TW200806951A - Unevenness inspecting apparatus, image display apparatus, unevenness inspecting method and image display method - Google Patents

Unevenness inspecting apparatus, image display apparatus, unevenness inspecting method and image display method Download PDF

Info

Publication number
TW200806951A
TW200806951A TW096119677A TW96119677A TW200806951A TW 200806951 A TW200806951 A TW 200806951A TW 096119677 A TW096119677 A TW 096119677A TW 96119677 A TW96119677 A TW 96119677A TW 200806951 A TW200806951 A TW 200806951A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
image
film
light
concentration
substrate
Prior art date
Application number
TW096119677A
Other languages
English (en)
Inventor
Kichiji Azai
Original Assignee
Dainippon Screen Mfg
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Mfg filed Critical Dainippon Screen Mfg
Publication of TW200806951A publication Critical patent/TW200806951A/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/303Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8851Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • G01N2021/8809Adjustment for highlighting flaws

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

200806951 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關用以檢查形成在基板上之膜厚不均的技 術’和顯示該膜厚不均檢查所利用之影像的技術。 【先前技術】 在先前技術中,當在顯示裝置用玻璃基板等(以下簡稱 為「基板」)之主面上形成既定圖案時,其進行方式是在 基板之主面上塗佈抗蝕劑液,使基板旋轉以形成抗蝕劑 膜’在日本專利特開2006-49630號公報中,所提案之技 術疋在利用旋轉塗佈機塗佈抗蝕劑液之後取得基板之影 像’而檢查基板之主面上之塗佈不均。 另外,在日本專利特開平7 —3〇16〇8號公報(文獻1}中 所揭示之手法疋使光朝向形成有光透過性之膜的基板而 妝射,利用攝影部接受被基板之膜反射的干涉光,在從攝 影部輸出之信號中,判定有無表示由基板上之較大膜厚變 馨化所引起的干涉條紋之波形,用以檢測基板膜厚局部變化 之缺陷(亦即,高頻膜厚不均)。 。而在基板之膜,膜厚緩慢變化之膜厚不均,亦即, 低頻膜厚不均-般不成為缺陷,但即使是低頻膜厚不均, 依其膜厚k化之梯度而異,亦可能影響到後續之處理或最 後製品。然而,即使使用上述文獻】之手法亦不能取得膜 厚文化之梯度,另外,作業者以目視檢查,要確認微小之 膜厚變化梯度會有困難。因此,需要有新颖的手法可以容 易地確認基板上之膜的膜厚變化之梯度。 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 200806951 【發明内容】 本赉明針對用以檢查形成在基板上之膜的膜厚不均之 膜厚不均k查i置,其目的是可以容易地確認形成在基板 上之膜的膜厚變化之梯度。
