KR20070065209A

KR20070065209A - Apparatus for providing develper soultion

Info

Publication number: KR20070065209A
Application number: KR1020060103878A
Authority: KR
Inventors: 켄지 스기모토; 료타 타나하시
Original assignee: 미츠비시 가가쿠 엔지니어링 가부시키가이샤
Priority date: 2005-12-19
Filing date: 2006-10-25
Publication date: 2007-06-22
Also published as: JP2007171232A; TW200728938A; JP4839820B2; TWI402634B

Abstract

An apparatus for feeding a developer is provided to manage the alkali density and the resin density of the developer recovered from a developing process of a liquid crystal board or a print board and simultaneously feed a developer readjusted at certain density to the process. An implement feeds an undiluted solution of a developer. An adjustment tank(1) has an implement which feeds a new developing solution or diluted water. A recovery solution path(22) transmits a used developer to the adjustment tank(1). A feeding solution path(21) transmits a readjusted developer to a developing process(8). An exhaust solution path(23) for exhausting the used developer transmitted from the developing process(8) to the outside is installed in the recovery solution path. When a quantity of the used developer recovered in the adjustment tank(1) exceeds a use quantity necessary for readjustment, the used developer is exhausted from the exhaust solution path(23).

Description

Apparatus for providing develper soultion

도 1은 본 발명의 제1 형태에 관한 현상액의 공급장치의 주요 구성요소를 도시하는 플로우 도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a flowchart which shows the main component of the supply apparatus of the developing solution which concerns on the 1st form of this invention.

도 2는 본 발명의 제2 형태 및 제3 형태에 관한 현상액의 공급장치의 주요 구성요소를 도시하는 플로우 도이다. Fig. 2 is a flow chart showing the main components of a developer supplying device for a second aspect and a third aspect of the present invention.

부호의 설명Explanation of the sign

1: 조정조 11: 액면계 1: adjustment tank 11: liquid level meter

12: 농도계 21: 공급유로 12: densitometer 21: supply flow path

22: 회수유로 23: 배출유로 22: recovery flow path 23: discharge flow path

24: 배출유로 25: 혼합유로 24: discharge flow path 25: mixed flow path

31: 신액공급유로 (새로운 현상액을 공급하는 기구)31: New liquid supply passage (a mechanism for supplying a new developer)

32: 원액공급유로 (현상액 원액을 공급하는 기구) 32: undiluted liquid supply flow path (institution for supplying undiluted solution liquid)

4: 절환밸브 51: 개폐밸브 4: switching valve 51: on-off valve

52: 개폐밸브 53: 개폐밸브 52: on-off valve 53: on-off valve

6: 회수 저장조 71: 펌프 6: recovery reservoir 71: pump

72: 펌프 8: 현상 프로세스 72: pump 8: developing process

8b: 다른 프로세스 8b: other processes

본 발명은 현상액의 공급장치에 관한 것이고, 자세하게는 액정 기판이나 프린트 기판의 현상 프로세스로부터 회수된 현상액의 알칼리 농도 및 수지 농도를 관리함과 동시에 일정 농도로 재조절한 현상액을 프로세스에 공급하는 현상액의 공급장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a developer supplying device, and in detail, to supplying a developer for supplying a developer to a process by controlling the alkali concentration and the resin concentration of the developer recovered from the developing process of a liquid crystal substrate or a printed circuit board and re-adjusting to a constant concentration. Relates to a device.

액정기판이나 프린트 기판을 제조할 때의 포토레지스트의 현상 프로세스에서는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드(TMAH) 등의 알칼리 수용액이 현상액으로서 사용된다. 이러한 현상액은 현재 기판 사이즈의 대형화 및 프로세스의 진보에 의해 다량으로 사용되기 때문에 비용 절감의 관점에서 현상 프로세스에 대하여 재이용하는 것이 바람직하지만, 재이용을 반복하는 동안 수지 중의 산과 반응, 공기 중의 탄산 가스나 산소와 반응하는 것에 의해 알칼리 농도가 저하되고 또 레지스트용 수지의 용해에 의해 수지 농도가 상승하며 이것에 의해 레지스트 패턴의 치수 정밀도나 미노광부의 막두께 정밀도가 저하되기 때문에 알칼리 농도 및 용해 수지 농도를 가능한한 일정하게 관리할 필요가 있다. In the development process of the photoresist at the time of manufacturing a liquid crystal substrate and a printed circuit board, aqueous alkali solution, such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH), is used as a developing solution. Since such developer is currently used in large quantities due to the increase in substrate size and the progress of the process, it is preferable to reuse the developing process from the viewpoint of cost reduction.However, the reaction with the acid in the resin, the carbonic acid gas or oxygen in the air during the reuse is repeated. And the alkali concentration decreases and the resin concentration rises by dissolving the resist resin, thereby decreasing the dimensional accuracy of the resist pattern and the precision of the film thickness of the unexposed portion. It needs to be kept constant.

현상 프로세스로부터 배출되는 사용한 현상액을 재생하여 재이용하는 현상액의 공급장치로서 공급해야할 현상액을 조제하는 공급저장조(조제조), 사용한 현상액을 일단 회수액 저장조에 수용하여 상기 공급저장조로 송액하는 회수액 공급기구, 새로운 현상액 원액을 공급저장조에 공급하는 원액 공급기구, 희석수를 공급저 장조에 공급하는 희석수 공급 기구를 구비하고 있고, 공급 저장조의 현상액의 알칼리 농도 및 수지 농도에 기본으로 하여 원액공급기구에 의한 현상액 원액의 송액 및 희석수 공급기구에 의한 희석수의 송액을 제어가능하게된 것이 알려져 있다. A supply storage tank (preparation) for preparing a developer to be supplied as a supply device for regenerating and recycling the used developer discharged from the developing process, and a recovery solution supply mechanism for accommodating the used developer in a recovery liquid storage tank and delivering it to the supply storage tank. A stock solution supply mechanism for supplying the developer solution to the supply storage tank and a dilution water supply mechanism for supplying the dilution water to the supply storage tank, and based on the alkali concentration and the resin concentration of the developer in the supply storage tank, It is known that the feeding of the stock solution and the feeding of the dilution water by the dilution water supply mechanism can be controlled.

상기와 같은 현상액의 공급장치에 있어서 현상 프로세스로부터 회수한 사용한 현상액의 알칼리 농도가 목표 농도보다 낮은 경우에는 고농도의 현상액 원료(예컨대 25 질량%의 TMAH)를 추가 공급하고, 사용한 현상액의 수지 농도가 목표 농도 보다 높은 경우에는 상기 현상액 원액 및 희석용 순수를 추가 공급하는 것에 의해 적절한 농도의 현상액을 조제하고 있다. 따라서 현상액의 초음파 전파속도나 전자도전율에 기초하여 알칼리 농도 및 수지 농도를 고순도로 검출하는 것에 의해 정확하게 농도 조절된 현상액을 프로세스 측에 공급할 수 있다. If the alkali concentration of the used developer recovered from the developing process is lower than the target concentration in the developer supplying device as described above, a high concentration of developer raw material (for example, 25 mass% TMAH) is additionally supplied, and the resin concentration of the used developer is the target. When the concentration is higher than the concentration, a developer having an appropriate concentration is prepared by further supplying the developer stock solution and the dilution pure water. Therefore, by accurately detecting the alkali concentration and the resin concentration on the basis of the ultrasonic wave propagation rate or the electron conductivity of the developer, the developer can be supplied to the process side with precise concentration control.

[특허문헌 1] 일본 특개 2003-2483226호 공보 [Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-2483226

발명의 개시 Disclosure of the Invention

발명이 해결하고자하는 과제 Problem to be solved by invention

그런데, 전술한 현상액의 공급장치에 있어서 현상 프로세스로부터 조제조로의 사용한 현상액의 회수량이 조제조로부터 현상 프로세스의 공급량보다 많게 되거나, 현상액 원액이나 새로운 현상액의 추가 공급양이 예정 이상으로 많아진 경우, 조제되는 현상액의 전체량이 공급저장조(조제조)의 수용량을 초과하기 때문에 과잉 현상액을 조제조로부터 폐기하지 않으면 안된다. 이것에 의해 추가 공급된 현상액 원액이나 새로운 현상액의 일부도 폐기되기 때문에 비용 손실을 야기한다. By the way, when the amount of recovery of the used developer from the developing process to the preparation tank is larger than the supply of the developing process from the preparation tank, or the amount of additional supply of the developer stock solution or the new developer is larger than expected, The excess developer must be discarded from the preparation because the total amount of the developing solution exceeds the capacity of the supply storage tank (preparation). This causes a cost loss because the additionally supplied developer solution or part of the new developer solution is also discarded.

