KR20070098061A - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판상에 형성되는 전극과 유전체의 구조를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 소정 간격으로 이격된 복수의 제 1함몰부와 상기 제 1함몰부 들 사이에 형성된 복수의 제 2함몰부를 포함하는 기판과 상기 함몰부에 형성되는 복수의 전극과 상기 기판 상부에 형성된 유전체층을 포함하는 것을 특징으로 한다. 또한, 기판에 소정 깊이를 갖는 제 1패턴과 제 2패턴을 형성하는 단계와 상기 제 1패턴에 전극을 형성하는 단계 및 상기 기판 상부에 제 2패턴과 대응하여 기준라인에서 유전체층을 차등적으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에, 본 발명은 기판에 전극을 형성하고 차등적인 유전체 층의 구조로 인해 벽전하를 많이 형성함으로써 낮은 방전 개시전압으로도 방전 효율을 향상시킨다.과가 있다. 또한, 기판의 제 1 패턴에 단일의 전극만을 형성하고, 차등적이면서도 두께가 동일한 유전체 층의 구조로 인해 제조 공정의 수가 감소된다. 따라서, 생산 수율이 향상되고 제조 비용이 절감되는 효과가 있다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법{Plasma Display Panel and Manufacturing Method of Thereof}
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 또 다른 구조를 나타낸 것이다.
도 4a 내지 도 4b는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정을 순차적으로 나타낸 것이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
300 : 기판 310 : 제 1 함몰부
320 : 전극 330 : 블랙층
340 : 유전체 층 360 : 제 2 함몰부
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판과 후면기판 사이에 형성된 격 벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논(Xe)을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판인 경우, 전면 기판(100) 상부에 스캔 전극(110)과 서스테인 전극(120)이 형성되며 이러한 전극(110, 120)을 덮고 전면 기판(100) 상부에는 유전체 층(130)이 형성된다.
여기서, 스캔 전극(110)과 서스테인 전극(120)은 각각 투명 전극(110a, 120a)과 버스 전극(110b, 120b)으로 형성된다.
후면 패널인 경우, 후면 기판(150) 상부에는 어드레스 전극(170)이 형성되며, 전극 상부에는 하부 유전체층(180)이 형성된다. 이러한 하부 유전체층(180) 상부에는 가시광선을 발생시키는 형광체(190)가 도포되며, 이와 같은 형광체(190)는 하나의 화소(pixel)를 표현하는데 있어 삼원색인 R(Red), G(Green), B(Blue) 광을 발생시키는 방전셀(145) 공간을 형성한다. 여기서, 하부 유전체층(170) 상부에는 격벽(180)이 형성되는데, 이러한 격벽(180)은 방전셀(155)을 구획하여 이웃한 방전셀을 구분하고 격리시킨다.
이러한 구조를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널은 스캔 전극(110)과 서스테인 전극(120)에 소정의 펄스를 인가하면 상부 유전체 층(130)의 상부에 벽전하( Wall Charge)들이 쌓이게 되고, 이러한 벽전하들에 의해 방전(140)이 발생하게 된다. 하지만, 상술한 투명 전극(110a, 120a)과 버스 전극(110b, 120b)을 포함하는 스캔 전극(110) 및 서스테인 전극(120)과 유전체 층(130)의 구조에서는 벽전하들이 적게 쌓여 방전(140)시, 방전 효율이 떨어지는 문제점이 있다.
또한, 상술한 플라즈마 디스플레이 패널의 구조에 따른 제조 방법은 투명 전극(110a, 120a)과 버스 전극(110b, 120b)을 포함하는 스캔 전극(110)과 서스테인 전극(120), 유전체 층(130)을 제조하는데 있어 제조 공정의 수가 증가하여 생산 수율이 저하됨과 동시에 제조 비용을 상승시키는 문제점이 있다.
