는 잉크」라 함은, 가시광선 이외의 광선 하에서 형광이나 발색 등 함으로써 시인할 수 있게 되는 이른바 스텔스 잉크를 말한다. 「불가시 잉크부」는 잉크층 전체라도 좋고, 소정 형상으로 잉크층에 포함되어도 좋다. 불가시 잉크부가 잉크층 전체인 경우에는, 가시광선 이외의 광선 하에서 특정 영역 전체가 예를 들어 형광된다.
불가시 잉크부가 소정의 형상으로 구성된 경우에는, 가시광선 이외의 광선 하에서 특정 영역 내에 상기 형상을 시인할 수 있게 된다. 광 회절 구조 전사 공정과 잉크 전사 공정의 순서는 상관없다. 「광 회절 구조」에는, 일정한 요철 패턴의 반복인 이른바 회절 격자와, 소정의 형상을 표현하는 간섭 줄무늬로 구성되는 이른바 홀로그램을 포함한다.
상기 잉크 전사 공정에서 상기 잉크층이 전사된 후에, 상기 광 회절 구조 전사 공정에서 상기 광 회절 구조층을 전사해도 좋다. 이 경우, 상기 기재 시트 상에는 상기 잉크층을 포함하는 전사층이 적층되고, 상기 잉크 전사 공정에서 상기 전사층의 표면에 이형제가 함유되어 있는 층이 남도록 상기 전사층을 상기 피전사체에 전사해도 좋다. 이에 의해, 전사층의 표면에는 이형제가 함유되어 있으므로, 상기 표면에는 광 회절 구조층이 접착하지 않는다. 따라서, 전사층이 미리 전사되어 있는 영역을 피해 광 회절 구조층을 용이하게 전사할 수 있다.
한편, 상기 광 회절 구조 전사 공정에서 상기 광 회절 구조층이 전사된 후, 상기 잉크 전사 공정에서 상기 잉크층을 전사해도 좋다. 이에 의해, 광 회절 구조가 전사되고 있지 않은 특정 영역을 매립하도록 잉크층을 전사하면 된다. 또한, 상기 특정 영역은 선 형상을 가져도 좋다. 이에 의해, 특정 영역은 폭이 좁아 간극과 같은 형상이므로, 잉크층이 가시광선 하에서 투명하면, 그 존재의 확인이 더 곤란해진다. 또한, 특정 영역을 문자의 형상으로 하면, 스텔스 잉크의 존재에 더하여 문자 정보를 부가할 수 있으므로, 더욱 고도의 보안성을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은 가시광선 하에서는 시인할 수 없는 잉크로 구성된 불가시 잉크부를 포함하는 잉크층이 특정 영역에 설치되고, 또한 광 회절 구조를 포함하는 광 회절 구조층이 상기 특정 영역을 피하도록 설치되어 있는 화상을 갖는 제2 기록물로서 구현화되어도 좋다.
본 발명의 제3 화상 형성 방법은 이형제가 함유되어 있지 않은 박리층을 포함하는 전사층이 기재 시트 상에 적층된 열전사 시트를 피전사체에 대향시키고, 상기 전사층을 그 표면에 상기 박리층이 남도록 하여 상기 피전사체로 열전사하는 공정과, 상기 전사층의 표면에 남겨진 상기 박리층 상에 광 회절 구조 전사 시트에 설치된 광 회절 구조를 포함하는 광 회절 구조층을 전사하는 공정을 가짐으로써, 상기의 과제를 해결한다.
발명자는 열전사에 의해 인쇄된 부분 상에 광 회절 구조가 접착하지 않는 것은 상기 부분의 표면에 이형제가 포함되어 있기 때문인 것에 착안하였다. 본 발명에 따르면, 열전사 시트는 박리층에서 기재 시트측과 전사층이 분리되고, 전사층은 왁스, 실리콘, 계면활성재 등의 이형제가 실질상 포함되어 있지 않은 박리층이 표 면에 남도록 피전사체로 열전사되므로, 피전사체 상에서의 전사층의 최외측 표면은 이형제가 포함되어 있지 않은 박리층이 된다. 따라서 이 박리층에는 광 회절 구조층을 접착할 수 있고, 피전사체 상에 열전사된 전사층 상에 또한 광 회절 구조층을 전사시킬 수 있다.
「박리층」이라 함은, 전사층에 포함되고, 그 전사층이 열전사시에 기재 시트측과 분리되는 위치에 있는 층의 총칭이다. 따라서, 분리 기능뿐만 아니라 다른 기능을 함께 갖는 층이라도 좋다. 「박리층이 남도록」이라 함은, 열전사 시트에 있어서의 박리층이 그대로 전사층에 포함되어 기재 시트측과 분리되어 피전사체로 전사되는 경우와, 박리층의 일부가 기재 시트측에 남은 상태에서 박리층의 도중으로부터 기재 시트측과 분리되는 경우를 포함한다.
「전사층」은 박리층뿐인 경우 및 박리층 이외에 다른 층이 적층된 경우를 포함한다. 「광 회절 구조」에는 단순히 요철 패턴의 반복인 회절 격자와, 소정의 형상을 표현하는 간섭 줄무늬가 형성된 이른바 홀로그램을 포함한다.
상기 전사층은 상기 박리층 상에 잉크가 함유된 잉크층이 더 적층되고, 상기열전사하는 공정에 있어서, 상기 전사층을 상기 피전사체 상에서 특정 형상을 형성하도록 열전사해도 좋다. 이에 의해, 피전사체 상에 전사층에서 형성되는 특정 형상에 특별한 의미를 갖게 할 수 있고, 상기 형상을 정보로서 사용할 수 있다. 특히 가시광 하에서 시인할 수 있는 잉크이면, 사용자는 상기 특정 형상을 시인할 수 있다. 상기 형상은 열전사 방식으로 형성되므로, 그 형상을 필요에 따라서 용이하게 변경할 수 있다. 「특정 형상」이라 함은, 시인할 수 있는 형상이면 되고, 기 호, 문자, 모양 등을 포함한다.
