KR20070122548A - 층에 방사빔을 향하게 하는 장치, 이 장치를 구비한노광장치와, 이 노광장치를 사용하는 방법 - Google Patents

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야코부스 에이치. 엠. 네이젠
산텐 헬마르 반
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코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
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Abstract

층(1)에 방사빔을 향하게 하는 장치가 개시된다. 이 장치는, 제 1 방사원(A1)에서 발생된 제 1 방사빔(B1)을 상기 층에 초점을 맞추는 제 1 광학 부재(L1)와, 제 2 방사원(S2)에서 발생된 제 2 방사빔(B2)을 상기 층에 초점을 맞추는 제 2 광학 부재(L2)를 구비한다. 상기 제 1 및 상기 제 2 방사원에서 발생된 방사빔의 파장들은 서로 다르다. 상기 제 1 및 제 2 광학 부재는 상기 방사원들에 대해 함께 움직일 수 있으며, 상기 2개의 방사빔들의 초점들이 적어도 상기 방사원들에 대한 상기 제 1 광학 부재와 상기 제 2 광학 부재의 다양한 이동에 대해 일치한다. 상기 제 2 광학 부재(L2)가 상기 제 1 방사빔(B1)의 광학적으로 교란되지 않은 통과를 허용하는 개구(A2)를 갖는다. 이에 따르면, 콤팩트하고도 경량의 L1 및 L2의 구조가 달성되며, 개량된 방사빔 품질이 달성된다. 더구나, 이와 같은 장치를 구비한 노광장치와 이 노광장치를 사용하는 방법이 개시된다.
기록매체, 노광장치, 광학 부재, 개구, 마스터 플레이트, 스탬퍼

Description

층에 방사빔을 향하게 하는 장치, 이 장치를 구비한 노광장치와, 이 노광장치를 사용하는 방법{DEVICE FOR DIRECTING RADIATION TO A LAYER, APPARATUS WITH SUCH DEVICE AND METHOD USING SUCH APPARATUS}
본 발명은, 층에 방사빔을 향하게 하는 장치로서,
제 1 방사원에서 발생된 제 1 방사빔을 상기 층에 초점을 맞추는 제 1 광학 부재와,
제 2 방사원에서 발생된 제 2 방사빔을 상기 층에 초점을 맞추는 제 2 광학 부재를 구비하고,
상기 제 1 및 상기 제 2 방사원에서 발생된 방사빔의 파장들은 서로 다르며,
상기 제 1 및 제 2 광학 부재는 상기 방사원들에 대해 함께 움직일 수 있고, 상기 2개의 방사빔들의 초점들이 적어도 상기 방사원들에 대한 상기 제 1 광학 부재와 상기 제 2 광학 부재의 다양한 이동에 대해 일치하는 장치에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, 이와 같은 장치를 구비한 노광장치에 관한 것이다.
더구나, 본 발명은, 이와 같은 노광장치를 사용하여 제조하는 방법에 관한 것이다.
방사빔에 감도를 갖는 층에 매우 미세한 구조를 노광하는 것은 짧은 기록 파장과 높은 NA(numerical aperture)의 대물렌즈의 사용을 필요로 한다.
이와 같은 장치의 일례로는, 회전하는 디스크, 즉 마스터 플레이트(master plate) 위에 놓인, 예를 들어 레지스트층 위에 원자외선(deep-UV(DUV)) 레이저빔의 초점이 맞추어지는 원자외선 레이저빔 레코더(laser beam recorder: LBR)를 들 수 있다. 마스터 플레이트라는 용어는, 주입성형공정을 사용하여, 광 디스크, 예를 들어, CD, DVD, BD 등을 제조하는데 사용되는 몰드, 즉 스탬퍼를 제조하는데 사용될 수 있는 플레이트를 의미하는 것으로 해석된다. 그러나, 마스터 플레이트 자체를 몰드로 사용하는 것도 가능하다. 본 특허출원에서 사용되는 광학 데이터 저장매체라는 용어는, 달리 표시하지 않는 한, 마스터 플레이트과, CD, DVD, BD 등을 말한다. 또한, 마스터 플레이트를 노광하는 동안 직선 방향으로 움직이는 것도 가능하다(X, Y 이동).