상술한 문제점을 해결하기 위해 전극과 유전체 층의 구조를 개선하여 방전 효율을 향상시키고, 동시에 전극과 유전체 층의 제조 공정을 줄여 생상 수율과 제조 비용을 감소시키는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상술한 목적을 이루기 위한 본 발명은 소정 간격으로 이격된 복수의 함몰부를 포함하는 기판과 상기 함몰부에 형성되는 복수의 전극과 상기 기판 상부에 높이가 차등적으로 형성되는 유전체층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 복수의 전극들 중 제 1전극과 상기 제 1전극과 가장 인접한 제 2전극 사이의 기판 상부에 블랙층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 유전체층은 상기 제 1 전극과 제 2 전극사이의 방전갭 중심에서 높이가 가장 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 전극은 금속 전극이며, 도전성 금속 재질 중에 은(Ag)인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 소정 간격으로 이격된 복수의 제 1 함몰부와 상기 제 1 함몰부들 사이에 형성된 복수의 제 2 함몰부를 포함하는 기판과 상기 함몰부에 형성되는 복수의 전극과 상기 기판 상부에 형성된 유전체 층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 기판 상부에 형성된 유전체 층의 제 1 지점의 높이와 제 2 지점의 높이는 실질적으로 동일한 것을 특징으로 한다.
또한, 기판의 함몰부가 형성되지 않는 면에서부터 유전체층 표면까지의 거리는 상기 전극사이의 방전갭 중심에서 가장 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 제 2 함몰부의 폭은 장축 방향으로 제 1 함몰부의 폭보다 더 넓은 것을 특징으로 한다.
또한, 제 2 함몰부의 높이는 단축 방향으로 제 1 함몰부의 높이보다 더 작은 것을 특징으로 한다.
또한, 복수의 전극들 중 제 1 전극과 상기 제 1 전극과 가장 인접한 제 2 전극 사이의 기판 상부에 블랙층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 전극은 도전성 금속 재질이며, 그 중 은(Ag)인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 기판에 소정 깊이를 갖는 제 1 패턴과 제 2 패턴을 형성하 는 단계와 상기 제 1 패턴에 전극을 형성하는 단계 및 상기 기판 상부에 제 2 패턴과 대응하여 기준라인에서 유전체층을 차등적으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 유전체층의 제 1 지점의 높이와 제 2 지점의 높이를 실질적으로 동일하게 하는 것을 특징으로 한다.
또한, 제 1 패턴과 제 2 패턴은 포토 에칭 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 전극은 스크린 인쇄법(Screen Printing), 라미네이팅법(Laminating) 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 유전체 층은 단일 공정으로 형성되는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 패널과 후면 패널이 일정 간격을 두고 합착되어 이루어 진다. 전면 패널은 전면 기판의 글라스에 스캔 전극과 서스테인 전극이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극이 전면 글라스에 평행하게 배열되고, 후면패널은 복수의 유지전극쌍과 교차하는 방향으로 복수의 어드레스전극이 후면 기판의 글라스에 평행하게 배열되어 형성된다. 이때, 스캔 전극과 서스테인 전극은 은 재질의 버스 전극만이 형성되고, 어드레스 전극도 또한 은 재질로 이루어 진다. 이러한 스캔 전극과 서스테인 전극, 어드레스 전극의 상부에는 각각 상부 유전체층, 하부 유전체층이 형성된다.
여기서, 본 발명은 전면 기판과 후면 기판을 포함하여 기판(200)이라고 하며, 스캔 전극과 서스테인 전극, 어드레스 전극을 포함하여 전극(220, 221, 222, 223)이라고 하며, 상부, 하부 유전체층을 포함하여 유전체 층(240)이라고 명명한다. 따라서, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 기판(200)과 복수의 전극(220,221, 222, 223)), 유전체층(240)을 포함한다. 더불어 기판상에 복수의 블랙층(230)을 더 포함한다.
기판(200)은 소정 간격으로 이격된 복수의 함몰부(210)가 형성된다. 이러한 복수의 함몰부(210)에는 복수의 전극(220, 221, 222, 223)이 형성된다. 예컨대, 전면 기판(200)인 경우, 복수의 함몰부(210)에는 스캔 전극용 전극(220, 222)과 서스테인용 전극(221, 223)이 소정의 일정한 간격으로 이격되어 형성된다. 또한, 후면 기판(200)인 경우, 복수의 함몰부(210)에는 복수의 어드레스 전극인 전극들(220, 221, 222, 223)들이 소정의 간격으로 이격되어 형성된다.
