KR20080004346A - 불균일 검사 장치, 화상 표시 장치, 불균일 검사 방법 및화상 표시 방법 - Google Patents

불균일 검사 장치, 화상 표시 장치, 불균일 검사 방법 및화상 표시 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080004346A
KR20080004346A KR1020070058702A KR20070058702A KR20080004346A KR 20080004346 A KR20080004346 A KR 20080004346A KR 1020070058702 A KR1020070058702 A KR 1020070058702A KR 20070058702 A KR20070058702 A KR 20070058702A KR 20080004346 A KR20080004346 A KR 20080004346A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
image
light
substrate
concentration
Prior art date
Application number
KR1020070058702A
Other languages
English (en)
Inventor
기치지 아자이
Original Assignee
다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 filed Critical 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Publication of KR20080004346A publication Critical patent/KR20080004346A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
    • G01N2021/8809—Adjustment for highlighting flaws

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

불균일 검사 장치에서는, 광 조사부로부터 기판상의 막에 광을 조사하고, 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 촬상부에서 수광함으로써, 막의 원(元) 화상이 취득된다. 원 화상으로부터 도출되는 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선(等濃度線)(721)이 구해지고, 각 평가 위치(722)에 설정되는 평가 영역(723) 중에 존재하는 등농도선(721)의 개수를 구함으로써, 해당 평가 위치(722)에 대해 대상 화상 중의 농도 변화의 구배를 나타내는 평가값이 취득된다. 그 결과, 평가값을 참조하여, 기판상의 막의 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인할 수 있다.

Description

불균일 검사 장치, 화상 표시 장치, 불균일 검사 방법 및 화상 표시 방법{UNEVENNESS INSPECTING APPARATUS, IMAGE DISPLAY APPARATUS, UNEVENNESS INSPECTING METHOD, AND IMAGE DISPLAY METHOD}
도 1은 불균일 검사 장치의 구성을 나타낸 도면,
도 2는 촬상부의 수광면을 나타낸 도면,
도 3은 컴퓨터의 구성을 나타낸 도면,
도 4는 컴퓨터가 실현되는 기능 구성을 나타낸 블록도,
도 5는 불균일 검사 장치가 기판상의 막의 막 두께 불균일을 검사하는 처리 흐름을 나타낸 도면,
도 6은 대상 화상을 나타낸 도면,
도 7은 등농도선 화상을 나타낸 도면,
도 8은 평가 위치 및 평가 영역을 나타낸 도면,
도 9는 등농도선이 겹쳐진 대상 화상을 나타낸 도면,
도 10은 평가값을 취득하는 처리의 다른 예를 설명하기 위한 도면.
본 발명은, 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일을 검사하는 기술 및 해당 막 두께 불균일의 검사에 이용되는 화상을 표시하는 기술에 관한 것이다.
종래부터, 표시 장치용 유리 기판 등(이하, 간단히「기판」이라고 한다.)의 주면(主面) 상에 소정의 패턴을 형성할 때에는, 기판의 주면 상에 레지스트액을 도포하면서 기판을 회전함으로써 레지스트막을 형성하는 것이 행해지고 있으며, 일본국 특개2006-49630호 공보에서는, 스핀코터에 의한 레지스트액의 도포 직후의 기판의 화상을 취득하여 기판의 주면 상의 도포 불균일을 검사하는 기술이 제안되어 있다.
또, 일본국 특개평7-301608호 공보(문헌 1)에서는, 광 투과성 막이 형성된 기판을 향해 광을 조사하고, 기판의 막에서 반사된 간섭광을 촬상부에서 수광하고, 촬상부로부터 출력되는 신호에 있어서, 기판상의 비교적 큰 막 두께의 변화에 기인하여 발생하는 간섭 무늬를 나타내는 파형(波形)의 유무를 판정함으로써, 기판상에서 막 두께가 국소적으로 변화하는 결함(즉, 고주파의 막 두께 불균일)을 검출하는 방법이 개시되어 있다.
그런데, 기판의 막에 있어서 완만하게 막 두께가 변화하는 막 두께 불균일, 즉, 저주파의 막 두께 불균일은, 일반적으로는 결함으로는 되지 않지만, 저주파의 막 두께 불균일이라 하더라도 그 막 두께 변화의 구배에 따라서는, 후속의 프로세스나 최종 제품에 대해 영향을 미치는 경우가 있다. 그렇지만, 상기 문헌 1의 방법을 이용한다 하더라도, 막 두께 변화의 구배(句配)를 취득할 수 없고, 또, 작업자가 육안으로 검사하고자 하더라도, 미소한 막 두께 변화의 구배를 확인하는 것은 곤란하다. 따라서, 기판상의 막의 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인하는 것이 가능한 신규의 방법이 필요하다.
본 발명은, 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일을 검사하는 불균일 검사 장치에 관한 것으로서, 기판상에 형성된 막의 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 불균일 검사 장치는, 광 투과성 막이 형성된 기판을 유지하는 유지부와, 막에 광을 조사하는 광 조사부와, 광 조사부로부터 출사되어 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 수광하여 막의 원(元) 화상을 취득하는 촬상부와, 원 화상 또는 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선(等濃度線)을 구하는 등농도선 취득부와, 대상 화상 중의 복수의 위치에서 농도 변화의 구배를 나타내는 평가값을 복수의 등농도선에 근거하여 구하는 평가값 취득부를 구비한다.
본 발명에 의하면, 평가값을 참조함으로써, 기판상의 막의 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인할 수 있다.