本發明之膜厚不均檢查裝置具備有:保持部,用來保持 形成有光透過性之膜的基板;光照射部,用來對膜照射 光;攝影部’用來接受從光照射部射出而被膜反射之特定 波長的干涉光’藉以取得膜之原影像;等濃度線取得部, 在原影像或從原影像導出之影像所成的對象影像中,求得 多個等漠度線,分別表示範圍互相鄰接之!對濃度範圍的 邊界;和評估值取得部,根據多個等濃度線求得表示在對 象影像中多個位置之濃度變化梯度的評估值。 依照本發明時,經由參照評估值, 上之膜的膜厚變化之梯度。 可以容易地確認基板 在本發m樣t,評估值取得縣得存在於被分別 設定在多個位置之區域中的等濃度線之數量作為評估 值,在本發明之另一態樣中’多個位置被設定在多個等濃 度線上;且評估值取得部取得從多個位置至_之等濃产 線的距離’作為評估值。其結果是可以容易地取得評估值t 本發明之影像顯示裝置,用來顯示_ 膜厚不均檢查用之影像,且備右·仅姥加 汉上之胰的 有光透過性之膜的基板;;= :用來保持形成 影部,用來接受從光照射部射出^ ^膜照射光;攝 干涉光’藉韓得膜之原景彡像;等濃度線取得部,在= 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96·09/96119677 7 200806951 ϊ ::原’:像導出之影像所成的對象影像,, :辰:、’心分別表示範圍互相鄰接之1對濃度範 貝不邛’用來顯示多個等濃度線。 求得多個等 圍的邊界; 本毛明日守,經由參照被顯示在顯 可以容易地確認基板上之膜的膜厚變化之梯度泉 為之一較佳形態中,顯示部將多個等濃度線顯示 化之:ΪΓ象影像上,可以一起確認基板上之膜的膜厚變
化之梯度和對象影像。 ,本發明之另—較佳形態中,經由對對象影像施加平滑 处理’取得平滑之等濃度線,可以以能夠㈣確認基板 上之膜的膜厚變化梯度之狀態顯示等濃度線。 本發明亦針對用以檢查形成在基板上之膜的膜厚不均 之膜厚不均檢查方法,另外,亦針對影像顯示方法,用來 顯不形成在基板上之膜的膜厚不均檢查用之影像。 ”上述目的和其他目的、特徵、態樣和優點,經由以下參 照附圖而進行之本發明詳細說明可以更加明白。 / 【實施方式】 圖1表示本發明一實施形態的膜厚不均檢查裝置丨之構 造。膜厚不均檢查裝置丨對於在液晶顯示裝置等平面顯示 裝置所使用之玻璃基板9,取得其一方主面91上塗佈抗 蝕劑液所形成之圖案形成用抗蝕劑的膜92之影像,根= 該影像檢查基板9之膜92的膜厚不均。另外,基板9之 大小例如為700x600mm,臈92之厚度為數十nm〜2//m。 如圖1所示,膜厚不均檢查裝置1具備有:载物台2, 312XP/發明說明書(補件)/96·09/96119677 8 200806951 用來保持基板9,使形成有膜92之主面 面,)朝向上側(圖丨,之_;光照射部:為使二 、无定之射人角照射在被載物台2保持的基板9上之膜 92 ;受光單元4,用來接受從光照射部3照射而被基板9 =上面91上的膜92所反射之光;移動機構2卜用來使 勿。2對光照射部3和受光單元4相對移動;和電腦5, 用來擔任作為膜厚不均檢查裝置j之控制部的任務。 、载物σ 2在(+Z)側之表面最好為無反射面(黑色消 移動機構21之構成是在馬達211連接有滾珠螺桿(圖 。。未顯不),利用馬達21〗之旋轉,使載物台2沿著導引 器212且沿著基板9之上面91在圖1中之X方向移動。 光照射部3具備有:幽素燈31,為射出白色光(亦即, 匕3可視區域全部波長之光)之光源;圓柱狀石英棒犯, 在與載物台2之移動方向相垂直的圖}中γ方向延伸;和 圓柱透鏡33,在Y方向延伸。在光照射部3,鹵素燈31 ⑩被安裝於石英棒32在(+γ)側之端部,從鹵素燈31射入到 石英棒32之光,被變換成為在γ方向延伸之線狀光(亦 即,光束剖面在Y方向成為長線狀之光),從石英棒32之 側面射出,經由圓柱透鏡33被導引到基板9之上面91。 換言之,石英棒32和圓柱透鏡33為光學系,將來自鹵素 k 31之光變換成為與載物台2移動方向相垂直之線狀 光’將其導引到基板9之上面91。 在圖1中,從光照射部3至基板9之光路以一點鏈線表 不(從基板9至受光單元4之光路亦同)。從光照射部3射 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 9 200806951 出之光的一部份,在基板9之上面91上的膜92在(+Z) 側之上面被反射。膜92對來自光照射部3之光具有光透 過性,來自光照射部3之光中未被膜92的上面反射之光, 透過膜92,其一部份在基板9之上面91(亦即,膜92之 下面)被反射。在膜厚不均檢查裝置1,被基板9之膜92 的上面反射之光和被基板9的上面91反射之光所成的干 涉光射入到受光單元4,經由過濾器43和透鏡42將特定 波長之干涉光導引到攝影部41。 ® 圖2表示攝影部41之受光面。如圖2所示,在攝影部 41設有線感測器410具有多個受光元件(例如, CCDCCharge Coupled DeVice))411 在 Y 方向排列成直線 狀一在攝影部41,來自基板9之干涉光以線感測器41〇 文光,用來取得干涉光之強度分布(亦即,來自各個受光 元件411之輸出值在γ方向的分布)。