KR20070063008A - 피리딘 유도체 및 이의 제조법 및 치료학적 용도 - Google Patents

피리딘 유도체 및 이의 제조법 및 치료학적 용도 Download PDF

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리오넬 바르헤
프랑시스 바르트
크리스띠앙 콘지
필리프 포앵또
뮈리엘르 리날디-까르모나
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사노피-아벤티스
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Abstract

본 발명은 화학식 I의 화합물에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 상기 화합물을 제조하고 치료학적으로 사용하기 위해 이용될 수 있다.
<화학식 I>
Figure 112007029154417-PCT00035
(상기 식에서, Z는 N(R1)XR2, N(R1)COOR'2 또는 OCON(R1)R'2기이고; X는 -CO-, -SO2-, -CON(R10)- 또는 -CSN(R10)-기이고; R1은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기이고; R2는 (C3-C10)알킬기, (C3-C12)카르복실 비방향족 라디칼, 헤테로시클릭 라디칼, 비치환되거나 치환된 페닐 및 하나 이상의 동일하거나 상이한 치환체로 치환된 (C1-C2)알킬렌이고; R3은 수소 원자, 또는 (C1-C4)알킬, 시아노, (C1-C4)알콕시메틸 또는 히드록시메틸기임)
피리딘 유도체, 식욕 장애, 대사 장애, 위장 장애, 염증 현상, 면역계 질환, 정신 장애, 알코올 의존, 니코틴 의존

Description

피리딘 유도체 및 이의 제조법 및 치료학적 용도 {PYRIDINE DERIVATIVES AND THE PREPARATION AND THE THERAPEUTIC USE THEREOF}
본 발명은 피리딘 유도체, 이의 제조법 및 이의 치료학적 용도에 관한 것이다.
국제 특허 출원 제WO 03/082 191호는 하기 화학식 1의 피리딘 유도체를 기재하고 있다.
Figure 112007029154417-PCT00001
(상기 식에서, 치환체 r1 내지 r7은 상이한 값을 가짐)
특허 출원 제WO 2002/055 502호는 하기 화학식 2의 화합물을 기재하고 있다.
Figure 112007029154417-PCT00002
본 발명의 주제는 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 하기 화학식 I에 따른 화합물이다.
Figure 112007029154417-PCT00003
상기 식에서,
- Z는 N(R1)XR2, N(R1)COOR'2 또는 OCON(R1)R'2기를 나타내고;
- X는 -CO-, -SO2-, -CON(R10)- 또는 -CSN(R10)-기를 나타내고;
- R1은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내고;
- R2는
ㆍ 비치환되거나 CF3기로 치환된 (C3-C10)알킬기,
ㆍ 비치환되거나 (C1-C4)알킬, 히드록실, (C1-C4)알콕시, (C1-C4)알킬티오 또는 시아노기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 비방향족 (C3-C12) 카르보시클릭 라디칼,
ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 히드록실, 트리플루오로메틸, (C1-C4)알콕시, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알킬티오, 시아노 또는 니트로기로부터 선택되는 하나 이상의 동일하거나 상이한 치환체로 치환된, 산소, 황 또는 질소를 함유하는 원자수 4 내지 8의 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼,
ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자, (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 히드록실, (C1-C4)알콕시, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알킬티오, 시아노 또는 니트로기로 치환된 인돌릴기,
ㆍ 테트라히드로-1- 또는 -2-나프틸; 1- 또는 2-나프틸,
ㆍ 벤조티오페닐 또는 벤조푸릴,
ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자, (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 히드록실, (C1-C4)알콕시, 시아노, 니트로, (C1-C4)알카노일 또는 페닐기 및 S(O)nAlk 또는 NR13R14기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 페닐,
ㆍ 벤조디옥실,
ㆍ 페녹시메틸, 1-페녹시에틸 또는 1-메틸-1-페녹시에틸 (여기서, 페닐기는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환됨),
ㆍ 페닐시클로프로필 (여기서, 페닐기는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환됨),
ㆍ 하기 (i) 내지 (iv):
(i) (C1-C4)알킬기,
(ii) 비치환되거나 (C1-C4)알킬기로 1회 이상 치환된 비방향족 C3-C12 카르보시클릭 라디칼,
(iii) 비치환되거나 할로겐 원자, (C1-C4)알킬, 히드록실, 트리플루오로메틸, (C1-C4)알콕시, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알카노일, 시아노, 니트로 또는 페닐기 및 S(O)nAlk 또는 NR13R14기로부터 선택되는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 치환체로 치환된 페닐, 및
(iv) 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 치환체로 치환된, 산소, 황 또는 질소를 함유하는 원자수 4 내지 8의 포화 또는 불포화 헤테로시 클릭 라디칼
로부터 선택되는 1개 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환체로 치환된 (C1-C2)알킬렌을 나타내며,
ㆍ 추가로, X가 -CON(R10)- 또는 -CSN(R10)-기를 나타내는 경우, R2는 (C1-C6)알카노일기 또는 벤조일 또는 벤질카르보닐기 (여기서, 언급된 기의 페닐기는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 치환됨)를 나타낼 수 있고;
- R'2는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 시아노, 니트로 또는 (C1-C4)알콕시기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 페닐을 나타내고;
- R3은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬, 시아노, (C1-C4)알콕시메틸 또는 히드록시메틸기를 나타내고;
- R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 상호 독립적으로 수소 또는 할로겐 원자, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 시아노 또는 니트로기 또는 S(O)nAlk기를 나타내고;
- R10은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나; 또는
- R2와 R10은 이들이 부착된 질소 원자와 함께 비치환되거나 (C1-C4)알킬기; (C1-C4)알카노일기; NR11R12 또는 CONR11R12기; 비치환되거나 할로겐 원자 또는 (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시 또는 트리플루오로메틸기로 1회 이상 치환된 페닐기로 1회 이상 치환된, 산소, 황 및 질소 원자로부터 선택되는 제2 헤테로원자를 함유할 수 있는 원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
- R11 및 R12는 상호 독립적으로 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나, 또는 R11과 R12는 이들이 부착된 질소 원자와 함께 원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
- n은 0, 1 또는 2를 나타내고;
- R13 및 R14는 상호 독립적으로 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나, 또는 R13과 R14는 이들이 부착된 질소 원자와 함께 원자수 4 내지 8의 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
- Alk는 (C1-C4)알킬기를 나타내되;
단, R4와 R7이 동시에 4-메톡시기를 나타내는 경우, 치환체 R1, R3, R5, R6, R8 및 R9 중 하나는 수소가 아니다.