본 발명의 일 국면에서는, 평가값 취득부가, 복수의 위치의 각각에 설정되는 영역 중에 존재하는 등농도선의 개수를 평가값으로서 취득하고, 본 발명의 다른 국면에서는, 복수의 위치가 복수의 등농도선상에 설정되며, 평가값 취득부가, 복수의 위치로부터 인접하는 등농도선까지의 거리를 평가값으로서 취득한다. 그 결과, 평가값을 용이하게 취득할 수 있다.
본 발명은, 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일의 검사에 이용되는 화상을 표시하는 화상 표시 장치에도 이용하는 것이 바람직하며, 화상 표시 장치는, 광 투과성 막이 형성된 기판을 유지하는 유지부와, 막에 광을 조사하는 광 조사부와, 광 조사부로부터 출사되어 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 수광하여 막의 원 화상을 취득하는 촬상부와, 원 화상 또는 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선을 구하는 등농도선 취득부와, 복수의 등농도선을 표시하는 표시부를 구비한다.
본 발명에 의하면, 표시부에 표시되는 등농도선을 참조함으로써, 기판상의 막의 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인할 수 있다.
본 발명 중 하나의 바람직한 형태에서는, 표시부가, 복수의 등농도선을 대상 화상에 겹쳐 표시함으로써, 기판상의 막의 막 두께 변화의 구배를 대상 화상과 함께 확인할 수 있다.
본 발명의 다른 바람직한 형태에서는, 대상 화상이 평활화 처리가 실시된 것임에 따라, 매끄러운 등농도선을 취득하여, 기판상의 막의 막 두께 변화의 구배를 적확하게 확인 가능한 상태에서 등농도선을 표시할 수 있다.
본 발명은, 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일을 검사하는 불균일 검사 방법에 관한 것으로서, 또한 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일의 검사에 이용되는 화상을 표시하는 화상 표시 방법에 관한 것이다.
상술한 목적 및 다른 목적, 특징, 형태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 행하는 본 발명의 상세한 설명에 의해 명확해진다.
(발명의 실시 형태)
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 불균일 검사 장치(1)의 구성을 나타낸 도면이다. 불균일 검사 장치(1)는, 액정표시 장치 등의 평면 표시 장치에 이용되는 유리 기판(9)에 있어서, 일방의 주면(91) 상에 레지스트액을 도포함으로써 형성된 패턴 형성용의 레지스트 막(92)의 화상을 취득하고, 이 화상에 근거하여 기판(9) 막(92)의 막 두께 불균일을 검사하는 장치이다. 또한, 기판(9)의 크기는, 예를 들면 700×600밀리미터가 되고, 막(92)의 두께는 수십 나노미터∼2마이크로미터가 된다.
도 1에 도시한 바와 같이, 불균일 검사 장치(1)는, 막(92)이 형성된 주면(91)(이하, 「상면(91)」이라고 한다.)을 상측(도 1에서의 (＋Z)측)을 향해 기판(9)을 유지하는 스테이지(2), 스테이지(2)에 유지된 기판(9)상의 막(92)에 소정의 입사각으로 광을 조사하는 광 조사부(3), 광 조사부(3)로부터 조사되어 기판(9)의 상면(91)상의 막(92)에서 반사된 광을 수광하는 수광 유닛(4), 스테이지(2)를 광 조사부(3) 및 수광 유닛(4)에 대해 상대적으로 이동하는 이동 기구(21) 및 불균일 검사 장치(1)의 제어부로서의 역할을 완수하는 컴퓨터(5)를 구비한다.
스테이지(2)의 (＋Z)측의 표면은, 바람직하게는 무반사면(흑색 광택 제거)이 된다. 이동 기구(21)는, 모터(211)에 볼나사(도시 생략)가 접속된 구성이 되고, 모터(211)가 회전함으로써, 스테이지(2)가 가이드(212)를 따라 기판(9)의 상면(91) 을 따르는 도 1에서의 X방향으로 이동한다.
광 조사부(3)는, 백색광(즉, 가시 영역의 모든 파장의 광을 포함하는 광)을 출사하는 광원인 할로겐 램프(31), 스테이지(2)의 이동 방향에 수직인 도 1에서의 Y방향으로 뻗어 있는 원기둥 형상의 석영 로드(32) 및 Y방향으로 뻗어 있는 실린드리컬 렌즈(33)를 구비한다. 광 조사부(3)에서는, 할로겐 램프(31)가 석영 로드(32)의 (＋Y)측의 단부에 장착되어 있으며, 할로겐 램프(31)로부터 석영 로드(32)에 입사한 광은, Y방향으로 뻗어 있는 선형상 광(즉, 광 다발 단면이 Y방향으로 긴 선형상이 되는 광)으로 변환되어 석영 로드(32)의 측면으로부터 출사되고, 실린드리컬 렌즈(33)를 통해 기판(9)의 상면(91)으로 도출된다. 바꾸어 말하면, 석영 로드(32) 및 실린드리컬 렌즈(33)는, 할로겐 램프(31)로부터의 광을 스테이지(2)의 이동 방향에 수직인 선형상 광으로 변환하여 기판(9)의 상면(91)으로 도출하는 광학계로 되어 있다.