한편 현상처리에 있어서는 피처리물의 변경에 의해 프로세스의 처리 조건도 변경되며, 또 일반적으로 복수의 프로세스가 각각 상이한 처리조건에서 가동되고 있다. 따라서 현재 현상액 중의 수지 농도에 관해서는 그의 바람직한 농도 범위가 현상 프로세스의 처리 조건에 따라서 상이한 것이 확인되고 있다. 즉, 현상액 중의 수지농도가 낮은 경우에 현상 프로세스가 안정한 경우와, 수지 농도가 비교적 높은 경우에 현상 프로세스가 안정한 경우가 있다. On the other hand, in the developing process, the processing conditions of the process are also changed by the change of the workpiece, and generally, a plurality of processes are operated under different processing conditions, respectively. Therefore, regarding the resin concentration in the developing solution, it is confirmed that the preferable concentration range differs according to the processing conditions of a developing process. That is, the developing process may be stable when the resin concentration in the developing solution is low, and when the resin concentration is relatively high in some cases.

이에 대하여 전술한 현상액의 공급장치로는 1개의 현상 프로세스를 대상으로 현상액을 조제하기 때문에 회수된 사용한 현상액 중의 여분량에 관해서는 설령 다른 현상 프로세스에 재이용 가능하더라도 폐기되고 있다. 따라서 현상 프로세스에 대한 처리 비용의 절감이라는 관점에서도 회수된 사용한 현상액의 보다 효과적인 재이용이 요망된다. On the other hand, since the developing solution is prepared for one developing process as the above-described developing solution supplying device, the excess amount in the used used developer recovered is discarded even if it can be reused in another developing process. Therefore, from the viewpoint of reducing the processing cost for the developing process, more effective reuse of the recovered used developer is desired.

본 발명은 상기 실정을 감안한 것이고, 그 목적은 액정 기판이나 프린트 기판의 현상 프로세스로부터 회수된 현상액의 알칼리 농도 및 수지 농도를 관리함과 함께 일정 농도로 재조제한 현상액을 현상 프로세스에 공급하는 현상액의 공급장치에 있어서, 재조제에 사용되는 새로운 현상액의 소비량을 절감시킬 수 있는 현상액의 공급장치를 제공하는 것에 있다. 또한 본 발명의 목적은 현상 프로세스로부터 회수된 사용한 현상액을 보다 유효하게 이용할 수 있는 현상액의 공급장치를 제공하는 것에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is a supply device for a developer for supplying a developing solution to a developing process at a constant concentration while maintaining an alkali concentration and a resin concentration of a developer recovered from a developing process of a liquid crystal substrate or a printed board. An object of the present invention is to provide a developer supplying device capable of reducing the consumption of a new developer used for remanufacturing. It is also an object of the present invention to provide a developer supplying device which can more effectively use the used developer recovered from the developing process.

과제를 해결하기 위한 수단 Means to solve the problem

본 발명에서는 조정조에서 현상액의 과도한 재조제를 방지하고, 현상액 원액 또는 새로운 현상액의 손실을 방지하기 위하여 조정조 내의 사용 현상액 중의 알칼리 농도, 수지 농도 및 조정조의 액면을 검출하고, 재조제되는 현상액의 전체량이 조정조의 수용 범위내에서 예컨대 최대로 되도록 재조제에 필요한 현상액 원액 또는 새로운 현상액 또는 희석수의 추가 공급량과 함께 사용한 현상액의 사용량을 산출하여 조정조에 회수된 사용한 현상액의 양이 상기 사용량을 초과하는 경우 현상 프로세스로부터 반류되는 사용한 현상액을 조제조에 공급됨없이 장치로 배출되도록 하였다. In the present invention, in order to prevent excessive re-formulation of the developer in the adjustment tank, and to prevent the loss of the developer stock solution or new developer, the alkali concentration, the resin concentration, and the liquid level of the adjustment tank in the used developer in the adjustment tank are detected, and the total amount of the developer to be re-formed. When the amount of used developer recovered in the adjustment tank exceeds the amount used, the amount of used developer is calculated with the additional amount of the developer stock solution or new developer or dilution water required for reprocessing, for example, to the maximum within the acceptance tank. The used developer returned from the process was allowed to be discharged into the apparatus without being fed into the preparation.

또한 본 발명에서는 현상 프로세스로부터 회수된 사용한 현상액을 보다 유효하게 이용하기 위하여, 다른 현상 프로세스로부터 배출된 사용한 현상액을 회수 저장조에 일단 저류하는 것과 동시에, 대상으로하는 현상 프로세스의 현상액을 재조제할 때 필요로하는 수지 농도에 따라서 회수 저장조의 사용한 현상액을 이용하도록 하였다. 예컨대 대상으로 하는 현상 프로세스용으로 현상액을 조제할 때 다른 현상 프로세스로부터 배출되는 수지 농도가 낮은 사용한 현상액을 희석용으로서 이용한다. 또한 대상으로 하는 현상 프로세스용으로 현상액을 조제할 경우 다른 현상 프로세스로부터 배출되는 수지 농도가 높은 사용한 현상액을 수지 농도 조절용으로서 이용한다. In addition, in the present invention, in order to more effectively use the used developer recovered from the developing process, it is necessary for storing the used developer discharged from another developing process once in the recovery storage tank, and at the same time reprocessing the developing solution of the target developing process. According to the resin concentration, the used developer in the recovery storage tank was used. For example, when preparing a developing solution for the target developing process, a used developing solution having a low resin concentration discharged from another developing process is used for dilution. Moreover, when preparing a developing solution for the developing process made into object, the used developing solution with high resin concentration discharged | emitted from another developing process is used for resin concentration adjustment.

즉, 본 발명은 3개의 요지로 구성되며, 그 제1 요지는 알칼리 수용액으로 이루어지는 현상액을 현상 프로세스에 공급하는 현상액의 공급장치에 있어서, 현상액 원액을 공급하는 기구 및 새로운 현상액 또는 희석수를 공급하는 기구가 부설된 조 정조, 현상 프로세스로부터 회수된 사용한 현상액을 상기 조정조로 송액하는 회수 유로, 상기 조정조에서 재조제된 현상액을 상기 현상 프로세스로 송액하는 공급유로를 구비하고, 상기 조정조에는 알칼리 농도 및 수지 농도를 검출하는 농도계 및 액면계가 설치되며, 상기 회수유로에는 상기 현상 프로세스로부터 송액되는 사용한 현상액을 장치외로 배출하는 배출유로가 설치되며, 그리고 상기 조정조의 현상액의 알칼리 농도, 수지 농도 및 액면을 검출하고, 재조제되는 현상액의 양이 상기 조정조의 수용 범위내의 미리 설정된 상한량으로 되도록 사용한 현상액의 사용량을 산출하며, 상기 조정조에 회수된 사용한 현상액의 양이 상기 사용량을 초과한 경우에 상기 배출유로로부터 사용한 현상액을 배출하도록 구성되어 있는 특징으로 하는 현상액의 공급장치에 존재한다. That is, this invention consists of three main points, The 1st summary is a supplying apparatus of the developing solution which supplies the developing solution which consists of aqueous alkali solution to a developing process, WHEREIN: The mechanism which supplies a developing solution stock solution, and a new developing solution or dilution water is supplied. An adjustment tank provided with a mechanism, a recovery flow path for transferring the used developer recovered from the development process to the adjustment tank, and a supply flow path for feeding the developer solution re-formed in the adjustment tank to the development process, wherein the adjustment tank has an alkali concentration and a resin. A concentration meter and a liquid level meter for detecting the concentration are installed, and the discharge passage is provided with a discharge passage for discharging the used developer liquid fed from the developing process to the outside of the apparatus, and detects the alkali concentration, the resin concentration and the liquid level of the developer in the adjusting tank. The amount of developer to be re-formed Calculating a used amount of the used developer to be a predetermined upper limit in the stomach, and discharging the used developer from the discharge passage when the amount of the used developer recovered in the adjusting tank exceeds the amount used. Present in the feeder.

또한 본 발명의 제2 요지는 상기 제1 요지에 관련되는 장치에 있어서 다른 현상 프로세스로부터 회수된 사용한 현상액을 저류하는 회수 저장조, 이러한 회수 저장조로부터 조정조로 사용한 현상액을 송액하는 혼합유로를 구비하며, 상기 회수 저장조의 사용한 현상액의 수지 농도가 상기 조정액의 현상액의 수지 농도보다도 낮은 경우, 상기 조정조에 의해 수지 농도를 낮게 조작할 때, 상기 회수저장조의 사용한 현상액을 상기 혼합유로로부터 상기 조정조로 공급하도록 구성되어 있는 청구항 1에 기재된 현상액의 공급장치에 존재한다. The second aspect of the present invention also includes a recovery storage tank for storing the used developer recovered from another developing process in the apparatus according to the first aspect, and a mixing flow path for feeding the developer used as the adjustment tank from the recovery storage tank. When the resin concentration of the used developer of the recovery storage tank is lower than the resin concentration of the developer of the adjustment liquid, when the resin concentration is operated by the adjustment tank, the used developer of the recovery storage tank is supplied from the mixing passage to the adjustment tank. Present in the supply device for the developer according to claim 1.