더 구체적으로, 본 발명은 하기 화학식 Ia의 화합물에 관한 것이다.
Figure 112007029154417-PCT00004
상기 식에서,
- X는 -CO-, -SO2- 또는 -CON(R10)-기를 나타내고;
- R1은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내고;
- R2는
ㆍ (C3-C10)알킬기,
ㆍ 비치환되거나 (C1-C4)알킬기로 1회 이상 치환된 비방향족 (C3-C12) 카르보시클릭 라디칼,
ㆍ 비치환되거나 (C1-C4)알킬로 질소 원자 상에 치환된 인돌릴,
ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알콕시, 시아노, (C1-C4)알카노일 또는 페닐기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 페닐, 및
ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, (C1- C4)알콕시, 시아노 또는 페닐기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 벤질을 나타내고;
- R3은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬, 시아노 또는 (C1-C4)알콕시메틸렌기를 나타내고;
- R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 상호 독립적으로 수소 또는 할로겐 원자, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시 또는 트리플루오로메틸기 또는 S(O)nAlk기를 나타내고;
- R10은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나; 또는
- R2와 R10은 이들이 부착된 질소 원자와 함께 비치환되거나 (C1-C4)알킬기; (C1-C4)알카노일기; NR11R12 또는 CONR11R12기; 비치환되거나 할로겐 원자 또는 (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시 또는 트리플루오로메틸기로 1회 이상 치환된 페닐기로 1회 이상 치환된, 산소, 황 및 질소 원자로부터 선택되는 제2 헤테로원자를 함유할 수 있는 원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
- R11 및 R12는 상호 독립적으로 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나, 또는 R11과 R12는 이들이 부착된 질소 원자와 함께 원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
- n은 0, 1 또는 2를 나타내고;
- Alk는 (C1-C4)알킬기를 나타내되;
단, R4와 R7이 동시에 4-메톡시기를 나타내는 경우, 치환체 R1, R3, R5, R6, R8 및 R9 중 하나는 수소가 아니다.
화학식 I의 화합물은 하나 이상의 비대칭 탄소 원자를 포함할 수 있다. 따라서 이는 거울상이성질체 또는 부분입체이성질체의 형태로 존재할 수 있다. 이 거울상이성질체 및 부분입체이성질체, 및 라세미 혼합물을 비롯한 이의 혼합물도 본 발명의 일부를 형성한다.
화학식 I의 화합물은 염기 또는 산-부가염의 형태로 존재할 수 있다. 이러한 부가염이 본 발명의 일부를 형성한다.
이들 염은 제약상 허용되는 산으로 제조될 수 있지만, 예를 들어 화학식 I의 화합물을 정제하거나 단리하기에 유용한 다른 산의 염도 본 발명의 일부를 형성한다.
또한 화학식 I의 화합물은 수화물 또는 용매화물의 형태, 즉 하나 이상의 물 분자와의 또는 용매와의 회합물 또는 조합물의 형태로 존재할 수 있다. 이러한 수화물 및 용매화물도 본 발명의 일부를 형성한다.
본 발명의 문맥에서 하기 정의가 적용된다:
- 할로겐 원자: 불소, 염소, 브롬 또는 요오드;
- 각각의 (C1-C4)알킬, (C1-C6)알킬 또는 (C3-C10)알킬기: 각각 선형 또는 분지형 포화 지방족 (C1-C4), (C1-C6) 또는 (C3-C10)기임. 언급될 수 있는 예는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, tert-부틸, 펜틸, 헥실, 1-에틸프로필, 1-프로필 부틸기 등을 포함함;
- (C1-C4)알콕시기: Ｏ-알킬 라디칼 (여기서, 알킬기는 상기 정의한 바와 같음).
비방향족 C3-C12 카르보시클릭 라디칼은 융합되거나 가교된 모노시클릭 또는 폴리시클릭 라디칼을 포함한다. 모노시클릭 라디칼은 시클로알킬, 예를 들어 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 또는 시클로옥틸을 포함하며, 시클로헥실 및 시클로펜틸이 바람직하다. 융합되거나, 가교되거나 또는 스피란 비시클릭 또는 트리시클릭 라디칼은, 예를 들어 노르보르닐, 보르닐, 이소보르닐, 노르아다만틸, 아다만틸, 스피로[5.5]운데카닐, 비시클로[2.2.1]헵틸, 비시클로[3.2.1]옥틸 및 비시클로[3.1.1]헵틸 라디칼을 포함한다.
원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼은 아제티디닐, 피롤리디닐, 피롤릴, 피페리딜, 퍼히드로아제피닐 및 퍼히드로아조시닐 라디칼을 포함하며; 또한 산소, 황 및 질소 원자로부터 선택되는 제2 헤테로 원자를 함유하는 상기 라디칼은 이미다졸리디닐, 피라졸리디닐, 피페라지닐, 모르폴리닐, 티오모르폴리닐 라디칼 등을 포함한다.
본 발명의 주제인 화학식 I의 화합물 중에서, 하기가 분류된다:
ㆍ Z가 N(R1)XR2기를 나타내고,
- X가 -CO-기를 나타내고 치환체 R1 내지 R9가 화학식 I의 화합물에 대해 상기 정의된 바와 같은 화학식 IA의 화합물, 또는
- X가 -SO2-기를 나타내고 치환체 R1 내지 R9가 화학식 I의 화합물에 대해 상기 정의된 바와 같은 화학식 IB의 화합물, 또는
- X가 -CONR10-기를 나타내고 치환체 R1 내지 R10이 화학식 I의 화합물에 대해 상기 정의된 바와 같은 화학식 IC의 화합물, 또는
- X가 -CSNR10기를 나타내고 치환체 R1 내지 R10이 화학식 I의 화합물에 대해 상기 정의된 바와 같은 화학식 ID의 화합물
인 하기 화학식 IA, IB, IC 및 ID의 화합물;
ㆍ Z가 N(R1)COOR'2기를 나타내고 치환체 R1 내지 R9가 화학식 I의 화합물에 대해 상기 정의된 바와 같은 화학식 IE의 화합물;
ㆍ Z가 OCO(R1)R'2를 나타내고 치환체 R1 내지 R9가 화학식 I의 화합물에 대해 상기 정의된 바와 같은 화학식 IF의 화합물.
