KR20070079834A - 기판 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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KR20070079834A
KR20070079834A KR1020060010826A KR20060010826A KR20070079834A KR 20070079834 A KR20070079834 A KR 20070079834A KR 1020060010826 A KR1020060010826 A KR 1020060010826A KR 20060010826 A KR20060010826 A KR 20060010826A KR 20070079834 A KR20070079834 A KR 20070079834A
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laser lithography
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김경섭
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박명일
이영범
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삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 레이저 리소그래피(Laser Lithography)를 이용하는 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판 상에 박막을 형성하기 위한 성막부와, 박막에 소정의 패턴을 형성하기 위한 레이저 리소그래피부를 포함한다. 또한, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판 상에 박막을 도포하기 위한 코팅부와, 박막에 소정의 패턴을 형성하기 위한 레이저 리소그래피부를 포함한다. 한편, 본 발명에 따른 기판 처리 방법은 기판을 제공하는 단계, 기판 상에 박막을 형성하는 단계, 및 박막을 동일한 장치 내에서 레이저를 이용하여 패터닝하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의해 포토 리소그래피부와 식각부를 대체하는 레이저 리소그래피부를 이용하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공함으로써 대형 기판의 정밀한 패턴 형성 및 조절과 함께 패턴의 3차원적 균일성을 달성할 수 있다. 또한, 본 발명의 기판 처리 장치는 성막부와 패터닝부를 함께 구비함으로써 전체적인 기판 처리 공정 시간이 단축되고 기판 처리 장치의 전체 풋프린트를 감소시켜 제조 단가를 절감할 수 있다.
레이저 리소그래피, 풋프린트, 기판 처리 공정 시간, 기판 처리 장치

Description

기판 처리 장치 및 방법 {SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD}
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 레이저 리소그래피부의 개략도.
도 2는 도 1의 헤드부의 개략적 사시도.
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 5는 본 발명의 제 2 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 7은 본 발명의 제 3 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 9는 본 발명의 제 4 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 10은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 11은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
도 12는 본 발명의 제 7 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도.
※도면의 주요 부재에 대한 부호의 설명※
110 : 카스트 115 : 포트부
120 : 제 1 반송부 121 : 제 1 반송 수단
130 : 성막부 140 : 제 2 반송부
141 : 제 2 반송 수단 150 : 제 1 세정부
160 : 제 3 반송부 161 : 제 3 반송 수단
170 : 레이저 리소그래피부 180 : 제 4 반송부
181 : 제 4 반송 수단 190 : 제 2 세정부
본 발명은 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 레이저 리소그래피(Laser Lithography)를 이용하는 기판 처리 장치 및 방법에 관한 것이다.
종래의 패턴 형성 방법은 박막이 형성되어 있는 기판 상에 포토레지스트를 도포한 후에 노광 얼라이너 설비에서 소정의 패턴이 형성되어 있는 마스크를 이용하여 마스크에 자외선을 조사한다. 이때, 포지티브 포토레지스트의 경우 자외선이 조사된 부분의 포토레지스트가 경화되며 이후 현상 공정에서 이 부분 이외의 부분은 현상액에 의해 제거되어 박막 상에 소정의 포토레지스트 패턴이 형성된다. 박막 상에 포토레지스트 패턴을 형성한 후에 식각 설비를 이용하여 포토레지스트 패턴이 없는 박막 부분을 식각함으로써 원하는 패턴을 기판 상에 형성시킨다. 그러 나, 액정 표시 장치와 같이 기판이 대형화됨에 따라 설비의 크기가 매우 커져 공간적 제약 및 설비의 비평탄도, 진동 등의 소음에 의해 패턴의 균일성에 문제가 발생하고, 패턴을 형성하기 위한 공정 시간이 매우 길어져 생산성이 저하되는 문제점이 발생되었다.
본 발명은 대형 기판의 정밀한 패턴 형성 및 조절과 함께 패턴의 3차원적 균일성을 구현하고 전체 기판 처리 공정 시간을 단축시켜 제조 단가를 절감하기 위해 포토 리소그래피부와 식각부를 대체하는 레이저 리소그래피부를 이용하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상기 기판 상에 박막을 형성하기 위한 성막부와, 상기 박막에 소정의 패턴을 형성하기 위한 레이저 리소그래피부를 포함한다.
이때, 상기 기판 처리 장치는 상기 기판의 반입 및 반출을 위한 주반송부를 더 포함하며, 상기 주반송부는 주반송 수단을 포함한다. 상기 주반송 수단은 상기 주반송부 내에서 이동 가능하게 설치될 수 있다.
또한, 상기 기판 처리 장치는 상기 성막부와 상기 레이저 리소그래피부의 전후 및 사이 중 어느 하나 이상에 세정부를 더 포함할 수 있다. 상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부는 상기 기판 처리 장치 내에서 일렬로 배치될 수 있다. 또한, 상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부는 상기 기판 처리 장치 내에서 2열로 배치될 수 있다. 한편, 상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부는 상기 기판 처리 장치 내에서 다단으로 배치될 수 있으며, 상기 성막부와 레이저 리소그래피부가 하부에 마련된다.
여기서, 상기 기판 처리 장치는 상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부를 연결시키는 1개 이상의 보조 반송부를 더 포함하며, 상기 보조 반송부는 각각 보조 반송 수단을 구비한다.