實際上,隨著基板 9朝向X方向之移動,利用攝影部41之線感測器41〇重 ⑩複取得干涉光之強度分布,用來取得基板9上之膜92的 2次元影像。 電腦5如圖3所示,為一般電腦系統之構造,在匯流排 線連接有:CPU51,用來進行各種演算處理;R〇M52,用來 记憶基本程式;和RAM53,用來記憶各種資訊◊在匯流排 線^適當地經由介面(I/F)等連接有:固定磁碟54,用來 記憶資訊;顯示器55,為用來顯示各種資訊之顯示部; •建现5 6 a和滑机5 6 b,用來受理操作者之輸入丨讀取裝置 57,用來讀取來自光碟,磁碟,光磁碟等電腦可讀取之記 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 10 200806951 裝 的Γ;和通信部58,連接到膜厚不均檢杳 置1之其他構成元件。 一 在電腦5事前經由讀取裝置你#卜立# _53,並且CPU51依照細3内之程式執^ H = 即,電腦執行程式),用來使電腦5進行演算部Γ動^ 以檢查基板9上之膜厚不均。 乍猎 圖4是方塊圖,用來表示’。啊依 =5广52、_,固定磁碟54等之功能:造: =圖利用議等實現演算部6内之影像 6卜專浪度線取得部62,評估值取得部63,判定部μ 顯:控㈣65之功能。另外,該等功能亦可以利用專用 之電路而貫現,亦可以部份地使用專用之電路。 其次說明利用膜厚不均檢查裝置i檢查膜厚不均之流 程。圖5表示膜厚不均檢查裝置i檢查基板9上膜犯之 膜厚不均的處理流程。在膜厚不均檢查裝置1,首先,將 在上面91上形成有膜92之基板9保持在位於圖丨中實線 所示檢查開始位置之載物台2上,然後開始载物台2朝向 (+X)方向之移動。然後,使從光照射部3射出而以既定射 入角對基板9之上面91射入的線狀光,照射在上面91之 直線狀照射區域(以下稱為「線狀照射區域」)(步驟S11), 使線狀照射區域對基板9相對移動。來自光照射部3之光 被基板9之膜92反射,特定波長之干涉光被導引到攝影 部41,以線感測器41〇受光,取得基板9上線狀照射區 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 11 200806951 域的干涉光之強度分布。來自線感測器410中各個受光元 ^ 411之輸出根據既定之變換式,變換成為例如8 (亦 可以為8 bit以外)之值(圖素值),而且被發送到電腦5。 在膜厚檢查裝置卜在载物台2朝向㈤方向移動之期 攝衫部41對干涉光的強度分布之取得和圖素值對電 之輪出,與載物台2之移動同步地重複。然後,當載 口 2移動到檢查終了位置時,停止利用移動機構a使 載物台2移動,亦停止照明光之照射。利用以上之方式, 在攝影部41對基板9上之膜92的全體攝影,取得多色調 之2次兀影像(施加後述處理前之影像,以下稱為「原影 像」),輪入到電腦5之演算部6而準備(步驟S12)。 。後,在 >貝异部β之影像處理部g 1,使中間過濾器對 原影像作用,以除去原影像中之雜訊成分,然後,對該影 像施加平滑化處理(亦即,使平滑化過濾器進行作用),藉 以產生如圖6所示濃度變化被平滑化後之影像(以下稱為 _ 「對象影像」)71(步驟S13)。並且,對象影像71成為256 色調之影像。另外,亦可以依照需要對平滑化處理後之影 像施加對比強調處理等。 當產生對象影像71時,在等濃度線取得部62,例如以 比值127小10的整數倍之值in、1〇7......7,和比值127 大10的整數倍之值137、147……247分別作為臨限值, 使對象影像2進制化。具體而言,使各個對象影像圖素之 值和各個臨限值相比較,對值為臨限值以上之圖素附加 「1」,對小於臨限值之圖素附加「〇」,藉以取得分別與多 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-09/96119677 12 200806951 個l限值相對應之多個2進制影像。對象影像^之 、 或後述评估區域之大小等適當地變更。 然後,對各個2進制影像施加邊緣檢測處理,用 t個2進制影像中之閉區域(其中,亦包含接合在影像: 外”邊緣,亦即’各個邊界線被記憶成與產生2進 制衫像日守所使用之臨限值具有相對應之關係(步驟$⑷。 另外’當在2進制影像中存在有孤立之閉區域時, =之1緣的邊界線成為閉曲線。另外,在等濃度線: 二 1 7所不,產生使從多個2進制影像取得之 王口I5适界線721重疊的影像72 〇 ^此^ 2進制影像中表示值1之區域,隨臨限值變小而 、交大’某一臨限值的2進制影像中值!之區域,必 含在=限值比該臨限值小的2進制影像中值1之區域。