도 1에서는, 광 조사부(3)로부터 기판(9)에 이르는 광로를 일점 쇄선으로 나타내고 있다(기판(9)으로부터 수광 유닛(4)에 이르는 광로에 대해서도 동일). 광 조사부(3)로부터 출사된 광의 일부는, 기판(9)의 상면(91) 상의 막(92)의 (＋Z)측의 상면에서 반사된다. 막(92)은 광 조사부(3)로부터의 광에 대해 광 투과성을 갖고 있으며, 광 조사부(3)로부터의 광 중에서 막(92)의 상면에서 반사하지 않은 광은, 막(92)을 투과하여 기판(9)의 상면(91)(즉, 막(92)의 하면)에서 그 일부가 반사된다. 불균일 검사 장치(1)에서는, 기판(9)에 있어서의 막(92)의 상면에서 반사된 광과 기판(9)의 상면(91)에서 반사된 광의 간섭광이 수광 유닛(4)에 입사하고, 필터(43) 및 렌즈(42)를 통해 특정한 파장의 간섭광이 촬상부(41)로 도출된다.
도 2는 촬상부(41)의 수광면을 나타낸 도면이다. 도 2에 도시한 바와 같이, 촬상부(41)에는 복수의 수광 소자(예를 들면, CCD(Charge Coupled Device)(411)를 Y방향에 직선 형상으로 배열하여 갖는 라인 센서(410)가 설치된다. 촬상부(41)에서는, 기판(9)으로부터의 간섭광이 라인 센서(410)에서 수광됨으로써, 간섭광의 강도 분포(즉, 각 수광 소자(411)로부터의 출력값의 Y방향에서의 분포)가 취득된다. 실제로는, 기판(9)의 X방향으로의 이동에 수반하여 촬상부(41)의 라인 센서(410)에서 간섭광의 강도 분포가 반복 취득됨으로써 기판(9)상의 막(92)의 2 차원 화상이 취득된다.
컴퓨터(5)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 각종 연산 처리를 행하는 CPU(51), 기본 프로그램을 기억하는 ROM(52) 및 각종 정보를 기억하는 RAM(53)을 버스 라인으로 접속한 일반적인 컴퓨터 시스템의 구성으로 되어 있다. 버스 라인에는 또한, 정보 기억을 행하는 고정 디스크(54), 각종 정보의 표시를 행하는 표시부인 디스플레이(55), 조작자로부터의 입력을 받아들이는 키보드(56a) 및 마우스(56b), 광 디스크, 자기 디스크, 광 자기 디스크 등의 컴퓨터 판독 가능한 기록매체(8)로부터 정보의 판독을 행하는 판독 장치(57) 및 불균일 검사 장치(1)의 다른 구성요소에 접속되는 통신부(58)가, 적절하게, 인터페이스(I/F)를 개재하는 등으로 접속된다.
컴퓨터(5)에는, 사전에 판독 장치(57)를 통해 기록 매체(8)로부터 프로그램(541)이 독출되어, 고정 디스크(54)에 기억된다. 그리고, 프로그램(541)이 RAM(53)에 복사됨과 동시에 CPU(51)가 RAM(53) 내의 프로그램에 따라 연산 처리를 실행함으로써(즉, 컴퓨터가 프로그램을 실행함으로써), 컴퓨터(5)가 기판(9) 상의 막 두께 불균일을 검사하는 연산부로서의 동작을 행한다.
도 4는, CPU(51)가 프로그램(541)에 따라 동작함으로써, CPU(51), ROM(52), RAM(53), 고정 디스크(54) 등이 실현되는 기능 구성을 나타낸 블록도이다. 도 4에서 연산부(6) 내의 화상 처리부(61), 등농도선 취득부(62), 평가값 취득부(63), 판정부(64) 및 표시 제어부(65)가 CPU(51) 등에 의해 실현되는 기능을 나타낸다. 또한, 이들 기능은 전용의 전기적 회로에 의해 실현되어도 되고, 부분적으로 전용의 전기적 회로가 이용되어도 된다.
다음으로, 불균일 검사 장치(1)에 의한 막 두께 불균일 검사의 흐름에 대해 설명한다. 도 5는 불균일 검사 장치(1)가 기판(9)상의 막(92)의 막 두께 불균일을 검사하는 처리 흐름을 나타낸 도면이다. 불균일 검사 장치(1)에서는, 우선, 상면(91) 상에 막(92)이 형성된 기판(9)이, 도 1 중에 실선으로 나타낸 검사 개시 위치에 위치하는 스테이지(2) 상에 유지된 후, 스테이지(2)의 (＋X)방향으로의 이동이 개시된다. 계속해서, 광 조사부(3)로부터 출사되어 기판(9)의 상면(91)에 대해 소정의 입사각으로 입사하는 선형상 광이, 상면(91) 상의 직선 형상의 조사 영역(이하, 「선형상 조사 영역」이라고 한다.)으로 조사되고(단계 S11), 선형상 조사 영역이 기판(9)에 대해 상대적으로 이동한다. 광 조사부(3)로부터의 광은 기판(9)의 막(92)에서 반사하고, 특정한 파장의 간섭광이 촬상부(41)로 도출되어 라인 센서(410)에서 수광되고, 기판(9) 상의 선형상 조사 영역에서의 간섭광의 강도 분포가 취득된다. 라인 센서(410)의 각 수광 소자(411)로부터의 출력은, 소정의 변환 식에 근거하여, 예를 들면 8bit(물론, 8bit 이외여도 된다.)의 값(화소값)으로 변환되면서 컴퓨터(5)로 보내진다.
