CN101101200A - 不均检查装置及其方法、以及图像显示装置及其方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种不均检查装置及其方法、以及图像显示装置及其方法。在不均检查装置中,从光照射部件向基板上的膜照射光,并通过拍摄部件接收由膜反射的特定波长的干涉光,从而取得膜的原始图像。在根据原始图像获取的对象图像中求出多根等浓度线(721),并取得设定在各评价位置(722)评价区域(723)中所存在的等浓度线(721)的数目,从而取得评价值,其中,该多根等浓度线(721)分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界,而且,该评价值针对该评价位置(722)表示对象图像中的浓度变化的梯度。其结果,通过参照评价值,能够易于对基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认。
Description
技术领域
本发明涉及一种检查形成在基板上的膜的膜厚不均的技术、以及用于该膜厚不均的检查中的图像显示的技术。
背景技术
到目前为止,在显示装置用的玻璃基板等(以下,简单称为“基板”)的主面上形成规定的图案时,在基板的主面上涂敷抗蚀液的同时使旋转基板,从而形成抗蚀膜,而且,在JP特开2006-49630号公报中提出了这样的技术,即,取得由旋转涂敷机刚涂敷抗蚀液之后的基板图像,从而检查在基板主面上的涂敷不均。
另外,在JP特开平7-301608号公报(文献1)中公开了这样的方法,即,向形成有透光性膜的基板照射光,并利用拍摄部件接收由基板的膜反射的干涉光,然后根据从拍摄部件输出的信号,判断有无表示干涉条纹的波形,从而检测出在基板上膜厚局部地变化的缺陷(即,高频率的膜厚不均),其中,上述干涉条纹是由于在基板上存在比较大的膜厚变化而产生的。
然而,一般不会将在基板的膜上膜厚缓慢变化的膜厚不均、即低频率的膜厚不均认为是缺陷,但即使是低频率的膜厚不均,根据膜厚变化梯度的不同,也有时会对后续的工艺以及最终产品产生影响。然而,即使使用上述文献1的方法,也无法取得膜厚变化梯度,并且,作业人员即使想要通过肉眼进行检查,也很难确认微小的膜厚变化梯度。因此,需要一种能够容易地对基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认的新方法。
发明内容
本发明涉及一种对于形成在基板上的膜的膜厚不均进行检查的不均检查装置,其目的在于,易于对形成在基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认。
本发明涉及的不均检查装置,具有:保持部件,其保持形成有透光性膜的基板;光照射部件,其向膜照射光;拍摄部件,其接收从光照射部件射出并由膜反射的特定波长的干涉光,从而取得膜的原始图像;等浓度线取得部件,其在原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据原始图像获取的图像,而且多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界;评价值取得部件,其基于多根等浓度线求出评价值,该评价值表示在对象图像中的多个位置的浓度变化梯度。
根据本发明,通过参照评价值,能够易于对基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认。
在本发明的一个方案中,评价值取得部件取得分别设定于多个位置的区域中所存在的等浓度线的数目,并将该数目作为评价值,在本发明的另一个方案,多个位置设定在多根等浓度线上,评价值取得部件取得从多个位置到相邻的等浓度线为止的距离,并将该距离作为评价值。其结果,能够容易的取得评价值。