상기 광 회절 구조층을 전사하는 공정에서, 상기 피전사체 상에 전사된 상기 전사층의 일부에 상기 광 회절 구조를 전사해도 좋다. 이에 의해, 피전사체 상에 전사된 전사층을 모두 덮지 않으므로, 전사층이 투명하지 않은 경우라도 전사된 전사층을 시인할 수 있다.
또한, 본 발명은 열전사에 의해 형성된 열전사부와, 그 위에 적층된 광 회절 구조를 포함하는 화상을 갖는 기록물이며, 상기 열전사부의 상기 광 회절 구조가 접촉하고 있는 면에는 이형제가 함유되어 있지 않은 제3 기록물로서 구현화되어도 좋다.
이상과 같이 본 발명에 따르면, 광 회절 구조 전사 시트에 설치된 광 회절 구조를 이미 피전사체 상에 기록된 정보와의 대응 관계에 있어서 소정의 규칙성을 나타내는 정보를 형성하도록 전사함으로써, 광 회절 구조를 이용하여 정보의 위조나 개찬 등을 방지하기 위한 보다 고도의 보안을 실현하는 기록물의 제조 방법 등을 제공할 수 있다.
또한, 피전사체의 특정 영역을 피하여 광 회절 구조층을 전사하고, 상기 특정 영역에 가시광선 하에서는 시인할 수 없는 잉크로 구성된 불가시 잉크부를 갖는 잉크층을 전사함으로써, 가시광선 하에서 언뜻 본 것만으로는 모방할 수 없는 고도의 보안을 제공하는 광 회절 구조를 갖는 화상의 형성 방법 등을 제공할 수 있다.
또한, 이형제가 함유되어 있지 않은 박리층을 포함하는 전사층이 기재 시트 상에 적층된 열전사 시트를 사용함으로써, 열전사 방식으로 먼저 피전사체 상에 형성된 부분이라도 그 부분 상에 광 회절 구조를 마련할 수 있다.
1. 제1 형태
도1은 제1 형태에 있어서 형성하는 화상을 갖는 기록물(1)로서의 밀봉을 나타내는 도면이다. 기록물(1)에는 기록된 정보로서 날짜가 인쇄된 인쇄 정보부(2), 형상「A」에 3차원 홀로그램이 실시된 홀로그램부(3), 가로 줄무늬 형상의 회절 격자가 실시된 회절 격자부(4), 인쇄 정보부(2)와 동일한 날짜가 회절 격자에 의해 형성된 회절 격자 정보부(5)가 포함된다. 이하, 기록물(1)의 화상을 형성하는 방법에 대해 설명한다.
본 형태에 있어서의 피전사체(10)는 도2에 도시한 바와 같이 미리 인쇄 정보부(2)가 설치되어 있다. 이 피전사체(10)로 광 회절 구조 전사 시트에 설치된 광 회절 구조를 열 헤드에 의해 열전사함으로써 기록물(1)의 화상을 형성한다. 본 형태에 있어서의 광 회절 구조 전사 시트(20)의 구조를 도3 및 도4에 도시한다. 도3에 도시한 바와 같이, 광 회절 구조 전사 시트(20)는 열 헤드가 맞대어지는 측으로부터 차례로 배면 미끄럼성층(20a), 기재 시트(20b), 박리층(20c) 및 광 회절 구조 형성층(20d)이 적층되어 구성된다.
본 발명에 있어서의 광 회절 구조라 함은 회절 격자 또는 홀로그램을 의미하고, 광 회절 구조 형성층(20d)에 형성되어 있다. 도4에 도시한 바와 같이 본 형태의 광 회절 구조 형성층(20d)은 회절 격자 박(20d-1)으로 전체가 구성되고, 3D의 계산기 홀로그램이 실시된 형상「A」를 나타내는 홀로그램부(20d-2)가 일정 간격으로 설치되어 있다. 회절 격자 박(20d-1) 및 홀로그램부(20d-2)가 후술하는 방법에 의해 피전사체(10)로 전사되어 기록물(1)의 홀로그램부(3)나 회절 격자 정보부(5)를 각각 형성한다.
광 회절 구조 형성층(20d)에 설치된 회절 격자 및 홀로그램의 간섭 줄무늬는 표면에 요철 패턴을 갖는 릴리프로서 기록되어 있는 것, 두께 방향에 입체적으로 기록되어 있는 것, 또는 투과율의 변화에 따른 광의 진폭의 변화에 의해 회절이 생기도록 기록되어 있는 것 중 어느 것이라도 좋다. 구체적으로는, 프레넬 홀로그램, 이미지 홀로그램 등의 레이저 재생 홀로그램, 리프만 홀로그램, 레인보우 홀로그램 등의 백색광 재생 홀로그램, 이들의 원리를 이용한 홀로그래픽스 스테레오그램, 컬러 홀로그램 등이 있다.
이들 홀로그램은 종래 이미 알고 있는 방법에 의해 제조하여 광 회절 구조 형성층(20d)으로 하면 된다. 또한, 광 회절 구조 형성층(20d)은 피전사체(10)에 접착하는 접착성을 갖고 있어도 좋다. 접착성을 생기게 하기 위한 소재는 피전사체(10)의 표면을 구성하는 소재에 따라서 적절하게 결정하면 된다. 또한, 광 회절 구조 형성층(20d)을 구성하는 재료는 피전사체(10)에 전사되었을 때에, 인쇄 정보(2)가 완전히 은폐되지 않는 크기(도트)로 인자함으로써 인쇄 정보(2)를 완전히 은폐하지 않는다.