불균일 검사 장치(1)에서는, 스테이지(2)가 (＋X)방향으로 이동하는 동안, 촬상부(41)에서의 간섭광의 강도 분포의 취득 및 화소값의 컴퓨터(5)로의 출력이 스테이지(2)의 이동에 동기하여 반복된다. 그리고, 스테이지(2)가 검사 종료 위치까지 이동하면, 이동 기구(21)에 의한 스테이지(2)의 이동이 정지되고, 조명 광의 조사도 정지된다. 이상과 같이 하여, 촬상부(41)에서는 기판(9) 상의 막(92) 전체를 촬상하여 다계조의 2차원 화상(후술하는 처리가 실시되기 전의 화상으로, 이하, 「원 화상」이라고 한다.)이 취득되고, 컴퓨터(5)의 연산부(6)에 입력되어 준비된다(단계 S12).
계속해서, 연산부(6)의 화상 처리부(61)에서는, 원 화상에 대해 메디안 필터를 작용시킴으로써 원 화상으로부터 노이즈 성분이 제거되고, 계속해서, 해당 화상에 평활화 처리를 실시함(즉, 평활화 필터를 작용시킨다)으로써, 도 6에 도시한 바와 같이, 농도 변화를 평활화시킨 화상(이하, 「대상 화상」이라고 한다.)(71)이 생성된다(단계 S13). 또한, 대상 화상(71)은 256계조의 화상이 된다. 또, 필요에 따라서, 평활화 처리 후의 화상에 콘트래스트 강조 처리 등이 실시되어도 된다.
대상 화상(71)이 생성되면, 등농도선 취득부(62)에서는, 예를 들면 값 127보다 10의 정수배만큼 작은 값 117, 107…7, 및 값 127보다 10의 정수배만큼 큰 값 137, 147…247의 각각을 임계값으로 하여 대상 화상이 2치화 된다. 구체적으로는, 대상 화상의 각 화소의 값과 각 임계값이 비교되고, 값이 임계값 이상의 화소에 「 0」을 부여하고, 임계값보다 작은 화소에 「O」을 부여함으로써, 복수의 임계값에 각각 대응하는 복수의 2치 화상이 취득된다. 대상 화상(71)의 2치화 시의 임계값은, 대상 화상(71)의 농도 범위(콘트래스트 폭), 혹은, 후술하는 평가 영역의 크기 등에 근거하여 적절하게 변경되어도 된다.
계속해서, 각 2치 화상에 대해 에지 검출 처리가 실시됨으로써, 각 2치 화상 중의 폐쇄 영역(단, 화상의 외측 가장자리에 접하는 것도 포함한다.)의 에지, 즉, 값 1의 화소가 차지하는 영역과, 값 O의 화소가 차지하는 영역과의 경계선이 취득되고, 각 경계선은, 이 2치 화상의 생성 시에 이용된 임계값에 대응하여 기억된다(단계 S14). 또한, 2치 화상 중에 폐쇄 영역이 고립되어 존재하는 경우, 해당 폐쇄 영역의 에지를 나타내는 경계선은 폐곡선이 된다. 그리고, 등농도선 취득부(62)에서는, 도 7에 도시한 바와 같이, 복수의 2치 화상으로부터 취득되는 모든 경계선(721)을 서로 겹친 화상(72)이 생성된다.
여기서, 2치 화상에 있어서의 값 1을 나타내는 영역은, 임계값이 작아짐에 따라 커지고, 어떤 임계값의 2치 화상 중의 값 1의 영역은, 이 임계값보다 작은 임계값의 2치 화상 중의 값 1의 영역에 반드시 포함된다. 따라서, 어떤 임계값의 2치 화상으로부터 취득되는 경계선(721)과, 이 임계값에 인접하는 임계값의 2치 화상으로부터 취득되는 경계선(721)에 의해 끼워지는 대상 화상(71) 중의 영역의 화소의 값은, 이들 2가지의 임계값 사이의 값으로 되어 있다. 따라서, 각 경계선(721)은, 대상 화상(71)에서 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 나타내고 있다고 할 수 있으며, 이하의 설명에서는, 경계선을 등농도선이라고 부르 고, 모든 등농도선을 나타내는 화상을 등농도선 화상이라고 부른다.
등농도선 화상(72)이 생성되면, 평가값 취득부(63)에서는, 도 8에 도시한 바와 같이, 등농도선 화상(72) 중에서 미리 정해진 복수의 위치(이하, 「평가 위치」라고 한다.)(722)의 각각이 차례로 특정되고, 각 평가 위치(722)에 설정되는 원형의 영역(이하, 「평가 영역」이라고 한다.)(723) 중에 존재하는 등농도선(721)의 개수가 평가값으로서 구해진다(단계 S15). 예를 들면, 도 8 중에 부호 722a를 부여하여 나타낸 평가 위치에서는, 평가 영역(723a) 중에 존재하는 등농도선(721)의 개수가 3개가 됨으로써 평가값이 3이 되고, 도 8 중에 부호 722b를 부여하여 나타낸 평가 위치에서는, 평가 영역(723b) 중에 존재하는 등농도선(721)의 개수가 1개가 됨으로써 평가값이 1이 된다.
또, 도 8 중에 부호 722c를 부여하여 나타낸 평가 위치에서는, 대응하는 평가 영역(723c) 중에 3개의 선분이 존재하지만, 평가값 취득부(63)에서는, 평가 영역(723c) 중에 존재하는 등농도선(721)으로서, 서로 다른 임계값의 2치 화상으로부터 도출되는 것의 개수가 구해지기 때문에, 평가 위치(722c)에 대한 평가값은 2가 된다. 기술한 바와 같이, 등농도선 화상(72) 중의 각 등농도선(721)은, 해당 등농도선(721)이 도출되는 2치 화상을 생성할 때의 임계값에 대응되어 있으며, 어떤 평가 영역(723) 중에 동일한 2치 화상으로부터 얻어지는 복수의 등농도선(721)이 존재하는 경우에는, 이들 등농도선(721)은 1개로 간주된다.