또한 본 발명의 제3 요지는 상기 제1 요지에 관련된 장치에 있어서, 다른 현상 프로세스로부터 회수된 사용한 현상액을 저류하는 회수 저장조, 이러한 회수 저장조로부터 조정조로 사용한 현상액을 송액하는 혼합유로를 구비하고, 상기 회수저 장조의 사용한 현상액의 수지 농도가 상기 조정조의 현상액의 수지 농도 보다도 높은 경우, 상기 조정조에 의해 수지 농도를 높게 조작할 때, 상기 회수 저장조의 사용한 현상액을 상기 혼합유로부터 상기 조정조로 공급하도록 구성되어 있는 청구항 1에 기재된 현상액의 공급장치에 존재한다. The third aspect of the present invention is the apparatus according to the first aspect of the present invention, further comprising a recovery storage tank for storing the used developer recovered from another development process, and a mixing flow path for feeding the developer used as the adjustment tank from the recovery storage tank. When the resin concentration of the used developer of the recovery storage tank is higher than the resin concentration of the developer of the adjustment tank, when the resin concentration is operated by the adjustment tank, the used developer of the recovery storage tank is supplied from the mixed oil to the adjustment tank. It exists in the supply apparatus of the developing solution of Claim 1.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태 Best Mode for Carrying Out the Invention

본 발명에 관한 현상액의 공급장치의 실시형태를 도면을 기초로 하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 관한 현상액의 공급장치의 주요 구성요소를 도시하는 플로우 도이다. 제1 형태에 관한 현상액의 공급장치는 현상액의 과잉 재조제를 방지하고 현상액 원액 또는 새로운 현상액의 손실을 방지하도록 된 장치이다. 또한 도 2는 본 발명의 제2 형태 및 제3 형태에 관한 현상액의 공급장치의 주요 구성 요소를 도시하는 플로우 도이고, 제2 형태 및 제3 형태에 관한 현상액의 공급장치는 다른 현상 프로세스로부터 배출되는 사용한 현상액을 유효하게 이용하도록한 장치이다. 이하 실시형태의 설명에서는 현상액의 공급장치를 공급장치라 약칭한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Embodiment of the supply apparatus of the developing solution which concerns on this invention is described based on drawing. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a flowchart which shows the main component of the supply apparatus of the developing solution which concerns on 1st Embodiment of this invention. The developer supplying device according to the first aspect is an apparatus configured to prevent excessive re-formulation of the developer and to prevent loss of the developer stock solution or new developer. 2 is a flowchart showing the main components of the developer supplying apparatus according to the second and third aspects of the present invention, and the developer supplying apparatus according to the second and third aspects is discharged from another developing process. It is an apparatus which makes effective use of the used developing solution. In the following description of the embodiment, a developer supplying apparatus will be referred to as a supplying apparatus.

본 발명의 공급장치는 액정 기판이나 프린트를 제조할 때의 포토레지스트의 현상 프로세스, 예컨대 스핀 디벨로퍼 장치 등의 현상 장치를 포함하는 현상 프로세스(도중에 부호 (8)로 표시)에 대하여 알칼리 수용액으로 이루어지는 현상액을 공급하는 장치이고, 현상 프로세스로부터 회수된 사용한 현상액을 일정한 알칼리 농도 및 수지 농도의 현상액으로 재조제하여, 재조제된 현상액을 현상 프로세스에 공급하는 기능을 갖는다. The supply apparatus of the present invention is a developer composed of an aqueous alkaline solution for a developing process of a photoresist for producing a liquid crystal substrate or a print, for example, a developing process including a developing device such as a spin developer device (indicated by reference numeral 8). A device for supplying the developer, the used developer recovered from the developing process is re-formed into a developer having a constant alkali concentration and a resin concentration, and has a function of supplying the redeveloped developer to the developing process.

본 발명에서 알칼리 계의 현상액으로서는 수산화 칼륨, 수산화 나트륨, 인산 나트륨, 규산 나트륨 등의 무기 알칼리 단독 또는 혼합물로 이루어지는 무기 알칼리 수용액이나, 테트라메틸암모늄 하이드록사이드(TMAH), 트리메틸모노에탄올암모늄 하이드록사이드(코린) 등의 유기 알칼리 수용액 등을 들 수 있다. In the present invention, as an alkali developer, an inorganic alkaline aqueous solution composed of an inorganic alkali alone or a mixture of potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium phosphate, sodium silicate, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), trimethylmonoethanolammonium hydroxide Organic alkali aqueous solutions, such as (Corine), etc. are mentioned.

먼저, 본 발명의 제1 형태에 관한 공급장치에 대하여 설명한다. 본 발명의 공급장치는 도 1에 도시하는 바와 같이 현상액 원액을 공급하는 기구, 및 새로운 현상액 또는 희석수를 공급하는 기구가 부설된 조정조(1), 현상 프로세스(8)로부터 회수된 사용한 현상액을 조정조(1)로 송액하는 회수유로(22), 조정조(1)에서 재조제된 현상액을 현상 프로세스(8)로 송액하는 공급유로(21)를 구비하고 있다. First, the supply apparatus which concerns on the 1st aspect of this invention is demonstrated. In the supply apparatus of the present invention, as shown in Fig. 1, the adjusting tank 1 provided with the mechanism for supplying the developer stock solution, the mechanism for supplying the new developer or dilution water, and the used developer recovered from the developing process 8 are adjusted. A recovery flow passage 22 for feeding liquid to (1) and a supply flow passage 21 for feeding the developer prepared in the adjustment tank 1 to the developing process 8 are provided.

조정조(1)는 회수된 사용한 현상액의 알칼리 농도를 일정한 목표치로 조절하고 또 수지 농도를 일정 범위로 조절하여 사용한 현상액을 재생함과 동시에, 재생된 현상액을 필요에 따라서 현상 프로세스(8)로 공급하는 기능을 구비하며, 예컨대 100 내지 2000 리터 정도의 내용적의 내부식성을 겸비한 용기로 구성된다. The adjusting tank 1 adjusts the alkali concentration of the recovered used developer to a constant target value and adjusts the resin concentration to a predetermined range to regenerate the used developer and simultaneously supply the regenerated developer to the developing process 8 as necessary. It is composed of a container having a function and having a corrosion resistance of a volume of, for example, about 100 to 2000 liters.

조정조(1)에는 저류하는 현상액을 균일한 농도로 조절하고 또 유지하기 위하여 펌프 및 순환유로로 구성되는 교반수단(도시 생략)이 설치된다. 상기와 같은 순환에 의한 교반수단은 스크류 등의 교반장치에 비하여 파티클의 발생이 적고 현상액의 오염을 저하시킬 수 있다. 또한 후술하는 농도계(12)에 의해 정확하게 현상액의 농도를 측정하기 때문에, 도시되지 않지만, 조정조(1)에는 이러한 조정조 내의 현상액의 온도를 일정하게 유지하는 온도조절수단이 부설된다. 이러한 온도조절수단은 예컨대 상기 교반수단의 순환유로 또는 별도 설치된 순환유로와 이러한 순환 유로의 도중에 배치된 항온조로 구성된다. The adjusting tank 1 is provided with a stirring means (not shown) composed of a pump and a circulating flow path in order to adjust and maintain the developing solution stored at a uniform concentration. The stirring means by the circulation as described above can generate less particles and reduce the contamination of the developer as compared to the stirring device such as a screw. Although the concentration of the developer is accurately measured by the densitometer 12 described later, although not shown, the adjusting tank 1 is provided with temperature adjusting means for keeping the temperature of the developing solution in the adjusting tank constant. The temperature control means is composed of, for example, a circulation passage or separately installed circulation passage of the stirring means and a thermostat disposed in the middle of the circulation passage.

현상액 원액을 공급하는 기구는 원액저장조(도시생략)로부터 조정조(1)에 이르는 원액 공급유로(32), 이러한 신액 공급유로의 도중에 설치되는 개폐밸브(52)로 구성되며, 개폐밸브(52)의 제어에 의해 필요할 때 현상액 원액을 조정조(1)에 공급하도록 되어 있다. 또한 상기 원액 저장조에 미리 수용되는 현상액 원액으로서는 고농도의 미사용 현상액, 예컨대 TMAH 농도가 25 질량 %인 현상액을 들 수 있다. The mechanism for supplying the developer solution is composed of a feed solution supply passage 32 extending from the stock solution storage tank (not shown) to the adjustment tank 1, and an opening / closing valve 52 provided in the middle of the new solution supply passage. The developing solution is supplied to the adjustment tank 1 when necessary by the control. Moreover, as a developing solution stock solution accommodated previously in the said stock solution tank, the high concentration unused developing solution, for example, the developing solution whose TMAH concentration is 25 mass% is mentioned.

새로운 현상액을 공급하는 기구는 현상액 저장조(도시 생략)로부터 조정조(1)에 이르는 신액 공급유로(31), 이러한 신액 공급유로의 도중에 설치되는 개폐밸브(51)로 구성되며, 개폐 밸브(51)의 제어에 의해 필요할 때 새로운 현상액을 조정조(1)에 공급하도록 되어 있다. 또한 상기 현상액 조장조에 미리 수용되는 현상액으로서는 사용 농도로 농도조절된 현상액, 예컨대 TMAH 농도가 2.38 질량%인 현상액을 들 수 있다. The mechanism for supplying the new developer is composed of a new liquid supply passage 31 extending from the developer storage tank (not shown) to the adjustment tank 1, and an on / off valve 51 provided in the middle of the new liquid supply passage. A new developer is supplied to the adjustment tank 1 when necessary by the control. Moreover, as a developing solution accommodated previously in the said developing solution tank, the developing solution density | concentrated by use concentration, for example, the developing solution whose TMAH concentration is 2.38 mass%.