本发明还提供一种图像显示装置,用于显示图像,该图像用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,该图像显示装置具有:保持部件,其保持形成有透光性膜的基板;光照射部件,其向膜照射光;拍摄部件,其接收从光照射部件射出并由膜反射的特定波长的干涉光,从而取得膜的原始图像;等浓度线取得部件,其在原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据原始图像获得的图像,而且多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界;显示部件,其显示上述多根等浓度线。
根据本发明,通过参照显示部件所显示的等浓度线,能够易于对基板上的膜的膜厚变化梯度进行确认。
在本发明的一个优选实施方式中,显示部件将多根等浓度线重叠在对象图像上而进行显示,从而能够与对象图像一起确认基板上的膜的膜厚变化梯度。
在本发明的其他优选实施方式中,对象图像被实施过平滑处理,从而能够取得平滑的等浓度线,并且能够以可靠确认基板上的膜的膜厚变化梯度的状态显示等浓度线。
本发明还提供一种不均检查方法,用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,并且还提供一种图像显示方法,用于显示图像,该图像用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均。
通过下面的参照附图而对本发明进行的详细说明,上述目的以及其他目的、特征、实施方式以及优点会变得更加清楚。
附图说明
图1是表示不均检查装置的结构的图。
图2是表示拍摄部件的受光面的图。
图3是表示计算机的结构的图。
图4是表示计算机所实现的功能结构的框图。
图5是表示不均检查装置对基板上的膜的膜厚不均进行检查的处理的流程的图。
图6是表示对象图像的图。
图7是表示等浓度线图像的图。
图8是表示评价位置以及评价区域的图。
图9是表示等浓度线重叠的对象图像的图。
图10是用于说明取得评价值的处理的其他例子的图。
具体实施方式
图1是表示本发明的一个实施方式的不均检查装置1的结构的图。不均检查装置1是如下的装置:在液晶显示装置等平面显示装置所使用的玻璃基板9上,取得通过在一侧主面91上涂敷抗蚀液而形成的图案形成用抗蚀膜92的图像,并基于该图像对基板9的膜92的膜厚不均进行检查。此外,基板9的大小例如为700×600毫米,基板9的厚度为数十纳米~两微米。
如图1所示,不均检查装置1具备:载物台2,其使形成有膜92的主面91(以下,称为“上表面91”)朝向上侧(图1中的+Z侧)而保持基板9;光照射部件3,其以规定的入射角向基板9上的膜92照射光,其中,该基板9被载物台2保持;受光单元4,其接收光照射部件3发出并由基板9的上表面91上的膜92反射的光;移动机构21,其使载物台2相对于光照射部件3以及受光单元4进行相对移动;以及计算机5,其发挥不均检查装置1的控制部件的作用。
载物台2的+Z侧的表面优先采用无反射面(黑色磨砂)。移动机构21采用连接到马达211的滚珠螺杆(省略图示)的结构,通过马达211旋转,载物台2可沿着导轨212向沿着基板9的上表面91的图1中的X方向移动。
光照射部件3具备:卤素灯31,其为发出白光(即,包括可见光区域的所有波长的光)的光源;圆柱状的石英棒32,其向与载物台2的移动方向垂直的图1中的Y方向延伸;以及圆柱透镜33,其向Y方向延伸。在光照射部件3中,卤素灯31安装在石英棒32的+Y侧端部,从卤素灯31入射到石英棒32的光被转换为向Y方向延伸的线状光(即,光束剖面为在Y方向上长的线状的光),并从石英棒32的侧面出射,然后通过圆柱透镜33而导向基板9的上表面91。换而言之,石英棒32以及圆柱透镜33构成这样的光学系统:将来自卤素灯31的光转换为与载物台2的移动方向垂直的线状光,并将其导向基板9的上表面91。
在图1中,以单点划线表示从光照射部件3到基板9的光路(从基板9到受光单元4的光路也相同)。从光照射部件3出射的一部分光被基板9的上表面91上的膜92的+Z侧上表面反射。膜92对来自光照射部件3的光具有透光性,所以,在来自光照射部件3的光中未被膜92的上表面反射的光透过膜92,而且其一部分被基板9的上表面91(即膜92的下表面)反射。在不均检查装置1中,由基板9上的膜92的上表面反射的光与由基板9的上表面91反射的光的干涉光入射到受光单元4,并经由滤光器43以及透镜42而特定的波长的干涉光导向拍摄部件41。