기술한 바와 같이, 각 등농도선(721)은 대상 화상(71)에서 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 나타내기 때문에, 각 평가 위치(722)에 설정되는 평가 영역(723) 중에 존재하는 등농도선(721)의 개수를 구함으로써 취득되는 평가값은, 대상 화상(71) 중의 해당 평가 위치(722)에 대응하는 위치(이하, 동일하게 「평가 위치」라고 한다.)에서의 농도 변화의 구배(즉, 농도의 변화량의 거리에 대한 비율)를 나타내는 것이라고 할 수 있다. 또한, 본 실시 형태에서는, 각 평가 위치(722)에 대해 설정되는 평가 영역이 원형이 됨에 따라, 평가값에 대한 방향성의 영향이 배제되지만, 각 평가 위치(722)에 대해, 정방형 등의 다른 형상의 평가 영역이 설정되어도 된다. 또, 평가 영역의 크기는, 서로 인접하는 등농도선(721)이 나타내는 농도 범위나 후술하는 막 두께 불균일 결함의 판정 임계값 등에 근거하여 적절하게 변경되어도 된다.
각 평가 위치(722)에 대한 평가값이 구해지면, 판정부(64)에서는, 각 평가 위치(722)의 평가값과 소정의 임계값이 비교되고, 임계값 이상의 평가값을 갖는 평가 위치(722)가 존재하는지의 여부가 판정된다(단계 S16). 임계값 이상의 평가값을 갖는 평가 위치(722)가 존재하는 경우에는, 대상 화상(71)이 취득된 기판(9)의 막(92)에 허용 범위를 초과하는 막 두께 변화의 구배를 갖는 부분(이하, 「막 두께 불균일 결함」이라고 한다.)이 존재하고, 임계값 이상의 평가값을 갖는 평가 위치(722)가 존재하지 않는 경우에는, 기판(9)의 막(92)에는 막 두께 불균일 결함이 존재하지 않는 것이 된다.
막 두께 불균일 결함의 유무가 판정되면, 표시 제어부(65)에 의해, 도 9에 도시한 바와 같이, 등농도선 화상(72) 중의 모든 등농도선(721)이 대상 화상(71)에 겹쳐 디스플레이(55)에 표시된다(단계 S17). 이때, 판정부(64)에 의한 판정 결과 가 막 두께 불균일 결함의 존재를 나타내는 경우에는, 예를 들면, 막 두께 불균일 결함에 대응하는 평가 위치(722)의 평가 영역(723)의 외형도 특정 가능하게 표시함으로써, 막 두께 불균일 결함이 존재하는 취지가 그 위치와 함께 조작자에게 보고된다. 이에 따라, 조작자가 디스플레이(55)에 표시되는 등농도선(721) 및 대상 화상(71)을 참조하여, 기판(9)상의 막(92)의 막 두께 불균일 결함에 대응하는 부분의 막 두께 변화의 구배를 재확인할 수 있다. 또, 판정부(64)에 의한 판정 결과가 막 두께 불균일 결함의 부존재를 나타내는 경우라도, 등농도선(721)을 대상 화상(71)에 겹쳐 디스플레이(55)에 표시함으로써, 조작자가, 기판(9)상의 막(92)의 막 두께의 분포를 대상 화상(71)과 함께 용이하게 확인할 수 있다.
이상에 설명한 바와 같이, 불균일 검사 장치(1)에서는, 광 조사부(3)로부터 기판(9)의 막(92)에 광을 조사하고, 막(92)에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 촬상부(41)에서 수광함으로써, 막(92)의 원 화상이 취득된다. 그리고, 원 화상으로부터 도출되는 대상 화상(71)에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선(721)이 구해지고, 대상 화상(71) 중의 복수의 평가 위치(722)의 각각에서 농도 변화의 구배를 나타내는 평가값이, 복수의 등농도선(721)에 근거하여 취득된다. 이에 따라, 기판(9)의 막(92)에 대해 저주파의 막 두께 불균일 등이 존재하는 경우라도, 평가값을 참조함으로써, 그 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인할 수 있어, 막 두께 변화의 구배가 후속의 프로세스나 최종 제품에 미치는 영향의 관리를 적절하게 행하는 것이 실현된다.
평가값 취득부(63)에서는, 각 평가 위치(722)에 설정되는 평가 영역(723) 중 에 존재하는 등농도선(721)의 개수가 평가값이 됨으로써, 평가값을 용이하게 취득할 수 있다. 또, 등농도선(721)이 취득되는 대상 화상(71)이 평활화 처리가 실시된 것임에 따라, 매끄러운 등농도선(721)을 취득하는 것이 가능하게 되고, 이에 따라, 적절한 평가값을 안정되게 취득할 수 있음과 동시에, 기판(9)상의 막(92)의 막 두께 변화의 구배를 적확하게 확인 가능한 상태에서 등농도선(721)을 디스플레이(55)에 표시할 수 있다.
