KR20080039732A - 대기압 플라즈마 발생장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따르면, 제1전극 및 제1전극과 일정간격 이격된 상태로 마주보는 제2전극, 제1,2전극 하방에 일정간격 이격된 상태로 접지된 접지플레이트를 구비하는 전극부와, 제1,2전극 사이에 활성화가스를 공급하는 가스저장부와, 제1,2전극에 고압의 전원을 공급하여 제1,2전극 및 접지플레이트 사이에서 플라즈마가 발생되게 하는 전원공급부로 구성되어 기판을 제1,2전극 및 접지플레이트 사이로 이송시켜 발생되는 플라즈마에 의해 표면처리공정을 수행하는 플라즈마 발생장치에 있어서, 전극부의 접지플레이트 하부에는 전원공급부의 전원공급에 의해 발생된 플라즈마에 자계를 발생시켜 플라즈마의 전자 및 이온을 집속되게 하는 자계발생수단을 구비한다.
이와 같은 대기압 플라즈마 발생장치는, 발생된 플라즈마에 자계를 발생시켜 플라즈마의 전자나 이온들을 집속시켜 이송되는 기판 상에 플라즈마가 집속된 상태로 도달되게 하여 기판의 표면처리공정 효과를 증대시키게 된다.
플라즈마, 대기압, 발생장치, 전극, 자계, 자석

Description

대기압 플라즈마 발생장치{Atmospheric pressure plasma system}
도 1은 종래의 대기압 플라즈마 발생장치를 나타낸 개략도,
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 개략도,
도 3은 도 2에 나타낸 자계발생수단의 확대단면도,
도 4a 및 도 4c는 도 3의 형상 및 배열상태에 따른 자계발생상태도,
도 5a 및 도 5b는 도 3에 나타낸 연결플레이트의 전원공급 상태단면도,
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
100:플라즈마 발생장치 200:기판
300:전극부 310:제1전극
320:제2전극 330:접지플레이트
400:가스저장부 500:전원공급부
600:자계발생수단 610:영구자석
620:연결플레이트 630:케이스
본 발명은 플라즈마 발생장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 대기압 플 라즈마 발생장치에 관한 것이다.
일반적으로, 전압 또는 가열 등에 의하여 기체가 전리(ionization)되어 전자 및 이온의 수밀도가 비약적으로 증가되는데, 이러한 기체가 전리된 상태 즉, 전리기체를 플라즈마라고 한다.
이러한, 플라즈마는 액정표시장치를 포함하는 평판표시장치 및 반도체의 제조 공정 중 하나인 포토리소그래피 공정에 있어서, 금속물질 또는 반도체증 등을 패터닝 시 이용되는 포토레지스트를 애싱(ashing)처리하여 제거하거나, 기타 유기물질이나 반도체물질 등으로 이루어진 박막을 에칭(etching)하거나, 표면의 유기물 등을 제거하기 위한 세정(cleaning)공정에 플라즈마 발생장치를 이용하여 진행하고 있다.
여기서, 플라즈마 발생장치는 대기압과 진공상태에서 플라즈마를 발생시킬 수 있으나, 진공 플라즈마 발생장치는 진공상태를 만들기 위한 장비 및 장소의 제약이 있어 근래에는 대기압 플라즈마 발생장치를 사용하고 있다.
도 1은 종래의 대기압 플라즈마 발생장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도면에 도시한 바와 같이, 종래의 대기압 플라즈마 발생장치(10)는 서로 일정간격 이격된 상태로 마주보는 제1전극(1)과 제2전극(2)이 형성되어 있으며, 상기 제1,2전극(1,2) 하방에는 접지된 접지플레이트(7)가 구비되어 있으며, 상기 제1,2전극(1,2)은 고압의 전원공급부(3)와 연결한다. 상기 제1,2전극(1,2) 상부에는 가스저장용기(4)로부터 가스를 공급받아 이격된 제1,2전극(1,2) 사이에 활성화 가스를 공급한다.
따라서, 표면처리 공정을 진행할 기판(6)을 상기 제1,2전극(1,2) 및 상기 접지플레이트(7) 사이에 이송시키면서 제1,2전극(1,2)에 고압의 전원을 공급하면 공급된 활성화 가스로 인해 제1,2전극(1,2) 및 상기 접지플레이트(7) 사이에서 플라즈마가 발생되고, 발생된 플라즈마는 기판의 표면을 처리하게 된다.
그러나, 종래의 대기압 플라즈마 발생장치(10)는 대기압하에서 플라즈마를 발생시켜 기판(6)에 적용함으로써 플라즈마가 발생되어 플라즈마의 전자나 이온들의 집속이 이루어지지 못하면서 기판(6)표면에 안정적으로 도달되지 못하여 기판(6) 표면처리가 용이하게 이루어지지 못하는 문제점이 있다.