图2是表示拍摄部件41的受光面的图。如图2所示,在拍摄部件41设有线传感器(Line Sensor)410,该线传感器410具有在Y方向上排列为直线状的多个受光元件(例如CCD(charge Coupled Device:电荷耦合器件))411。在拍摄部件41中,通过用线传感器410来接收来自基板9的干涉光,从而取得干涉光的强度分布(即,来自各受光元件411的输出值在Y方向上的分布)。实际上,伴随着基板9向X方向移动而利用拍摄部件41的线传感器410反复取得干涉光的强度分布,从而可取得基板9上的膜92的二维图像。
如图3所示,计算机5采用在总线上连接CPU51、ROM52以及RAM53的一般的计算机系统结构,其中,CPU51进行各种计算处理,ROM52存储基本程序,RAM53存储各种信息。通过接口(I/F)等方式,在总线上还适当连接有:硬盘54,其进行信息存储;显示器55,其为显示各种信息的显示部件;键盘56a以及鼠标56b,它们接受来自操作人员的输入;读取装置57,其从光盘、磁盘、光磁盘等可由计算机读取的记录介质8读取信息;以及通信部件58,其连接到不均检查装置1的其他结构元件。
计算机5事先通过读取装置57而从记录介质8读出程序541,并将其存储在硬盘54中。然后,将程序541复制到RAM53中,同时CPU51根据RAM53中的程序执行计算处理(即,计算机执行程序),由此,计算机5作为对基板9上的膜厚不均进行检查的计算部件而进行工作。
图4是表示CPU51根据程序541进行工作而使CPU51、ROM52、RAM53、硬盘54等实现的功能结构的框图。在图4中表示计算部件6中的图像处理部件61、等浓度线取得部件62、评价值取得部件63、判定部件64以及显示控制部件65通过CPU51等而实现的功能。此外,这些功能可以全部通过专用的电路来实现,也可以一部分使用专用的电路。
接着,针对通过不均检查装置1进行的膜厚不均检查的流程进行说明。图5是表示不均检查装置1对基板9上的膜92的膜厚不均进行检查的处理的流程的图。在不均检查装置1中,首先,将在上表面91上形成有膜92的基板9保持在位于图1中实线所示的检查开始位置的载物台2上,然后使载物台2开始向+X方向移动。接着,将从光照射部件3出射、且相对基板9的上表面91以规定的入射角入射的线状光,照射到上表面91上的直线状照射区域(以下称为“线状照射区域”)(步骤S11),并使线状照射区域相对于基板9进行相对移动。来自光照射部件3的光被基板9的膜92反射,从而特定波长的干涉光导向拍摄部件41而被线传感器410接收,由此取得基板9上的线状照射区域的干涉光的强度分布。基于规定的转换公式,将来自线传感器410的各受光元件411的输出值例如转化为8bit的值(当然也可以是8bit之外的值)(像素值),并将其传送到计算机5。
在不均检查装置1中,在载物台2向+X方向移动的过程中,与载物台2移动同步而反复进行拍摄部件41对干涉光强度分布的取得、以及向计算机5的像素值的输出。然后,当载物台2移动而到达检查结束位置时,通过移动机构21的载物台2的移动被停止,并且照明光的照射也被停止。如上所述,在拍摄部件41中,对基板9上的整个膜92进行拍摄而取得多灰度(MultipleGray)的二维图像(实施后述处理之前的图像,以下称为“原始图像”),并将其输入到计算机5的计算部件6中而做准备(步骤S12)。
接着,在计算部件6的图像处理部件61中,对原始图像进行中值滤波而从原始图像中除去噪声成分,接着,对该图像进行平滑处理(即,进行平滑滤波),从而如图6所示,生成使浓度变化平滑的图像(以下,称为“对象图像”)71(步骤S13)。此外,将对象图像71做成256灰度的图像。另外,也可以根据需要,对平滑处理后的图像实施对比度增强处理。