본 발명의 주제인 화학식 I의 화합물 중에서, 화합물의 하나의 군은
- Z가 N(R1)XR2기를 나타내고 X가 화학식 I에 대해 정의된 값 중 하나를 갖고;
- R1이 수소 원자를 나타내고/나타내거나;
- R2가 비치환되거나 (C1-C4)알킬기로 치환된 1-프로필부틸 또는 2-인돌릴을 나타내거나, 또는 R2가 비치환되거나 1회 이상 치환된 페닐을 나타내고/나타내거나;
- R3이 메틸 또는 메톡시메틸기를 나타내고/나타내거나;
- R4가 염소 또는 브롬 원자 또는 메톡시기를 나타내고/나타내거나;
- R7 및 R8이 각각 염소 원자를 나타내고/나타내거나;
- R5, R6 및 R9가 수소를 나타내는 것인
염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화합물로 구성된다.
가장 구체적으로, 분류되는 화학식 IA의 화합물은
- Z가 NHCOR2기를 나타내고;
- R2가 1-프로필부틸기, 비치환되거나 (C1-C4)알킬기로 치환된 인돌릴기, 또는 비치환되거나 할로겐 원자 또는 트리플루오로메틸로 치환된 페닐기를 나타내고;
- R3이 메틸 또는 메톡시메틸기를 나타내고;
- R4가 염소 또는 브롬 원자 또는 메톡시기를 나타내고;
- R7 및 R8이 각각 염소 원자를 나타내고;
- R5, R6 및 R9가 수소를 나타내는 것인
염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화합물이다.
또한 분류되는 화학식 IB의 화합물은
- Z가 NHSO2R2기를 나타내고;
- R2가 비치환되거나 할로겐 원자 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 페닐기를 나타내고;
- R3이 메틸 또는 메톡시메틸기를 나타내고;
- R4가 염소 또는 브롬 원자 또는 메톡시기를 나타내고;
- R7 및 R8이 각각 염소 원자를 나타내고;
- R5, R6 및 R9가 수소를 나타내는 것인
염기 또는 부가염 형태 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화합물이다.
특히 언급될 수 있는 기재된 본 발명의 화합물 중에는 염기 또는 부가염 형태 및 수화물 또는 용매화물 형태의 하기 화합물이 있다:
Ｎ-{[-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일]메틸}-1Ｈ-인돌-2-카르복스아미드,
Ｎ-{[-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일]메틸}-4-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
Ｎ-{[-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일]메틸}-Ｎ'-[4-(트리플루오로메틸)페닐]우레아,
Ｎ-{[5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일]메틸}-2-프로필펜탄아미드,
Ｎ-{[5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일]메 틸}-1Ｈ-인돌-2-카르복스아미드,
Ｎ-{[6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)피리딘-3-일]메틸}-4-(트리플루오로메톡시)벤즈아미드,
Ｎ-{[6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)피리딘-3-일]메틸}-2-프로필펜탄아미드.
이하의 본문에서, 용어 "보호기 Pg"는 일차적으로 합성 동안 히드록실 또는 아민과 같은 반응성 관능기를 보호할 수 있고, 이차적으로 합성의 종결시 온전한 반응성 관능기를 재생시킬 수 있는 기를 나타낸다. 보호기 및 보호와 탈보호 방법의 예는 문헌 ["Protective Groups in Organic Synthesis", Greene et al., 2nd Edition (John Wiley & Sons, Inc., New York), 1991]에 제시되어 있다.
이하의 본문에서, 용어 "이탈기"는 전자쌍의 손실로 불균일 결합을 분해함으로써 분자로부터 쉽게 절단될 수 있는 기를 나타낸다. 따라서 이러한 기는, 예를 들어 치환 반응 동안 쉽게 다른 기로 대체될 수 있다. 예를 들어, 이러한 이탈기는 할로겐 또는 활성화된 히드록실기, 예컨대 메탄 술포네이트, 벤젠 술포네이트, p-톨루엔 술포네이트, 트리플레이트 (또는 트리플루오로메탄 술포네이트), 아세테이트 등이다. 이탈기 및 이를 제조하기 위한 참조의 예는 문헌 ["Advances in Organic Chemistry", J. March, 3rd Edition, Wiley Interscience, 1985, p. 310-316]에 제시되어 있다.
본 발명에 따라, Z가 N(R1)XR2 또는 N(R1)COOR'2기를 나타내는 화학식 I의 화 합물은, 하기 화학식 II의 화합물을
- X가 -CO-기를 나타내는 화학식 IA의 화합물을 제조하는 경우, 화학식 R2CO2H (화학식 III) (여기서, R2는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)의 산, 또는 상기 산의 활성화된 유도체로 처리하거나, 또는
- X가 -SO2-기를 나타내는 화학식 IB의 화합물을 제조하는 경우, 화학식 R2SO2Hal (화학식 IV) (여기서, R2는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같고 Hal은 할로겐 원자를 나타냄)의 술포닐 할라이드로 처리하거나, 또는
- Z가 N(R1)COOR'2를 나타내는 화학식 IE의 화합물을 제조하는 경우, 화학식 HalCOOR'2 (여기서, R'2는 화학식 I의 화합물에 대해 정의된 바와 같음)의 아릴옥시카르보닐 할라이드로 처리하거나, 또는
- X가 -CONH-기를 나타내는 화학식 IC의 화합물을 제조하기 위해, 화학식 R2-N=C=O (화학식 VII) (여기서, R2는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)의 이소시아네이트로 처리하거나, 또는
- X가 -CSNR2-기를 나타내는 화학식 ID의 화합물을 제조하기 위해, 화학식 R2-N=C=S (화학식 VIIa) (여기서, R2는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)의 이소티오시아네이트로 처리하는 것
을 특징으로 하는 방법에 따라 제조될 수 있다.
Figure 112007029154417-PCT00005
(상기 식에서, 치환체 R1 및 R3 내지 R9는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)
별법으로, 상기 정의된 화학식 II의 화합물을 화학식 HalCOOR'2 (여기서, R'2는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)의 아릴옥시카르보닐 할라이드로 처리하여 하기 화학식 V (화학식 IE와 동일함)의 중간체를 형성할 수 있으며, 그 후 X가 -CON(R10)-기를 나타내는 화학식 IC의 화합물을 제조하는 경우, 이를 화학식 R2R10NH (화학식 VI) (여기서, R2 및 R10은 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)의 아민으로 처리한다.
Figure 112007029154417-PCT00006
(상기 식에서, 치환체 R'2 및 R1 내지 R9는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)
이렇게 수득된 화학식 I의 화합물인 화학식 IA, IB, IC, ID 또는 IE의 화합물은 임의로 이의 산-부가염으로 전환된다.