또한 본 발명의 공급장치로는 상기와 같은 현상액 원액을 공급하는 기구가 설치되는 것에 의해 새로운 현상액을 공급하는 기구 대신 희석수를 공급하는 기구가 설치되어도 좋다. 도시되지 않지만, 예컨대 희석수를 공급하는 기구는 순수 제조장치로부터 조정조(1)에 이르는 순수 공급유로 및 이러한 순수 공급 유로에 설치되는 개폐밸브로 구성되며, 상기 현상액 원액을 공급하는 기구와 함께 가동시켜 조정조(1)에 순수를 공급하는 것에 의해 조정조(1)에서 새로운 현상액을 조제하도록 되어 있다. In addition, the supply device of the present invention may be provided with a mechanism for supplying dilution water instead of a mechanism for supplying a new developer by providing a mechanism for supplying the developer solution as described above. Although not shown, for example, the mechanism for supplying the dilution water is composed of a pure water supply passage from the pure water production apparatus to the adjustment tank 1 and an opening / closing valve installed in the pure water supply passage, and is operated together with the mechanism for supplying the developer stock solution. By supplying pure water to the adjustment tank 1, a new developing solution is prepared in the adjustment tank 1.

또한 상기 조정조(1)에는 알칼리 농도 및 수지 농도를 검출하는 농도계(12) 및 액면계(11)가 설치되어 있다. 농도계(12)는 조정조(1) 내의 현상액의 농도를 검출하기 때문에, 예컨대 조정조(1)에 부설된 샘플링용의 순환유로(도시생략)의 도중에 배치된다. 본 발명의 공급장치에서 수지 농도의 변동에 영향을 받음없이 고 정밀도로 수지 농도 및 알칼리 농도를 검출하기 위하여 특정의 농도계가 사용된다. 구체적으로는 농도계(12)로서는 현상액에 따른 초음파 전파속도 및 현상액의 전자도전율을 계측하고, 미리 작성된 소정 온도 및 소정 농도에 따른 초음파 전파속도와 전자도전율의 관계(매트릭스)에 기본하여 알칼리 농도 및 수지 농도를 검출하는 다성분 농도계가 사용된다. In addition, the adjustment tank 1 is provided with a densitometer 12 and a liquid level meter 11 for detecting an alkali concentration and a resin concentration. The densitometer 12 detects the concentration of the developing solution in the adjusting tank 1, and thus is arranged in the middle of a circulation flow path (not shown) for example attached to the adjusting tank 1. In the feeder of the present invention, a specific densitometer is used to detect the resin concentration and the alkali concentration with high precision without being affected by the variation in the resin concentration. Specifically, the concentration meter 12 measures the ultrasonic wave propagation rate according to the developer and the electron conductivity of the developer, and the alkali concentration and the resin based on the relationship (matrix) between the ultrasonic wave propagation rate and the electron conductivity according to the predetermined temperature and the predetermined concentration prepared in advance. A multicomponent densitometer for detecting the concentration is used.

상기 다성분 농도계는 일정 온도의 용액 중의 초음파 전파 속도 및 전자도전율을 측정하는 것에 의해 3성분계 용액의 2성분의 농도를 동시에 리얼 타임으로 측정가능한 농도계이다. 즉, 다성분 농도계는 용액의 온도가 일정하면 각 성분의 농도에 따라서 액중의 초음파의 전파 속도 및 전자도전율이 일의적으로 특정되는 원리에 기초로 한 것이며, 주로 초음파 변환기, 초음파 발신기, 전자도전율변환기, 전자도전율발신기 및 소정의 연산을 실시하는 마이크로프로세서로 이루어진다. The multi-component densitometer is a densitometer capable of measuring the concentration of two components of a three-component solution simultaneously in real time by measuring the ultrasonic wave propagation rate and the electron conductivity in the solution at a constant temperature. That is, the multi-component concentration meter is based on the principle that the propagation speed and electron conductivity of the ultrasonic wave in the liquid are uniquely specified according to the concentration of each component when the temperature of the solution is constant. And an electron conductivity transmitter and a microprocessor for performing a predetermined operation.

상기 다성분 농도계에서는 현상액의 농도 측정에 적용하는 경우, 알칼리 농도 및 수지 농도의 각 조합 마다 일정 온도 조건하에서 미리 계측된 초음파 전파속도와 전자도전율의 관계를 매트릭스로서 미리 준비하는 것에 의해, 이러한 매트릭스를 기초로 하여 측정치로부터 알칼리 농도 및 수지 농도를 정확하게 추정 연산할 수 있다. 상기와 같은 다성분 농도계로서는 후지고교샤제의 상품명 "FUD-1 Model-51"로서 알려진 액체용 초음파 다성분 농도계가 적합하게 사용된다. 또한 본 발명 에서 농도계는 알칼리 농도 검출용 농도계와 수지농도 검출용 농도계를 개별적으로 설치하여도 좋다. In the multi-component densitometer, when applied to the measurement of the concentration of the developer, such a matrix is prepared by preparing in advance the relationship between the ultrasonic wave propagation rate and the electron conductivity measured beforehand under constant temperature conditions for each combination of alkali concentration and resin concentration. Based on the measurement, the alkali concentration and the resin concentration can be estimated accurately. As such a multicomponent concentration meter, a liquid ultrasonic multicomponent concentration meter known under the trade name " FUD-1 Model-51 " In the present invention, the densitometer may be provided separately from the alkali concentration detection densitometer and the resin concentration detection densitometer.

액면계(11)로서는 차압형, 플로트형, 광전 센서형, 초음파형 등의 신호출력 가능한 각종 액면계측기기를 사용할 수 있다. 액면계(11)는 조정조(1) 내의 현상액의 액면을 검출하고, 전술한 개폐밸브(51) 및 (52) 및 후술하는 절환밸브(4)를 제어하기 위해 사용된다. 즉, 액면계(11)는 조정조의 수용범위내의 미리 설정된 상한량(H)(예컨대 최대 수용량), 현상 프로세스(8)로 안전하게 공급조작할 수 있는 미리 설정된 하한량(L)을 검출하고, 각각 소정의 신호를 출력하는 것과 동시에 조정조(1)의 액량의 기준으로되는 액면 레벨을 상시 검출하여 신호출력하도록 설정된다. As the liquid level gauge 11, various liquid level measuring instruments capable of outputting signals such as differential pressure type, float type, photoelectric sensor type and ultrasonic type can be used. The liquid level gauge 11 is used to detect the liquid level of the developing solution in the adjustment tank 1, and to control the opening / closing valve 51 and 52 mentioned above, and the switching valve 4 mentioned later. That is, the liquid level gauge 11 detects the predetermined upper limit H (e.g. maximum capacity) within the accommodation range of the adjustment tank, and the predetermined lower limit L that can be safely supplied to the developing process 8, respectively. The signal level is set to output a signal at the same time as detecting the liquid level as a reference for the liquid level of the adjustment tank 1 at the same time.

본 발명의 공급장치는 현상 프로세스(8)로부터 조정조(1)에 이르고 또 펌프(도시생략)가 중간에 설치된 회수유로(22)를 구비하고 있고, 현상 프로세스(8)로부터 배출되는 사용한 현상액을 회수유로(22)에 의해 조정조(1)로 회수하도록 되어 있다. 또한 조정조(1)로부터 현상 프로세스(8)에 이르고 또 펌프(71)가 중간에 설치된 공급유로(21)를 구비하고 있으며, 조정조(1)에서 재조제된 현상액을 공급유로(21)에 의해 현상 프로세스(8)에 공급하도록 되어 있다. The supply apparatus of this invention is equipped with the collection flow path 22 extending from the developing process 8 to the adjustment tank 1, and the pump (not shown) was provided in the middle, and collect | recovers the used developing solution discharged | emitted from the developing process 8 The flow path 22 is used to recover the adjustment tank 1. Moreover, it has the supply flow path 21 which reached the image development process 8 from the adjustment tank 1, and the pump 71 was provided in the middle, and developed the developing solution re-formed in the adjustment tank 1 by the supply flow path 21. It is supposed to supply to the process 8.