当生成了对象图像71时,在等浓度线取得部件62中,例如分别以与值127相比小10的整数倍的值117、107、...、7、以及与值127相比大10的整数倍的值137、147、...、247为阈值,对对象图像进行二值化。具体地说,将对象图像的各像素的值与各阈值进行比较,对于值在阈值以上的像素赋予“1”,对于值小于阈值的像素赋予“0”,由此取得分别对应于多个阈值的多个二值图像。对于对象图像71进行二值化时的阈值,可以基于对象图像71的浓度范围(对比度范围)或者后述的评价区域的大小等适当变更。
接着,对各二值图像实施边缘检测处理,从而取得各二值图像中的闭区域(但是,也包括与图像的外缘相接触的部分)的边缘,即取得值为1的像素所占的区域与值为0的像素所占的区域之间的边界线,并将各边界线与生成该二值图像时所利用的阈值建立对应而存储(步骤S14)。此外,若二值图像中闭区域孤立存在,则表示该闭区域的边缘的边界线变为闭合曲线。然后,如图7所示,在等浓度线取得部件62中生成图像72,该图像72是将根据多个二值图像取得的所有的边界线721重合而得到的。
这里,随着阈值变小,表示二值图像中值为1的区域增大,因此某一阈值的二值图像中值为1的区域,必定会包含在比该阈值小的阈值的二值图像中值为1的区域内。因此,被分别从两个阈值的二值图像取得的两个边界线721所夹的对象图像71中的区域的像素的值,就是这两个阈值之间的值,该两个阈值为某一阈值、和相邻于该阈值的阈值。从而可以说,各边界线721表示在对象图像71中范围相邻的两个浓度范围的边界,因此在以下的说明中,将边界线称为等浓度线,而且将表示所有等浓度线的图像称为等浓度线图像。
如图8所示,当生成了等浓度线图像72时,在评价值取得部件63中,分别依次确定在等浓度线图像72中预先设定的多个位置(以下,称为“评价位置”)722,并求出在各评价位置722所设定的圆形区域(以下,称为“评价区域”)723中存在的等浓度线721的数目而作为评价值(步骤S15)。例如,在图8中附图标记722a所示的评价位置,由于评价区域723a中所存在的等浓度线721的数目为3根,因此评价值成为3,而且,在图8中附图标记722b所示的评价位置,由于评价区域723b中所存在的等浓度线721的数目为1根,因此评价值成为1。
另外,在图8中附图标记722c所示的评价位置,虽然所对应的评价区域723c中存在3根线段,但在评价值取得部件63中,求出既是评价区域723c中所存在的等浓度线721、又是根据互不相同的阈值的二值图像求出的等浓度线721的数目,所以对于评价区域723c的评价值成为2。如上所述,由于等浓度线图像72中的各等浓度线721与生成用于求出该等浓度线721的二值图像时的阈值具有对应关系,因此,在某一评价区域723中存在由相同的二值图像得到的多根等浓度线721时,这些等浓度线721被视为一根。
如上所述,各等浓度线721表示在对象图像71中范围相邻的两个浓度范围的边界,因此可以说,通过求出在各评价位置722所设定的评价区域723中存在的等浓度线721的数目而取得的评价值,表示与对象图像71中的该评价位置722对应的位置(以下,同样称为“评价位置”)的浓度变化的梯度(即,浓度变化量相对于距离的比例)。此外,在本实施方式中,将对各评价位置722所设定的评价区域设定为圆形,从而排除了方向性对于评价值的影响,但也可以对评价位置722设定正方形等其他形状的评价区域。另外,也可以基于相邻的等浓度线721所示的浓度范围或后述的膜厚不均缺陷的判定阈值等,适当变更评价区域的大小。
当求出了对各评价位置722的评价值时,在判定部件64中,将各评价位置722的评价值与规定的阈值相比较,从而判定是否存在具有阈值以上的评价值的评价位置722(步骤S16)。在存在具有阈值以上的评价值的评价位置722时,认为在用于取得对象图像71的基板9的膜92上存在具有超过容许范围的膜厚变化梯度的部分(以下,称为“膜厚不均缺陷”),在不存在具有阈值以上的评价值的评价位置722时,认为在基板9的膜92上不存在膜厚不均缺陷。