상기 기판 처리 장치는 상기 기판 처리 장치의 2열 사이에 마련된 보조 반송부를 더 포함할 수 있다. 상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에서 이동 가능하게 설치되는 보조 반송 수단을 포함한다. 상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에 마련된 1개 이상의 보조 반송 수단과, 이들 사이에 배치된 1개 이상의 버퍼부를 포함할 수 있다. 상기 박막은 게이트층, 활성층, 소스층, 드레인층, 무기 패시베이션층 및 공통전극층 중 어느 하나를 포함한다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치는 상기 기판 상에 박막을 도포하기 위한 코팅부와, 상기 박막에 소정의 패턴을 형성하기 위한 레이저 리소그래피부를 포함한다.
여기서 상기 기판 처리 장치는 상기 기판의 반입 및 반출을 위한 주반송부를 더 포함하며, 상기 주반송부는 주반송 수단을 포함할 수 있다. 상기 주반송 수단은 상기 주반송부 내에서 이동 가능하게 설치될 수 있다.
또한, 상기 기판 처리 장치는 상기 코팅부와 상기 레이저 리소그래피부 사이에 건조 경화부를 더 포함할 수 있다. 상기 건조 경화부는 건조부와 경화부가 상 하 2단 구조이거나 서로 분리된 구조일 수 있다.
또한, 상기 기판 처리 장치는 상기 코팅부 상기 레이저 리소그래피부 및 건조 경화부의 전후 및 사이 중 어느 하나 이상에 세정부를 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 건조 경화부 및 세정부는 상기 기판 처리 장치 내에서 일렬로 배치될 수 있다. 또한, 상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 건조 경화부 및 세정부는 상기 기판 처리 장치 내에서 2열로 배치될 수 있다. 한편, 상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 건조 경화부 및 세정부는 상기 기판 처리 장치 내에서 다단으로 배치될 수 있으며, 상기 코팅부와 레이저 리소그래피부가 하부에 마련될 수 있다.
한편, 상기 기판 처리 장치는 상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 진공 건조부 및 세정부를 연결시키는 1개 이상의 보조 반송부를 더 포함하며, 상기 보조 반송부는 각각 보조 반송 수단을 구비할 수 있다.
또한, 상기 기판 처리 장치는 상기 기판 처리 장치의 2열 사이에 마련된 보조 반송부를 더 포함할 수 있다. 상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에서 이동 가능하게 설치되는 보조 반송 수단을 포함할 수 있다. 상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에 마련된 1개 이상의 보조 반송 수단과, 이들 사이에 배치된 1개 이상의 버퍼부를 포함할 수 있다. 상기 박막은 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 및 유기 패시베이션 막 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 기판 처리 방법은 기판을 제공하는 단계, 상기 기판 상에 박막을 형성하는 단계, 및 상기 박막을 동일한 장치 내에서 레이저를 이용하여 패터 닝하는 단계를 포함한다.
여기서 상기 기판 처리 방법은 상기 박막 형성 단계와 상기 패터닝 단계의 전후 및 사이 중 어느 하나 이상에 상기 기판 상의 박막을 세정하는 단계를 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 박막 형성 단계 후에, 상기 박막을 건조 경화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 박막은 게이트층, 활성층, 소스층, 드레인층, 무기 패시베이션층 및 공통전극층 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 또한, 상기 박막은 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 및 유기 패시베이션 막 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 본 실시예들은 단지 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면 상에서 동일 부호는 동일한 부재를 지칭한다.
본 발명에 따른 기판 처리 장치를 설명하기에 앞서 포토 리소그래피부와 식각부를 대체하는 레이저 리소그래피부에 대해 먼저 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치의 레이저 리소그래피부의 개략도이다.
도 1을 참조하면, 레이저 리소그래피부는 정반부(10), 헤드부(30) 및 이송부 (50)를 포함한다.
상기 정반부(10)에는 피처리 대상물인 기판(20)이 배치된다.
상기 헤드부(30)는 상기 정반부(10)에 배치된 기판(20)에 레이저 빔(31)을 주사한다. 상기 기판(20)에 형성된 절연막은 상기 레이저 빔(31)에 의해 소정의 패턴(21)을 형성한다. 상기 기판의 절연막은 보호 절연막 또는 유기 절연막을 포함한다. 상기 패턴(21)은 홀 형상으로 소정 깊이와 소정 폭으로 형성된다.
상기 레이저 빔(31)은 UV 엑시머(Excimer)로서, 다광자 흡수 방식(multiphoton absorption process)으로 상기 기판의 절연막을 패터닝한다. 상기 UV 엑시머 레이저 빔은 대략 193nm(ArF) 내지 351nm(XeF)의 파장을 가지고, 최소 2㎛ 크기의 패턴 형성에 유리하다. 상기 UV 엑시머 레이저 빔의 최대 파워는 대략 300W 정도이고, 반복율(Repetition Rate)은 대략 50 내지 200Hz로서, 폴리머 또는 얇은 무기막을 패터닝하는데 유리하다. 이하 UV 엑시머 레이저 빔을 '레이저 빔'이라 칭한다.
도 1에 도시되진 않지만, 상기 헤드부(30)가 복수개 구비될 수 있으며, 복수개의 헤드부를 구비한 경우에는 기판의 제조 공정을 단축시킬 수 있다.
상기 이송부(50)는 상기 헤드부(30)를 원하는 위치로 이송시킨다. 상기 헤드부(30)는 상기 이송부(50)에 고정되어 상기 소정의 패턴(21)이 형성되는 위치로 이송된다. 바람직하게 상기 이송부(50)가 이송됨에 따라서 상기 헤드부(30)는 기판에 형성되는 절연막을 용이하게 식각하여 원하는 패턴을 형성할 수 있다.
도 2는 도 1의 헤드부의 개략적 사시도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 헤드부(30)는 광원부(32), 마스크(33) 및 투사렌즈(35)를 포함한다.