본 발명의 공급장치에 있어서 필요량 보다 많은 양의 사용한 현상액이 조정조(1)에 회수되는 것을 규제하기 위하여 회수유로(22)에는 현상 프로세스(8)로부터 송액되는 사용한 현상액을 장치외로 배출하는 배출유로(23)가 설치된다. 배출유로(23)는 회수유로(22)의 도중에 배치된 절환밸브(4)를 통하여 회수유로(22)로부터 분기되어 설치된다. 또한 상기와 같은 조정조(1), 현상액 원액을 공급하는 기구, 새로운 현상액 또는 희석수를 공급하는 기구, 공급유로(21) 및 회수유로(22)를 포함하는 계내는 현상액이 공기와 접촉하는 것을 방지하기 위해 질소 등의 불활성 가스에 의해 밀봉하는 것과 같이 되어 있다. In order to regulate the recovery of the used developer in a larger amount than the required amount in the supply apparatus of the present invention, the recovery flow passage 22 discharges the used developer delivered from the developing process 8 to the outside of the apparatus. 23) is installed. The discharge passage 23 is branched from the recovery passage 22 via a switching valve 4 arranged in the middle of the recovery passage 22. In addition, the system including the adjustment tank 1, the mechanism for supplying the developer solution, the mechanism for supplying the new developer or dilution water, the supply passage 21 and the recovery passage 22 prevents the developer from contacting the air. In order to do this, sealing is performed by inert gas such as nitrogen.

본 발명의 공급장치에 있어서 장치 전체의 가동제어 이외에 상기와 같은 농도계(12) 및 액면계(11)의 측정을 기본으로 하여 개폐밸브(51), (52) 및 절환밸브(4)를 제어하기 위한 연산기능을 갖는 제어장치(도시생략)가 배치된다. 이러한 제어장치는 각 계측기기의 신호를 디지탈 변환하는 입력장치, 프로그램 콘트롤러 및 컴퓨터 등의 연산처리장치, 연산처리장치로부터의 제어신호를 아날로그 변환하는 출력장치를 포함한다. 따라서 본 발명의 공급장치는 상기의 제어장치의 기능에 의해 조정조(1)의 현상액의 알칼리 농도, 수지 농도 및 액면을 검출하고, 재조제되는 현상액의 양이 조정조(1)의 수용범위내의 미리 설정된 상한량(H)으로 되도록 사용한 현상액의 사용량을 산출하고, 조정조(1)에 회수된 사용한 현상액의 양이 상기 사용량을 초과한 경우에 절환밸브(4)를 제어하여 배출유로(23)로부터 사용한 현상액을 장치외로 배출하도록 구성된다. In the supply apparatus of the present invention, in addition to the operation control of the entire apparatus, the on / off valves 51, 52 and the switching valve 4 are controlled on the basis of the measurement of the densitometer 12 and the liquid level gauge 11 as described above. A control device (not shown) having an arithmetic function is arranged. Such a control device includes an input device for digitally converting a signal of each measuring instrument, an arithmetic processing device such as a program controller and a computer, and an output device for analog-converting a control signal from the arithmetic processing device. Therefore, the supply apparatus of the present invention detects the alkali concentration, the resin concentration, and the liquid level of the developing solution of the adjusting tank 1 by the function of the above-mentioned control device, and the amount of the re-formulated developer is set in advance within the accommodation range of the adjusting tank 1. The used amount of the developing solution used to become the upper limit amount H is calculated, and when the amount of the used developing solution recovered in the adjustment tank 1 exceeds the used amount, the switching valve 4 is controlled to use the developing solution used from the discharge flow path 23. And to discharge it out of the device.

본 발명의 공급장치의 기능은 이하와 같다. 즉, 본 발명의 공급장치에서는 현상 프로세스(8)에서 배출되는 사용한 현상액이 회수회로(22)를 통하여 조정조(1)에 회수된다. 조종조(1)에서는 교반수단에 의해 사용한 현상액을 교반하고 또 온도조절수단에 의해 사용한 현상액을 일정 온도로 유지한다. 그리고 농도계(12)에 의해 사용한 현상액의 알칼리 농도 및 수지 농도를 측정한다. The function of the supply apparatus of this invention is as follows. That is, in the supply apparatus of this invention, the used developing solution discharged | emitted by the developing process 8 is collect | recovered to the adjustment tank 1 via the recovery circuit 22. As shown in FIG. In the control tank 1, the developer used by the stirring means is stirred, and the developer used by the temperature adjusting means is kept at a constant temperature. And the alkali concentration and resin concentration of the developing solution used by the densitometer 12 are measured.

한편, 제어장치는 상기 농도계(12)로부터 얻은 신호를 기초로하여 일정 알칼리 농도(예컨대 TMAH 농도 2.38 질량%) 및 일정 범위의 수지 농도의 현상액을 조정조(1)의 수용범위내의 상한량(H)만큼 재조제하는데 필요한 사용한 현상액의 사용량(회수량), 및 현상액 원액 또는 새로운 현상액(또는 희석수)의 추가 공급량을 연산한다. On the other hand, the controller controls the developer of a given alkali concentration (for example, TMAH concentration 2.38 mass%) and a resin concentration in a range based on the signal obtained from the densitometer 12 in the upper limit amount H within the accommodation range of the adjustment tank 1. The amount of the used developer (recovered amount) necessary for re-formation and the additional supply amount of the developer stock solution or new developer (or dilution water) are calculated.

이어 제어장치는 액면계(11)로부터 얻은 신호를 참조하면서 필요에 따라서 개폐밸브(52)를 제어하여 조정조(1)에 소정량의 현상액 원액을 공급하고, 또 필요에 따라서 개폐 밸브(51)를 제어하여 조정조(1)에 소요량의 새로운 현상액(또는 희석수)를 공급한다. 그리고 액면계(11)의 신호를 기초로 하여 조정조(1)에 회수된 사용한 현상액의 양이 상기 사용량(재조제에 필요한 양)을 초과한 경우에는 절환밸브(4)를 절환 조작하여 현상 프로세스(8)로부터 회수유로(22)를 통하여 송액되는 사용한 현상액을 배출유로(23)로부터 배출한다. Subsequently, the controller controls the opening / closing valve 52 as necessary while referring to the signal obtained from the liquid level gauge 11 to supply a predetermined amount of developer solution to the adjusting tank 1, and also controls the opening / closing valve 51 as necessary. To supply the required amount of new developer (or dilution water) to the adjustment tank (1). If the amount of the used developer recovered to the adjusting tank 1 on the basis of the signal of the liquid level gauge 11 exceeds the used amount (a necessary amount for re-formulation), the switching valve 4 is switched to operate the developing process (8). ) Is used to discharge from the discharge passageway 23 the used developer which is fed through the recovery passageway 22.

알칼리 농도 및 수지 농도의 조절을 위하여 현상액 원액 및 희석수 또는 새로운 현상액(신액)의 공급제어는 농도계(12)에 의한 검출농도를 기초로 하여 현상액 원액의 공급량, 희석수, 신액의 공급량을 케스케이드 제어하여 실시할 수 있고 이러한 제어에서 예컨대 특개평 10-180076호 공보에 기재된 "알칼리 현상액 원액의 희석방법 및 희석장치"에 의해 개시된 소위 점근법(漸近法)을 이용할 수 있다. In order to control the alkali concentration and the resin concentration, supply control of the developer stock solution and dilution water or a new developer (new solution) is cascaded to control the supply amount of the developer stock solution, the dilution water, and the new solution based on the concentration detected by the densitometer 12. In this control, a so-called asymptotic method disclosed by, for example, "dilution method and dilution apparatus of alkaline developer stock solution" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-180076 can be used.

본 발명의 공급장치에 있어서 상기와 같이 재조제된 현상액의 전체량이 조정조(1)의 수용범위내의 예컨대 상한량(H)으로 되도록 현상액 원액 또는 새로운 현상액 또는 희석수의 추가 공급량과 함께 재조정에 필요한 사용한 현상액의 사용량을 산출하고, 이러한 사용량을 초과하는 양의 사용한 현상액에 관해서는 조정조(1)에 회수함없이 조정조(1)의 상류측의 배출유로(23)로부터 배출하기 때문에 조정조(1)에서 현상액의 과잉 재조제를 방지할 수 있다. 그 결과 폐기되는 것에 의한 현상액 원액 또는 새로운 현상액 또는 희석수의 손실을 방지할 수 있다. In the supply apparatus of the present invention, the total amount of the developer prepared as described above is used for recalibration together with the additional supply of the developer stock solution or new developer or dilution water such that the total amount of the developer solution, as described above, is within the accommodation range of the adjustment tank 1, for example, the upper limit H. The amount of the developer used is calculated, and the developer used in the amount exceeding the amount used is discharged from the discharge passage 23 on the upstream side of the adjustment tank 1 without being collected in the adjustment tank 1. Excessive re-formulation can be prevented. As a result, it is possible to prevent loss of the developer stock solution or new developer or dilution water by discarding.

따라서 상기 제1 형태에 관한 공급장치를 가동시키고, 사용한 현상액으로서 회수된 TMAH의 수용액을 조정조(1)에서 재조제하고, TMAH 농도를 2.380 질량%, 수지 농도를 1000± 150 ppm 으로 조절하여 현상 프로세스(8)에 공급했더니 사용한 현상액의 전량을 회수하여 재생하고 있었던 종래의 공급장치에 비하여 현상액 원액 및 새로운 현상액(신액)의 소비량이 신액환산으로 약 30% 절감되었다. Therefore, the supplying apparatus concerning the said 1st aspect was operated, the aqueous solution of TMAH collect | recovered as the used developing solution was re-prepared in the adjustment tank 1, the TMAH concentration was adjusted to 2.380 mass%, and the resin concentration was adjusted to 1000 +/- 150 ppm, and the developing process was carried out. As a result of supplying to (8), the consumption of the developer stock solution and the new developer solution (new solution) was reduced by about 30% compared to the conventional feeder which recovered and recycled the entire amount of the used developer solution.