当已判定有无膜厚不均缺陷时,如图9所示,将等浓度线图像72中的所有等浓度线721重叠在对象图像71上而显示在显示器55上(步骤S17)。此时,在通过判定部件64的判定结果表示存在膜厚不均缺陷时,例如,以也能够确定膜厚不均缺陷所对应的评价位置722的评价区域723的外形的方式进行显示,从而向操作人员报告存在膜厚不均缺陷以及该缺陷的位置。由此,操作人员通过参照显示器55所显示的等浓度线721以及对象图像71,能够对与基板9上的膜92的与膜厚不均缺陷对应的部分的膜厚变化梯度重新进行确认。另外,即使通过判定部件64的判定结果表示不存在膜厚不均缺陷,也能够通过将等浓度线721重叠在对象或图像71上而显示在显示器55上,使操作人员能够容易地对基板9上的膜92的膜厚分布与对象图像71同时进行确认。
如上述说明,在不均检查装置1中,从光照射部件3向基板9的膜92照射光,并利用拍摄部件41接收由膜92反射的特定波长的干涉光,从而取得膜92的原始图像。然后,在根据原始图像求出的对象图像71中,求出分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界的多根等浓度线721,并基于多根等浓度线721,取得在对象图像71中的各个评价位置722表示浓度变化梯度的评价值。由此,即使在基板9的膜92存在低频率的膜厚不均等,也能够通过参照评价值来容易地对其膜厚变化梯度进行确认,从而能够对膜厚变化梯度给后续的工序或最终产品带来的影响进行恰当的管理。
在评价值取得部件63中,由于将在各评价位置722所设定的评价区域723中存在的等浓度线721的数目作为评价值,因此能够容易地取得评价值。另外,由于对用于取得等浓度线721的对象图像71实施了平滑处理,因此能够取得平滑的等浓度线721,由此,能够稳定地取得恰当的评价值,并且能够以可正确地对基板9上的膜92的膜厚变化梯度进行确认的状态,在显示器55上显示等浓度线721。
另外,在不均检查装置1中,在通过等浓度线取得部件62生成等浓度线图像72之后(在图5中的步骤S14),如图9所示,省略步骤S15、S16,将等浓度线图像72中的所有等浓度线721重叠在对象图像71上而显示在显示器55上也可(步骤S17)。此时,操作人员通过参照所显示的等浓度线721,也能够容易地对基板9上的膜92的膜厚与对象图像71同时进行确认。此外,若省略评价值取得部件63以及判定部件64中的处理,则不均检查装置1发挥图像显示装置的功能,该图像显示装置显示对形成在基板9上的膜92的膜厚不均的检查所利用的图像。
接着,针对在图5的步骤S15中所进行的评价值取得部件63取得评价值的处理的其他例子进行说明。在本处理例子中,将在等浓度线图像中的各等浓度线上以一定间隔存在的各位置作为求出评价值的评价位置,并求出从各评价位置到相邻的等浓度线为止的距离而作为评价值。例如,若在等浓度线图像中存在图10所示的等浓度线721,则在在标注有附图标记721a的等浓度线上求出相对标注有附图标记722d的评价位置的评价值时,设定以评价位置722d为中心的规定半径的圆724a,并确认该圆724a是否与相邻于等浓度线721a的等浓度线721(以下称为“相邻等浓度线721”)相交。在图10的例子中,由于圆724a与任意相邻等浓度线721都不相交,因此接下来设定比圆724a的半径大规定长度的圆724b,而且同样确认该圆724b是否与相邻等浓度线721相交,并判断为不相交。这样,以评价位置722d为中心而依次设定半径大规定长度的圆,并确认该圆是否与相邻等浓度线721相交。然后,当判断为某一长度半径的圆724e与相邻等浓度线721相交时,将该圆724e的半径作为评价位置722d的评价值。
如上所述,当取得所有评价位置722的评价值时,与上述例子同样,在判定部件64中将各评价位置722的评价值与规定的阈值相比较,由此判定有无膜厚不均缺陷(步骤S16)。然后,将等浓度线图像72中的所有等浓度线721重叠在对象图像71上而显示在显示器55上,因此,当存在膜厚不均缺陷时,能够向操作人员报告存在膜厚不均缺陷以及与该缺陷对应的位置(步骤S17)。
如上述说明,在评价值取得部件63中,在多根等浓度线721上设定多处评价位置722,并求出从各评价位置722到相邻的等浓度线721为止的距离而作为评价值。由此,能够容易地取得评价值,其结果,通过参照评价值,能够容易地对基板9上的膜92的膜厚变化梯度进行确认。此外,也可以用其他方法来求出从各评价位置722到相邻的等浓度线721为止的距离。例如,可以求出各评价位置722附近的等浓度线721的曲率,并基于该曲率生成经过该评价位置722的垂线,从而求出该垂线与相邻的等浓度线721相交的位置和与评价位置722之间的最小距离。