상기 광원부(32)는 레이저 빔들을 생성하고 생성된 레이저 빔을 집광하여 에너지가 높은 레이저 빔을 주사한다.
상기 마스크(33)는 소정 형상으로 개구된 개구 패턴(33a)을 포함하며, 상기 광원부(32)로부터 주사된 레이저 빔은 상기 개구 패턴(33a)에 대응하는 형상의 레이저 빔으로 형성된다.
상기 투사 렌즈(35)는 상기 마스크(33)의 개구 패턴(33a)에 대응하여 형성된 레이저 빔을 피처리 기판에 투사시킨다.
이하에서는 본 발명에 따른 레이저 리소그래피부에 의해 패턴을 형성하는 방법을 설명한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 개구 패턴(33a)을 갖는 마스크(33)를 포함하는 헤드부(30)로부터 주사된 레이저 빔을 이용하여 패턴을 형성한다. 상기 정반부(10)에 기판(20)을 배치시키고, 원하는 위치로 헤드부(30)를 이동시킨다. 상기 헤드부(30)로부터 주사된 레이저 빔에 의해 기판(20)의 절연막을 패터닝한다. 이와 같은 경우, 상기 기판(20)에는 홀(hole) 형태의 패턴(21)이 형성된다. 상기와 같은 방식에 의해 형성된 홀 패턴(21)은 기판 상에서 스위칭 소자(TFT)와 화소 전극(Pixel Electrode)을 전기적으로 연결시키기 위해 형성되는 콘택홀을 형성할 때 용이하게 적용될 수 있다.
비록 상기 실시예에서는 개구 패턴(33a)을 갖는 마스크(33)를 예로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 다양한 형태의 패턴을 갖는 마스크를 이용하여 다양한 형태의 패턴을 기판 상에 형성할 수 있다.
<실시예 1>
도 3은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(100)는 다수의 기판을 수납한 카세트가 반입 및 반출되는 다수의 포트부(115), 상기 포트부(115)에 반입된 카세트의 기판을 이송하기 위한 주반송부인 제 1 반송부(120)와, 상기 제 1 반송부(120)의 일단의 일측으로부터 차례로 배치된 성막부(130), 제 2 반송부(140), 제 1 세정부(150)와, 상기 제 1 반송부(120)의 일단의 타측으로부터 차례로 배치된 제 2 세정부(190), 제 4 반송부(180), 레이저 리소그래피부(170)와, 상기 제 1 세정부(150)와 상기 레이저 리소그래피부(170) 사이에 배치된 제 3 반송부(160)를 포함한다. 즉, 상기 기판 처리 장치(100)는 각 공정 처리부가 2열로 배치되며, 각 열의 끝단에 배치된 제 1 세정부(150)와 레이저 리소그래피부(170) 사이에 제 3 반송부(160)가 마련된다.
상기 포트부(115)는 다수의 기판이 수납된 카세트를 수용하기 위한 것으로서, 본 발명의 기판 처리 장치(100)에는 다수 개, 바람직하게는 2개 내지 6개가 마련될 수 있다.
상기 제 1 반송부(120)는 상기 포트부(115)에 수용된 카세트의 기판을 반출하여 성막부(130)에 반입시키고 또한 제 2 세정부(190)에서 세정 공정이 완료된 기판을 반출하여 상기 포트부(115)에 반입시키기 위한 제 1 반송 수단(121)을 포함한다. 상기 제 1 반송 수단(121)은 상기 제 1 반송부(120) 내에서 이동가능하게 설치된 반송 로봇을 포함한다. 본 실시예에 도시된 상기 제 1 반송 수단(121)은 1개의 로봇 아암을 구비하고 있으나 1개 이상의 로봇 아암을 구비할 수 있다. 상기 제 1 반송 수단(121)은 직선, 회전 및 상하 이동이 가능하게 구성되어 기판을 자유롭게 반입 및 반출시킬 수 있다. 이때 반송 수단은 로보 아암 외에 다양한 형태의 반송 수단이 사용될 수 있다. 예를 들면 컨베이어 형태가 사용될 수도 있다.
상기 성막부(130)는 기판 상에 박막을 형성하기 위한 것으로서, 화학적 기상 증착 및 물리적 기상 증착 등의 공정을 수행할 수 있다. 본 실시예에 따른 기판 처리 장치의 성막부(130)에서 형성되는 박막의 예로는 게이트층, 활성층, 소스 및 드레인층, 패시베이션층(비유기막) 및 공통전극층을 포함한다.
상기 제 2 반송부(140)는 상기 성막부(130)에서 성막 공정이 완료된 기판을 상기 제 1 세정부(150)로 반송시키기 위한 것으로서, 상기 제 1 반송부(150)와 유사하게 기판의 반입 및 반출을 위한 제 2 반송 수단(141)을 포함한다. 또한, 상기 제 2 반송 수단(141)은 1개의 로봇 아암으로 구성된 반송 로봇을 포함할 수 있다. 이하에서 제 3 반송부(160) 및 제 4 반송부(180)는 제 3 반송 수단(161) 및 제 4 반송 수단(181)을 포함하고, 이는 제 2 반송부(140)와 동일하므로 이들에 대한 설명은 생략한다.
상기 제 1 및 제 2 세정부(150, 190)는 성막 공정 및 레이저 리소그래피 공정 후 기판의 표면으로부터 오염 물질들을 세정하기 위한 것으로서, 건식 세정 또는 습식 세정을 수행할 수 있으나, 바람직하게는 건식 세정을 수행한다.