이어 본 발명의 제2 형태에 관한 공급장치에 관하여 설명한다. 제2 형태의 공급장치는 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출되는 수지농도가 낮은 사용한 현상액을 대상인 현상 프로세스(8)에 효과적으로 이용되기 위한 장치이다. 제2 형태에 있어서 다른 현상 프로세스(8b)는 대상인 현상 프로세스(8)와는 상이한 현상 처리(상이한 피처리물의 처리 및 상이한 조건에 의한 처리)를 실시하는 프로세스이고, 제2 형태는 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출되는 사용한 현상액의 수지 농도가 대상인 현상 프로세스(8)로부터 배출되는 사용한 현상액의 수지 농도보다도 낮은 경우에 적용된다. Next, the supply apparatus which concerns on the 2nd aspect of this invention is demonstrated. The supply apparatus of the 2nd form is an apparatus for effectively using the developing process 8 which targets the used developing solution with low resin concentration discharged | emitted from the other developing process 8b. In the second aspect, the other developing process 8b is a process for performing different developing treatments (processes of different to-be-processed objects and processing under different conditions) than the developing process 8 as a target, and the second embodiment is another developing process 8b. Is applied when the resin concentration of the used developer discharged from) is lower than the resin concentration of the used developer discharged from the target developing process 8.

본 발명의 공급장치는 도 2에 도시한 바와 같이, 현상액 원액을 공급하는 기구, 및 새로운 현상액 또는 희석수를 공급하는 기구가 부설된 조정조(1), 현상 프로세스(8)로부터 회수된 사용한 현상액을 조정조(1)로 송액하는 회수유로(22), 조 정조(1)에서 재조제된 현상액을 현상 프로세스(8)로 송액하는 공급유로(21)를 구비하고 있다. 조정조(1), 공급유로(21), 회수유로(22)의 구성은 전술한 제1 형태에서와 동일하다. 또한 조정조(1)에는 제1 형태에서와 동일한 농도계(12) 및 액면계(11)가 설치되고, 회수유로(22)에는 제1 형태에서와 동일한 배출유로(23)가 설치된다. As shown in FIG. 2, the supply apparatus of the present invention uses the used developer recovered from the developing tank 1 and the developing process 8 in which the mechanism for supplying the developer stock solution, the mechanism for supplying the new developer or dilution water is provided. A recovery flow passage 22 for feeding liquid into the adjustment tank 1 and a supply flow passage 21 for feeding the developer prepared in the adjustment tank 1 to the developing process 8 are provided. The structure of the adjustment tank 1, the supply flow path 21, and the recovery flow path 22 is the same as that of the 1st form mentioned above. In addition, the adjustment tank 1 is provided with the same densitometer 12 and liquid level gauge 11 as in the first embodiment, and the discharge passage 22 is provided with the same discharge passage 23 as in the first embodiment.

제2 형태에 관한 공급장치는 회수저장조(6) 및 혼합유로(25)를 구비하고 있는 점에서 전술한 형태와 상이하다. 즉, 도 2에 도시하는 공급장치는 상기 구성에 더하여 다른 현상 프로세스(8b)로부터 회수된 사용한 현상액을 저류하는 회수저장조(6), 이러한 회수저장조로부터 조정조(1)로 사용한 현상액을 송액하는 혼합유로(25)를 구비하고 있다. The supply apparatus which concerns on a 2nd aspect differs from the form mentioned above in that the collection | recovery storage tank 6 and the mixing flow path 25 are provided. That is, in addition to the above structure, the supply apparatus shown in FIG. 2 includes a recovery storage tank 6 for storing used developer recovered from another development process 8b, and a mixed flow path for transferring the developer used in the adjustment tank 1 from such recovery storage tank. (25) is provided.

다른 현상 프로세스(8b)는 종래 형의 다른 현상액 공급장치로부터 현상액이 공급되며, 상기 다른 현상액 공급장치는 조정조(1b), 다른 현상 프로세스(8b)로 현상액을 공급하는 공급유로(21b), 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출된 사용한 현상액의 회수유로(22b)를 구비하고 있고, 사용한 현상액의 일부는 회수유로(22b)에 절환밸브(4b)를 설치하여, 이것을 절환조작하는 것에 의해 회수유로(22b)로부터 분기된 배출유로(24)를 통하여 상기 회수저장조(6)로 회수할 수 있다. The other developing process 8b is supplied with a developer from another developer solution of a conventional type, the other developer supplying device 21b for supplying the developer to the adjustment tank 1b, the other developing process 8b, and other development. A recovery flow path 22b of the used developing solution discharged from the process 8b is provided, and a part of the used developing solution is provided with a switching valve 4b in the recovery flow path 22b, and the switching flow path 22b is operated. It can be recovered to the recovery storage tank 6 through the discharge passage 24 branched from).

회수 저장조(6)는 예컨대 500 내지 3000 리터 정도의 내용적의 부식성을 겸비한 용기에 의해 구성된다. 도시하지 않지만, 회수저장조(6)에는 후술하는 바와 같이 조정조(1)에 공급될 때 이러한 조정조내의 현상액의 농도변화를 방지하여 농측정을 정확하게 실시하기 위하여, 이러한 회수저장조내의 현상액의 온도를 일정하 게 유지하는 온도조절수단이 부설되어 있다. 이러한 온도조절수단은 조정조(1)에서와 동일하게 예컨대 순환유로와 그의 도중에 배치된 항온조로 구성된다. The recovery reservoir 6 is constituted by a container having a corrosiveness of, for example, about 500 to 3000 liters. Although not shown in the figure, the temperature of the developer in the recovery storage tank is kept constant in order to accurately measure the concentration by preventing the change in the concentration of the developer in the adjustment tank when supplied to the adjustment tank 1 as described later. Temperature control means for maintaining the crab is installed. This temperature regulating means is composed of, for example, a circulation passage and a thermostatic chamber disposed in the middle thereof, as in the adjusting tank 1.

혼합유로(25)는 회수저장조(6)로부터 저장조(1)에 상호 설치되며, 혼합유로(25)에는 송액용의 펌프(72) 및 개폐 밸브(53)가 부설된다. 이것에 의해 회수저장조(6)에 일단 회수된 사용한 현상액은 펌프(72)를 가동시켜 개폐밸브(53)를 개방하는 것에 의해 혼합유로(25)를 통하여 조정조(1)에 공급할 수 있다. The mixing flow path 25 is mutually installed in the storage tank 1 from the recovery storage tank 6, and the pump 72 and the opening / closing valve 53 for liquid feeding are attached to the mixing flow path 25. Thus, the used developing solution once collected in the recovery storage tank 6 can be supplied to the adjustment tank 1 through the mixing flow path 25 by operating the pump 72 to open the opening / closing valve 53.

또한 제2 형태에 있어서도 제1 형태와 동일한 제어장치(도시생략)가 설치되며, 이러한 제어장치에 의해 제1 형태와 동일하게 개폐밸브(51), (52) 및 절환밸브(4)의 작동을 제어하고, 사용한 현상액의 회수 및 배출을 제어하도록 되어 있다. 또한 제2 형태에 관한 공급장치에 있어서는 절환밸브(4b)의 작동, 및 펌프(72) 및 개폐 밸브(53)의 작동도 상기 제어장치에 의해서 제어하도록 되어 있다. Also in the second embodiment, the same control device (not shown) as in the first embodiment is provided, and the operation of the on-off valves 51, 52 and the switching valve 4 is performed in the same way as in the first embodiment. It controls and collects and discharges the used developing solution. Moreover, in the supply apparatus which concerns on a 2nd aspect, the operation | movement of the switching valve 4b and the operation | movement of the pump 72 and the switching valve 53 are also controlled by the said control apparatus.

또한 제2 형태에 관한 공급장치는 상기 제어장치의 기능에 의해 전술한 바와 같이 회수저장조(6)의 사용한 현상액의 수지농도가 조정조(1)의 현상액의 수지농도보다도 낮은 경우, 조정조(1)에 의해 수지농도를 낮추는 조작, 즉 희석작업의 경우 회수저장조(6)의 사용한 현상액을 혼합유로(25)로부터 조정조(1)에 공급하도록 구성된다. 제2 형태에서 조정조(1)에 대한 사용한 현상액의 회수량의 제어로는 현상 프로세스(8)로부터 배출된 사용한 현상액의 사용량과 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출된 사용한 현상액의 사용량과의 합계량을 재조정에 이용하는 사용한 현상액의 사용량으로서 취급한다. In addition, the supply apparatus according to the second aspect is provided to the adjustment tank 1 when the resin concentration of the used developer of the recovery storage tank 6 is lower than the resin concentration of the developer of the adjustment tank 1 as described above by the function of the control device. By the operation of lowering the resin concentration, that is, in the dilution operation, the used developer from the recovery storage tank 6 is supplied from the mixing passage 25 to the adjustment tank 1. In the second aspect, the control of the recovery amount of the used developer for the adjustment tank 1 is used to readjust the total amount of the used developer discharged from the developing process 8 with the used developer discharged from the other developing process 8b. It is treated as the amount of developer used.