배면 미끄럼성층(20a)은 가열에 의한 이른바 스티킹(sticking) 현상의 발생을 방지하기 위해 설치되어 있다. 따라서 내열성, 열 미끄럼성이 높은 것이 요구 된다. 박리층(20c)은 광 회절 구조 형성층(20d)과 기재 시트(20b)와의 박리성을 높이기 위해 설치되어 있다. 구성하는 재료는 기재 시트(20b)에 따라서 적절하게 결정하면 된다. 기재 시트(20b)는 어느 정도의 강성과 내열성을 갖는 것이면 된다. 광 회절 구조 전사 시트(20)의 전체 두께는 열 헤드로부터의 열전도가 저해되지 않을 정도의 두께인 것이 바람직하다.
상술한 구성을 갖는 광 회절 구조 전사 시트(20)의 광 회절 구조 형성층(20d)측과 피전사체(10)의 표면을 중합하여, 열 헤드에 의해 배면 미끄럼성층(20a)측으로부터 가열한다. 가열된 부분에 대응하는 박리층(20c)이 기재 시트(20b)로부터 박리되어 광 회절 구조 형성층(20d)이 피전사체(10)로 전사된다. 즉, 열 헤드에 의한 가열 위치에 대응하는 광 회절 구조 형성층(20d)이 피전사체(10)로 전사된다. 따라서, 배면 미끄럼성층(20a)에 대해 소정의 면적을 빠짐없이 가열하면, 그 가열 위치에 대응하는 소정의 면적을 갖는 광 회절 구조 형성층(20d)이 전사되고, 소정의 형상을 그리도록 가열하면, 그 가열 위치에 대응하는 소정의 형상을 그리도록 광 회절 구조 형성층(20d)이 전사된다.
본 형태에서는, 우선 홀로그램부(20d-2)에 대응하는 범위를 배면 미끄럼성층(20a)측으로부터 열 헤드에 의해 빠짐없이 가열한다. 이에 의해, 홀로그램부(20d-2)에 대응하는 광 회절 구조 형성층(20d)이 피전사체(10)로 전사되어 홀로그램부(3)를 형성한다. 이 모습을 도5에 도시한다. 이 경우, 홀로그램부(20d-2)에 대응하는 범위 내에서 하나의 열 헤드를 빠짐없이 이동시켜 가열해도 좋고, 복수의 발열자를 갖는 열 헤드에 의해 상기 범위를 한번에 가열해도 좋다.
다음에, 피전사체(10)에 있어서의 회절 격자부(4) 및 회절 격자 정보부(5)에 대응하는 부분에 광 회절 구조 형성층(20d)의 회절 격자 박(20d-1)의 부분이 겹치도록 광 회절 구조 전사 시트(20)를 위치시킨다. 열 헤드의 이동에 의해 광 회절 구조 전사 시트(20)의 배면 미끄럼성층(20a)측으로부터 가로 줄무늬 형상으로 가열함으로써, 광 회절 구조 형성층(20d)의 회절 격자 박(20d-1)이 가로 줄무늬 형상으로 전사되어 회절 격자부(4)를 형성한다. 또한, 인쇄 정보부(2)에 나타나 있는 날짜와 동일한 날짜가 전사되도록 열 헤드를 이동시킨다. 상술한 바와 같이 가열된 부분에 대응하는 광 회절 구조 형성층(20d)에만 전사되므로, 인쇄 정보부(2)에 나타나 있는 날짜와 같은 날짜가 회절 격자에 의해 표현된 회절 격자 정보부(5)를 형성한다. 이상의 방법에 의해 기록물(1)을 얻을 수 있다.
본 발명은 상술한 형태에 한정되지 않고 다양한 형태로 실시해도 좋다. 예를 들어, 인쇄 정보부(2)에 있어서의 정보의 색은 상관없다. 가시광에서 인식할 수 없는 잉크로 인쇄되어 있어도 좋다. 또한, 인쇄되는 정보는 날짜에 한정되지 않고, 문자, 기호, 도형, 모양 등 종류에 상관없이 용도에 따라서 적절하게 변경 가능하다. 또한, 피전사체(10)에 기록된 정보의 기록 방법은 인쇄에 한정되지 않고 도포, 에칭 등 종류는 상관없다.
상술한 형태에서는, 홀로그램부(3), 회절 격자부(4), 회절 격자 정보부(5)의 순서로 형성하였지만, 각 부를 형성하는 순서는 상관없다. 기록물(1)은 광 회절 구조 이외의 방법에 의해 기록된 정보와 광 회절 구조에 의해 기록된 정보를 포함하는 것이면, 시일(seal), 카드, 금권류(金券類) 등 그 용도는 상관없다. 또한, 인쇄 정보(2)가 이미 인쇄된 피전사체(10)에 대해 회절 격자 정보부(5)를 전사하는 형태를 나타내지만, 피전사체 상에 인쇄 정보(2)가 회절 격자 정보부(5)보다 순서가 먼저 인쇄되면 좋고, 예를 들어 인쇄 정보(2)가 인쇄되어 있지 않은 피전사체에 대해 동일한 기계로 인쇄 정보(2)를 먼저 인쇄하고, 계속해서 회절 격자 정보부(5)를 설치해도 좋다. 회절 격자 정보부(5)는 이른바 회절 격자뿐만 아니라 홀로그램으로 형성되어 있어도 좋다.
광 회절 구조 전사 시트(20)에는 광 회절 구조 형성층(20d)의 박리층(20c)과 반대측에 피전사체(10)와 접착성이 높은 접착층을 설치해도 좋다. 또한, 기재 시트(20b)에 박리성이 있는 경우에는 박리층은 설치하지 않아도 좋다. 배면 미끄럼성층(20a)은 기재 시트(20b)의 미끄럼성이 높고, 가열 위치를 충분히 이동할 수 있을 때는 설치할 필요가 없다. 또한, 광 회절 구조 전사 시트(20)에 가시광을 차폐하는 가시광 차폐층을 설치하고, 광 회절 구조 형성층(20d)과 함께 피전사체(10)로 전사해도 좋다. 이에 의해, 광 회절 구조 형성층(20d)이 전사된 위치 하에 기록되어 있는 정보는 가시광 하에서 시인할 수 없게 되고, 예를 들어 자외선에 의해 서만 시인할 수 있다. 따라서, 보안도를 보다 높일 수 있다. 광 회절 구조 전사 시트(20)에는 그 외에 회절 효율을 높이는 층 등, 본 발명을 실현할 수 있는 한 적절하게 적층 가능하다.