복수의 블랙층(230, 231, 232)은 복수의 전극들(220, 221, 222, 223) 중 임의의 제 1전극(221)과 임의의 제 2 전극(222)사이의 기판(200) 상부에 형성된다. 예컨대, 임의의 블랙층(231)은 방전에 의해 발생하는 가시광선을 반사시킴으로써 전극들(221, 222)쪽으로 방출되는 가시광선의 양을 최대화할 수 있고, 외부광의 흡수를 최대화하여 외부광의 반사로 인한 화면의 눈부심을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 복수의 블랙층(230, 231, 232)을 더 포함함 으로 인해 명실에서의 콘트라스트를 향상시킬수 있다.
유전체 층(240)은 블랙층(230, 231, 232)을 덮고 기판(200) 상부에 높이가 차등적으로 형성된다. 즉, 단축 방향에 있어서, 유전체층(240)의 "A"와 "B"의 높이는 "C"와 "D"의 높이가 서로 다른 차등적인 구조를 갖는다. 이러한 유전체층(240)은 높이가 다른 차등적인 구조로 인해 복수의 함몰부(250, 251)가 형성된다.
이러한 복수의 함몰부(250, 251)로 인해, 유전체층(240)은 제 1 전극(221)과 제 2 전극(222)사이의 방전갭 중심에서 단축 방향으로 높이가 가장작다.
여기서, 유전체층(240)이 차등적인 구조를 갖게 되면, 방전 효율이 향상된다. 그 이유는 복수의 전극(220, 221, 222, 223)에 소정의 펄스를 인가하면 유전체층(240) 상부에 벽전하들이 쌓이게 되고, 이러한 벽전하들에 의해 방전이 발생하게 되는데, 이 때, 소정의 전하량을 갖는 전하들은 함몰된 부분으로 더욱 모이는 성질로 인해 전술한 벽전하들이 복수의 함몰된 부근(250, 251)으로 모이게 된다.
이에 따라, 함몰된 부위(250, 251)의 양단간의 전위차가 증가하여 작은 크기의 방전 개시 전압으로도 방전이 발생하게 되어 방전 효율이 향상되는 것이다.
한편, 기판(200)에 형성된 복수의 전극들(220, 270)은 금속 전극이며, 도전성을 확보하기 위해 도전성이 좋은 금(Au), 구리(Cu), 은(Ag)등과 같은 금속 재질로 이루어지며, 더욱 바람직하게는 도전성이 좋으면서도 재료 비용을 절감할 수 있는 은(Ag) 재질로 이루어지는 것이 더욱 효과적이다. 이와 같이, 단일의 은(Ag) 재질만으로도 전극을 형성할 수 있는 이유는 유전체층(240)이 차등적인 구조로 인해 소정의 깊이로 함몰(250, 251)되어 방전 효율이 향상되기 때문에 기판(200)의 함몰 부(210)에 전극(220, 221, 222, 223)이 형성 가능하고, 이러한 전극(220, 221, 222, 223)은 단일의 금속 재질만으로도 도전성을 확보하면서도 방전 효율을 향상시킬 수 있다.
이와 같이, 기판에 복수의 전극과 기판 상부에 소정의 깊이로 함몰된 유전체층과는 다르게 방전 효율을 더욱 향상시킬 수 있는 보다 바람직한 구조를 이후의 도 3에서 살펴본다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 또 다른 구조를 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 기판(300)과 복수의 전극(320, 321, 322, 323), 유전체 층(340)을 포함한다. 더불어 기판(300) 상부에는 복수의 블랙층(330, 331, 332)을 더 포함할 수 있다.