또 다른 예로는, 방사빔 감지층, 예를 들어, 레지스트가 설치된, 예를 들면 실리콘 웨이퍼를 노광시키기 위해 DUV 방사빔을 사용하는 리소그래픽 장치를 들 수 있다. 이 웨이퍼는, 노광하는 동안 직선 방향으로 움직인다(X, Y 이동). 또한, 노광하는 동안 웨이퍼를 회전시키는 것도 가능하다.
움직이는 레지스트 표면에 기록 방사빔의 초점을 맞추는 것은, 초점 센서를 사용하여 초점을 모니터링하면서, 대물계를 능동적으로 구동함으로써 구현된다. 광 디스크 마스터링 공정에서는, 초점 시스템에 대한 비노광 파장을 갖는 상기한 방사빔과 다른 제 2의 방사빔을 사용하는 것이 유리한데, 이것은 데이터가 기록되지 않을 때 초점이 맞추어진 상태로 유지할 수 있도록 하기 때문이다. 따라서, 비교적 높은 파장을 갖는 방사빔, 예를 들어 적색 레이저 빔이 초점맞춤 시스템에서 사용 되는 일이 많으며, 한편 레지스트는, 예를 들어 DUV 방사빔에 의해 노광된다. 그러나, 이와 같은 짧은 파장에 대해 사용가능한 대물렌즈들의 유효 초점 거리는 보통 초점 파장과 노광 파장에 대해 상당히 다르다. 따라서, 초점 센서의 적색광에 대해서는, 추가적인 교정 렌즈에 의해 대물렌즈가 보완되어야 한다. 이와 같은 교정 렌즈는 적색광 경로에서만 필요하다.
서두에 기재된 것과 같은 장치는 미국특허 US 6,501,723에 공지되어 있다. US 6,501,723에서는, 렌즈 L1과 교정 렌즈 L2 사이에 이색성 거울 M1을 집어넣음으로써 적색 및 DUV 파장 모두에 대해 공초점 광 경로가 만들어진다(도 1 참조). M1을 고정 상태로 유지하면서, L1 및 L2의 조합을 구동함으로써, 적색 초점 센서를 사용하여 DUV 레이저 빔을 노광하기 위해 완벽한 초점이 유지될 수 있다. 그러나, 이와 같은 구성은 다수의 문제점을 갖고 있다.
렌즈들 사이에 고정된 거울을 갖는 2개의 구동되는 렌즈의 조합은 비교적 크고, 이에 따라 무거운 구조를 제공한다. 시스템이 매우 신속하고도 정밀하게 구동되어야 하므로, 이것은 심각한 문제이다.
DUV 빔의 파면 왜곡이 최소로 유지되어야 하므로, 특수한 이색성 코팅을 갖는 고가의 비교적 두꺼운 거울 M1을 제공한다. 경사진 거울의 두께는 적색 광 경로에 상당한 비점수차를 일으킨다. 더구나, 일부의 응용분야에서는 별개의 적색 초점 센서의 사용이 불필요하며, 초점맞춤을 위해 DUV 광 자체가 사용된다. 특히, 이와 같은 경우에는, 중요한 DUV 광 경로에 이색성 거울 등의 추가적인 광학 부재들을 갖는 것은 심각한 단점이 된다.
적색 초점 센서가 액침(liquid immersion) DUV 대물계와 결합하여 사용되면, 물/레지스트 계면에서 반사된 적색 광의 강도가 비교적 낮다. 이것은 최종 렌즈 부재의 석영/물 계면에서의 기타의 약간 반사광과 DUV 대물계의 다른 계면들에서의 반사광 사이의 바람직하지 않은 간섭을 일으킨다. 이와 같은 간섭은 광축에 근접한 적색 빔의 중앙의 낮은 NA의 부분에서 지배적인 것으로 밝혀졌다.
결국, 본 발명의 목적은, 한가지 이상의 전술한 문제점을 해소한 서두에 기재된 종류의 장치를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 이와 같은 장치를 구비한 노광장치를 제공함에 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 이와 같은 노광장치를 사용하여 제조하는 방법을 제공함에 있다.