따라서, 종래의 대기압 플라즈마 발생장치는 전자나 이온을 집속하기 위해 플라즈마 전극을 다단으로 사용하게 되는데, 이러한, 경우에는 설치장소가 커지게 됨과 더불어 설치비용이 증대되는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 창출된 것으로서, 발생된 플라즈마의 전자와 이온을 대기압하에서 집속되게 하여 기판의 플라즈마 처리효과를 증대할 수 있도록 하는 대기압 플라즈마 발생장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기에 설명될 것이며, 본 발명의 실시예에 의해 알게 될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허청구범위에 나타낸 수단 및 조합에 의해 실현될 수 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 제1전극 및 상기 제1전극과 일정간격 이격된 상태로 마주보는 제2전극, 상기 제1,2전극 하방에 일정간격 이격된 상태로 접지된 접지플레이트를 구비하는 전극부와, 상기 제1,2전극 사이에 활성화가스를 공급하는 가스저장부와, 상기 제1,2전극에 고압의 전원을 공급하여 상기 제1,2전극 및 상기 접지플레이트 사이에서 플라즈마가 발생되게 하는 전원공급부로 구성되어 기판을 상기 제1,2전극 및 상기 접지플레이트 사이로 이송시켜 발생되는 플라즈마에 의해 표면처리공정을 수행하는 플라즈마 발생장치에 있어서, 상기 전극부의 접지플레이트 하부에는 상기 전원공급부의 전원공급에 의해 발생된 플라즈마에 자계를 발생시켜 플라즈마의 전자 및 이온을 집속되게 하는 자계발생수단을 포함한다.
그리고, 상기 자계발생수단은 상호 일정간격 이격된 상태로 마주보는 상부 및 하부의 극성이 반대가 되도록 구비되는 복수개의 영구자석과, 각 상기 영구자석의 하부 극성을 연결하는 연결플레이트와, 상기 영구자석 및 상기 연결플레이트를 감싸 상기 영구자석에서 발생되는 자계가 외부영향에 의해 약화되지 않도록 하는 케이스를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 연결플레이트는 자성체로 형성하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 연결플레이트에는 상기 영구자석의 자계 세기가 커지도록 교류전원이나 직류전원이 선택적으로 연결공급하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 케이스는 비자성체로 형성하는 것이 바람직하다.
이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적인 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치의 개략도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치(100)는, 제1전극(310) 및 상기 제1전극(310)과 일정간격 이격된 상태로 마주보는 제2전극(320) 및 제1,2전극(310,320) 하방에 일정간격 이격된 상태로 접지된 접지플레이트(330)를 구비하는 전극부(300), 상기 제1전극(310) 및 제2전극(320) 사이에 활성화가스를 공급하는 가스저장부(400), 상기 1전극 및 상기 제2전극(320)에 고압의 전원을 공급하는 전원공급부(500)를 구비한다.
따라서, 상기 가스저장부(400)의 활성화가스가 상기 제1전극(310) 및 제2전극(320) 사이에 공급된 상태에서 상기 전원공급부(500)에 의해 고압의 전원이 상기 제1전극(310) 및 상기 제2전극(320)에 공급되면, 상기 제1,2전극(310,320) 및 상기 접지플레이트(330) 사이에서 플라즈마가 발생하며, 발생된 플라즈마가 상기 제1,2 전극(310,320) 및 상기 접지플레이트(330) 사이로 이송되는 기판(200)의 표면처리공정을 수행하게 된다.
그리고, 상기 전극부(300)의 접지플레이트(330) 하부에는 상기 전원공급부(500)에서 공급되는 고압의 전원에 의해 발생한 플라즈마에 자계를 발생시켜 상기 기판(200) 표면으로 플라즈마의 전자나 이온을 집속시키는 자계발생수단(600)이 구비되어 있다.
여기서, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 자계발생수단(600)은 상호 일정간격 이격된 상태로, 마주보는 상부 및 하부의 극성이 반대가 되도록 구비하는 복수개의 영구자석(610)과, 각 상기 영구자석(610)의 하부 극성을 연결하는 연결플레이트(620)를 구비한다.
상기 영구자석(610)은 도 3에서 상호 일정간격 이격된 상태로 3개의 영구자석이 도시되었으나 이에 한정되지 않고 그 이상의 영구자석을 구비할 수도 있다.
또한, 상기 영구자석(610)은 도 4a 및 도 4c에 도시한 바와 같은 형상 및 배열 상태를 달리하여 자계 강도를 조절하여 발생된 플라즈마 내부의 전자와 이온의 직진도와 회전방향 및 회전속도를 결정하게 된다.
그리고, 상기 연결플레이트(620)는 상기 영구자석(610)의 하부 극성을 연결한 상태에서 자화되어 발생되는 자계의 세기가 커지도록 자성체로 형성하는 것이 바람직하다.