기판(300)은 소정 간격으로 이격된 복수의 제 1 함몰부(310)와 복수의 제 2 함몰부(360)가 형성된다. 복수의 제 1 함몰부(310)에는 복수의 전극(320, 321, 322, 323)이 형성되는데, 이러한 복수의 전극들(320, 321, 322, 323)은 금속성 재질로 이루어 지며, 바람직하게는 도전성이 좋은 은(Ag) 재질로 이루어지는 것이 바람직하다.
복수의 제 2 함몰부(360)는 부호 310의 제 1 함몰부와 부호 311의 제 1 함몰부 사이, 부호 312의 제 1 함몰부와 부호 313의 제 1 함몰부사이에 형성된다. 이때, 제 2 함몰(360)부를 형성하는 이유는 함몰된 구조를 포함하여 두께가 동일한 유전체 층(340)을 형성하기 위해서다.
여기서, 제 2 함몰부(360)의 길이는 장축 방향으로 제 1 함몰부(310, 311, 312, 313)의 길이보다 더 크다. 따라서, 제 2 함몰부의 길이가 길게되어 방전시, 벽전하가 더욱 많이 형성하게 된다. 또한, 제 2 함몰부(360)의 높이(A,B)는 단축 방향으로 제 1 함몰부(310, 311, 312, 313)의 높이보다 더 작게 하는 것이 바람직하다. 이러한 제 1 함몰부에 전극(321, 322)이 형성됨으로써, 기판(300)의 표시면과 더욱 가까이 형성되어 효율면에서 좋다.
한편, 기판(300) 상부에 복수의 블랙층(230, 231, 232)을 형성하는 것이 더욱 바람직한데, 복수의 블랙층(330, 331, 332)은 복수의 전극들(320, 321, 322, 323) 중 임의의 제 1전극(321)과 임의의 제 2 전극(322)사이의 기판(200) 상부에 형성된다. 블랙층을 형성하는 이유는 도 2에서 상술하였으므로 생략한다.
앞에서 잠깐 언급한 유전체 층(340)은 복수의 전극(320, 321, 322, 323)과 복수의 블랙층(330, 331, 332)을 덮고 기판(300) 상부에 형성된다. 여기서, 유전체 층(340)은 기판(300)에 형성된 제 2 함몰부(360)에 대응하여 기준 라인에서 높이가 차등적인 표면을 갖고 형성된다. 예를들면, 유전체 층(340)은 기준 라인에서 "C"와 "D"의 높이와 "E"와 "F"의 높이가 각각 서로 다르기 때문에 차등적인 표면을 갖는다.
이러한 차등적인 표면으로 인해, 기판(300)의 함몰부(310, 360)가 형성되지 않는 면에서부터 유전체층(340) 표면까지의 거리는 전극(320, 321, 322, 323)사이의 방전갭 중심에서 가장 작게 되는 것이다.
이에 따라, 제 2 함몰부(360)와 대응하여 차등적인 구조를 갖는 유전체 층(340)은 함몰된 구조(350)를 포함하게 되어 방전시, 벽전하를 모이게 하여 방전 효율을 향상 시킬 수 있다. 보다 자세한 설명은 도 2에서 설명하였으므로 생략한다.
이와 더불어, 유전체 층(340)은 단축 방향으로 동일한 두께의 높이를 갖는다. 예를 들면, 기판(300) 상부에 형성된 유전체 층(340)의 제 1지점의 높이(A, B)는 기판(300) 상부에 형성된 유전체 층(340)의 제 2 지점의 높이(C, D)와 실질적으로 동일하다. 이를 종합해 보면, 유전체 층(340)은 단축 방향으로 제 1 지점과 제 2 지점의 높이(A, B, C, D)가 동일하면서도 기준 라인에서 높이가 서로 다른 차등적인 구조를 갖게 됨으로 인해, 방전 효율을 더욱 향상 시킬 수 있다.
이러한 전극과 유전체 층이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정을 살펴보면 다음과 같다.
도 4a 내지 도 4b는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다.