상기한 제 1 목적은, 본 발명에 따르면, 상기 제 2 광학 부재가 상기 제 1 방사빔의 광학적으로 교란되지 않은 통과를 허용하는 개구를 갖는 것을 특징으로 하는 장치에 의해 달성된다. 개구는, 예를 들면 중심공이다. 제 1 방사빔은 가장 중요한 빔, 예를 들면, 원자외선(DUV) 빔이다. 제 2 방사빔, 예를 들면, 적색 초점 시스템의 빔이 사용되거나 안되거나 관계없이, 제 1 방사빔의 빔 품질이 추가적인 광학 부재들에 의해 열화되지 않는다. 정지상태의 이색성 거울이 필요하지 않으므로, 제 2 광학 부재, 즉 렌즈 L2를 제 1 렌즈 L1에 더 근접하여 배치할 수 있으므로, 이 제 2 광학 렌즈가 더 작아질 수 있어, 구동되는 부재들에 대해 더 간단하고도 더 경량의 구조를 제공한다.
일 실시예에서는, 상기 개구의 위치에서의 상기 제 2 방사빔의 강도가 거의 제로값이다. 예를 들면, 제 2 방사빔, 예를 들면 적색 초점 빔의 환형 형상은, 광축에 근접한 영역에서 가장 많이 발생하는 바람직하지 않는 간섭을 줄인다. 환형 형상은 빔 내부의 조리개에 의해 달성될 수도 있다.
제 1 방사빔이 거의 평행한 방사빔으로서 제 1 광학 부재를 향하는 한편, 제 2 방사빔이 거의 평행한 방사빔으로서 제 2 광학 부재를 향하고 있는 것이 바람직하다. 이것은 광학 조정이 필요없이 방사원들에 대한 장치의 이동을 허용한다.
일 실시예에서는, 상기 제 1 광학 부재와 상기 제 2 광학 부재가 기계적으로 연결된다. 이와 같은 구성은, 방사원에 대한 제 1 광학 부재, 예를 들어 대물렌즈와, 제 2 광학 부재, 예를 들어 교정 렌즈의 다양한 이동에 대해서도, 2개의 방사빔의 초점들이 적어도 일치하게 된다는 이점을 갖는다. 교정 렌즈를 사용함으로써, 이들 2가지 방사빔이 대물렌즈를 벗어난 후 같은 점에 초점이 맞추어지도록 제 2 방사원에서 발생된 방사빔이 제 1 방사빔에 대해 수렴하거나 발산하게 된다. 교정 렌즈와 함께 대물렌즈를 움직임으로써, 방사원에 대한 대물렌즈의 모든 위치에서 2개의 방사빔의 초점들이 일치하게 된다.
바람직한 실시예에서는, 상기 제 2 광학 부재와 상기 제 1 방사원 사이에 플레이트가 배치되고, 이 플레이트는 제 1 방사빔이 광학적으로 교란되지 않고 통과하는 개구를 갖는 한편, 상기 제 2 방사빔이 이 개구 밖에서 상기 제 2 광학 부재의 방향으로 상기 제 2 플레이트에 의해 반사된다. 플레이트, 예를 들어, 거울은, 가장 중요한 빔, 예를 들어 DUV 빔에 해당하는 제 1 방사빔의 광학적으로 교란되지 않은 통과를 허용하는, 예를 들면, 중심공을 갖는다. 제 2 방사빔, 예를 들어, 적색 초점 시스템이 사용되거나 사용되지 않거나에 관계없이, DUV 빔의 빔 품질은 추가적인 광학 부재들에 의해 열화되지 않는다. 플레이트는 정지 상태로서 제 1 및 제 2 광학 부재들과 함께 움직이지 않는다. 더구나, 플레이트, 예를 들어 거울은 제 2 방사빔, 예를 들면 적색 광에 의해서만 사용되는데, 이것은 코팅의 필요성을 줄이며 플레이트 두께가 중요하지 않게 만든다. 환형의 적색 초점 빔은 적당한 수렴도를 갖고 대물렌즈에 집광된다.
바람직하게는, 상기 플레이트는 제 1 방사빔과 소정의 각도, 예를 들면 45도를 포함한다. 바람직하게는, 적어도 1개의 방사원이 레이저이다. 레이저는 값싸게 입수가능하며 높은 광학 품질의 빔을 제공한다.
상기한 제 2 목적은, 광 데이터 저장매체의 제조에 적합한 마스터 플레이트를 노광시키는 장치에 의해 달성되는데, 상기 장치는,
- 상기 마스터 플레이트용의 지지체와,
- 전술한 본 발명에 따른 방사빔을 향하게 하는 장치를 구비하고,
서두에 기재된 것과 같은 층은 상기 마스터 플레이트(MA) 상에 존재하는 층이다.