또한, 가열 방법으로서는 열 헤드에 의한 가열일 필요는 없고, 광 회절 구조 형성층(20d)을 선 형상의 형상으로도 면 형상의 형상으로도 전사할 수 있는 가열 방법이면 된다. 예를 들어, 레이저광에 의한 열을 이용해도 좋다. 이 경우에는, 광 회절 구조 전사 시트(20)에 배면 미끄럼성층(20a)은 불필요해지고, 대신에 광열 변환제를 어느 한 층에 포함시키거나 또는 광열 변환층을 설치하는 것이 바람직하다.
2. 제2 형태
도6은 제2 형태에 있어서의 화상 형성 방법에 의해 최종적으로 얻는 광 회절 구조를 갖는 최종 화상(100)이 설치된 기록물(A)이다. 기록물(A)의 형태로서는, 시일, 카드, 지폐 등 종류에 상관없다. 본 형태에 있어서의 기록물(A)은 최종 화상(100)이 피전사체의 표면 일면, 또는 양면에 설치되어 있다.
최종 화상(100)은 홀로그램 전사부(110), 제1 회절 격자 전사부(120), 제2 회절 격자 전사부(130) 및 제3 회절 격자 전사부(140)로 구성된다. 홀로그램 전사부(110)에는「A」의 형상에 계산기 홀로그램이 실시되어 있다. 제1 회절 격자 전사부(120)는 열전사로 문자가 인쇄된 열전사 정보부(121)와 회절 격자가 가로 줄무늬 형상으로 전사된 가로 줄무늬 전사부(122a)와 문자 형상으로 전사된 문자 전사부(122b)를 포함하고 있다. 제2 회절 격자 전사부(130)는 회절 격자가 전사된 전사부(131)와 회절 격자가 문자 형상으로 전사되어 있지 않은 부분인 비전사부(132)를 포함한다. 제3 회절 격자 전사부(140)도 제2 회절 격자 전사부(130)와 마찬가지로 전사부(141)와 비전사부(142)를 포함한다. 제3 회절 격자 전사부(140)의 구성 및 형성 방법은 제2 회절 격자 전사부(130)와 마찬가지이므로, 제3 회절 격자 전사부(130)에 대해 설명은 생략한다.
본 형태에서는 도7A 내지 도7C에 도시하는 각 열전사 시트를 열전사 프린터 의 열 헤드에 의해 후술하는 바와 같이 가열함으로써 최종 화상(100)을 형성한다. 이하, 실시 형태의 설명에서는, 열전사에서 인자된 패턴 상에 다시 홀로그램이 전사 가능한 시트를 가시 전사 시트, 전사 불가능한 시트를 불가시 전사 시트로 예시하지만, 어느 쪽이 가시, 불가시라도 좋다. 도7A에 도시하는 열전사 시트(123)는 기재 시트(124) 상에 전사층(127)이 적층되고, 전사층(127)은 박리층(125)과 가시 잉크층(126)으로 구성된다. 열전사 시트(123)는 열전사 정보부(121)를 형성하기 위해 사용된다. 박리층(125)과 기재 시트(124)가 분리되어, 전사층(127)이 피전사체로 열전사된다. 가시 잉크층(126)은 가시광선에서 시인할 수 있는 잉크로 구성되어 있다. 박리층(125)은 기재 시트(124)와 가시 잉크층(126)의 박리성을 높이기 위해 설치되어 있지만, 이형제는 포함되어 있지 않다. 이로 인해, 가시 잉크층(126)은 피전사체에 대해 충분한 접착성을 갖고 있다. 이하, 이 열전사 시트(123)를 가시 전사 시트(123)라 한다.
도7B에 도시하는 열전사 시트(133)는 기재 시트(134) 상에 전사층(137)이 적층되고, 전사층(137)은 박리층(135)과 불가시 잉크층(136)으로 구성된다. 열전사 시트(133)는 비전사부(132, 142)를 형성하기 위해 사용된다. 불가시 잉크층(136)은 가시광선에서는 시인할 수 없는 이른바 스텔스 잉크로 구성되어 있다. 박리층(135)은 가시광 하에서 투명하며, 이형제가 포함되어 있다. 이하, 이 열전사 시트(133)를 불가시 전사 시트(133)라 한다. 불가시 전사 시트(133)를 구성하는 각 층(134, 135, 136)에 대해 더 상세하게 설명한다.
불가시 잉크층(136)은 바인더 수지와 형광제로 구성되고, 형광제는 무기 형 광 색소라도 좋고 유기 형광 색소라도 좋다. 불가시 잉크층(136)은 형광제, 바인더 수지, 그 밖의 첨가제 등을 첨가한 잉크를 그래비어 코팅 등의 공지의 도공 수단을 이용하여 도포 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서 사용하는 유기 형광 색소로서는, 바인더 수지에 용해하여, 정상인 상태에서는 무색인 것이 바람직하다. 디아미노스틸벤디술폰산 유도체, 이미다졸 유도체, 쿠마린 유도체, 트리아졸, 카르바졸, 피리딘, 나프탈산, 이미다졸론 등의 유도체, 플루오레세인, 에오신 등의 색소, 안트라센 등의 벤젠 고리를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 구체적으로는 가시광에서 무색의 형광 염료로서는, EB-501[미쯔이가가꾸(가부시끼가이샤)제, 발광색 : 청색], EG-302[미쯔이가가꾸(가부시끼가이샤)제, 발광색 : 황녹색], EG-307[미쯔이가가꾸(가부시끼가이샤)제, 발광색 : 녹색], ER-120[미쯔이가가꾸(가부시끼가이샤)제, 발광색 : 적색], ER-122[미쯔이가가꾸(가부시끼가이샤)제, 발광색 : 적색], 형광증백제라 불리우는 유비텍스 OB(치바가이기샤제, 발광색 : 청색), 유로퓸-테노일트리플루오로아세톤킬레이트[신로이히(가부시끼가이샤), 적동색] 등을 들 수 있다.