여기, 도 4a와 도 4b는 도 3에서 상술한 구조에 따른 제조 방법을 나타낸다. 다만, 제 1 함몰부와 제 2 함몰부를 제 1 패턴과 제 2 패턴으로 명명한다. 즉, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은 기판에 소정 깊이를 갖는 임의의 제 1 패턴(310, 311)과 임의의 제 2 패턴(360)을 형성하는 단계와 제 1 패턴(310, 311)에 전극(320)을 형성하는 단계 및 기판(300) 상부에 제 2 패턴(360)과 대응하여 기준 라인에서 유전체 층(340)을 차등적으로 형성하는 단계를 포함한다.
도 4a와 도 4b에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패 널의 제조 과정을 살펴보면, 먼저 글라스를 준비한 후 (a) 단계에서는 기판(400)인 글라스를 준비한 후, (b) 단계에서는 글라스(400) 상부에 포토레지스트(Photo Regist, A)를 도포한 후, (c) 단계에서, 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(B)를 상기 포토레지스트(A) 상부에 올려놓고, 광을 조사하여 포토레지스트를 경화시킨다. 이러한 노광 공정을 거친 기판(400)은 (d) 단계, 즉 현상 공정을 통하여 경화되지 않은 포토레지스트(A)를 세척하고, 빛에 노출된 포토레지스트(A)를 제거한다.
이후, (e) 단계에서는 남아있는 포토레지스트(A)에 코팅된 글라스(400) 이외의 부분을 복수의 전극과 유전체층이 형성되도록 소정의 깊이(410, 460))로 에칭한다. 따라서, 소정의 깊이로 에칭된 복수의 제 1 패턴(410)과 제 2 패턴(460)이 기판(400)에 형성되는 것이다.
이와 같이, 기판(400)의 제 1 패턴(410)과 제 2 패턴(460)은 (b) 단계부터 (e) 단계를 거치는 포토 에칭 공정에 의해 형성되는 것이다. 여기서, (e) 단계에서는 에칭 공정에 의해 복수의 제 1 패턴(410)과 제 2 패턴(460)을 형성하였지만, 레이저 가공에 의해서도 제 1 패턴(410)을 형성할 수 있다. 즉, 복수의 제 1 패턴(410)은 전극을 배열하는데 있어 치밀함을 갖기 위해 레이저 빔을 조사하여 가공할 수 있다.
이후, (f) 단계에서는 복수의 제 1 패턴(410)에 금속성 재질 중 도전성이 좋은 은(Ag)재질의 페이스트(405)를 스크린 인쇄법을 이용하여 도포한다. 즉, 기판 (400) 상부에 소정의 스크린 마스크를 위치시키고 스퀴저가 붓의 역할을 하고 은(Ag) 페이스트가 물감의 역할을 함으로써 스퀴저의 일정한 왕복으로 인쇄를 한 다. 또는 복수의 전극을 필름 타입의 그린 시트로 제작하여 기판의 전극을 라미네이팅의 방법으로 도포(405)한다. 따라서, 이후 (g) 단계에서는 기판(400)의 복수의 제 1패턴(410)에 전극(420)이 형성되는 것이다.
이후, (h) 단계에서는 복수의 전극(420)을 덮고 기판(400) 상부에 백색의 유전체 페이스트(445)를 스크린 인쇄법을 이용하여 도포한다. 이때, 유전체 페이스트(445)는 기판(400) 상부에 제 2 패턴(460)과 대응하여 기준 라인에서 유전체 페이스트(445)를 차등적으로 도포하되, 유전체 페이스트(445)의 제 1 지점의 높이(a)와 제 2 지점의 높이(b, c)를 실질적으로 동일하게 도포한다.
또는 스크린 인쇄법과는 다른 방법으로 도포할 수 있는데, 즉, 그린 시트(Green Sheet)로 제작되어 라미네이팅 방법을 이용하여 도포할 수도 있다.
이후, (i) 단계에서와 같이, 제 1 지점(a)과 제 2 지점(b, c)의 높이가 동일하면서도 차등적인 구조를 갖는 유전체 층(440)이 기판(400) 상부에 형성되는 것이다.