즉, 상기 연결플레이트(620)는 상기 영구자석(610)에 연결되어 자화가 용이한 금속재질을 사용하는 것이 바람직하다.
여기서, 도 5a 및 도 5b에 도시한 바와 같이 상기 연결플레이트(620)에는 교류전원(700)이나 직류전원(800)을 연결공급함으로써 상기 영구자석(610)의 자계 세기가 커지도록 할 수도 있다.
즉, 상기 연결플레이트(620)에 교류전원(700)이나 직류전원(800)을 공급하게 되면, 상기 영구자석(610) 및 상기 연결플레이트(620)가 전자석이 되면서 공급되는 전원크기에 따라 발생되는 자계의 크기도 달라지게 된다.
또한, 상기 자계발생수단(600)은 상기 영구자석(610) 및 상기 연결플레이트(620)를 감싸 상기 영구자석(610)에서 발생되는 자계가 외부영향에 의해 약화되지 않도록 하는 케이스(630)를 포함한다.
따라서, 상기 케이스(630)는 외부영향에 의해 상기 영구자석(610)의 자계에 영향을 주지 않도록 비자성체로 형성하는 것이 바람직하며, 특히 구리계열의 합금을 사용하거나 세라믹이나 고분자수지를 사용하는 것이 바람직하다.
이와 같이, 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 대기압 플라즈마 발생장치(100)의 기판(200)표면처리공정을 수행할 경우에는, 먼저, 상기 가스저장부(400)에서 활성화가스를 상기 전극부(300)의 제1전극(310) 및 제2전극(320) 사이로 공급시키면서, 상기 전원공급부(500)를 통해 상기 전극부(300)의 제1,2전극(310,320)에 고압의 전원을 공급한다.
이와 동시에, 상기 전극부(300)의 제1,2전극(310,320) 및 접지플레이트(330) 사이에 상기 기판(200)을 이송시킨다.
그러면, 상기 전극부(300)의 제1,2전극(310,320) 및 상기 접지플레이트(330) 사이에서 플라즈마가 발생하게 된다.
이때, 배출되는 플라즈마의 전자나 이온들은 상기 기판(200) 하부에 위치하고 있는 상기 자계발생수단(600)의 상기 영구자석(610)의 자계에 의해 상기 영구자석(610) 사이로 집속되면서 대기압하에서 상기 기판(200) 표면에 플라즈마가 집속된 상태로 도달되게 하여 상기 기판(200)의 표면처리공정 효과가 증대되도록 한다.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술 사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.
상술한 바와 같은 본 발명의 대기압 플라즈마 발생장치는, 발생된 플라즈마에 자계를 발생시켜 플라즈마의 전자나 이온들을 집속시켜 이송되는 기판 상에 플라즈마가 집속된 상태로 도달되게 하여 기판의 표면처리공정 효과를 증대시키게 된다.

Claims (5)

  1. 제1전극 및 상기 제1전극과 일정간격 이격된 상태로 마주보는 제2전극, 상기 제1,2전극 하방에 일정간격 이격된 상태로 접지된 접지플레이트를 구비하는 전극부와, 상기 제1,2전극 사이에 활성화가스를 공급하는 가스저장부와, 상기 제1,2전극에 고압의 전원을 공급하여 상기 제1,2전극 및 상기 접지플레이트 사이에서 플라즈마가 발생되게 하는 전원공급부로 구성되어 기판을 상기 제1,2전극 및 상기 접지플레이트 사이로 이송시켜 발생되는 플라즈마에 의해 표면처리공정을 수행하는 플라즈마 발생장치에 있어서,
    상기 전극부의 접지플레이트 하부에는 상기 전원공급부의 전원공급에 의해 발생된 플라즈마에 자계를 발생시켜 플라즈마의 전자 및 이온을 집속되게 하는 자계발생수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 자계발생수단은
    상호 일정간격 이격된 상태로 마주보는 상부 및 하부의 극성이 반대가 되도록 구비되는 복수개의 영구자석과,
    각 상기 영구자석의 하부 극성을 연결하는 연결플레이트 및,
    상기 영구자석 및 상기 연결플레이트를 감싸 상기 영구자석에서 발생되는 자계가 외부영향에 의해 약화되지 않도록 하는 케이스를 포함하는 것을 특징으로 하 는 대기압 플라즈마 발생장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 연결플레이트는 자성체로 형성한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치.
  4. 제 2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 연결플레이트에는 상기 영구자석의 자계 세기가 커지도록 교류전원이나 직류전원이 선택적으로 연결공급되는 것을 특징으로 하는 대기압플라즈마 발생장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 케이스는 비자성체로 형성한 것을 특징으로 하는 대기압 플라즈마 발생장치.
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