유기 형광 색소의 불가시 잉크층(136)에의 첨가량은 성능상의 요구에 따라서 임의로 결정하면 되고, 특별히 제약은 없지만, 유기 형광 색소와 바인더 수지와의 상용성이 높지 않은 경우에는, 유기 형광 색소의 배합비를 매우 크게 하면, 층 중에서 형광 색소가 석출되거나 하는 폐해가 발생한다. 그로 인해 형광 색소의 배합 비율은 불가시 잉크층 전체의 O.01 내지 50 중량 ％ 정도가 바람직하고, 0.1 내지 20 중량 ％ 정도가 더 바람직하다.
또한 무기 형광 색소로서는, Ca, Ba, Mg, Zn, Cd 등의 산화물, 황화물, 규산염, 인산염, 텅스텐산염 등의 결정을 주성분으로 하고, Mn, Zn, Ag, Cu, Sb, Pb 등의 금속 원소 혹은 란타노이드류 등의 희토류 원소를 활성제로서 첨가하여 소성하여 얻어지는 안료를 이용할 수 있다. 구체적으로는, ZnO : Zn, Br(PO)Cl : Eu, ZnGcO : Mn, YO : Eu, Y(P, V)O : Bu, YOSi : Eu, ZnGcO : Mn 등, 및 주로 적외선을 흡수하고, 업컨버전(up-conversion) 발광하는 희토류 원소 함유 미립자를 예시할 수 있다.
바인더 수지와 상기의 무기 형광 색소의 사용 비율은 채용하는 무기 형광 색소의 종류에 따라 변화되지만, 일반적으로는 수지/무기 형광 색소의 중량비가 1/0.5 내지 1/20, 바람직하게는 1/5 내지 1/10이다. 형광 재료의 사용량이 지나치게 적으면 형성되는 층의 발광성이 충분하지 않고, 또한 열 헤드 등에서의 전사시에 있어서의 박 잘림이 좋지 않다. 한편, 형광 재료의 사용량이 지나치게 많으면 피막 형성성이 열화된다.
바인더 수지는 에틸셀룰로오스, 에틸히드록시셀룰로오스, 히드록시프로필셀룰로오스, 메틸셀룰로오스, 초산셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알콜, 폴리초산비닐, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세탈, 폴리비닐피롤리돈 등의 비닐계 수지, 폴리(메타)아크릴레이트, 폴리(메타)아크릴아미드 등의 아크릴계 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르계 수지, 이들 수지의 혼합물 등을 들 수 있다. 바인더 수지로서는, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐아세탈이 형광 색소의 이행성 및 전사 필름으로 한 경우의 보존 안정성이 양호하므로 바람직하다. 불 가시 잉크층(136)의 두께는 0.1 내지 5.0 g/㎡로 형성하는 것이 바람직하다.
박리층(135)은 불가시 잉크층(136)의 기재 시트(134)로부터의 박리를 용이하게 하기 위해 설치되고, 사용되는 수지로서는 예를 들어 아크릴 수지, 우레탄 수지, 이들 각 수지를 실리콘 변성시킨 수지, 폴리비닐아세탈 수지, 폴리비닐알콜 수지, 혹은 그것들의 혼합물 등을 들 수 있다. 이들 수지를 용제에 용해하여 도공액을 제작하고, 상기 도공액을 도포 및 건조하여 박리층(135)이 형성된다. 박리층(135)의 두께는 약 0.1 내지 5.0 ㎛ 정도이다.
기재 시트(134)는 전사시의 열에 대한 내열성과, 어느 정도의 강도를 갖고 치수 안정성이 있는 것이면 되고, 예를 들어 종이, 각종 가공지, 플라스틱 필름 등이 이용된다. 플라스틱 필름의 재질로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리프로필렌, 폴리설폰, 폴리페닐렌설파이드, 폴리에틸렌나프탈레이트, 1, 4-폴리시클로헥실렌디메틸테레프탈레이트, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리비닐알콜, 셀로판 등을 들 수 있다. 내열성 기재 필름(2)의 두께는 0.5 내지 50 ㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 내지 10 ㎛이다. 또한 바람직한 재질은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이다.
도7C에 도시하는 열전사 시트(150)는 홀로그램 전사부(110), 가로 줄무늬 전사부(122a), 문자 전사부(122b) 및 전사부(131, 141)를 형성하기 위해 사용되고, 광 회절 구조층으로서의 홀로그램층(151), 박리층(152) 및 기재 시트(153)가 차례로 적층되어 있다. 이하, 이 열전사 시트(150)를 광 회절 구조 전사 시트(150)라 한다.
홀로그램층(151)은 도8에 도시한 바와 같이 계산기 홀로그램으로 형성된「A」의 글자를 포함하는 홀로그램부(151a)가 일정 간격으로 설치되고, 그 주위 일면에는 회절 격자로 구성되는 회절 격자부(151b)가 설치되어 있다. 홀로그램부(151a)는 열전사됨으로써 홀로그램 전사부(110)를 형성하고, 회절 격자부(151b)는 열전사됨으로써, 가로 줄무늬 전사부(122a), 문자 전사부(122b) 및 전사부(131, 141)를 형성한다. 점선(151c)으로 나타내는 범위는 최종 화상(100)의 크기를 나타내고 있다. 또한, 점선(151c)은 설명을 위해 나타낸 것으로, 실제로 홀로그램층(151)에 실시할 필요는 없다.