상기 레이저 리소그래피부(170)는 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 바와 같이, 종래 기술의 포토 리소그래피 공정과 식각 공정을 대체하는 레이저 리소그래피 공정을 이용하여 기판 상에 다양한 패턴을 형성한다.
이하에서는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 기판 처리 장치의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(110)가 포트부(115)에 수용되면, 제 1 반송부(120)의 주반송 수단인 제 1 반송 수단(121)이 이동하여 포트부(115) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(121)은 보유하고 있는 기판을 성막부(130)에 반입시킨다. 상기 성막부(130)에서는 기판 상에 게이트층, 활성층, 소스 및 드레인층, 패시베이션층(비유기막) 또는 공통전극층을 포함하는 박막이 형성된다. 박막이 형성된 기판은 제 2 반송부(140)의 제 2 반송 수단(141)에 의해 제 1 세정부(150)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 기판은 제 3 반송부(160)의 제 3 반송 수단(161)에 의해 레이저 리소그래피부(170)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 4 반송부(180)의 제 4 반송 수단(181)에 의해 제 2 세정부(190)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(121)에 의해 포트부(115) 내의 카세트(110)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(100)로부터 반출된다.
이와 같이, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 성막부(130)와 레이저 리소그래피부(170)를 함께 구비하고, 또한 레이저 리소그래피부(170)가 종래 기술의 포토 리소그래피 공정과 식각 공정을 동일 장치 내에서 연속하여 수행하므로 기판의 전체적인 처리 공정 시간이 줄어들고, 전체 장치의 풋프린트(footprint)가 감소되어 제조 단가를 낮출 수 있게 된다.
<실시예 2>
예 1
도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 다수의 기판을 수납한 카세트가 반입 및 반출되는 다수의 포트부(215), 상기 포트부(215)에 반입된 카세트의 기판을 이송하기 위한 주반송부인 제 1 반송부(220)와, 상기 제 1 반송부(220)의 일단의 일측으로부터 차례로 배치된 성막부(230), 제 1 세정부(250)와, 상기 제 1 반송부(220)의 일단의 타측으로부터 차례로 배치된 제 2 세정부(290), 레이저 리소그래피부(270)와, 상기 성막부(230) 및 제 1 세정부(250)와 상기 제 2 세정부(290) 및 레이저 리소그래피부(270) 사이에 배치된 제 2 반송부(260)를 포함한다. 즉, 상기 기판 처리 장치(200)는 2열로 배치되며, 상기 성막부(230) 및 제 1 세정부(250)와 상기 제 2 세정부(290) 및 레이저 리소그래피부 (270) 사이에 제 2 반송부(260)가 마련된다.
이하에서는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 기판 처리 장치의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(210)가 포트부(215)에 수용되면, 제 1 반송부(220)의 주반송 수단인 제 1 반송 수단(221)이 이동하여 포트부(215) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(221)은 보유하고 있는 기판을 성막부(230)에 반입시킨다. 상기 성막부(230)에서는 기판 상에 게이트층, 활성층, 소스 및 드레인층, 패시베이션층(비유기막) 또는 공통전극층을 포함하는 박막이 형성된다. 박막이 형성된 기판은 제 2 반송부(260)의 제 2 반송 수단(261)의 회전 및 직선 이동에 의해 제 1 세정부(250)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 기판은 제 2 반송부(260)의 제 2 반송 수단(261)에 의해 레이저 리소그래피부(270)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 2 반송부(260)의 제 2 반송 수단(261)에 의해 제 2 세정부(290)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(221)에 의해 포트부(215) 내의 카세트(210)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(200)로부터 반출된다.
이와 같은 기판 처리 장치는 상기 실시예의 기능 및 작용을 모두 달성할 수 있으며, 반송부의 개수를 감소시켜 전체 장치의 풋프린트를 더욱 감소시킬 수 있다.
예 2
도 5는 본 발명의 제 2 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 5에 도시된 실시예는 제 2 반송부(360)에 제 2 반송 수단(361), 제 3 반송 수단(363) 및 이들 사이에 배치된 버퍼부(362)가 마련된다는 것을 제외하고는 상기 제 2 실시예와 동일하다.
이하에서는 본 발명의 제 2 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(310)가 포트부(315)에 수용되면, 제 1 반송부(320)의 제 1 반송 수단(321)이 이동하여 포트부(315) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(321)은 보유하고 있는 기판을 성막부(330)에 반입시킨다. 상기 성막부(330)에서는 기판 상에 게이트층, 활성층, 소스 및 드레인층, 패시베이션층(비유기막) 또는 공통전극층을 포함하는 박막이 형성된다. 박막이 형성된 기판은 제 2 반송부(360)의 제 2 반송 수단(361)에 의해 버퍼부(362) 내로 반입되어 대기 상태에 있게 된다. 버퍼부(362)에 대기 상태로 있는 기판은 제 3 반송 수단(363)에 의해 제 1 세정부(350)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 기판은 제 2 반송부(360)의 제 3 반송 수단(363)에 의해 레이저 리소그래피부(370)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 2 반송부(360)의 제 3 반송 수단(363)에 의해 버퍼부(362) 내로 반입된 후 제 2 반송 수단 (361)에 의해 제 2 세정부(390)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(321)에 의해 포트부(315) 내의 카세트(310)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(300)로부터 반출된다.
이와 같이 본 발명은 기판 처리 장치의 풋프린트를 현저히 감소시키면서도, 반송부에 버퍼부 및 복수의 반송 수단을 마련하여 각 공정 처리부에서 공정이 완료된 기판을 시간 지연 없이 후속 공정 처리부로 이송함에 의해서 기판 처리 속도를 더욱 향상시킬 수 있다.