X가 -CO-기를 나타내는 화학식 IA의 화합물의 제조 동안, 화학식 III의 산의 활성화된 유도체, 즉 Ｎ,Ｎ-디시클로헥실카르보디이미드로 또는 벤조트리아졸-1-일옥시트리스(디메틸아미노)포스포늄 (BOP) 헥산플로오로포스페이트, 벤조트리아졸-1-일옥시트리스(피롤리디노)포스포늄 (PyBOP) 헥사플루오로포스페이트 또는 2-(1Ｈ-벤조트리아졸-1-일)-1,1,3,3-테트라메틸우로늄 (TBTU) 테트라플루오로보레이트로 산 활성화된 유도체가 사용될 수 있다.
X가 -SO2-기를 나타내는 화학식 IB의 화합물의 제조 동안, 반응은 염기, 예컨대 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민의 존재하에, 용매, 예컨대 디클로로메탄 또는 테트라히드로푸란 중에서, 및 실온 내지 용매의 환류 온도 사이의 온도에서 수행될 수 있다.
화학식 IV의 화합물은 상업적으로 입수가능하거나 문헌에 기재되어 있거나, 또는 본원에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다 (문헌 [J. Org. Chem. USSR, 1970, 6, 2454-2458; J. Am. Chem. Soc., 1952, 74, 2008; J. Med. Chem., 1977, 20(10), 1235-1239]; 및 제EP 0 469 984호; 제WO 95/18105호 참조).
예를 들어, 화학식 IV의 화합물은 상응하는 술폰산 또는 이의 염, 예를 들어 이의 나트륨 또는 칼륨 염의 할로겐화에 의해 제조될 수 있다. 반응은 할로겐화제, 예컨대 인 옥시클로라이드, 티오닐클로라이드, 인 트리클로라이드, 인 트리브로마이드 또는 인 펜타클로라이드의 존재하에, 용매 없이 또는 용매, 예컨대 할로겐화 탄화수소 또는 Ｎ,Ｎ-디메틸포름아미드 중에서, 및 -10℃ 내지 200℃ 사이의 온도에서 수행될 수 있다.
화학식 V의 화합물의 제조에 유용한 아릴옥시카르보닐 할라이드는 공지되어 있거나 공지된 방법에 의해 제조된다.
특허 출원 제WO 2002/055 502호는 치환체 R1, R3, R6, R8 및 R9가 수소를 나타내고 R4 및 R7이 4-메톡시기를 나타내는 화학식 II의 화합물을 기재하고 있다.
하기 화학식 II의 화합물은 신규하다.
<화학식 II>
Figure 112007029154417-PCT00007
상기 식에서,
- R1은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내고;
- R3은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬, 시아노, (C1-C4)알콕시메틸렌 또는 히드록시메틸기를 나타내고;
- R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 상호 독립적으로 수소 또는 할로겐 원자, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 시아노 또는 니트로기 또는 S(O)nAlk기를 나타내되;
단, R4와 R7이 동시에 4-메톡시기를 나타내는 경우, 치환체 R1, R3, R6, R8 및 R9 중 어느 하나가 수소가 아니다.
화학식 II의 화합물은 하기 반응식 1에 따라 제조된다.
Figure 112007029154417-PCT00008
(상기 식에서, R1, R3 및 R4 내지 R9는 화학식 I에 대해 정의된 바와 같음)
단계 a1)에서, 반응은 환원제 예컨대 나트륨 보로히드라이드 또는 리튬 알루미늄 히드라이드의 존재하에, 용매 예컨대 테트라히드로푸란 중에서, 및 -20℃ 내 지 실온 사이의 온도에서 수행된다. A가 OH인 화학식 VIII의 화합물이 환원되는 경우, 산은 트리에틸아민 존재하에 에틸 클로로포르메이트와 반응에 의해 예비활성화될 수 있다.
단계 b1)에서, Y가 상기 정의된 이탈기, 바람직하게는 할로겐 원자 또는 활성화된 히드록실기, 예를 들어 메탄술포네이트, 벤젠술포네이트, p-톨루엔술포네이트 또는 트리플레이트기를 나타내는 상기 화학식 X의 화합물이 제조된다.
따라서, Y가 할로겐 원자를 나타내는 화학식 X의 화합물을 제조하기 위해, 화학식 IX의 화합물을 용매, 예컨대 디클로로메탄 중에서 및 0℃ 내지 실온 사이의 온도에서 할로겐화제, 예컨대 PCl5, PBr3, HBr 또는 BBr3로 처리한다.
Y가 메탄술포네이트, 벤젠술포네이트, p-톨루엔술포네이트 또는 트리플루오로메탄술포네이트를 나타내는 화학식 X의 화합물을 제조하기 위해, 화학식 IX의 화합물을 화학식 Z-SO2-Cl (여기서, Z는 메틸, 페닐, p-톨릴 또는 트리플루오로메틸을 나타냄)의 술포닐 클로라이드와 반응시킨다. 반응은 염기 예컨대 트리에틸아민, 피리딘 또는 Ｎ,Ｎ-디이소프로필에틸아민의 존재하에, 용매 예컨대 디클로로메탄 또는 톨루엔 중에서, 및 -20℃ 내지 용매의 환류 온도 사이의 온도에서 수행된다.
단계 c1)에서, 반응은 용매 예컨대 Ｎ,Ｎ-디메틸포름아미드, 아세토니트릴, 디클로로메탄, 톨루엔 또는 2-프로판올 중에서, 및 염기의 존재하에 또는 부재하에 수행된다. 염기가 사용되는 경우, 이는 유기 염기 예컨대 트리에틸아민, Ｎ,Ｎ-디이소프로필에틸아민 또는 Ｎ-메틸포르폴린으로부터 선택된다. 반응은 0℃ 내지 용 매의 환류 온도 사이의 온도에서 수행된다.
하나의 변형에 따라, R1이 H인 화학식 II의 화합물은 Y가 Cl인 화학식 X의 화합물을 1,3,5,7-테트라아자트리시클로[3.3.13,7]데칸 (또는 헥사메틸렌테트라민)과 반응시키고, 이어서 강산 예컨대 염산으로 가수분해함으로써 제조될 수 있다.
화학식 VIII의 화합물은 공지된 방법에 따라 제조될 수 있다 (제WO 03/082 191호 및 제WO 2005/00817호 참조).
적절한 경우, Z가 N(R1)XR2 또는 N(R1)COOR'2기 (여기서, R1은 수소가 아님)를 나타내는 화학식 I의 화합물은 Z이 NHXR2 또는 NHCOOR'2기를 나타내는 화학식 I의 화합물의 알킬화에 의해 제조될 수 있다.
본 발명에 따라, Z가 O-CO-NH-R'2기를 나타내는 화학식 IF의 화합물은 하기 화학식 IX의 화합물을 화학식 R'2-N=C=O의 화합물로 처리하는 것을 특징으로 하는 방법에 따라 제조될 수 있다.