因 彳之某個限值之2進制影像所取得之邊界線721, 鄰接的臨限值…制影像取得的邊 在=21所包夾在對象影像71中之區域的圖素之值 =專=限值間之值。因此,各個邊界線721可以認 對象影像71中範圍互相鄰接之1對濃度範圍的 々’Ϊ以下之說明中,將邊界線稱為等濃度線,將表示 王部等漠度線之影像稱為等濃度線影像。 ^生有等濃度線影像72時,在評估值取得部63,如 :】所示,順序分別特定等濃度線影像72中既定的多個 位置(以下稱為「評估位置」)722,求得被設〇各= 312ΧΡ/發明說明書(補件)/96-09/96119677 u 200806951 估位置722之圓形區域(以下稱為「評估區域」)723中所 存在的等辰度線721之數量,作為評估值(步驟S15)。例 如,在圖8中附加符號722a所示之評估位置,因為存在 於評估區域723a中之等濃度線721的數量為3根,所以 砰估值為3,在圖8中附加符號722b所示之評估位置, 因為存在於評估區域723b中之等濃度線721的數量為^ 根,所以評估值為1。 另外,在圖8中符加有符號722c之評估位置,在對應 之評估區域723c中存在雖有3個線段,但是在評估值^ 得部63,對於評估區域723e巾存在的等濃度線72卜係 求得從臨限值互異< 2進制影像所導出之數量,所以對評 估位置722c之評估值成為2。如上述之方式,等濃度線 影像72中之各個等濃度線721,與導出該等濃度線 而產生2進制影像時之臨限值具有相對應之關係,當在 -個評估區域723中存在有得自同一個2進制影像:多個 籲等濃度線721時,該等等濃度線721視為i根。 如上述之方式,各個等濃度線721表示在對象影像Η 中互相鄰接之範圍的1對濃度範圍之邊界,所以經由求俨 存在於被设定在各個評估位置722之評估區域M3中的二 濃度線721之數量,使所取得之評估值成為表示在對象= 像71 t該評估位f 722戶斤對應之位置(以下同樣地= 「評估位置」)的濃度變化之梯度(亦即,濃度變化旦‘、、、 離之比例)者。另外,在本實施形態中是使就各個二估距 置722設定之評估區域成為圓形,用來排除方向性對坪= 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 14 200806951 響,但是就各個評估位置722,亦可㈣定正方形 垆^ Γ狀之Γ估區域。另外,評估區域之大小亦可以根 二目钟接之等濃度線721所示的濃度範圍或後面所述 的艇厚不均缺陷之判定臨限值而適當地變更。 當就各個評估位置722求得評估值時,在料部Μ使 :個評估位置722之評估值和既定之臨限值減較,判定 =存在有臨限值以上之評估值的評估…22(步驟 臨限值以上之評估值的評估位置722時, μ ’影像71所取得的基板9之膜92存在有超過容許 :、之朕厚變化梯度的部份(以下稱為「膜厚不均缺 :」),t未存在㈣限值以上之評估值的評估位置似 蚪,則在基板9之膜92未存在有膜厚不均缺陷。 當判定膜厚不均缺陷之有無時,利用顯示控制部的, ,圖9所示’在顯示器55顯示等濃度線影像72中之 等濃度線721’使其重疊在對象影像71(步驟sn)。這, 日t利用判^部64判定之結果表示有膜厚不均缺陷存在 例如’㈣顯不成亦可以特定出與膜厚不均缺 應之評估位置722的評估區域723之外形,可以將存在 ^厚不均缺陷之信息和其位置一起向操作者報告。利用此 種方式,操作者參照被顯示在顯示器55之#濃度線 =象影像7卜可以再確認基板9上之膜92與膜厚 缺相對應之部份的膜厚變化之梯度。另外,即使在岁 部64判定之結果表示膜厚不均缺陷不存在之情況,^ 將等濃度線721顯示在顯示器55而重疊在對象影“由 312Xp/發明說明書(補件)/96-09/96119677 15 200806951 操作者可以容易地一 和對象影像71。 起確認基板9上之膜92的膜厚分布 如以上所說明之方式,在膜厚不均檢查裝置!中,從光 知射部3將光照射在基板9之臈92,被膜⑽反射之特定 波長的干涉光以攝影部41受光,用來取得膜犯之原參 ^然後’在從原影像導出之對象影像71中,求得多個 等濃度線72卜分別表示範圍互相鄰接之i對漠度範圍的 邊界,在對象影像7丨+多個評估位置722之各個中,表 不/辰度义化之梯度的評估值,根據多個等濃度線而取 f。利用此種方式,當在基板9之膜92中存在有低頻膜 厚不均等之情況,經由參照評估值,可以容易地確認並膜 厚變化之梯纟,而實現適切管理膜厚變化梯度對後續處理 或最終製品之影響。 在評估值取得部63,以被設定在各個評估位置722之 評估區域723巾所存在㈣濃纽721之數量作為評估 φ值,使評估值可以容易取得。