<실시예 3>
예 1
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 6을 참조하면, 기판 처리 장치(400)는 다수의 기판을 수납한 카세트가 반입 및 반출되는 다수의 포트부(415), 상기 포트부(415)에 반입된 카세트의 기판을 이송하기 위한 주반송부인 제 1 반송부(420)와, 상기 제 1 반송부(420)의 일단의 일측으로부터 차례로 배치된 제 1 세정부(430), 제 2 반송부(440), 코팅부(450)와, 상기 제 1 반송부(420)의 일단의 타측으로부터 차례로 배치된 제 2 세정부(490), 제 4 반송부(480), 레이저 리소그래피부(470)와, 상기 코팅부(450)와 상기 레이저 리소그래피부(470) 사이에 배치된 제 3 반송부(460)와, 그리고 상기 제 3 반송부(460)와 인접한 건조 경화부(465)를 포함한다.
상기 제 1 세정부(430)에서는 바람직하게 습식 세정 공정이 수행되어 기판의 표면으로부터 오염물이 제거됨과 동시에 이후 코팅부(450)에서 코팅되는 박막과 기판 표면의 표면 접착성이 향상된다.
상기 코팅부(450)는 일반적으로 기판 상에 박막을 형성하기 위한 것으로서, 스핀(spin) 코팅 및 스핀리스(spinless) 코팅 등 여러가지 코팅을 수행할 수 있다. 본 실시예에 따른 기판 처리 장치(400)의 코팅부(450)에서 형성되는 박막의 예로는 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함한다.
상기 건조 경화부(465)는 코팅부에서 코팅된 유기 박막을 건조시키고 상기 박막을 경화시키기 위한 것으로서, 상기 경화부(465)는 진공 분위기의 진공건조 경화부로 제작될 수도 있고 진공건조 영역과 경화 영역으로 별도로 제작될 수도 있다. 본 실시예에서 상기 건조 경화부(465)에는 진공건조 영역과 경화 영역이 상하 2단으로 마련되어 있다.
이하에서는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 기판 처리 장치의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(410)가 포트부(415)에 수용되면, 제 1 반송부(420)의 주반송 수단인 제 1 반송 수단(421)이 이동하여 포트부(415) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(421)은 보유하고 있는 기판을 제 1 세정부(430)에 반입시킨다. 상기 제 1 세정부(430)에서는 기판의 표면으로부터 오염물을 제거함과 동시에 이후 코팅부(450)에서 코팅되는 유기막과 기판 표면의 표면 접착성을 향상시키기 위해 기판의 표면을 습식 세정한다. 세정 공정을 거친 기판은 제 2 반송부(440)의 제 2 반송 수단(441)에 의해 코팅부(450)로 반입된다. 상기 코팅 부(450)에서는 기판 상에 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막이 형성된다. 유기막이 형성된 기판은 제 3 반송부(460)의 제 3 반송 수단(461)에 의해 건조 경화부(465)로 반입된다. 상기 건조 경화부(465)에서는 코팅부에서 코팅된 유기막을 건조 및 경화시킨다. 상기 건조 경화부(465)에서 경화된 기판은 제 3 반송부(460)의 제 3 반송 수단(461)에 의해 레이저 리소그래피부(470)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 4 반송부(480)의 제 4 반송 수단(481)에 의해 제 2 세정부(490)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(421)에 의해 포트부(415) 내의 카세트(410)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(400)로부터 반출된다.
이와 같이 본 발명의 기판 처리 장치는 유기막 코팅부와 레이저 리소그래피부를 함께 구비하고, 동일 장치 내에서 유기막 코팅과 유기막 패터닝을 연속하여 진행하므로 기판 처리 공정 시간을 감소시키고, 전체 장치가 차지하는 풋프린트를 감소시킨다.
예 2
도 7은 본 발명의 제 3 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 7에 도시된 실시예는 도 6의 제 3 반송 수단(461)이 제 5 반송 수단(561) 및 제 6 반송 수단(563)으로 대체된 것을 제외하고는 상기 제 3 실시예와 동일하다. 즉, 상기 제 5 반송부(560)의 반송 수단(561)은 제 1 반송부(520)의 일단의 일측 가장자리에 마련되고, 상기 제 6 반송부(562)의 반송 수단(563)은 제 1 반송부(520)의 일단의 타측 가장자리에 마련되며, 상기 건조 경화부(565)가 상기 제 5 반송부(560)와 제 6 반송부(562) 사이에 마련된다.
본 발명의 제 3 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치(500)의 작동 과정은 코팅부(550)에서 유기막이 형성된 기판이 제 5 반송부(560)의 제 5 반송 수단(561)에 의해 반출되고 건조 경화부(565)에 반입되어 경화된 기판이 제 6 반송부(562)의 제 6 반송 수단(563)에 의해 반출되는 것을 제외하고는 상기 제 3 실시예의 작동 과정과 동일하다.
이와 같이 본 발명의 기판 처리 장치는 코팅부, 진공 경화부 및 레이저 리소그래피부에서 연속적으로 공정이 진행될 때, 시간 지연 없이 기판을 신속하게 이송할 수 있다.
<실시예 4>
예 1
도 8은 본 발명의 제 4 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 제 4 실시예에 따른 기판 처리 장치(600)는 다수의 기판을 수납한 카세트(610)가 반입 및 반출되는 다수의 포트부(615), 상기 포트부(615)에 반입된 카세트의 기판을 이송하기 위한 주반송부인 제 1 반송부(620) 와, 상기 제 1 반송부(620)의 일단의 일측으로부터 차례로 배치된 제 1 세정부(630) 및 코팅부(650)와, 상기 제 1 반송부(620)의 일단의 타측으로부터 차례로 배치된 제 2 세정부(690), 레이저 리소그래피부(670)와, 상기 제 1 세정부(630) 및 코팅부(650)와 상기 제 2 세정부(690) 및 레이저 리소그래피부(670) 사이에 배치된 제 2 반송부(660)와, 상기 제 2 반송부(660)와 인접하고 제 1 반송부(620)와 대향하여 배치된 건조 경화부(665)를 포함한다.