Figure 112007029154417-PCT00009
이렇게 수득된 화학식 IF의 화합물은 임의적으로 이의 산-부가염으로 전환된 다.
R3이 메틸기를 나타내는 화학식 VIII의 화합물은 당업자에게 공지된 방법에 의해 R3이 수소 원자 또는 (C2-C4)알킬, 시아노 또는 (C1-C4)알콕시메틸기를 나타내는 화학식 VIII의 화합물을 제조가능하게 한다.
또한 R3이 (C1-C4)알킬 또는 (C1-C4)알콕시메틸기를 나타내는 화학식 II의 화합물은 하기 반응식 2에 따라 제조될 수 있다.
Figure 112007029154417-PCT00010
Figure 112007029154417-PCT00011
단계 (a2)에서, 화학식 XI의 페닐아세트산 유도체를 용매 예컨대 THF 중에서 나트륨 헥사메틸렌디실라잔 (NaHMDS)의 존재하에 화학식 XII의 벤조산 에스테르 유도체로 처리하고, 그 후 산성화시켜 화학식 XIII의 화합물을 생성하고; 단계 (b2)에서, 이 화합물을 테트라메틸메탄디아민 및 아세트산 무수물로 처리하여 화학식 XIV의 화합물을 형성한다.
또한, 화학식 XVI의 화합물은 단계 (c2)에서 화학식 XV의 3-옥소부타노에이트 유도체 상에서 암모늄 아세테이트의 작용에 의해 제조된다. 단계 (d2)에서, 화학식 XVII의 니코틴산 에스테르는 파라-톨루엔술폰산 (PTSA)의 존재하에 화학식 XVI의 화합물 상에서 화학식 XIV의 화합물의 작용에 의해 제조된다.
이 에스테르는 단계 (e2)에서 염기성 매질 중에서 가수분해되고, 그 후 단계 (f2)에서 산 관능기가, 예를 들어 보란/THF 복합물로 환원된다.
별법으로, 단계 (f2)를 수행하기 위해 무수물을 중간체로서 제조하고, 그 후 예를 들어 메탈 보로히드라이드의 작용에 의해 환원시킬 수 있다. 또한 화학식 XVII의 에스테르를 환원제로 환원시켜 화학식 XIX의 알코올로 만들 수 있다.
단계 (g2)에서, 히드록시메틸기를 갖는 화학식 XIX의 화합물을 프탈이미드의 존재하에 미쯔노부(Mitsunobu) 반응에 사용하여 화학식 XX의 화합물을 생성하고, 최종 단계 (h2)에서 히드라진 수화물로 처리하는 경우, 목적 화합물 (화학식 II)이 생성된다.
R3이 CH2OH인 화학식 I의 화합물은 R3이 CH2OMe인 화학식 I의 화합물로부터, 예를 들어 BBr3과 같은 루이스산의 존재하에 탈메틸화 반응에 의해 제조될 수 있다.
하기 실시예는 본 발명에 따른 특정 화합물의 제조예를 기재하고 있다. 이 실시예는 본 발명을 제한하지 않으며 단지 예시이다. 예시된 화합물의 번호는 하기 표 1 내지 5에 주어진 것을 나타낸다.
제조예 및 실시예에서, 하기 약어가 사용된다:
에테르: 디에틸 에테르
이소 에테르: 디이소프로필 에테르
DMSO: 디메틸 술폭시드
DIPEA: 디이소프로필에틸아민
DMF: Ｎ,Ｎ-디메틸포름아미드
THF: 테트라히드로푸란
DCM: 디클로로메탄
EtOAc: 에틸 아세테이트
PyBOP: 벤조트리아졸-1-일옥시트리스(피롤리디노)포스포늄 헥사플루오로포스페이트
TBTU: 2-(1Ｈ-벤조트리아졸-1-일)옥시트리스(피롤리디노)포스포늄 테트라플루오로보레이트
NaHMDS: 나트륨 헥사메틸렌디실라잔
PTSA: 파라톨루엔 술폰산
2N 염산 에테르: 디에틸 에테르 중 염화수소의 2N 용액
DEAD: 디에틸 아조디카르복실레이트
pH2 완충 용액: 물 1 리터 중 KHSO4 16.66 g 및 K2SO4 32.32 g의 용액
m.p.: 융점
RT: 실온
핵 자기 공명 스펙트럼은 200 MHz에서 DMSO-d6 중에서 기록되었다. 스펙트럼의 해석을 위해, 하기 약어가 사용된다: s: 단일항, d: 이중항, t: 삼중항, unres. comp.: 미분리 복합항, mt: 다중항, bs: 광폭 단일항.
본 발명에 따른 화합물은 LC/UV/MS (액체 크로마토그래피/UV 검출기/질량 분석기) 커플링에 의해 분석되었다. 분자 피크 (MH+) 및 분 단위의 체류 시간 (t)이 측정되었다.
조건: A
워터스사(Waters) 판매의 2.1 × 30 ㎜, 3.5 ㎛의 엑스테라 워터스(Xterra Waters®) MS C18 컬럼이 실온에서 1 ㎖/분의 유속으로 사용되었다.
용리액은 하기와 같이 이루어졌다:
- 용매 A: 물 중 0.025％ 트리플루오로아세트산 (TFA)
- 용매 B: 아세토니트릴 중 0.025％ TFA.
구배: 용매 B의 백분율은 1분 동안 100％ B에서 정상 단계를 갖는 2분에 걸쳐 0에서 100％로의 범위이다.
UV 검출은 210 ㎚ 내지 400 ㎚ 사이에서 수행되고 화학적 이온화 방식인 질량 검출은 대기압에서 수행되었다.
조건: MS2
2.1 × 30 ㎜, 3.5 ㎛의 엑스테라 MS C18 컬럼이 30℃에서 및 0.8 ㎖/분의 유속으로 사용되었다.
용리액은 하기와 같이 구성되었다:
- 용매 A: 물 중 0.025％ 트리플루오로아세트산 (TFA);
- 용매 B: 아세토니트릴 중 0.025％ TFA.
Figure 112007029154417-PCT00012
UV 검출은 210 내지 400 ㎚ 사이에서 다이오드 어레이 검출기를 사용하여 수행되고 질량 검출은 양이온 ESI 화학적 이온화 방식으로 수행되었다.
조건: MS5
2.1 × 30 ㎜, 3.5 ㎛의 엑스테라 MS C18 컬럼이 1 ㎖/분의 유속으로 사용되었다.