본 발명의 제2 형태에 관한 공급장치의 기능은 이하와 같다. 즉, 제2 형태에 관한 공급장치에서 절환밸브(4b)의 조작에 의해 전술한 다른 현상액 공급장치(조정조(1b)를 포함하는 장치)의 운전상황에 따라서 미리 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출되는 사용한 현상액을 회수저장조(6)에 저류시켜 놓는다. The function of the supply apparatus which concerns on the 2nd aspect of this invention is as follows. That is, in operation of the switching valve 4b in the supply apparatus according to the second aspect, the pump is discharged from the other developing process 8b in advance according to the operating conditions of the other developer supply apparatus (the apparatus including the adjustment tank 1b) described above. The used developer is stored in the recovery storage tank 6.

한편, 제2 형태에 관한 공급장치에 있어서 현상 프로세스(8)의 현상액을 재조정하는 경우는 제1 형태에 관한 것과 동일하게 현상 프로세스(8)로부터 배출된 사용한 현상액을 조정조(1)에 회수하는 것과 동시에 농도계(12)에 의해 사용한 현상액의 알칼리 농도 및 수지 농도를 측정한다. 그리고 필요에 따라서 현상액 원액 또는 새로운 현상액(또는 희석수)을 추가 공급한다. On the other hand, in the supply apparatus which concerns on a 2nd aspect, when readjusting the developing solution of the developing process 8, it recovers to the adjustment tank 1 the used developing solution discharged | emitted from the developing process 8 similarly to the 1st aspect. At the same time, the alkali concentration and the resin concentration of the developer used by the densitometer 12 are measured. And if necessary, additional developer stock solution or fresh developer (or dilution water) is added.

이 때, 농도계(12)의 측정에 의해, 조정조(1) 내의 현상액의 수지 농도가 목표 농도를 초과하는 것으로 판별되는 경우에는 혼합유로(25)의 펌프(72)를 작동시키고 또 개폐 밸브(53)를 개방한다. 이것에 의해 다른 현상 프로세스(8b)로부터 회수된 회수 저장조(6)의 수지 농도의 낮은 사용한 현상액을 조정조(1)로 공급한다. 그 결과, 현상액 또는 희석수, 또는 새로운 현상액을 다량으로 사용함없이 조정조(1) 내의 현상액의 수지 농도를 목표 농도까지 낮출 수 있다. At this time, when it is determined by the measurement of the densitometer 12 that the resin concentration of the developer in the adjusting tank 1 exceeds the target concentration, the pump 72 of the mixing flow path 25 is operated and the opening / closing valve 53 Open). Thereby, the used developing solution with the low resin concentration of the collection | recovery storage tank 6 collect | recovered from the other image development process 8b is supplied to the adjustment tank 1. As a result, the resin concentration of the developing solution in the adjusting tank 1 can be lowered to the target concentration without using a large amount of the developing solution or dilution water or a new developing solution.

상기와 같이 본 발명의 제2 형태에 관한 공급장치에서는 조정조(1)에 의해 현상 프로세스(8)로부터 배출된 사용한 현상액을 재조정할 때, 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출된 수지 농도가 낮은 사용한 현상액을 희석용으로서 효과적으로 재이용하기 때문에 현상액 원액 및 희석수, 또는 새로운 현상액의 추가 공급량을 저감시킬 수 있고, 그 결과, 현상 프로세스(8)에서 처리 비용을 한층 절감할 수 있다. As mentioned above, in the supply apparatus which concerns on the 2nd aspect of this invention, when the used developer discharged | emitted from the developing process 8 by the adjustment tank 1 was readjusted, the used developer with low resin concentration discharged from the other developing process 8b. Since it is effectively reused for dilution, the additional supply amount of the developer stock solution and dilution water or a new developer solution can be reduced, and as a result, the processing cost in the developing process 8 can be further reduced.

상기 제2 형태에 관한 공급장치를 가동시키고 현상 프로세스(8)로부터 사용한 현상액으로서 회수된 TMAH 수용액을 재조제할 때에 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출된 사용한 현상액(수지농도 500 ppm)을 희석용으로 사용하고, 조정조(1)에서 TMAH 농도를 2.380 질량%, 수지 농도를 1000 ± 150 ppm 으로 조절하여 현상 프로세스(8)에 공급했더니 1개의 현상 프로세스(8)로부터 사용한 현상액의 전량을 회수하여 재생하였던 종래의 공급장치에 비하여 현상액 및 새로운 현상액(신액)의 소비량이 신액 환산으로 약 45% 절감되었다. When the supply apparatus according to the second aspect is operated and the TMAH aqueous solution recovered as the developing solution used from the developing process 8 is re-formed, the used developing solution (resin concentration 500 ppm) discharged from the other developing process 8b is used for dilution. In the adjusting tank 1, the TMAH concentration was adjusted to 2.380% by mass and the resin concentration was adjusted to 1000 ± 150 ppm, which was then supplied to the developing process 8, whereby the entire amount of the developing solution used from one developing process 8 was recovered and regenerated. Compared with the conventional feeder, the consumption of the developer and the new developer (new solution) was reduced by about 45% in terms of the new solution.

이어 본 발명의 제3 형태에 관한 공급장치에 관하여 설명한다. 제3 형태의 공급장치는 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출된 수지농도가 높은 사용한 현상액을 대상으로 하는 현상 프로세스(8)에 효과적으로 이용하기 위한 장치이다. 제3 형태에서 다른 현상 프로세스(8b)는 대상인 현상 프로세스(8)와는 상이한 현상처리 (상이한 피처리물의 처리나 상이한 조건에 의한 처리)를 실시하는 프로세스이고, 제3 형태는 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출되는 사용한 현상액의 수지 농도가 대상인 현상 프로세스(8)로부터 배출되는 사용한 현상액의 수지농도에 비하여 높은 경우에 적용된다. Next, the supply apparatus which concerns on the 3rd aspect of this invention is demonstrated. The supply apparatus of the 3rd form is an apparatus for effectively using the developing process 8 which targets the used developing solution with high resin concentration discharged | emitted from the other developing process 8b. In the third aspect, the other developing process 8b is a process for performing different developing treatments (processes of different to-be-processed objects or processing under different conditions) than the developing process 8 as an object, and the third embodiment is another developing process 8b. It is applied when the resin concentration of the used developer discharged from is higher than the resin concentration of the used developer discharged from the target developing process 8.

본 발명의 공급장치는 기계 구성적으로는 전술한 제2 형태에 관한 공급장치와 동일하다. 즉, 도 2에 도시하는 것과 같은 장치 구성을 겸비하고 있다. 따라서 제3 형태에 있어서도 제1 형태와 동일한 제어장치(도시생략)가 설치되며, 이러한 제어장치에 의해 제1 형태와 동일하게 개폐밸브(51), (52) 및 절환밸브(4)의 작동을 제어하고, 사용한 현상액의 회수 및 배출을 제어하도록 되어 있다. 또한 제2 형 태에 관한 공급장치에 있어서도 절환밸브(4b)의 작동 및 펌프(72) 및 개폐밸브(53)의 작동도 상기 제어장치에 의해 제어되도록 되어 있다. The feeder of the present invention is mechanically identical to the feeder according to the second aspect described above. That is, it has the apparatus structure as shown in FIG. Therefore, also in the 3rd form, the control apparatus (not shown) similar to a 1st form is provided, and operation of the opening-closing valve 51, 52, and switching valve 4 is performed similarly to 1st form by this control apparatus. It controls and collects and discharges the used developing solution. Also in the supply apparatus according to the second form, the operation of the switching valve 4b and the operation of the pump 72 and the opening / closing valve 53 are also controlled by the control apparatus.

제3 형태에 관한 공급장치는 상기 제어장치의 기능에 의해 회수저장조(6)의 사용한 현상액의 수지농도가 조정조(1)의 사용한 현상액의 수지농도에 비해 높은 경우, 조정조(1)에 의해 수지 농도를 높게하는 조작, 즉 수지 농도의 조절 조작의 경우, 회수 저장조(6)의 사용한 현상액을 혼합유로(25)로부터 조정조(1)에 공급하도록 구성되어 있는 점이 전술하는 제2 형태와 상이하다. 조정조(1)에 대한 사용한 현상액의 회수량의 제어에서도 현상 프로세스(8)로부터 배출되는 사용한 현상액의 사용량과 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출되는 사용한 현상액의 사용량의 합계량을 재조정에 이용하는 사용한 현상액의 사용량으로서 취급하는 점은 제2 형태와 동일하다. The supply apparatus according to the third aspect is characterized in that the resin concentration is adjusted by the adjustment tank 1 when the resin concentration of the used developer in the recovery storage tank 6 is higher than the resin concentration of the used developer in the adjustment tank 1 by the function of the control device. In the case of increasing the operation, i.e., adjusting the resin concentration, the second embodiment described above is configured to supply the used developing solution of the recovery storage tank 6 from the mixing flow passage 25 to the adjustment tank 1. The amount of the used developer used for readjustment also uses the total amount of the used developer discharged from the developing process 8 and the used amount of the used developer discharged from the other developing process 8b even in the control of the recovery amount of the used developer for the adjustment tank 1. The point of handling is the same as that of the second embodiment.