이와 같이, 기판(300)의 복수의 제 1 패턴(410)에 전극들(420)을 형성하는 방법은 종래 인듐틴 옥사이드(ITO)의 투명 전극 제조 공정을 거치지 않게된다. 또한 차등적인 구조를 갖는 유전체 층(440)은 제 1 지점과 제 2 지점의 높이가 동일함으로 인해 한 번의 제조 공정 ,즉 스크린 인쇄법(Screen Printing)이나 라미네이팅법(Laminating) 중 어느 하나의 방법에 의한 단일 공정으로 유전체 층(440)이 형성 가능하다. 따라서, 스크린 인쇄법이나 라미네이팅 방법을 통해 형성된 유전체 층(440)은 더 이상의 추가 공정이 발생되지 않는다.
이에 따라, 기판에 은 재질의 버스 전극만으로 이루어진 복수의 전극과 차등적인 구조를 갖는 유전체 층은 제조 공정이 감소됨으로써 생산 수율이 향상되고 제조 비용이 절감된다.
이상에서 보는 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 기판에 전극을 형성하고 차등적인 유전체 층의 구조로 인해 벽전하를 많이 형성함으로써 낮은 방전 개시전압으로도 방전 효율을 향상시키는 효과가 있다.
또한, 본 발명은 기판의 제 1 패턴에 단일의 전극만을 형성하고, 차등적이면서도 두께가 동일한 유전체 층의 구조로 인해 제조 공정의 수가 감소된다. 따라서, 생산 수율이 향상되고 제조 비용이 절감되는 효과가 있다.

Claims (19)

  1. 소정 간격으로 이격된 복수의 함몰부를 포함하는 기판;
    상기 함몰부에 형성되는 복수의 전극;
    상기 기판 상부에 높이가 차등적으로 형성되는 유전체층;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 복수의 전극들 중 제 1 전극과 상기 제 1 전극과 가장 인접한 제 2전극 사이의 상기 기판 상부에 블랙층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전체층은 상기 제 1 전극과 제 2 전극사이의 방전갭 중심에서 높이가 가장 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 함몰부에는 금속 전극이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 전극은 도전성 금속 재질인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 도전성 금속 재질은 은(Ag)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 소정 간격으로 이격된 복수의 제 1함몰부와 상기 제 1함몰부 들 사이에 형성된 복수의 제 2함몰부를 포함하는 기판;
    상기 제 1 함몰부에 형성되는 복수의 전극;
    상기 기판 상부에 형성된 유전체 층;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 기판 상부에 형성된 유전체 층의 제 1 지점의 높이와 제 2 지점의 높이는 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 기판의 함몰부가 형성되지 않는 면에서부터 유전체층 표면까지의 거리 는 상기 전극사이의 방전갭 중심에서 가장 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 함몰부의 폭은 장축 방향으로 제 1 함몰부의 폭보다 더 넓은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 함몰부의 높이는 단축 방향으로 제 1 함몰부의 높이보다 더 작은 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  12. 제 7 항에 있어서,
    상기 복수의 전극들 중 제 1 전극과 상기 제 1 전극과 가장 인접한 제 2 전극 사이의 상기 기판 상부에 형성된 블랙층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  13. 제 7 또는 제 12 항에 있어서,
    상기 전극은 도전성 금속 재질인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 도전성 금속 재질은 은(Ag)인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  15. 기판에 소정 깊이를 갖는 제 1 패턴과 제 2 패턴을 형성하는 단계;
    상기 제 1 패턴에 전극을 형성하는 단계; 및
    상기 기판 상부에 제 2 패턴과 대응하여 기준라인에서 유전체층을 차등적으로 형성하는 단계
    를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 유전체층의 제 1 지점의 높이와 제 2 지점의 높이를 실질적으로 동일하게 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 제 1 패턴과 제 2 패턴은 포토 에칭 공정에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  18. 제 15 항에 있어서,
    상기 전극은 스크린 인쇄법(Screen Printing), 라미네이팅법(Laminating) 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
  19. 제 15 항에 있어서,
    상기 유전체층은 단일 공정으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
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