용매는 하기와 같이 구성되었다:
- 용매 A: 물 중 0.025％ TFA,
- 용매 B: 아세토니트릴 중 0.025％ TFA.
Figure 112007029154417-PCT00013
UV 검출은 210 내지 400 ㎚ 사이에서 다이오드 어레이 검출기로 수행되고 질량 검출은 양이온 ESI 방식으로 수행되었다.
제조예 1
1-(6-(4- 클로로페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피리딘 -3-일) 메탄아민
A) 1-(4-클로로페닐)-2-(2,4-디클로로페닐)프로프-2-엔-1-온
1-(4-클로로페닐)-2-(2,4-디클로로페닐)에탄온 10 g, Ｎ,Ｎ,Ｎ,Ｎ-테트라메틸메탄디아민 17 ㎖ 및 아세트산 무수물 17 ㎖를 RT에서 함께 혼합하고; 혼합물을 90℃에서 3시간 동안 가열하고, 그 후 RT로 냉각하였다. 혼합물을 분쇄된 얼음 내에 붓고, 그 후 여과하였다. 고체를 진공 하에 건조하였다. 10 g의 목적 화합물을 수득하였다 (m.p. = 89℃).
B) 에틸 5-(2,4-디클로로페닐)-6-(4-클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-카르복실레이트
n-부탄올 60 ㎖ 중 전 단계로부터의 화합물 7 g, 에틸 3-아미노부트-2-에노에이트 2.62 g 및 파라-톨루엔술폰산 140 ㎎을 함유하는 혼합물을 제조하고, 그 후 24시간 동안 용매의 환류 온도에서 가열하였다. 용매의 3/4을 증발제거하고, 그 후 펜탄 80 ㎖를 0℃에서 첨가하였다. 형성된 침전물을 여과제거하고 여액을 농축하였다. 잔류물을 시클로헥산/EtOAc 혼합물 (90/10; 부피/부피)로 용리하는 실리카 상에서 크로마토그래피하였다. 7 g의 목적 화합물을 수득하였다 (m.p. = 114℃).
C) (6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일)메탄올
전 단계에서 수득된 화합물 8.4 g을 THF 200 ㎖ 중에 넣고, LiAlH4 0.75 g을 RT에서 서서히 첨가하고 혼합물을 RT에서 1시간 동안 교반하였다. 에테르 100 ㎖, 물 1 ㎖, 4N 나트륨 히드록시드 1 ㎖ 및 물 3 ㎖를 첨가하였다. 형성된 염을 여과제거하고, 그 후 생성물을 최소량의 DCM으로부터 결정화시키고 여과하였다. 7 g의 목적 화합물을 수득하였다.
D) 3-클로로메틸-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘
전 단계에서 수득된 화합물 7 g을 질소 하에서 DCM 150 ㎖ 중에 넣고, PCl5 4 g을 0℃에서 서서히 첨가하였다. 혼합물을 RT에서 1시간 동안 교반하고, 그 후 물로 세척하고 DCM으로 추출하였다. 추출물을 건조하고, 여과하고 증발시켜 7.2 g의 목적 화합물을 수득하였다.
E) 1-(6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일)메탄아민 히드로클로라이드
전 단계에서 수득된 화합물 7.2 g을 헥사메틸렌테트라민 3.05 g 및 NaI 2.7 g와 질소 하에서 에탄올 200 ㎖ 중에 넣고, 혼합물을 RT에서 16시간 동안 교반하였다. 진한 HCl 20 ㎖를 첨가하고, 그 후 혼합물을 1시간 동안 환류시켰다. 형성된 침전물을 여과제거하였다. 여액을 건고상태로 증발시키고, 그 후 물 100 ㎖ 중에 용해시켰다. 불순물을 EtOAc로 추출하였다. 수성 상을 8％ NaOH로 염기화시키고 생성물을 EtOAc로 추출하였다. 유기 상을 MgSO4로 건조하고, 건고상태로 증발시키고, Et2O 중에 용해시키고 HCl/Et2O로 처리하였다. 수득된 백색 침전물을 여과하고 진공에서 건조하였다. 5 g의 목적 화합물을 수득하였다.
MH+ = 377; t = 6.85 mn.
NMR: 2.65 ppm: s: 3H; 4.20 ppm: q: 2H; 7.10 내지 8.00 ppm: m: 8H; 8.40 ppm: bs: 3H.
제조예 2
1-(6-(4- 브로모페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피리딘 -3-일) 메탄아민 히드로클로라이드
상기 화합물을 제조예 1의 절차에 따라 제조하였다.
MH+ = 421; t = 6.05 mn.
제조예 3
1-(6-(4- 메톡시페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피리딘 -3-일) 메탄아민 히드로클로라이드 .
MH+ = 373.0; t = 6.37.
제조예 4
1-(5-(2,4- 디클로로페닐 )-2-( 메톡시메틸 )-6-(4- 메톡시페닐 )피리딘-3-일) 메탄아민
A) 2-(2,4-디클로로페닐)-1-(4-메톡시페닐)에탄온
-78℃에서 THF 150 ㎖로 희석된 NaHMDS 150 ㎖를 질소 하에 두고, THF 150 ㎖ 중에 용해된 2,4-디클로로페닐아세트산 25 g을 적가하였다. -78℃에서 2시간 동안 교반한 후, THF 150 ㎖ 중에 용해된 메틸 4-메톡시벤조에이트 20.26 g을 첨가하였다. 혼합물을 0℃로 가온하고 교반을 이 온도에서 2시간 동안 계속하였다. 0℃에서 10％ 염산을 반응 매질을 가수분해시키기 충분한 양으로 첨가하고, 혼합물을 RT에서 2시간 동안 교반하였다. 생성된 혼합물을 에테르로 추출하고, 그 후 유기 상을 Na2SO4로 건조하였다. 형성된 고체를 펜탄 250 ㎖ 중에 용해시키고, 그 후 교반하고, 여과하고 오븐건조하였다. 23.43 g의 목적 화합물을 수득하였다.
LC/MS (조건 A). MH+ = 295.0; t = 10.34.
B) 2-(2,4-디클로로페닐)-1-(4-메톡시페닐)프로프-2-엔-1-온
전 단계에서 수득된 화합물 23 g 및 테트라메틸메탄디아민 40.21 g을 함유하는 혼합물을 제조하고, 이를 아세트산 무수물 24 g에 적가하고, 그 후 혼합물을 90℃에서 2시간 동안 교반하였다. RT로 냉각한 후, 물 500 ㎖를 첨가하였다. 형성된 침전물을 여과하고, 그 후 물로 수회 세정하였다. 수득된 고체를 진공 하에 건조하였다. 22.93 g이 수득되고 비-변형된 형태로 다음 단계에 사용되었다.