另外,對取得等濃度線721 對象影像71施加平滑化處理,可以取得平滑之等濃度線 721,利用此種方式可以穩定地取得適當之評估值,並以 可以明確確認基板9上之膜92的膜厚變化梯度之狀態, 在顯示器55顯示等濃度線721。 〜 另外,在膜厚不均檢查裝置i,於等濃度線取得部62 產生等濃度線影像72之後(圖5 :步驟S14),亦可以將步 驟S15、S16省略,如圖9所示,在顯示器55顯示等濃^ 線影像72中之全部等濃度線721,使其重疊在對象影^ 312XP/發明說明書(補件)/96·〇9/96ΐ 19677 16 200806951 H驟τ):在此種情況’操作者參照被顯示之等濃度 二二易地與對象影像71 -起確認基板9上: 64之/理/ \另外,#省略評估值取得部63和判定部 置之二t ”厚不均檢查裝置1具有作為影像顯示裴 不均時所利用之影像。 板9上之膜92的膜厚 任ί次Γ明在圖5之步驟S15中評估值取得部63取得評 ,中之的二實例。在本處理例中,在等濃度線影像 二::以一定間隔存在的各個位置成為求 =估值之位置,求得從各個評估位置到相鄰接之等濃度 、,,0、距離作為評估L,在等濃度線影像巾,當存在 =圖ίο所示之等濃度線721時,在附加有符號7213之等 /辰度線上,當就附加有符號722d之評估位置而求得評估 值π以°平估位置722d作為中心而設定既定半徑之圓 724a,確認該圓724a是否與鄰接於等濃度線721&之等濃 度=721(以下㈣「鄰接等濃度線⑵」)交又。在圖ι〇 之貝例中,因為圓724a不與任一個鄰接等濃度線721交 叉,所以繼續設定比圓724a大一定長度之半徑的圓 ^处,同樣地,確認圓724b是否與鄰接之等濃度線721 交叉,判斷為不交叉。利用此種方式,以評估位置722d 作為中心,順序設定使半徑變長一定長度之圓,確認該圓 與鄰接等濃度線721是否交叉。然後,當判斷為某一長度 半徑之圓724e與鄰接等濃度線721交又時,以該圓724e 之半徑作為評估位置722d的評估值。 312XP/^_S 明書(補件)/96·09/96119677 17 200806951 依照以上之方彳 & 與上述之實例同1也Γ部評估位置722之評估值時, 枯你在判定部64使各個評估位置722 ”既定之臨限值相比較,用來判定膜厚缺r之右 無(步驟_。然後,在顯示器55顯示二=之有 中之王4 4/辰度線721,使其重疊在對象影 膜厚不均缺陷時,將 子在有 f 一把土 、心和與胲厚不均缺陷相對應之位 置I向钿作者報告(步驟s 17)。 位方式’在評估值取得部63將多個評估 t 5又疋在多個等濃度、線721上,求得從各個評估位 置722到相鄰接之耸:曲疮括701 [ 代分him古位 4 /辰度線721的距離作為評估值。利用 :式,可以容易地取得評估值,其結果是 :值可:容易地確認基板9上之膜92的膜厚變化之梯 ==夕卜’從各個評估位置722到鄰接之等濃度線721的 亦可以利用其他手法求得。例如,亦可以求得各個評 估位置>722附近之等濃度線721的曲率,根據該曲率產生 ^該#估位置722之垂線,求得該垂線與鄰接之等濃度 線721的交叉位置,和評估位置似之間的最小距離。 ^上說明本發明之實施形態,但本發明不限於上述實施 形態,可作各種變化。 在上述實施形態中,在等濃度線取得部62亦可以利用 對象影像7K2進制化以外之手“取得#濃度線721, 例如,以對象影像71中之各個圖素作為注目圖素,在注 目圖素之值和鄰接於注目圖素之各㈣素的值之間,當包 含有任-個濃度範圍之邊界值時,經由使注目圖素被包含 312XP/發明說明書(補件)/96·〇9/96η9677 18 200806951 在與該邊界值具有對應關係的等濃度線中,可以在對象影 A+i:μ求仲多個等濃度線,分別表示範圍互相鄰接之 1對浪度乾圍的邊界。 不均檢查裝置1中是使中間過滤器和平滑化過 ^對原影像作帛,產生用以取得等濃度、線721之對象影 7卜但是亦可以在利用攝影部41取得雜訊成分較少之 原影像的情況,直接使用原影像作為對象影像。亦即,利
St取得部62求得之對象影像只要是原影像或從 原衫像$出之影像即可。 實施形態中是利用自光照射部3射出線狀光和 旦德办〇P 41中線感測器410對干涉光之受光,而取得原 ^象,料亦可例如對基板9之上面91在χ方向和γ方 ;:方:的廣大區域,照射來自光照射部3之光’而以具 之件排列成2次元之攝影部,接受來自基板9 之膜92的干涉光’可以在短時間内取得原影像。 持基板9之保持部除了接觸在基板9的下面藉以支持 :反載物σ 2外’亦可以使用例如把持基板9之外緣部 藉以支持基板9者等。 另外’形成在基板9上之膜92不一定要為抗蝕劑膜, CVDCChe.ical Vapor Deposition) ’、y、而八有光透過性之其他的膜。膜厚不均檢查裝置 nt於形ΐ在平面顯示裝置用玻璃基板之膜:膜厚 其:之欢―’但是亦可以利用在形成於半導體基板等其他 基板上之膜的膜厚不均檢查。 