이와 달리, 상기한 목적은, 집적회로의 제조에 적합한 웨이퍼를 노광하는데 적합한 장치에 의해 달성되는데, 상기 장치는,
- 상기 웨이퍼용의 지지체와,
- 전술한 본 발명에 따른 방사빔을 향하게 하는 장치를 구비하고,
서두에 기재된 것과 같은 층은 상기 웨이퍼 상에 존재하는 층이다.
상기한 제 3 목적은,
- 전술한 것과 같은 노광장치를 사용하여 마스터 플레이트를 노광시키는 단계와,
- 상기 마스터 플레이트에 근거하여 스탬퍼를 제조하는 단계와,
- 상기 스탬퍼를 사용하여 상기 광 데이터 저장매체를 제조하는 단계를 포함하는 광 데이터 저장매체의 제조방법을 제공함으로써 달성된다.
이와 달리, 상기한 제 3 목적은,
a) 웨이퍼 상에서, 전술한 노광장치를 사용하여 상기 웨이퍼를 노광시키는 단계와,
b) 상기 층의 일부를 제거하거나 및/또는 새로운 층을 적층하기 위해 상기 웨이퍼를 처리하는 단계와,
c) 필요한 경우에 상기 단계 a) 및 b)를 반복수행하는 단계와,
d) 사용가능한 집적회로를 분리하기 위해 상기 웨이퍼를 절단하는 단계를 포함하는 집적회로의 제조방법을 제공함으로써 달성된다.
이하, 다음의 첨부도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다:
도 1은 광 디스크 마스터 또는 웨이퍼를 노광하는 통상적인 원격장(far-field) 광 기록 대물계를 나타낸 것이고,
도 2는 광 디스크 또는 웨이퍼를 노광하는 본 발명에 따른 원격장 기록 대물계를 나타낸 것이며,
도 3a 내지 도 3f는 도 2의 대물계를 사용하여 노광된 마스터 플레이트를 사용하여 광 디스크를 제조하는 방법의 단계들을 나타낸 것이다.
도 1에는, 층(1)에 방사빔을 향하게 하기 위한 공지된(종래기술의) 장치가 도시되어 있다. 이 층은 기판(2) 위에 존재한다. 기판은 지지체(3)에 부착된다. 이 장치는, 제 1 방사원 S1에서 발생된 제 1 방사빔 B1을 상기 층에 초점을 맞추기 위한 제 1 광학 부재 L1과, 제 2 방사원 S2에서 발생된 제 2 방사빔 B2를 상기 층에 초점을 맞추기 위한 제 2 광학 부재 L2를 구비한다. 제 1 광학 부재 L1은 빔 B2를 추가로 초점을 맞추는데 더 사용된다. 상기 제 1 및 상기 제 2 방사원에서 발생된 방사빔의 파장들은 서로 다르다. 제 1 및 제 2 광학 부재는 함께 상기 방사원들 S1 및 S2에 대해 움직일 수 있다. 방사원들에 대한 제 1 광학 부재 L1과 제 2 광학 부재 L2의 다양한 이동에 대해 2개의 방사빔들 B1 및 B2의 초점들이 적어도 거의 일치한다.
도 2에서는, 층(1)에 방사빔을 향하게 하는 본 발명에 따른 장치가 도시되어 있다. 층이 기판(2) 위에 존재한다. 기판은 지지체(3)에 부착된다. 이 장치는, 제 1 방사원 S1에서 발생된 제 1 방사빔, 즉 DUV 레이저 빔 B1을 상기 층(1)에 향하게 하는 제 1 광학 부재 L1과, 제 2 방사원 S2에서 발생된 제 2 방사빔, 즉 적색 레이저 빔 B2를 상기 층에 초점을 맞추는 제 2 광학 부재 L2를 구비한다. 마찬가지로, 제 1 광학 부재 L1은 빔 B2를 추가로 초점을 맞추는데 더 사용된다.