在上面,对本发明的实施方式进行了说明,但本发明并不仅限于上述实施方式,而可以存在各种变型。
在上述实施方式中,在等浓度线取得部件62中,也可以利用除了对象图像71的二值化以外的方法来取得等浓度线721,例如,将对象图像71中的各像素作为关注像素,在关注像素的值与相邻于关注像素的各像素的值之间若包含有某个浓度范围的边界值,则使关注像素包含在与该边界值建立对应关系的等浓度线中,从而能够在对象图像71中求出分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界的多根等浓度线。
在不均检查装置1中,通过对原始图像进行中值滤波以及平滑滤波而生成用于取得等浓度线721的对象图像71,但在利用拍摄部件41能够取得噪声成分少的原始图像时,也可以将原始图像直接作为对象图像而进行处理。即,通过等浓度线取得部件62求出等浓度线721的对象图像,只要是原始图像或根据原始图像获取的图像即可。
在上述实施方式中,通过从光照射部件3射出线状光线以及由拍摄部件41的线传感器410接收干涉光而取得原始图像,但是,例如,在基板91的上表面91上,从光照射部件3向沿着X方向以及Y方向延伸的区域照射光,并由具有二维排列的多个受光元件的拍摄部件来接收来自基板9的膜92的干涉光,从而在短时间内取得原始图像也可。
将对基板9进行保持的保持部件除了做成与基板9的下表面抵接而支撑基板9的载物台2以外,例如还可以做成通过夹持基板9的外缘部而对基板9进行保持的保持部件等。
另外,形成在基板9上的膜92未必一定是抗蚀膜,也可以是通过蒸镀或CVD(Chemical Vapor Deposition:化学气相沉积)法等形成的具有透光性的其他膜。不均检查装置1虽然特别适合于对形成在平面显示装置用玻璃基板上的膜的膜厚不均的检查,但也可以利用于对形成在半导体基板等其他基板上的膜的膜厚不均的检查。
虽然对本发明进行了详细的描述说明,但上述说明只是例示而不可视为限定。因此应该理解为,在不脱离本发明的范围内,可以有多种变型和方式。
Claims (19)
1.一种不均检查装置,用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,其特征在于,具有:
保持部件,其保持形成有透光性膜的基板;
光照射部件,其向上述膜照射光;
拍摄部件,其接收从上述光照射部件射出并由上述膜反射的特定波长的干涉光,从而取得上述膜的原始图像;
等浓度线取得部件,其在上述原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据上述原始图像获取的图像,而且上述多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界;
评价值取得部件,其基于上述多根等浓度线求出评价值,该评价值表示在上述对象图像中的多个位置的浓度变化梯度。
2.如权利要求1所述的不均检查装置,其特征在于,
上述评价值取得部件取得分别设定于上述多个位置的区域中所存在的等浓度线的数目,并将该数目作为上述评价值。
3.如权利要求1所述的不均检查装置,其特征在于,
上述多个位置设定在上述多根等浓度线上,
上述评价值取得部件取得从上述多个位置到相邻的等浓度线为止的距离,并将该距离作为上述评价值。
4.如权利要求1所述的不均检查装置,其特征在于,
上述对象图像被实施过平滑处理。
5.如权利要求1所述的不均检查装置,其特征在于,
上述基板是平面显示装置用玻璃基板。
6.如权利要求1~5中任意一项所述的不均检查装置,其特征在于,
还具有显示上述多根等浓度线的显示部件。
7.一种图像显示装置,用于显示图像,该图像用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,其特征在于,具有:
保持部件,其保持形成有透光性膜的基板;