또, 불균일 검사 장치(1)에서는, 등농도선 취득부(62)에서 등농도선 화상(72)이 생성된 후(도 5: 단계 S14), 단계 S15, S16을 생략하여, 도 9에 도시한 바와 같이, 등농도선 화상(72) 중의 모든 등농도선(721)이 대상 화상(71)에 겹쳐 디스플레이(55)에 표시되어도 된다(단계 S17). 이 경우에서도, 조작자가, 표시되는 등농도선(721)을 참조함으로써, 기판(9)상의 막(92)의 막 두께 변화의 구배를 대상 화상(71)과 함께 용이하게 확인할 수 있다. 또한, 평가값 취득부(63) 및 판정부(64)에서의 처리를 생략하는 경우, 불균일 검사 장치(1)는, 기판(9)상에 형성된 막(92)의 막 두께 불균일의 검사에 이용되는 화상을 표시하는 화상 표시 장치로서 기능하게 된다.
다음으로, 도 5의 단계 S15에서 행해지는 평가값 취득부(63)가 평가값을 취득하는 처리의 다른 예에 대해 설명한다. 본 처리예에서는, 등농도선 화상 중의 각 등농도선상에서 일정한 간격으로 존재하는 각 위치가, 평가값이 구해지는 평가 위치가 되고, 각 평가 위치로부터 인접하는 등농도선까지의 거리가 평가값으로서 구해진다. 예를 들면, 등농도선 화상 중에, 도 10에 도시한 등농도선(721)이 존재 하는 경우에, 부호 721a를 부여하는 등농도선상에서 부호 722d를 부여하는 평가 위치에 대한 평가값을 구할 때에는, 평가 위치(722d)를 중심으로 하는 소정의 반경의 원(724a)이 설정되고, 이 원(724a)이 등농도선(721a)에 인접하는 등농도선(721)(이하, 「인접 등농도선(721)」이라고 한다.)과 교차하는지의 여부가 확인된다. 도 10의 예에서는, 원(724a)은 어떤 인접 등농도선(721)과도 교차하지 않기 때문에, 계속해서, 원(724a)보다 일정한 길이만큼 큰 반경의 원(724b)이 설정되고, 원(724b)이 인접 등농도선(721)과 교차하는지의 여부가 확인되어, 교차하지 않는다고 판단된다. 이와 같이, 평가 위치(722d)를 중심으로 하면서 반경이 일정한 길이만큼 긴 원을 차례로 설정하여, 해당 원이 인접 등농도선(721)과 교차하는지의 여부가 확인된다. 그리고, 어떤 길이의 반경의 원(724e)이 인접 등농도선(721)과 교차한다고 판단되면, 이 원(724e)의 반경이 평가 위치(722d)의 평가값이 된다.
이상과 같이 하여, 모든 평가 위치(722)의 평가값이 취득되면, 상기의 예와 마찬가지로, 판정부(64)에서 각 평가 위치(722)의 평가값과 소정의 임계값이 비교되고, 막 두께 불균일 결함의 유무가 판정된다(단계 S16). 그리고, 등농도선 화상(72) 중의 모든 등농도선(721)이 대상 화상(71)에 겹쳐 디스플레이(55)에 표시되고, 막 두께 불균일 결함이 존재하는 경우에는, 그 취지가 막 두께 불균일 결함에 대응하는 위치와 함께 조작자에게 보고된다(단계 S17).
이상에 설명한 바와 같이, 평가값 취득부(63)에서는, 복수의 평가 위치(722)가 복수의 등농도선(721) 상에 설정되고, 각 평가 위치(722)로부터 인접하는 등농도선(721)까지의 거리가 평가값으로서 구해진다. 이에 따라, 평가값을 용이하게 취득할 수 있고, 그 결과, 평가값을 참조함으로써, 기판(9)상의 막(92)의 막 두께 변화의 구배를 용이하게 확인할 수 있다. 또한, 각 평가 위치(722)로부터 인접하는 등농도선(721)까지의 거리는, 다른 방법에 의해 구하는 것도 가능하다. 예를 들면, 각 평가 위치(722) 근방에서의 등농도선(721)의 곡률을 구하고, 해당 곡률에 근거하여 이 평가 위치(722)를 통과하는 수선(垂線)을 생성하고, 해당 수선이 인접하는 등농도선(721)과 교차하는 위치와, 평가 위치(722) 간의 최소 거리가 구해져도 된다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명해 왔지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것이 아니며, 여러 가지 변형이 가능하다.
상기 실시 형태에서, 등농도선 취득부(62)에서는, 대상 화상(71)의 2치화 이외의 방법으로 등농도선(721)이 취득되어도 되고, 예를 들면, 대상 화상(71) 중의 각 화소를 주목 화소로 하여, 주목 화소의 값과 주목 화소에 인접하는 각 화소의 값 사이에, 농도 범위의 경계값 중 어느 하나가 포함되는 경우에, 주목 화소를, 해당 경계값에 대응되는 등농도선에 포함함으로써, 대상 화상(71)에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선을 구할 수도 있다.
불균일 검사 장치(1)에서는, 원 화상에 대해 메디안 필터 및 평활화 필터를 작용시킴으로써 등농도선(721)을 취득하기 위한 대상 화상(71)이 생성되지만, 촬상부(41)에서 노이즈 성분이 적은 원 화상이 취득되는 경우에는, 원 화상이 그대로 대상 화상으로서 취급되어도 된다. 즉, 등농도선 취득부(62)에서 등농도선(721)이 구해지는 대상 화상은, 원 화상 또는 원 화상으로부터 도출되는 화상이면 된다.