층(1)은 광 디스크의 제조를 위한 마스터 플레이트 MA 위에 존재하는 층이거 나 집적회로의 제조를 위한 웨이퍼 W 위에 존재하는 층일 수도 있다. 상기 제 1 방사원에서 발생된 방사빔의 파장은 DUV에 대응하는 파장, 예를 들면 257nm이고, 상기 제 2 방사원의 파장은 적색광에 대응하는 파장, 예를 들면 655nm이다. 제 1 및 제 2 광학 부재들 L1 및 L2는 상기 방사원들 S1 및 S2에 대해 함께 움직일 수 있으며, 기계적으로 상호 연결된다. 방사원들 S1 및 S2에 대한 제 1 광학 부재 L1 및 제 2 광학 부재 L2의 다양한 이동에 대해 2개의 방사빔들의 초점들이 적어도 거의 일치한다. 제 2 광학 부재 L2는, 제 1 방사빔 B1의 광학적으로 교란되지 않은 통과를 허용하는 개구, 즉 중심공 A2를 갖는다. 개구 S2의 위치에 있는 제 2 방사빔의 강도는 거의 제로값이다. 원치 않는 반사광 및 미광(stray light)을 방지하기 위해 조리개가 적색 빔 B2에 배치된다. 환형의 적색 초점맞춤 빔은 적절한 수렴도를 갖고 대물렌즈 L1에 집광된다. 제 1 방사빔 B1은 거의 평행한 방사빔으로서 제 1 광학 부재 B2를 향하는 한편, 제 2 방사빔 B2는 거의 평행한 방사빔으로서 제 2 광학 부재 L2를 향한다.
플레이트 M1이 제 2 광학 부재 L2와 제 1 방사원 S1 사이에 배치된다. 거울 M1은 개구, 즉 구멍 A1을 갖고, 이 구멍을 통해 제 1 방사빔 B1이 광학적으로 교란되지 않고 통과되는 한편, 제 2 방사빔 B2는 개구 A1 외부에서 거울 M1에 의해 제 2 광학 부재 L2의 방향으로 반사된다. 거울 M1은 제 1 방사빔 B1과 45도의 각도를 이룬다. 정지 상태의 이색성 거울이 필요하지 않으므로, 렌즈 L2가 L1에 더 근접하게 배치될 수 있으므로, 더 작게 만들 수 있어, 구동되는 부재들에 대해 더 간단하고도 더 경량의 구조를 제공한다. 제 2 방사빔 B2, 예를 들어 적색 초점 시스템이 사용되거나 사용되지 않거나에 관계없이, 제 1 방사빔, 즉 DUV 빔 B11 추가적인 광학 부재들에 의해 열화되지 않는다. 제 2 방사빔 B2의 환형 형상은 광축에 가까운 영역에서 가장 두드러진 바람직하지 않는 간섭을 줄인다.
정지 상태의 거울 M1은 제 2 방사빔, 예를 들면 적색광 빔 B2에 의해서만 사용되는데, 이것은 코딩의 필요성을 줄이고 거울 M1의 두께가 중요하지 않게 만든다.
도 3에는, 광 데이터 저장매체(5)를 제조하는 방법이 도시되어 있다. 이 방법은, 도 2에 도시된 것과 같은 장치를 사용하여 마스터 플레이트 MA를 노광시키는 단계와, 마스터 플레이트 MA를 기초로 하여 스탬퍼(4)를 제조하고 이 스탬퍼(4)를 사용하여 광 데이터 저장매체(5)를 제조하는 단계를 포함한다. 마스터 플레이트 MA에 기초하여 스탬퍼(4)를 제조하는 것은 공지의 공정이다. 이때, 스탬퍼(4)는 니켈제 스탬퍼이다. 스탬퍼(4)를 사용하여, 공지의 주입성형공정을 이용하여 광 디스크(5), 예를 들면, CD, DVD, BD 등을 제조한다. 그러나, 마스터 플레이트 MA 그 자체를 몰드로 사용하는 것도 가능하다.
이와 달리, 집적회로의 제조방법은, a) 웨이퍼 W 상에서, 도 2에 도시된 것과 같은 장치를 사용하여 웨이퍼를 노광시키는 단계와, b) 층의 일부를 제거하거나 및/또는 새로운 층을 적층하기 위해 웨이퍼를 처리하는 단계와, c) 필요한 경우에 상기한 단계 a) 및 b)를 반복 수행하는 단계와, d) 사용가능한 집적회로를 분리하기 위해 웨이퍼를 절단하는 단계를 포함한다.