홀로그램층(151)에 설치된 홀로그램부(151a) 및 회절 격자부(151b)의 간섭 줄무늬는 표면에 요철 패턴을 갖는 릴리프로서 기록되어 있는 것, 두께 방향에 입체적으로 기록되어 있는 것, 또는 투과율의 변화에 따른 광의 진폭의 변화로 회절이 일어나도록 기록되어 있는 것 중 어느 것이라도 좋다. 구체적으로는, 프레넬 홀로그램, 이미지 홀로그램 등의 레이저 재생 홀로그램, 리프만 홀로그램, 레인보우 홀로그램 등의 백색광 재생 홀로그램, 이들의 원리를 이용한 홀로그래픽스 스테레오그램, 컬러 홀로그램 등이 있다.
이들 홀로그램은 종래 이미 알고 있는 방법에 의해, 도8에 도시하는 홀로그램층(151)을 형성하도록 제조하면 된다. 또한, 홀로그램층(151)을 구성하는 재료는 피전사체에 전사될 때에, 하부에 위치하는 정보가 완전히 은폐되지 않는 크기(도트), 스크리닝된 도트 패턴, 혹은 그 조합으로 인자함으로써 상기 정보를 완전히 은폐하지 않으므로, 투명할 필요는 없다.
박리층(152)은 홀로그램층(151)과 기재 시트(153)와의 박리성을 높이기 위해 설치되어 있다. 구성하는 재료는 기재 시트(153)에 따라서 적절하게 결정하면 된다. 상술한 각 열전사 시트(123, 150)의 기재 시트(124, 153)는 어느 정도의 강성과 내열성을 갖는 것이면 된다. 각 열전사 시트(123, 133, 150) 전체의 두께는 열 헤드로부터의 열전도가 저해되지 않을 정도의 두께이면 된다.
이하, 상술한 열전사 시트(123, 133, 150)를 이용하여 최종 화상(1)을 형성하는 방법을 순서에 따라 설명한다. 우선, 처음에 피전사체(200) 상에 가시 전사 시트(123)를 사용하여 도9A에 도시한 바와 같은 특정 형상으로서의 날짜 정보「2004/12/30」로 나타나는 열전사 정보부(121)를 형성한다. 가시 전사 시트(123)의 가시 잉크층(126)과 피전사체(200)가 중합되도록 가시 전사 시트(123)를 피전사체(200)의 표면에 대향시켜, 기재 시트(124)측으로부터 열 헤드를 맞대어 상기 날짜 정보가 피전사체(200) 상에 형성되도록 가열 위치를 이동시킨다. 피전사체(200)는 최종적으로 얻는 기록물에 따라서 적절하게 결정하면 된다.
이에 의해, 전사층(127)인 박리층(125) 및 가시 잉크층(126)이 기재 시트(124)로부터 분리되어, 날짜 정보를 형성하도록 피전사체(200)의 표면에 전사된다. 가시 전사 시트(123)는 가열되면 박리층(125)으로부터 분리되므로, 전사처의 피전사체(200) 상에서는 도9B에 도시한 바와 같이 이형제를 포함하지 않는 박리층(125)이 최외측 표면이 된다. 이상의 방법에 의해 열전사 정보부(121)가 형성된다.
다음에, 피전사체(200)에 대해 불가시 전사 시트(133)를 사용함으로써, 도 10A에 도시하는「DNP」의 문자 정보에서 나타나는 비전사부(132)를 형성한다. 불가시 전사 시트(133)의 불가시 잉크층(136)과 피전사체(200)의 표면이 중합되도록 불가시 전사 시트(133)를 피전사체(200)에 대향시킨다. 기재 시트(134)측으로부터 열 헤드를 맞대어 상기 문자 정보가 피전사체(200) 상에 형성되도록 가열 위치를 이동시킨다. 이에 의해, 전사층(137)으로서의 박리층(135) 및 불가시 잉크층(136)이 기재 시트(134)로부터 박리되어 피전사체(200)로 문자 정보를 형성하도록 전사된다.
불가시 전사 시트(133)는 가열되면 전사층(137)이 박리층(135)으로부터 분리되므로, 전사처의 피전사체(200) 상에서는 도10B에 도시한 바와 같이 이형제를 포함하는 박리층(135)이 최외측 표면이 된다. 이상의 방법에 의해, 비전사부(132)가 형성된다. 또한, 도10A에 있어서의 비전사부(132)의 문자 정보「DNP」는 설명의 편의상 가시 상태에서 나타내고 있지만, 박리층(135)은 가시광선 하에서 투명하고, 불가시 잉크층은 스텔스 잉크로 구성되므로, 실제로는 가시광선 하에서는 시인할 수 없다. 비전사부(142)도 비전사부(132)와 같은 방법에 의해 형성한다.
다음에, 열전사 정보부(121)와 비전사부(132, 142)가 형성된 피전사체(200)에 대해, 광 회절 구조 전사 시트(150)를 사용함으로써, 홀로그램 전사부(110), 가로 줄무늬 전사부(122a), 문자 전사부(122b) 및 전사부(131, 141)를 형성한다. 광 회절 구조 전사 시트(150)의 홀로그램층(151)을 피전사체(200)의 표면에 겹친다. 광 회절 구조 전사 시트(150)의 위치는 전사하는 홀로그램부(151a)의 위치가 피전사체(200) 상에서 홀로그램 전사부(110)가 형성되어야 할 위치가 되도록 설정한다.
이와 같이 광 회절 구조 전사 시트(150)를 위치시킴으로써, 광 회절 구조 전사 시트(150)의 점선(151c)으로 나타낸 범위와, 피전사체(200) 상에 형성되어야 할 최종 화상(100)의 범위가 일치한다. 따라서, 피전사체(200)의 가로 줄무늬 전사부(122a), 문자 전사부(122b) 및 전사부(131, 141)가 형성되어야 할 범위에는 광 회절 구조 전사 시트(150)의 회절 격자부(151b)가 겹쳐진다. 열 헤드를 기재 시트(153)측으로부터 맞대어 홀로그램부(151a)가 전사되도록 가열 위치를 이동시킨다. 홀로그램부(151a)가 전사된 피전사체(200)를 도11에 도시한다.