光照射部件,其向上述膜照射光;
拍摄部件,其接收从上述光照射部件射出并由上述膜反射的特定波长的干涉光,从而取得上述膜的原始图像;
等浓度线取得部件,其在上述原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据上述原始图像获取的图像,而且上述多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界;
显示部件,其显示上述多根等浓度线。
8.如权利要求7所述的图像显示装置,其特征在于,
上述显示部件将上述多根等浓度线重叠在上述对象图像上而进行显示。
9.如权利要求7或8所述的图像显示装置,其特征在于,
上述对象图像被实施过平滑处理。
10.一种不均检查方法,用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,其特征在于,包括:
照射工序,从光照射部件向形成在基板上的透光性膜照射光;
原始图像取得工序,通过拍摄部件接收从上述光照射部件射出并由上述膜反射的特定波长的干涉光,从而取得上述膜的原始图像;
等浓度线求出工序,在上述原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据上述原始图像获取的图像,而且上述多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界;
评价值求出工序,基于上述多根等浓度线求出评价值,该评价值表示在上述对象图像中的多个位置的浓度变化梯度。
11.如权利要求10所述的不均检查方法,其特征在于,
在上述评价值求出工序中,取得分别设定于上述多个位置的区域中所存在的等浓度线的数目,并将该数目作为上述评价值。
12.如权利要求10所述的不均检查方法,其特征在于,
上述多个位置设定在上述多根等浓度线上,
在上述评价值求出工序中,取得从上述多个位置到相邻的等浓度线为止的距离,并将该距离作为上述评价值。
13.如权利要求10所述的不均检查方法,其特征在于,
上述对象图像被实施过平滑处理。
14.如权利要求10所述的不均检查方法,其特征在于,
上述基板是平面显示装置用玻璃基板。
15.如权利要求10~14中任意一项所述的不均检查方法,其特征在于,
还包括在显示部件上显示上述多根等浓度线的工序。
16.一种不均检查方法,用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,其特征在于,包括:
照射工序,从光照射部件向形成在基板上的透光性膜照射光;
原始图像取得工序,通过拍摄部件接收从上述光照射部件射出并由上述膜反射的特定波长的干涉光,从而取得上述膜的原始图像;
等浓度线求出工序,在上述原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据上述原始图像获取的图像,而且上述多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界。
17.一种图像显示方法,用于显示图像,该图像用于检查形成在基板上的膜的膜厚不均,其特征在于,包括:
照射工序,从光照射部件向形成在基板上的透光性膜照射光;
原始图像取得工序,通过拍摄部件接收从上述光照射部件射出并由上述膜反射的特定波长的干涉光,从而取得上述膜的原始图像;
等浓度线求出工序,在上述原始图像或者对象图像中求出多根等浓度线,其中,上述对象图像是根据上述原始图像获取的图像,而且上述多根等浓度线分别表示范围相邻的两个浓度范围的边界;
显示工序,在显示部件上显示上述多根等浓度线。
18.如权利要求17所述的图像显示方法,其特征在于,
在上述显示工序中,将上述多根等浓度线重叠在上述对象图像上而进行显示。
19.如权利要求17或18所述的图像显示方法,其特征在于,
上述对象图像被实施过平滑处理。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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