상기 실시 형태에서는, 광 조사부(3)로부터의 선형상광의 출사 및 촬상부(41)의 라인 센서(410)에서의 간섭광의 수광에 의해 원 화상이 취득되지만, 예를 들면, 기판(9)의 상면(91)에서 X방향 및 Y방향의 쌍방으로 확장되는 영역에 광 조사부(3)로부터 광이 조사되고, 복수의 수광 소자를 2차원으로 배열하여 갖는 촬상부가, 기판(9)의 막(92)으로부터의 간섭광을 수광함으로써, 원 화상이 단시간에 취득되어도 된다.
기판(9)을 유지하는 유지부는, 기판(9)의 하면에 접촉하여 기판(9)을 지지하는 스테이지(2) 이외에, 예를 들면 기판(9)의 외측 가장자리부를 파지함으로써 기판(9)을 유지하는 것 등으로 할 수도 있다.
또, 기판(9)상에 형성되는 막(92)은 반드시 레지스트막일 필요는 없으며, 증착이나 CVD(Chemical Vapor Deposition)법 등에 의해 형성된 광 투과성을 갖는 다른 막이어도 된다. 불균일 검사 장치(1)는, 평면 표시 장치용의 유리 기판에 형성된 막의 막 두께 불균일의 검사에 특히 적합하지만, 반도체 기판 등의 다른 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일의 검사에 이용하는 것도 가능하다.
본 발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 기술한 설명은 예시적으로서 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 이탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 형태가 가능하다는 것이 이해된다.

Claims (19)

  1. 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일을 검사하는 불균일 검사 장치로서,
    광 투과성의 막이 형성된 기판을 유지하는 유지부와,
    상기 막에 광을 조사하는 광 조사부와,
    상기 광 조사부로부터 출사되어 상기 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 수광하여 상기 막의 원(元) 화상을 취득하는 촬상부와,
    상기 원 화상 또는 상기 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선(等濃度線)을 구하는 등농도선 취득부와,
    상기 대상 화상 중의 복수의 위치에서 농도 변화의 구배를 나타내는 평가값을 상기 복수의 등농도선에 근거하여 구하는 평가값 취득부를 구비하는, 불균일 검사 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 평가값 취득부가, 상기 복수의 위치 각각에 설정되는 영역 중에 존재하는 등농도선의 개수를 상기 평가값으로서 취득하는, 불균일 검사 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 복수의 위치가 상기 복수의 등농도선 상에 설정되고,
    상기 평가값 취득부가, 상기 복수의 위치로부터 인접하는 등농도선까지의 거리를 상기 평가값으로서 취득하는, 불균일 검사 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 대상 화상이 평활화 처리가 실시된 것인, 불균일 검사 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판이 평면 표시 장치용의 유리 기판인, 불균일 검사 장치.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 등농도선을 표시하는 표시부를 더 구비하는, 불균일 검사 장치.
  7. 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일 검사에 이용되는 화상을 표시하는 화상 표시 장치로서,
    광 투과성의 막이 형성된 기판을 유지하는 유지부와,
    상기 막에 광을 조사하는 광 조사부와,
    상기 광 조사부로부터 출사되어 상기 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 수광하여 상기 막의 원 화상을 취득하는 촬상부와,
    상기 원 화상 또는 상기 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농 도선을 구하는 등농도선 취득부와,
    상기 복수의 등농도선을 표시하는 표시부를 구비하는, 화상 표시 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 표시부가, 상기 복수의 등농도선을 상기 대상 화상에 겹쳐 표시하는, 화상 표시 장치.
  9. 청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,
    상기 대상 화상이 평활화 처리가 실시된 것인, 화상 표시 장치.
  10. 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일을 검사하는 불균일 검사 방법으로서,
    a) 기판에 형성된 광 투과성의 막에 광 조사부로부터 광을 조사하는 공정과,
    b) 상기 광 조사부로부터 출사되어 상기 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 촬상부에서 수광하여 상기 막의 원 화상을 취득하는 공정과,
    c) 상기 원 화상 또는 상기 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선을 구하는 공정과,
    d) 상기 대상 화상 중의 복수의 위치에서 농도 변화의 구배를 나타내는 평가값을 상기 복수의 등농도선에 근거하여 구하는 공정을 구비하는, 불균일 검사 방법.
  11. 청구항 10에 있어서,
    상기 d)공정에서, 상기 복수의 위치의 각각 설정되는 영역 중에 존재하는 등농도선의 개수가 상기 평가값으로서 취득되는, 불균일 검사 방법.
  12. 청구항 10에 있어서,
    상기 복수의 위치가 상기 복수의 등농도선상에 설정되고,
    상기 d)공정에서, 상기 복수의 위치로부터 인접하는 등농도선까지의 거리가 상기 평가값으로서 취득되는, 불균일 검사 방법.
  13. 청구항 10에 있어서,
    상기 대상 화상이 평활화 처리가 실시된 것인, 불균일 검사 방법.
  14. 청구항 10에 있어서,
    상기 기판이 평면 표시 장치용의 유리 기판인, 불균일 검사 방법.
  15. 청구항 10 내지 청구항 14 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 등농도선을 표시부에 표시하는 공정을 더 구비하는, 불균일 검사 방법.
  16. 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일을 검사하는 불균일 검사 방법으로서,
    a) 기판에 형성된 광 투과성의 막에 광 조사부로부터 광을 조사하는 공정과,
    b) 상기 광 조사부로부터 출사되어 상기 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 촬상부에서 수광하여 상기 막의 원 화상을 취득하는 공정과,
    c) 상기 원 화상 또는 상기 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선을 구하는 공정을 구비하는, 불균일 검사 방법.