계속해서, 가로 줄무늬 전사부(122a) 및 문자 전사부(122b)를 형성한다. 상술한 바와 같이, 광 회절 구조 전사 시트(150)의 회절 격자부(151b)가 피전사체(200)의 가로 줄무늬 전사부(122a) 및 문자 전사부(122b)가 형성되어야 할 범위에 겹쳐져 있는 상태이므로, 광 회절 구조 전사 시트(150)의 위치는 이동시키지 않아도 된다. 가로 줄무늬 전사부(122a)가 형성되어야 할 범위에서는, 회절 격자부(151b)의 회절 격자가 가로 줄무늬 형상으로 전사되도록 열 헤드의 가열 위치를 이동시키고, 또한 문자 전사부(122b)가 형성되어야 할 범위에서는 회절 격자가 문자 정보「HOLO」를 형성하도록 이동시킨다. 가로 줄무늬 전사부(122a) 및 문자 전사부(122b)가 피전사체(200) 상에 형성된 상태를 도12에 도시한다.
열전사 정보부(121)에서는 상술한 바와 같이 최외측 표면의 박리층(125)에 이형제가 포함되어 있지 않으므로, 도13에 도시한 바와 같이 전사된 회절 격자부(151b)가 열전사 정보부(121)의 박리층(125) 상에 전사된다. 따라서, 회절 격자 부(151b)는 피전사체(200) 상에 이미 형성되어 있는 열전사 정보부(121) 상에도 가로 줄무늬 형상으로 형성된다. 이상에 의해, 제1 회절 격자 전사부(120)가 형성된다. 또한, 회절 격자부(151b)는 열전사 정보부(121) 상에 가로 줄무늬 형상으로 형성되므로, 회절 격자부(151b)는 투명하지 않지만 열전사 정보부(121)를 모두 은폐하지는 않는다.
계속해서, 전사부(131)를 형성한다. 가로 줄무늬 전사부(122a) 및 문자 전사부(122b)와 같은 이유에 의해, 광 회절 구조 전사 시트(150)의 위치는 이동시키지 않아도 된다. 전사부(131)가 형성되어야 할 범위에, 회절 격자부(151b)의 회절 격자가 전사되도록 열 헤드의 가열 위치를 이동시킨다. 이 때, 비전사부(132)에는 전사를 피하지 않아도 된다. 비전사부(132)에서는 상술한 바와 같이 최외측 표면에 있는 박리층(135)에 이형제가 포함되어 있으므로, 비전사부(132) 상에는 회절 격자가 전사되지 않기 때문이다.
이에 의해, 도14에 도시한 바와 같이 비전사부(132)를 피한 상태에서 회절 격자부(151b)가 전사된다. 따라서, 피전사부(132)인 문자 정보「DNP」의 부분에는 회절 격자부(151b)는 전사되지 않는다. 상술한 바와 같이, 비전사부(132)의 문자 정보「DNP」는 가시광선 하에서 투명하므로,「DNP」의 문자 부분에는 아무것도 없이 간극이 형성되어 있는 상태가 된다. 이에 의해, 제2 회절 격자 전사부(130)가 형성된다. 제3 회절 격자 전사부(140)의 형성 방법은 상술한 제2 회절 격자 전사부(130)의 형성 방법과 마찬가지이다. 이상의 순서에 의해, 최종 화상(100)을 피전사체(200) 상에 형성할 수 있다. 피전사체(200) 전체면에 가시 전사 시트(123) 에서 인자 후, 통상의 3색 프린트를 하는 공정에서, 불가시 전사 시트(133) 혹은 광 회절 구조체 전사 시트(150)에서 이 순서 혹은 이 역의 순서로 인자함으로써, 최종 화상(100)을 피전사체(200) 상에 형성해도 좋다.
본 발명은 상술한 형태에 한정되지 않고 다양한 형태로 실시해도 좋다. 예를 들어, 본 형태에서는 최종 화상(100)은 기록물(A)의 전체에 형성되었지만, 기록물(A)의 일부라도 좋다. 또한, 열전사를 위한 가열 방법은 열 헤드에 한정되지 않고 망점 전사를 할 수 있는 것이면 되고, 예를 들어 레이저광이라도 좋다. 이 경우에는, 각 열전사 시트에 광열 변환 기능을 갖게 한 층을 설치할 필요가 있다. 본 형태에서는 모든 전사를 열전사 방식으로 행하였지만, 비전사부(132, 142) 및 광 회절 구조에 관한 화상(122a, 122b, 131, 141)의 형성은 열전사 방식이 아니라도 좋다.
각 열전사 시트(123, 133, l50)에는 열 헤드 등의 가열 소자와의 융착을 방지하거나, 급지성을 개량하기 위해 기재 시트(124, 134, 153)의 외측에 배면층을 설치해도 좋다. 또한, 배면층에 의해 전사 필름을 롤 형상으로 권취하거나, 시트 형상물을 적층하였을 때에, 배면이 형광 잉크층 등의 표면층에 접착하는 것을 방지할 수 있다. 배면층은 내열 미끄럼성, 이형성을 갖는 것이 바람직하다. 배면층의 재질로서, 경화성 실리콘 오일, 경화성 실리콘 왁스, 실리콘 수지, 불소 수지, 아크릴 수지 등의 박리성을 갖는 재료를 들 수 있다. 배면층의 두께는 통상 O.1 내지 3.0 ㎛로 형성된다.
또한, 본 발명이 실시 가능한 범위에 있어서, 상술한 층 이외에 더욱 층이 적층되어도 좋다. 예를 들어, 각 열전사 시트(123, 133, 150)의 최상부에 피전사체(200)에 대응한 접착층을 설치해도 좋다.