LC/MS (조건 A). MH+ = 307.0; t = 10.47.
C) 메틸 3-아미노-4-메톡시부트-2-에노에이트
예비정화된 암모늄 아세테이트 30 g, 시클로헥산 165 ㎖ 및 메틸4-메톡시-3-옥소부타노에이트 15 ㎖ 및 4 Å 분자체를 함유하는 혼합물을 질소 하에 두었다. 혼합물을 90℃에서 4시간 동안 교반하고, 그 후 건고상태로 증발시켰다. 잔류물을 세척하고 DCM으로 추출하고, 그 후 유기 상을 여과하고 증발시켰다. 수득된 생성물을 추가 정제 없이 다음 단계에 사용하였다.
D) 5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)니코티네이트
단계 C에서 수득된 화합물 10.63 g, 단계 B에서 수득된 화합물 22.5 g, PTSA 0.50 g 및 부탄올 54 ㎖를 함유하는 혼합물을 제조하였다. 이를 150℃에서 3시간 동안 교반하였다. 부탄올을 증발제거하고, 그 후 잔류물을 DCM 400 ㎖ 중에 용해 시켰다. 유기 상을 물 400 ㎖로 세척하고, 그 후 Na2SO4로 건조하고, 여과하고 건고상태로 증발시켰다. 25.14 g의 목적 화합물을 조질 형태로 수득하였다.
E) 5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)니코틴산
전 단계에서 수득된 화합물 25.1 g을 칼륨 히드록시드 32.5 g의 존재하에 에탄올 232 ㎖ 중에 넣고, 혼합물을 3시간 동안 환류시켰다. RT로 냉각한 후, 용매를 증발제거하고, 그 후 잔류물을 물 300 ㎖로 처리하였다. 수성 상을 진한 HCl로 산성화시키고, 그 후 에테르 300 ㎖로 추출하였다. 유기 상을 Na2SO4로 건조하고, 여과하고 건고상태로 증발시켰다. 수득된 생성물을 에테르/펜탄 혼합물로부터 재결정화시켜 15.11 g의 목적 화합물을 수득하였다.
F) (5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일)메탄올
THF 중 1M BH3 80 ㎖를 함유하는 혼합물을 질소 하에서 제조하고, THF 200 ㎖ 중 전 단계에서 수득된 화합물 13.4 g을 0℃에서 적가하였다. 혼합물을 RT에서 밤새 교반하고, 이어서 메탄올 125 ㎖, 및 그 후 염산 에테르 250 ㎖를 0℃에서 적가하고, 혼합물을 3시간 동안 교반하였다. 에테르 상을 건조하고, 그 후 에테르 250 ㎖ 중에 용해시키고 포화 NaHCO3 용액, 및 그 후 물로 세척하였다. 그 후 유기 상을 Na2SO4로 건조하고, 여과하고 건고상태로 증발시켰다. 수득된 조 생성물을 0 내지 5％의 MeOH을 함유하는 CH2Cl2로 용리하는 실리카 상에서 크로마토그래피하였다. 1.40 g의 목적 화합물을 수득하였다.
LC/MS (조건 A). MH+ = 404.0; t = 9.06.
G) 2-((5-2-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일)메틸)-1Ｈ-이소인돌-1,3-(2Ｈ)디온
전 단계에서 수득된 화합물 1.4 g, 트리페닐포스핀 0.9 g, 프탈이미드 0.51 g 및 에테르 0.6 ㎖를 함유하는 혼합물을 제조하고, 여기에 DEAD 0.62 g을 -10℃에서 적가하였다. RT로 밤새 둔 후, 반응 매질을 에테르 100 ㎖로 희석하고, 그 후 pH2 완충제 100 ㎖, 포화 NaHCO3 용액 100 ㎖ 및 포화 NaCl 용액 100 ㎖로 세척하고, 그 후 유기 상을 Na2SO4로 건조하였다. 수득된 조 생성물을 DCM/MeOH 혼합물 (97/3; 부피/부피)로 용리하는 실리카 상의 크로마토그래피로 정제하였다. 1.8 g의 목적 화합물을 수득하였다.
LC/MS (조건 A). MH+ = 533.0; t = 9.79.
H) 1-(5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시페닐)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일)메탄아민
메탄올 45 ㎖ 중 전 단계에서 수득된 화합물 1.79 g 및 히드라진 수화물 0.31 ㎖를 함유하는 혼합물을 질소 하에 두고 3시간 동안 환류시켰다. 물 100 ㎖ 및 DCM 100 ㎖를 첨가하고, 그 후 유기 상을 10％ NaOH 용액 100 ㎖, 포화 NaHCO3 용액 100 ㎖ 및 포화 NaCl 용액 100 ㎖로 세척하였다. 유기 상을 Na2SO4로 건조하고 건고상태로 증발시켰다. 0.944 g의 목적 화합물을 수득하였다.
LC/MS (조건 A). MH+ = 403.0; t = 6.58.
제조예 5
1-(6-(4- 클로로페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2-( 메톡시메틸 )피리딘-3-일) 메탄아민
상기 화합물을 제조예 4에 기재된 절차에 따라 제조하였다.
LC/MS (조건 A). MH+ = 407.0, t = 7.15.
실시예 1: 화합물 3
Ｎ-{[-6-(4- 클로로페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피리딘 -3-일] 메틸 }-1Ｈ-인돌-2-카 르복스아미 드
제조예 1의 화합물 0.5 g, 2-인돌카르복실산 0.19 g, PyBOP 0.75 g 및 트리에틸아민 0.34 ㎖를 DCM 10 ㎖ 중에 넣고 RT에서 2시간 동안 교반하였다. 반응 매질을 3％ HCl, 물, 8％ 나트륨 히드록시드 수용액 및 물로 세척하였다. 생성된 혼합물을 DCM으로 추출하고, 건조하고, 여과하고 증발시켰다. 생성물을 100/0에서 95/5까지의 구배를 갖는 DCM/MeOH 혼합물로 용리하는 실리카 상에서 크로마토그래피하여, 130 ㎎의 목적 화합물을 수득하였다.
NMR: 2.65 ppm: s: 3H; 4.60 ppm: d: 2H; 6.90 내지 7.70 ppm: unres. comp.: 13H; 9.05 ppm: t: 1H; 11.62 ppm: bs: 1H.