  17. 기판상에 형성된 막의 막 두께 불균일의 검사에 이용되는 화상을 표시하는 화상 표시 방법으로서,
    a) 기판에 형성된 광 투과성의 막에 광 조사부로부터 광을 조사하는 공정과,
    b) 상기 광 조사부로부터 출사되어 상기 막에서 반사된 특정한 파장의 간섭광을 촬상부에서 수광하여 상기 막의 원 화상을 취득하는 공정과,
    c) 상기 원 화상 또는 상기 원 화상으로부터 도출되는 화상인 대상 화상에 있어서, 서로 범위가 인접하는 1쌍의 농도 범위의 경계를 각각이 나타내는 복수의 등농도선을 구하는 공정과,
    d) 상기 복수의 등농도선을 표시부에 표시하는 공정을 구비하는, 화상 표시 방법.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 d)공정에서, 상기 복수의 등농도선이 상기 대상 화상에 겹쳐 표시된, 화상 표시 방법.
  19. 청구항 17 또는 청구항 18에 있어서,
    상기 대상 화상이 평활화 처리가 실시된 것인, 화상 표시 방법.
KR1020070058702A 2006-07-04 2007-06-15 불균일 검사 장치, 화상 표시 장치, 불균일 검사 방법 및화상 표시 방법 KR20080004346A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-00184148 2006-07-04
JP2006184148A JP2008014696A (ja) 2006-07-04 2006-07-04 ムラ検査装置、画像表示装置、ムラ検査方法および画像表示方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080004346A true KR20080004346A (ko) 2008-01-09

Family

ID=39035599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070058702A KR20080004346A (ko) 2006-07-04 2007-06-15 불균일 검사 장치, 화상 표시 장치, 불균일 검사 방법 및화상 표시 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2008014696A (ko)
KR (1) KR20080004346A (ko)
CN (1) CN101101200A (ko)
TW (1) TW200806951A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9256288B2 (en) 2010-11-22 2016-02-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for selecting item using movement of object

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101010189B1 (ko) * 2008-06-30 2011-01-21 에스엔유 프리시젼 주식회사 두께 또는 표면형상 측정방법
JP5250871B2 (ja) * 2008-12-24 2013-07-31 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション ムラ評価装置、ムラ評価方法、ディスプレイ検査装置、およびプログラム
KR20140112230A (ko) 2013-03-13 2014-09-23 삼성전자주식회사 막의 불균일도 검출 방법 및 이를 수행하기 위한 장치
US10607335B2 (en) * 2016-06-28 2020-03-31 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Systems and methods of using absorptive imaging metrology to measure the thickness of ophthalmic lenses
CN111213029A (zh) * 2018-09-27 2020-05-29 合刃科技（深圳）有限公司 检测透明/半透明材料缺陷的方法、装置及系统
CN113740034B (zh) * 2021-08-19 2024-04-30 中国科学院合肥物质科学研究院 基于光学干涉的薄膜均匀性检测系统

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9256288B2 (en) 2010-11-22 2016-02-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for selecting item using movement of object

Also Published As

Publication number Publication date
CN101101200A (zh) 2008-01-09
TW200806951A (en) 2008-02-01
JP2008014696A (ja) 2008-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20080004346A (ko) 불균일 검사 장치, 화상 표시 장치, 불균일 검사 방법 및화상 표시 방법
JP4702953B2 (ja) ムラ検査方法、ムラ検査装置およびプログラム
US20120294507A1 (en) Defect inspection method and device thereof
JP2011047724A (ja) 欠陥検査装置およびその方法
US8761488B2 (en) Image data processing method and image creating method
KR100953204B1 (ko) 기판의 품질 검사장치 및 그 검사방법
US10955354B2 (en) Cylindrical body surface inspection device and cylindrical body surface inspection method
JP6229323B2 (ja) 表面検査方法、表面検査装置、および表面検査プログラム
TW201510517A (zh) 用於改善晶圓表面檢查靈敏度之方法及系統
TWI498543B (zh) 自動晶圓光學檢測裝置及檢測晶圓表面均勻性的方法
US8699783B2 (en) Mask defect inspection method and defect inspection apparatus
KR20160097651A (ko) 유효화 영상처리기법을 이용한 시료의 패턴 검사 장치 및 방법, 그리고 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체
US8986913B2 (en) Method and apparatus for inspecting a mask substrate for defects, method of manufacturing a photomask, and method of manufacturing a semiconductor device
US10504802B2 (en) Target location in semiconductor manufacturing
JP4594833B2 (ja) 欠陥検査装置
KR20070122363A (ko) 얼룩 검사장치 및 얼룩 검사방법
JP5400548B2 (ja) レジスト膜面ムラ検査装置及び検査方法並びにｄｔｍ製造ライン
JP5833963B2 (ja) 明暗検査装置、明暗検査方法
JP2007322257A (ja) ムラ検査方法、ムラ検査装置およびプログラム
JP2006349598A (ja) 塗布ムラ検出方法及び装置
JP2008180618A (ja) 表面欠点検出装置
JP2008070279A (ja) ムラ検査装置、膜形成システムおよびムラ検査方法
US20230252616A1 (en) Inspection system and inspection method
JP5638098B2 (ja) 検査装置、及び検査条件取得方法
JP2006189293A (ja) スジ状ムラ欠陥の検査方法および装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application