문자 전사부(122b)는 문자 정보에 한정되지 않고, 기호나 모양 등의 소정의 형상이라도 좋다. 또한, 회절 격자(151b)가 전사되어 소정의 형상을 형성하는 부위는 1군데에 한정되지 않는다. 열전사 정보부(121)에 부가하여 가변 정보를 늘릴 수 있어, 사용 목적이 확장되는 동시에 보안성도 높아진다. 또한, 홀로그램 전사부(110), 제1 회절 격자 전사부(120), 제2 회절 격자 전사부(130) 및 제3 회절 격자 전사부(140)에 나타나는 각 모양이나 문자는 상술한 태양에 한정되지 않는다.
또한, 제2 회절 격자 전사부(130) 및 제3 회절 격자 전사부(140)의 형성은, 우선 비전사부(132, 142)의 형상을 피하도록 회절 격자부(151b)를 전사해도 좋다. 이 경우에는 비전사부(132, 142)의 형상에 간극이 형성되므로, 그 간극에 스텔스 잉크를 넣으면 된다. 후방으로부터 스텔스 잉크를 넣는 경우에는 비전사부(132, 142)의 최외측 표면에 이형제가 포함되어 있지 않아도 좋다. 물론, 스텔스 잉크가 아닌, 통상의 가시 잉크를 이용하여 인자해도 좋다.
도1은 제1 형태에 있어서 형성하는 기록물의 화상을 도시하는 도면.
도2는 도1에 도시하는 화상을 형성하기 위해 사용하는 피전사체의 표면을 도시하는 도면.
도3은 도1에 도시하는 화상을 형성하기 위해 사용하는 광 회절 구조 전사 시트의 단면도.
도4는 도3에 도시하는 광 회절 구조 전사 시트의 광 회절 구조 형성층을 도시하는 도면.
도5는 도2에 도시하는 피전사체에 홀로그램부가 전사된 상태를 도시하는 도면.
도6은 제2 형태에 있어서 형성하는 화상을 갖는 기록물을 도시하는 도면.
도7a는 도6에 도시하는 최종 화상을 얻기 위해 사용되는 열전사 시트의 단면도.
도7b는 도6에 도시하는 최종 화상을 얻기 위해 사용되는 열전사 시트의 단면도.
도7c는 도6에 도시하는 최종 화상을 얻기 위해 사용되는 열전사 시트의 단면도.
도8은 도7c에 도시하는 광 회절 구조 전사 시트의 홀로그램층을 도시하는 도면.
도9a는 열전사 정보부가 형성된 피전사체를 도시하는 도면.
도9b는 피전사체 상에 형성된 열전사 정보부의 단면도를 도시하는 도면.
도10a는 열전사 정보부 및 비전사부가 형성된 피전사체를 도시하는 도면.
도10b는 피전사체 상에 형성된 비전사부의 단면도를 도시하는 도면.
도11은 홀로그램부가 형성된 피전사체를 도시하는 도면.
도12는 제2 회절 격자 전사부가 형성된 피전사체를 도시하는 도면.
도13은 열전사 정보부 상에 회절 격자가 전사된 상태를 도시하는 단면도.
도14는 비전사부를 피하도록 회절 격자가 피전사 상에 전사된 상태를 도시하는 단면도.
Claims (10)
- 광 회절 구조 전사 시트로부터 광 회절 구조를 포함하는 광 회절 구조층을 피전사체로 그 피전사체의 특정 영역을 피해 전사하는 광 회절 구조 전사 공정과,가시광 하에서는 시인할 수 없는 잉크로 구성된 불가시 잉크부를 포함하는 잉크층이 기재 시트 상에 적층된 잉크 전사 시트로부터 상기 잉크층을 상기 특정 영역으로 전사하는 잉크 전사 공정을 갖는 광 회절 구조가 포함된 화상의 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 잉크 전사 공정에서 상기 잉크층이 전사된 후에, 상기 광 회절 구조 전사 공정에서 상기 광 회절 구조층을 전사하는 화상 형성 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 기재 시트 상에는 상기 잉크층을 포함하는 전사층이 적층되고, 상기 잉크 전사 공정에서 상기 전사층의 표면에 이형제가 함유되어 있는 층이 남도록 상기 전사층을 상기 피전사체에 전사하는 화상 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 광 회절 구조 전사 공정에서 상기 광 회절 구조층이 전사된 후, 상기 잉크 전사 공정에서 상기 잉크층을 전사하는 화상 형성 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 특정 영역은 선 형상을 갖 는 화상 형성 방법.
- 가시광선 하에서는 시인할 수 없는 잉크로 구성된 불가시 잉크부를 포함하는 잉크층이 특정 영역에 설치되고, 또한 광 회절 구조를 포함하는 광 회절 구조층이 상기 특정 영역을 피하도록 설치되어 있는 화상을 갖는 기록물.
- 이형제가 함유되어 있지 않은 박리층을 포함하는 전사층이 기재 시트 상에 적층된 열전사 시트를 피전사체에 대향시켜, 상기 전사층을 그 표면에 상기 박리층이 남도록 하여 상기 피전사체로 열전사하는 공정과,상기 전사층의 표면에 남겨진 상기 박리층 상에 광 회절 구조 전사 시트에 설치된 광 회절 구조를 포함하는 광 회절 구조층을 전사하는 공정을 갖는 광 회절 구조가 포함된 화상을 형성하는 화상 형성 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 전사층은 상기 박리층 상에 잉크가 함유된 잉크층이 더 적층되고, 상기 열전사하는 공정에 있어서 상기 전사층을 상기 피전사체 상에서 특정한 형상을 형성하도록 열전사하는 화상 형성 방법.
- 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 광 회절 구조층을 전사하는 공정에서 상기 피전사체 상에 전사된 상기 전사층의 일부에 상기 광 회절 구조를 전사하는 화상 형성 방법.
- 열전사에 의해 형성된 열전사부와, 그 위에 적층된 광 회절 구조를 포함하는 화상을 갖는 기록물이며, 상기 열전사부의 상기 광 회절 구조가 접촉하고 있는 면에는 이형제가 함유되어 있지 않은 기록물.
Applications Claiming Priority (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2004-00063487 | 2004-03-08 | ||
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