312XP/^0Q|g0g^(^^:y9^〇9/96i 19677 19 200806951 上面已詳細描述本發明而說明,但是上述之說明只作舉 4用不用來限制本發明。因此,在不脫離本發明之範圍 内,可以有多種變化或態樣,應被理解。 【圖式簡單說明】 圖1表示膜厚不均檢查裝置之構造。 圖2表示攝影部之受光面。 圖3表示電腦之構造。 _ 圖4是方塊圖,用來表示電腦所實現之功能。 圖5表不膜厚不均檢查裝置檢查基板上之膜的膜厚不 均之處理流程。 圖6表示對象影像。 圖7表示等濃度線影像。 圖8表示評估位置和評估區域。 圖9表示等濃度線重疊之對象影像。 圖10用來說明取得評估值之處理的另一實例。 _【主要元件符號說明】 1 膜厚不均檢查裝置 2 載物台 3 光照射部 4 受光單元 5 電腦 6 演算部 8 記錄媒體 9 基板 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 2〇 200806951 21 移動機構 31 鹵素燈 32 石英棒 33 圓柱透鏡 41 攝影部 42 透鏡 43 過濾器 51 CPU 52 ROM 53 RAM 54 固定磁碟 55 顯示器 56a 鍵盤 56b 滑鼠 57 讀取裝置 58 通信部 61 影像處理部 62 等濃度線取得部 63 評估值取得部 64 判定部 65 顯示控制部 71 對象影像 72 等濃度線影像 91 主面(上面) 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 21 200806951 92 膜 211 馬達 212 導引器 410 線感測器 411 CCD 541 程式 721 邊界線(等濃度線) 評估位置 評估區域 722、722a、722b、722c、722d • 723 、 723a 、 723b 、 723c 724a、724b、724e 圓
312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 22

Claims (1)

  1. 200806951 十、申請專利範園·· 1.-種膜厚不均(mura)檢查裝置,用 上之膜的膜厚不均,·其特徵在於具備有. 成在基板 =用來保持形成有光透過性之膜的基板,· 先以射邛,用來對上述膜照射光; 攝影部,用來接受從上述光昭 之特定波長的干涉光得=出而被上述膜反射 辇嘈精乂取仵上述膜之原影像; “又線取仲部,在上述原影像 影像所成的對象影像中,《原衫像導出之 圍互相鄰接之二仔多個等濃度線,分別表示範 々日州擇之1對濃度範圍的邊界;和 對根據上述多個等濃度線求得表示在上述 對象〜像中多個位置之濃度變化梯度的評估值。 利範圍第1項之膜厚不均檢查裝置,其中, 位置取得部取得存在於被分別設定在上述多個 濃度線之數量,作為上述評估值。 上、ρΓ專利範圍第1項之膜厚不均檢查裝置,其中, U夕固位置被設定在上述多個等濃度線上;且 ^述評估值取得部取得從上述乡個位置至鄰接之等濃 度線的距離,作為上述評估值。 、 4.如申請專利範圍第1項之膜厚不均檢查裝置,其中, 上述對象影像是被施加過平滑化處理者。 5·如申請專·圍第1項之膜厚㈣檢查裝置,其中, 上述基板是平面顯示裝置用之玻璃基板。 6.如申請專利範圍第丨至5項中任—項之膜厚不均檢查 3麵發明說明書(補件)/9嶋6ιΐ9677 23 200806951 裴置,其中, 更^備有顯示部用來顯示上述多個等濃度線。 •一種影像顯示裴置,用來顯示形成在美柘μp A 厚不均檢查用之影像,其特徵在於具成備在有基板上之㈣膜 保持心用來保持形成有光透 光照射部,用來對上述膜照射光;㈣基板, 比/長的干涉光,藉以取得上述膜之原影像. 等濃度線取得部,扃卜、十,搭史#』 你〜像’ 影像所成的對象影像中,從農=原影像導出之 圍互相鄰接之!對濃度範圍的^專:度別表示範 顯不部,用來顯示上述多個等濃度線。 8· ★、申:專利範圍第7項之影像顯示裝置,其中, 上述顯不部將上述多個等濃 象影像上。 重豐在上述對 9:申請專利範圍第7或8項之影像顯示裝置其中, 對象影像是被施加過平滑化處理者。 10· —種膜厚不均檢杳方本 膜的膜厚不均,其特徵—在I包含用有來檢查形成在基板上之 步Γ從光照射部將光照射在形成於基板之光透過性膜的 (b)制攝影部接受從上述光照射部射出膜 驟; h尤肖以取侍上述膜之原影像的步 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 24 200806951 (C)在上述原影像或從上述原影 象影像中,求得分別多料濃度線,表 =Μ的對 1對濃度範圍的邊界之步驟;和“觀圍互相鄰接之 個多料濃度線求得表示上述對象影像中多 個位置的濃度變化梯度之評估值的步驟。 