이하에서는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 기판 처리 장치의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(610)가 포트부(615)에 수용되면, 제 1 반송부(620)의 주반송 수단인 제 1 반송 수단(621)이 이동하여 포트부(615) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(621)은 보유하고 있는 기판을 제 1 세정부(630)에 반입시킨다. 상기 제 1 세정부(630)에서 세정 공정을 거친 기판은 제 2 반송부(660)의 제 2 반송 수단(661)의 회전 및 직선 이동에 의해 코팅부(650)로 반입되어 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막이 상기 기판 상에 형성된다. 유기막이 형성된 기판은 제 2 반송 수단(661)에 의해 건조 경화부(665)로 반입된다. 상기 건조 경화부(665)에서는 코팅부에서 코팅된 유기막을 건조 및 경화시킨다. 상기 건조 경화부(665)에서 경화된 기판은 제 2 반송 수단(661)에 의해 레이저 리소그래피부(670)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 2 반송부(660)의 제 2 반송 수단(661)에 의해 제 2 세정부(690)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(621)에 의해 포트부(615) 내의 카세트(610)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(600)로부터 반출된다.
이와 같이 본 발명의 기판 처리 장치는 상기 실시예 3의 기능 및 작용을 달성할 수 있으며, 더불어 반송부의 개수를 감소시켜 전체 장치의 풋프린트를 더욱 감소시킬 수 있다.
예 2
도 9는 본 발명의 제 4 실시예의 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 9에 도시된 실시예는 제 2 반송부(760)에 제 2 반송 수단(761), 제 3 반송 수단(763) 및 이들 사이에 배치된 버퍼부(762)가 마련된다는 것을 제외하고는 상기 제 4 실시예와 동일하다.
이하에서는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 기판 처리 장치(700)의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(710)가 포트부(715)에 수용되면, 제 1 반송부(720)의 제 1 반송 수단(721)이 이동하여 포트부(715) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(721)은 보유하고 있는 기판을 제 1 세정부(730)에 반입시킨다. 상기 제 1 세정부(730)에서 세정 공정을 거친 기판은 제 2 반송부(760)의 제 2 반송 수단(761)에 의해 버퍼부(762) 내로 반입되어 대기 상태에 있게 된다. 버 퍼부(762)에서 대기 상태로 있는 기판은 제 2 반송부(760)의 제 3 반송 수단(763)에 의해 코팅부(750)로 반입되어 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막이 상기 기판 상에 형성된다. 유기막이 형성된 기판은 제 3 반송 수단(763)에 의해 건조 경화부(765)로 반입된다. 상기 건조 경화부(765)에서는 코팅부에서 코팅된 유기막을 건조 및 경화시킨다. 상기 건조 경화부(765)에서 경화된 기판은 제 3 반송 수단(763)에 의해 레이저 리소그래피부(770)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 2 반송부(760)의 제 3 반송 수단(763)에 의해 버퍼부(762) 내로 반입된 후 제 2 반송 수단(761)에 의해 제 2 세정부(790)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(721)에 의해 포트부(715) 내의 카세트(710)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(700)로부터 반출된다.
이와 같은 본 발명의 기판 처리 장치는 전체 장치의 풋프린트를 감소시키면서도, 버퍼부를 구비하여 기판을 시간 지연 없이 이송하여 기판 처리 속도를 더욱 향상시킬 수 있다.
<실시예 5>
도 10은 본 발명의 제 5 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 10을 참조하면, 기판 처리 장치(800)는 다수의 기판을 수납한 카세트(810)가 반입 및 반출되는 다수의 포트부(815), 상기 포트부(815)에 반입된 카세트 의 기판을 이송하기 위한 주반송부인 제 1 반송부(820)와, 상기 제 1 반송부(820)의 일단의 일측으로부터 차례로 배치된 제 1 세정부(830), 제 2 반송부(840), 코팅부(850), 제 3 반송부(860), 건조부(865a)와, 상기 제 1 반송부(820)의 일단의 타측으로부터 차례로 배치된 제 2 세정부(890), 제 6 반송부(880), 레이저 리소그래피부(870), 제 5 반송부(868), 경화부(865b)와, 상기 건조부(865a)와 상기 경화부(865b) 사이에 배치된 제 4 반송부(866)를 포함한다. 본 실시예에서는 도 6 내지 도 9에 도시된 실시예와 달리 건조 경화부가 두 영역, 즉 건조부(865a)와 경화부(865b)로 분리된다.
이하에서는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 기판 처리 장치의 작동 과정에 대해 설명한다.