이때, 전술한 실시예는 본 발명을 제한하기보다는 예시하기 위한 것이고, 첨 부된 청구범위의 범위를 벗어나지 않으면서 다양한 실시예가 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자에게 있어서 설계될 수 있다는 점에 주목하기 바란다. 청구항에서, 괄호 안에 놓인 참조부호가 청구항을 제한하는 것으로 해석되지 않는다. 용어 "포함한다"와 "구비한다"는 청구항에 나열된 것 이외의 구성요소들 또는 단계들의 존재를 배제하는 것이 아니다. 구성요소 앞의 단어 "a" 또는 "an"이 이와 같은 복수의 구성요소들의 존재를 배제하는 것이 아니다. 특정한 구성이 서로 다른 종속항에서 언급된다는 단순한 사실이 이들 구성의 조합이 유리하게 사용될 수 없다는 것을 시사하는 것이 아니다.

Claims (12)

  1. 층(1)에 방사빔을 향하게 하는 장치로서,
    제 1 방사원(A1)에서 발생된 제 1 방사빔(B1)을 상기 층에 초점을 맞추는 제 1 광학 부재(L1)와,
    제 2 방사원(S2)에서 발생된 제 2 방사빔(B2)을 상기 층에 초점을 맞추는 제 2 광학 부재(L2)를 구비하고,
    상기 제 1 및 상기 제 2 방사원에서 발생된 방사빔의 파장들은 서로 다르며,
    상기 제 1 및 제 2 광학 부재는 상기 방사원들에 대해 함께 움직일 수 있고, 상기 2개의 방사빔들의 초점들이 적어도 상기 방사원들에 대한 상기 제 1 광학 부재와 상기 제 2 광학 부재의 다양한 이동에 대해 일치하도록 구성된 장치로서,
    상기 제 2 광학 부재가 상기 제 1 방사빔(B1)의 광학적으로 교란되지 않은 통과를 허용하는 개구(A2)를 갖는 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 개구의 위치에서의 상기 제 2 방사빔의 강도가 거의 제로값인 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    상기 제 1 방사빔이 평행한 방사빔으로서 상기 제 1 광학 부재를 향하는 한편, 상기 제 2 방사빔이 평행한 방사빔으로서 상기 제 2 광학 부재를 향하고 있는 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 1 광학 부재와 상기 제 2 광학 부재가 기계적으로 연결된 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 광학 부재(L2)와 상기 제 1 방사원(S1) 사이에 플레이트(M1)가 배치되고, 이 플레이트는 상기 제 1 방사빔(B1)이 광학적으로 교란되지 않고 통과하는 개구(A1)를 갖는 한편, 상기 제 2 방사빔이 상기 개구 밖에서 상기 제 2 광학 부재(L2)의 방향으로 상기 추가적인 플레이트(M1)에 의해 반사되는 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 플레이트는 제 1 방사빔과 소정의 각도를 이루는 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 1개의 방사원이 레이저인 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 레이저의 파장이 400nm보다 작은 것을 특징으로 하는 방사빔을 향하게 하는 장치.
  9. 광 데이터 저장매체의 제조에 적합한 마스터 플레이트를 노광시키는 장치로서,
    상기 마스터 플레이트(MA)용의 지지체(3)와,
    제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 방사빔을 향하게 하는 장치를 구비하고,
    제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 기재된 층(1)이 상기 마스터 플레이트(MA) 상에 존재하는 층인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  10. 집적회로의 제조에 적합한 웨이퍼를 노광하는데 적합한 장치로서,
    상기 웨이퍼(W)용의 지지체(3)와,
    제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 따른 방사빔을 향하게 하는 장치를 구비하고,
    제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 기재된 층이 상기 웨이퍼(W) 상에 존재하는 층인 것을 특징으로 하는 노광장치.
  11. 제 9항에 따른 노광장치를 사용하여 마스터 플레이트(MA)를 노광시키는 단계와,
    상기 마스터 플레이트(MA)에 근거하여 스탬퍼(4)를 제조하는 단계와,
    상기 스탬퍼(4)를 사용하여 상기 광 데이터 저장매체(5)를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광 데이터 저장매체(5)의 제조방법.
  12. a) 웨이퍼(W) 상에서, 제 10항이 따른 노광장치를 사용하여 상기 웨이퍼를 노광시키는 단계와,
    b) 상기 층(1)의 일부를 제거하거나 및/또는 새로운 층을 적층하기 위해 상기 웨이퍼(W)를 처리하는 단계와,
    c) 필요한 경우에 상기 단계 a) 및 b)를 반복수행하는 단계와,
    d) 사용가능한 집적회로를 분리하기 위해 상기 웨이퍼(W)를 절단하는 단계를 포함 하는 것을 특징으로 하는 집적회로의 제조방법.
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