τ夕 中11.如申請專利細丨。項之膜厚不均檢查方法其 在上述(d)步驟中,取得存在於被分別設定在上述 位置之區域中的等濃度線之數量,作為上述評估值。 /,2·如申請專利範圍第1〇項之膜厚不均檢查方法,其 上述多個位置被設定在上述多個等濃度線上;且 在上述⑷步驟中,取得從上述多個位置至鄰接之 度線的距離,作為上述評估值。 ' 13.如申請專利範圍第1〇項之膜厚不均檢查方法其中, 上述對象影像是被施加過平滑化處理者。 14·如申請專利範圍第1〇項之膜厚不均檢查方法盆 ψ 9 ,、 上述基板是平面顯示裝置 15·如申請專利範圍第1〇 檢查方法,其中, 用之玻璃基板。 至14項中任一項之膜厚不均 更/、備有將上述多個等濃度線顯示在顯示部之步驟。 W·—種膜厚不均檢查方法,用來檢查形成在 膜的膜厚不均,基㈣徵在於包含有: 之 312ΧΡ/___ί 補件)/%·_6119677 25 200806951 步=從先照射部將光照射在形成於基板之光透過性膜的 (b)利用攝影部接受從上述光照 射之特定波長的干涉光,_ ° ’被上述臈反 驟; h光*以取仔上述膜之原影像的步 ⑹在上述原影像或從上述原影像導出之影像 象影像t ’求得多個等濃度線 、、: 1對漠度範圍的邊界。 J表不乾圍互相鄰接之 17.-種影像顯示方法’用來顯示 膜厚不均檢查用影像,其特徵在於包含有.之膜的 步驟a)從光照射部將光照射在形成於基板之先透過性膜的 = 用攝影部接受從上述光照射部射出而被上 :波長的干涉光’藉以取得上述膜之原影像的步 象二在中上或等從二原!=*之影像所成的對 1對濃度範圍的邊驟度分別表示範圍互相鄰接之 (d )在顯示部顯示上述多個等濃度線的步驟。 18. 如申請專利範圍第17項之影像顯示方法,其中, 在上述(d)步驟中,將上述多個等 上述對象影像上。 >们等辰度線顯不成重疊在 19. 如申請專利範圍第17或18項之影像顯示方法,其中, 上述對象影像是被施加過平滑化處理者。 312XP/發明說明書(補件)/96-09/96119677 26
TW096119677A 2006-07-04 2007-06-01 Unevenness inspecting apparatus, image display apparatus, unevenness inspecting method and image display method TW200806951A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006184148A JP2008014696A (ja) 2006-07-04 2006-07-04 ムラ検査装置、画像表示装置、ムラ検査方法および画像表示方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW200806951A true TW200806951A (en) 2008-02-01

Family

ID=39035599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW096119677A TW200806951A (en) 2006-07-04 2007-06-01 Unevenness inspecting apparatus, image display apparatus, unevenness inspecting method and image display method

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2008014696A (zh)
KR (1) KR20080004346A (zh)
CN (1) CN101101200A (zh)
TW (1) TW200806951A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI410603B (zh) * 2008-06-30 2013-10-01 Snu Precision Co Ltd 厚度或表面形狀測定方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5250871B2 (ja) * 2008-12-24 2013-07-31 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション ムラ評価装置、ムラ評価方法、ディスプレイ検査装置、およびプログラム