다수 개의 기판이 수납된 카세트(810)가 포트부(815)에 수용되면, 제 1 반송부(820)의 주반송 수단인 제 1 반송 수단(821)이 이동하여 포트부(815) 내의 기판을 반출시킨다. 그 후, 제 1 반송 수단(821)은 보유하고 있는 기판을 제 1 세정부(830)에 반입시킨다. 상기 제 1 세정부(830)에서 세정 공정을 거친 기판은 제 2 반송부(840)의 제 2 반송 수단(841)에 의해 코팅부(850)로 반입된다. 상기 코팅부(850)에서는 기판 상에 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막이 형성된다. 유기막이 형성된 기판은 제 3 반송부(860)의 제 3 반송 수단(861)에 의해 건조부(865a)로 반입된다. 상기 코팅부(850)에서 유기막이 코팅된 기판은 상기 건조부(865a)에서 건조된 후, 제 4 반송부(866)의 제 4 반송 수단(867)에 의해 경화부(865b)로 반입되고 상기 경화부(865b)에서 기판 상의 유기막이 경화된다. 상기 경화부(865b)에서 경화된 기판은 제 5 반송부(868)의 제 5 반송 수단(869)에 의해 레이저 리소그래피부(870)로 반입되어 소정의 패턴이 형성된 마스크를 이용하는 레이저 리소그래피 공정을 거쳐 기판 상에 소정의 패턴이 형성된다. 소정의 패턴이 형성된 기판은 이후 제 6 반송부(880)의 제 6 반송 수단(881)에 의해 제 2 세정부(890)로 반입되어 세정된다. 세정 공정을 거친 패턴이 형성된 기판은 제 1 반송 수단(821)에 의해 포트부(815) 내의 카세트(810)에 반입되어 본 발명의 기판 처리 장치(800)로부터 반출된다. 본 실시예에서는 건조 경화부가 건조부(865a)와 경화부(865b)로 분리 구성된 실시예를 설명하나, 이러한 건조 경화부의 분리 구성은 도 8 및 도 9에 도시된 실시예에서도 적용가능하다. 예를 들어, 도 8에 도시된 실시예에서 건조 경화부(665)가 건조부와 경화부로 분리 구성되면, 상기 건조부는 상기 코팅부(650)에 인접하게 배치되고 상기 경화부는 상기 레이저 리소그래피부(670)에 인접하게 배치된다. 따라서, 제 2 반송부(660)는 제 1 세정부(630), 코팅부(650) 및 건조부와, 제 2 세정부(690), 레이저 리소그래피부(670) 및 경화부 사이에 마련되며, 상기 제 2 반송부(660)는 그 내부에서 이동 가능한 제 2 반송 수단(661)을 구비한다.
<실시예 6>
도 11은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 11을 참조하면, 본 발명의 제 6 실시예에 따른 기판 처리 장치(900)는 다수의 기판을 수납한 카세트(910)가 반입되는 입구 포트부(915), 상기 입구 포트부 (915)에 반입된 카세트의 기판을 이송하기 위한 주반송부인 제 1 반송부(920)와, 상기 제 1 반송부(920)로부터 차례로 배치된 성막부(930), 제 2 반송부(940), 레이저 리소그래피부(970), 제 3 반송부(980) 및 출구 포트부(916)를 포함한다. 본 실시예에서는 도 3 내지 도 10에 도시된 2열 구조의 실시예와 달리 1열로 배치된다.
한편, 상기 실시예에서는 별도의 세정부를 도시하지 않았지만 필요에 따라 성막부(930) 및 레이저 리소그래피부(970) 각각의 전후 및 사이에 세정부를 배치할 수도 있음을 용이하게 인식할 것이다. 또한, 상기 실시예에서는 성막부에서 기판 상에 형성되는 박막이 게이트층, 활성층, 소스 및 드레인층, 패시베이션층(비유기막) 또는 공통전극층인 경우를 예시하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막을 코팅하도록 기판 처리 장치를 변경할 수 있다. 즉, 코팅부, 건조 경화부 및 레이저 리소그래피부를 1열로 배치시키고 필요에 따라 이들 사이에 세정부를 배치시킴으로써 상기 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막을 기판 상에 코팅하고 패터닝할 수 있다.
<실시예 7>
도 12는 본 발명의 제 7 실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략도이다.
도 12를 참조하면, 본 발명의 제 7 실시예에 따른 기판 처리 장치(1000)는 다수의 기판을 수납한 카세트(1010)가 반입 및 반출되는 다수의 포트부(1015), 상기 포트부(1015)에 반입된 카세트의 기판을 이송하기 위한 제 1 반송부(1020)와, 상기 제 1 반송부(1020)의 하부 일단의 일측에 배치된 코팅부(1030)와 하부 일단의 타측에 배치된 레이저 리소그래피부(1070), 상기 코팅부(1030)와 레이저 리소그래피부(1070) 각각의 상부에 배치된 세정부(1050, 1090)를 포함한다. 본 실시예에서는 도 3 내지 도 10에 도시된 2열 구조 및 도 11에 도시된 1열 구조와 달리 2단의 적층 구조로 배치된다. 상기 실시예에서는 코팅부(1030)와 레이저 리소그래피부(1070)가 장치의 하부에 마련되어 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 각 공정 처리부의 중량 및 높이에 따라 여러 형태로 적층 구조가 변경될 수 있다. 또한, 상기 실시예에서는 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막을 코팅할 경우 상기 제조 설비의 구성 부분 중 코팅부(1030)와 레이저 리소그래피부(1070), 및 그 상부에 배치된 세정부(1050, 1090) 만을 도시하였으나 본 발명은 이에 한정되지 않고 필요에 따라, 추가의 반송부와 건조 경화부를 배치시킬 수 있음을 당업자라면 용이하게 인식할 수 있을 것이다. 또한, 상기 실시예에서는 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 또는 유기 패시베이션 막을 포함하는 유기막을 코팅할 경우를 예시하였으나, 게이트층, 활성층, 소스 및 드레인층, 패시베이션층(비유기막) 또는 공통전극층을 포함하는 박막을 기판 상에 형성할 경우 성막부와 레이저 리소그래피부를 하부에 배치시키고 반송부와 세정부를 이들 상부 및 일측에 배치시켜 2단으로 구성할 수도 있다.