본 발명의 제3 형태에 관한 공급장치의 기능은 이하와 같다. 즉, 제3 형태에 관한 공급장치에서는 미리 제2 형태의 경우와 동일하게 절환밸브(4b)의 조작에 의해 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출되는 사용한 현상액을 회수 저장조(6)에 저류시켜 놓는다. 그리고 현상 프로세스(8)의 현상액을 재조정하는 경우는 제1 형태에서와 동일하게 현상 프로세스(8)로부터 배출된 사용한 현상액을 조정조(1)로 회수하는 것과 함께 농도계(12)에 의해 사용한 현상액의 알칼리 농도 및 수지농도를 측정하고, 필요에 따라서 현상액 원액 또는 새로운 현상액 (또는 희석수)을 추가 공급한다. The function of the supply apparatus which concerns on the 3rd aspect of this invention is as follows. That is, in the supply apparatus concerning a 3rd form, the used developing solution discharged | emitted from the other image development process 8b by operation of the switching valve 4b previously is stored in the collection | recovery storage tank 6 similarly to the case of a 2nd form. When the developer of the developing process 8 is readjusted, the used developer discharged from the developing process 8 is recovered to the adjustment tank 1 in the same manner as in the first embodiment, and the alkali of the developer used by the densitometer 12 is used. The concentration and the resin concentration are measured, and an additional developer stock solution or fresh developer (or dilution water) is added as necessary.

그 때, 농도계(12)의 측정에 의해, 조정조(1) 내의 현상액의 수지 농도가 목 표 농도보다도 낮은 것으로 판별된 경우는 혼합유로(25)의 펌프(72)를 작동시키고 또 개폐밸브(53)를 개방하는 것에 의해 다른 현상 프로세스(8b)로부터 회수된 회수저장조(6)의 수지농도가 높은 사용한 현상액을 조정조(1)에 공급한다. 이것에 의해 종래는 폐기되었던 다른 현상 프로세스(8b)의 사용한 현상액을 효과적으로 이용할 수 있다. 또한 대상인 현상 프로세스(8)에 대하여 항상 소정 수지 농도로 유지한 현상액을 공급할 수 있기 때문에 현상 프로세스(8)을 보다 안정시킬 수 있다. At that time, when it is determined by the measurement of the densitometer 12 that the resin concentration of the developer in the adjustment tank 1 is lower than the target concentration, the pump 72 of the mixing flow path 25 is operated and the shutoff valve 53 ), The used developing solution having a high resin concentration of the recovery storage tank 6 recovered from the other developing process 8b is supplied to the adjustment tank 1 by opening. Thereby, the used developing solution of the other developing process 8b which was discarded conventionally can be utilized effectively. Moreover, since the developing solution always maintained at the predetermined resin concentration can be supplied to the developing process 8 as the target, the developing process 8 can be more stabilized.

상기와 같이, 본 발명의 제3 형태에 관한 공급장치에 있어서는 조정조(1)에서 현상 프로세스(8)로부터 배출된 사용한 현상액을 재조정할 때, 다른 현상 프로세스(8b)로부터 배출된 수지 농도가 높은 사용한 현상액을 수지 농도 조절용으로서 효과적으로 재이용할 수 있기 때문에, 현상 프로세스(8) 및 다른 현상 프로세스(8b)를 포함하는 프로세스 전체로서 처리 비용을 절감할 수 있고, 또 비교적 높은 수지 농도의 현상액을 필요로 하는 현상 프로세스(8)를 보다 안정화시킬 수 있다. As described above, in the supply apparatus according to the third aspect of the present invention, when the used developer discharged from the developing process 8 is readjusted in the adjusting tank 1, the used resin concentration discharged from the other developing process 8b is high. Since the developer can be effectively reused for resin concentration adjustment, the processing cost can be reduced as a whole including the developing process 8 and the other developing process 8b, and a developer having a relatively high resin concentration is required. The developing process 8 can be stabilized more.

또한 상기 제3 형태에 관한 공급장치를 가동시키고, 현상 프로세스(8)로부터 사용한 현상액으로서 회수한 TMAH 수용액을 재조제할 때에 다른 현상 프로세스(8b)로부터 회수된 수지농도가 높은 사용한 현상액(수지농도 2000 ppm)을 수지 농도 조절용으로 사용하고, 조정조(1)에서 TMAH 농도를 2.380 질량%, 수지 농도를 1500± 150 ppm으로 조절하여 현상 프로세스(8)에 공급하였다. 그 결과, 현상 프로세스(8)가 안정되고 현상처리에서 수율이 약 5% 향상되었다. 또한 1개의 현상 프로세스(8)로부터 사용한 현상액의 전량을 회수하여 재생하였던 종래의 공급장치에 비하여 프 로세스 전체로서 현상원액 및 새로운 현상액(신액)의 소비량이 신액 환산으로 약 36% 절감되었다. Moreover, when the supply apparatus which concerns on the said 3rd aspect was operated, and the TMAH aqueous solution collect | recovered as the developing solution used from the developing process 8 was re-formed, the used developing solution with high resin concentration collect | recovered from the other developing process 8b (resin concentration 2000) ppm) was used for the resin concentration adjustment, and in the adjusting tank 1, the TMAH concentration was adjusted to 2.380 mass%, and the resin concentration was adjusted to 1500 ± 150 ppm, which was supplied to the developing process 8. As a result, the developing process 8 was stabilized and the yield improved by about 5% in the developing treatment. In addition, the total consumption of the developing stock solution and the new developing solution (new solution) was reduced by approximately 36% in terms of the new solution, compared with the conventional supply apparatus which recovered and regenerated the entire amount of the used developer from one developing process (8).

본 발명의 제1 요지에 관련되는 현상액의 공급장치에 의하면 조정조에 회수되는 사용한 현상액의 양이 재조정에 필요한 사용량을 초과하는 경우에 재조정 상류측의 배출유로로부터 사용한 현상액을 배출하기 때문에, 조정조에서 현상액의 과잉 재조제를 방지할 수 있고, 폐기되는 현상액 원액 또는 새로운 현상액의 손실을 방지할 수 있다. 또한 본 발명의 제2 및 제3 요지에 관련되는 현상액의 공급장치에 의하면 회수 저장조에 회수된 다른 현상 프로세스의 사용한 현상액을 유효하게 재이용할 수 있기 때문에 현상 프로세스에서 처리 비용을 한층 절감할 수 있다. According to the supply apparatus of the developer according to the first aspect of the present invention, when the amount of the used developer recovered in the adjustment tank exceeds the amount required for the readjustment, the developer is used from the discharge flow path on the upstream side of the readjustment. Excessive re-formulation can be prevented, and the loss of the developer stock solution or new developer that is discarded can be prevented. Further, according to the second and third aspects of the present invention, the developer supplying apparatus can effectively reuse the used developer of the other developing process recovered in the recovery storage tank, thereby further reducing the processing cost in the developing process.

Claims

A developing solution supplying device for supplying a developing solution composed of an aqueous alkali solution to a developing process, comprising: an adjusting tank provided with a mechanism for supplying a developer stock solution and a mechanism for supplying a new developer or dilution water, and a used developer recovered from the developing process to the adjusting tank. A recovery flow path for feeding liquid, and a supply flow path for feeding the developer re-formulated in the adjustment tank into the development process, wherein the adjustment tank is provided with a concentration meter and a liquid level detector for detecting alkali concentration and resin concentration, and the recovery flow path is provided with the development process. A discharge passage for discharging the used developer delivered from the apparatus to the outside of the apparatus is provided, and the alkali concentration, the resin concentration, and the liquid level of the developer in the adjusting tank are detected, and the amount of the developer to be re-formed is a preset upper limit within the accommodation range of the adjusting tank. Developer used to be And supplying the used developer from the discharge passage when the amount of the used developer recovered in the adjusting tank exceeds the amount used.

2. The storage tank according to claim 1, further comprising a recovery storage tank for storing the used developer recovered from another developing process, and a mixing flow path for transferring the developer used in the adjustment tank from the recovery storage tank, wherein the resin concentration of the used developer in the recovery storage tank And a developing solution supplying device which is configured to supply the used developing solution of the recovery storage tank from the mixing flow path to the adjusting tank when the resin concentration is lowered by the adjusting tank when the concentration is lower than the resin concentration of the developing solution.

2. The storage tank according to claim 1, further comprising a recovery storage tank for storing the used developer recovered from another developing process, and a mixing flow path for transferring the developer used in the adjustment tank from the recovery storage tank, wherein the resin concentration of the used developer in the recovery storage tank And a developing solution supplying device which is configured to supply the used developing solution of the recovery storage tank from the mixed oil to the adjusting tank when the resin concentration is operated higher by the adjusting tank when the concentration is higher than the resin concentration of the developing solution.