EP2455841A3 (en) 2010-11-22 2015-07-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for selecting item using movement of object
KR20140112230A (ko) 2013-03-13 2014-09-23 삼성전자주식회사 막의 불균일도 검출 방법 및 이를 수행하기 위한 장치
US10607335B2 (en) * 2016-06-28 2020-03-31 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Systems and methods of using absorptive imaging metrology to measure the thickness of ophthalmic lenses
WO2020061882A1 (zh) * 2018-09-27 2020-04-02 合刃科技(深圳)有限公司 检测透明/半透明材料缺陷的方法、装置及系统
CN113740034B (zh) * 2021-08-19 2024-04-30 中国科学院合肥物质科学研究院 基于光学干涉的薄膜均匀性检测系统

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI410603B (zh) * 2008-06-30 2013-10-01 Snu Precision Co Ltd 厚度或表面形狀測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080004346A (ko) 2008-01-09
JP2008014696A (ja) 2008-01-24
CN101101200A (zh) 2008-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200806951A (en) Unevenness inspecting apparatus, image display apparatus, unevenness inspecting method and image display method
JP4322890B2 (ja) 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体
JP4628824B2 (ja) フイルムの欠陥検査装置及びフイルムの製造方法
JP5014003B2 (ja) 検査装置および方法
JP2012002601A5 (zh)
JP5174540B2 (ja) 木材欠陥検出装置
WO2007145223A1 (ja) 起伏検査装置、起伏検査方法、起伏検査装置の制御プログラム、記録媒体
CN105510253B (zh) 用空间频域成像检测农产品组织光学特性的装置及方法
JP2014163694A (ja) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
JP2010188114A5 (ja) 光干渉断層画像を撮る撮像方法及びその装置
TW201140043A (en) End face inspection method for light-pervious rectangular sheets and end face inspection apparatus
JP6436664B2 (ja) 基板の検査装置及び基板の検査方法
JP2006170664A5 (zh)
TW201231914A (en) Surface shape evaluating method and surface shape evaluating device
JP2014240766A (ja) 表面検査方法および表面検査装置
JP2008249413A (ja) 欠陥検出方法および装置
JP5768224B2 (ja) 欠陥検出装置および欠陥検出方法
JP4108829B2 (ja) 厚み欠陥検査装置及びその検査方法
JP3770294B2 (ja) フィルム評価方法およびフィルム評価装置
TW200839220A (en) Surface morphology defect inspection device and method
WO2017166082A1 (zh) 一种基于空间频域调制大面积解析微观结构的快速无损组织活检方法与技术
JP2007278784A (ja) 透明体の欠陥検出方法及び装置
JP2001183309A5 (zh)
JP2000074849A (ja) 異物検出方法およびその装置
JP2006003168A (ja) 表面形状の測定方法およびその装置