이와 같은 본 발명의 기판 처리 장치는 각 공정이 진행되는 영역을 적층하여 장치의 풋프린트를 더욱 감소시킬 수 있다.
상기에서는 각 공정이 진행되는 공정 처리부가 하나씩 배치된 기판 처리 장 치를 예시하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 복수개의 공정 처리부가 배치될 수 있다. 또한, 상기의 실시예들은 다양하게 포함되어 구현될 수 있음은 물론이다. 또한, 상기에서는 액정 표시 장치의 제조를 기준으로 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 다양한 기판을 처리할 수 있다.
본 발명에 의해 포토 리소그래피부와 식각부를 대체하는 레이저 리소그래피부를 이용하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공함으로써 대형 기판의 정밀한 패턴 형성 및 조절과 함께 패턴의 3차원적 균일성을 달성할 수 있다.
또한, 본 발명의 기판 처리 장치는 성막부와 패터닝부를 함께 구비함으로써 전체적인 기판 처리 공정 시간이 단축되고 기판 처리 장치의 전체 풋프린트를 감소시켜 제조 단가를 절감할 수 있다.

Claims (31)

  1. 기판 처리 장치에 있어서,
    상기 기판 상에 박막을 형성하기 위한 성막부와,
    상기 박막에 소정의 패턴을 형성하기 위한 레이저 리소그래피부를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판의 반입 및 반출을 위한 주반송부를 더 포함하며, 상기 주반송부는 주반송 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 주반송 수단은 상기 주반송부 내에서 이동 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 성막부와 상기 레이저 리소그래피부의 전후 및 사이 중 어느 하나 이상 에 세정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부가 상기 기판 처리 장치 내에서 일렬로 배치된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부가 상기 기판 처리 장치 내에서 2열로 배치된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  7. 청구항 4에 있어서,
    상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부가 상기 기판 처리 장치 내에서 다단으로 배치되며, 상기 성막부와 레이저 리소그래피부가 하부에 마련되는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  8. 청구항 5 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 성막부, 레이저 리소그래피부 및 세정부를 연결시키는 1개 이상의 보조 반송부를 더 포함하며, 상기 보조 반송부는 각각 보조 반송 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  9. 청구항 6에 있어서,
    상기 기판 처리 장치의 2열 사이에 마련된 보조 반송부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에서 이동 가능하게 설치되는 보조 반송 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에 마련된 1개 이상의 보조 반송 수단과, 이들 사이에 배치된 1개 이상의 버퍼부를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 박막은 게이트층, 활성층, 소스층, 드레인층, 무기 패시베이션층 및 공통전극층 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  13. 기판 처리 장치에 있어서,
    상기 기판 상에 박막을 도포하기 위한 코팅부와,
    상기 박막에 소정의 패턴을 형성하기 위한 레이저 리소그래피부를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 기판의 반입 및 반출을 위한 주반송부를 더 포함하며, 상기 주반송부는 주반송 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 주반송 수단은 상기 주반송부 내에서 이동 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 코팅부와 상기 레이저 리소그래피부 사이에 건조 경화부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 건조 경화부는 건조부와 경화부가 상하 2단 구조이거나 서로 분리된 구조인 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 코팅부 상기 레이저 리소그래피부 및 건조 경화부의 전후 및 사이 중 어느 하나 이상에 세정부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 건조 경화부 및 세정부가 상기 기판 처리 장치 내에서 일렬로 배치된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  20. 청구항 18에 있어서,
    상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 건조 경화부 및 세정부가 상기 기판 처리 장치 내에서 2열로 배치된 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  21. 청구항 18에 있어서,
    상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 건조 경화부 및 세정부가 상기 기판 처리 장치 내에서 다단으로 배치되며, 상기 코팅부와 레이저 리소그래피부가 하부에 마련되는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  22. 청구항 19 내지 청구항 21 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 코팅부, 레이저 리소그래피부, 진공 건조부 및 세정부를 연결시키는 1개 이상의 보조 반송부를 더 포함하며, 상기 보조 반송부는 각각 보조 반송 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  23. 청구항 20에 있어서,
    상기 기판 처리 장치의 2열 사이에 마련된 보조 반송부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  24. 청구항 23에 있어서,
    상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에서 이동 가능하게 설치되는 보조 반송 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  25. 청구항 23에 있어서,
    상기 보조 반송부는 상기 보조 반송부 내에 마련된 1개 이상의 보조 반송 수단과, 이들 사이에 배치된 1개 이상의 버퍼부를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  26. 청구항 13에 있어서,
    상기 박막은 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 및 유기 패시베이션 막 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 장치.
  27. 기판 처리 방법에 있어서,
    기판을 제공하는 단계,
    상기 기판 상에 박막을 형성하는 단계,
    상기 박막을 동일한 장치 내에서 레이저를 이용하여 패터닝하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 방법.
  28. 청구항 27에 있어서,
    상기 박막 형성 단계와 상기 패터닝 단계의 전후 및 사이 중 어느 하나 이상에 상기 기판 상의 박막을 세정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 방법.
  29. 청구항 27에 있어서,
    상기 박막 형성 단계 후에, 상기 박막을 건조 경화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 방법.
  30. 청구항 28에 있어서,
    상기 박막은 게이트층, 활성층, 소스층, 드레인층, 무기 패시베이션층 및 공통전극층 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 방법.
  31. 청구항 29에 있어서,
    상기 박막은 유기 블랙 매트릭스막, 유기 RGB 막 및 유기 패시베이션 막 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    기판 처리 방법.
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