실시예 2: 화합물 52
Ｎ-{[-6-(4- 클로로페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피리딘 -3-일] 메틸 }-4-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
제조예 1의 화합물 0.5 g, 4-트리플루오로메틸벤젠술포닐 클로라이드 0.29 g 및 트리에틸아민 0.34 ㎖를 DCM 10 ㎖ 중에 넣고 RT에서 2시간 동안 교반하였다. 반응 매질을 3％ HCl, 물, 8％ 나트륨 히드록시드 수용액 및 물로 세척하였다. 혼합물을 DCM으로 추출하고, 건조하고, 여과하고 증발시켰다. 잔류물을 100/0에서 95/5까지의 구배를 갖는 DCM/MeOH 혼합물로 용리하는 실리카 상에서 크로마토그래피하여, 400 ㎎의 목적 화합물을 수득하였다.
NMR: 2.51 ppm: s: 3H; 4.20 ppm: s: 2H; 7.10 내지 7.70 ppm: unres. comp.: 8H; 7.80 to 8.10 ppm: 2d: 4H; 8.50 ppm: s: 1H.
실시예 3: 화합물 81
Ｎ-{[-6-(4- 클로로페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피리딘 -3-일] 메틸 }-Ｎ'-[4-(트 리플루오로메틸 ) 페닐 ] 우레아
제조예 1의 화합물 0.5 g 및 1-이소시아네이토-4-(트리플루오로메틸)벤젠 0.22 g을 DCM 10 ㎖ 중에 넣고 RT에서 2시간 동안 교반하였다. 반응 매질을 3％ HCl, 물, 8％ 나트륨 히드록시드 수용액 및 물로 세척하였다. 혼합물을 DCM으로 추출하고, 건조하고, 여과하고 증발시켰다. 잔류물을 100/0에서 95/5까지의 구배를 갖는 DCM/MeOH 혼합물로 용리하는 실리카 상에서 크로마토그래피하여, 400 ㎎의 목적 화합물을 수득하였다.
NMR: 2.60 ppm: s: 3H; 4.40 ppm: d: 2H; 6.87 ppm: t: 1H; 7.20 내지 7.65 ppm: unres. comp.: 12H; 9.03 ppm: s: 1H.
실시예 4: 화합물 121
[6-(4- 클로로페닐 )-5-(2,4- 디클로로페닐 )-2- 메틸피페리딘 -3-일] 메틸페닐카르바메이트
제조예 1, 단계 C의 화합물 0.5 g 및 벤젠 이소시아네이트 0.28 ㎖를 DCM 18 ㎖ 중에 넣고 1시간 동안 환류에서 교반하였다. RT로 냉각한 후, 반응 매질을 물 200 ㎖ 및 DCM 150 ㎖로 처리하였다. 층을 침강에 의해 분리하였다. 유기 상을 물 200 ㎖로 세척하고, Na2SO4로 건조하고 건고상태로 증발시켰다. 생성물을 DCM/MeOH 혼합물 (100/0 내지 97/3; 부피/부피)로 용리하는 실리카 컬럼 상에 정제하였다. 334.8 ㎎의 목적 화합물을 수득하였다.
실시예 5
Z가 N(R1)XR2를 나타내고 -X-가 -CO- 또는 SO2인 화학식 IA의 화합물 15 내지 50 및 화학식 IB의 화합물 60 내지 88을 하기 과정에 따른 조합 화학에 의해 제조하였다:
3 당량의 DIPEA의 존재하에 각각의 화학식 III의 카르복실산, 또는 화학식 IV의 술포닐 할라이드를 DMF 중에 0.25M의 농도로 용해시켰다. 이 용액 120 ㎕ 및 0.25M 농도의 DMF 중 TBTU 용액 120 ㎕를 각각의 2 ㎖ 웰에 넣었다. 0.1M 농도의 DMF 중 화학식 II의 상응하는 화합물 및 3 당량의 DIPE를 함유하는 용액 300 ㎕를 각각의 웰에 첨가하였다. 플레이트를 RT에서 16시간 동안 진탕시키고, 그 후 증발시켰다. 형성된 생성물을 각각의 웰에서 EtOAc 500 ㎕로 용해시키고, 0.1M Na2CO3 400 ㎕를 첨가하고 플레이트를 진탕시켰다. 침강에 의한 상의 분리 후, 수성 상 430 ㎕를 배출시키고, 그 후 5％ NaCl 300 ㎕를 첨가하고 플레이트를 진탕시켰다. 그 후 수성 상 350 ㎕를 배출시키고 잔류물을 LC/UV/MS로 분석하였다.
실시예 6
Z가 N(R1)XR2를 나타내고 -X-가 -CON(R10) 또는 -CSN(R10)인 화학식 IC의 화합물 87 내지 116 및 화학식 ID의 화합물 117 내지 119를 하기 과정에 따른 조합 화학에 의해 제조하였다:
3 당량의 DIPEA의 존재하에 각각의 화학식 VII의 이소시아네이트, 또는 화학식 VIIa의 티오이소시아네이트를 THF 중에 0.25M의 농도로 용해시켰다. 이 용액 120 ㎕ 및 0.25M 농도의 DMF 중 TBTU 용액 120 ㎕를 각각의 2 ㎖ 웰에 넣었다. 0.1M 농도의 DMF 중 화학식 II의 상응하는 화합물 및 3 당량의 DIPEA를 함유하는 용액 300 ㎕를 각각의 웰에 첨가하였다. 플레이트를 RT에서 16시간 동안 진탕시키고, 그 후 증발시켰다. 형성된 생성물을 각각의 웰에서 EtOAc 500 ㎕로 용해시키고, 0.1M Na2CO3 400 ㎕를 첨가하고 플레이트를 진탕시켰다. 침강에 의한 층의 분리 후, 수성 상 430 ㎕를 배출시키고, 그 후 5％ NaCl 300 ㎕를 첨가하고 플레이트를 진탕시켰다. 그 후 수성 상 350 ㎕를 배출시키고 잔류물을 LC/UV/MS로 분석하였다.
하기 표는 본 발명에 따른 다수의 화합물의 화학 구조 및 물성을 예시한다.
표에서, Me, Et, Pr, nBu 및 tBu는 각각 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸 및 tert-부틸기를 나타낸다.
화합물의 LC/MS 분석에 사용된 조건은 A, MS5 또는 MS2로 나타내었다.
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본 발명에 따른 화합물에 약리학적 시험을 적용시켜 CB1 카나비노이드 수용체와 관련한 그의 친화도 및 길항력을 측정하였다.
화학식 I의 화합물은 엠. 리날디-까르모나 등(M. Rinaldi-Carmona et al.)에 의해 기재된 (문헌 [FEBS Letters, 1994, 350, 240-244] 참조) 실험 조건 하에서 CB1 카나비노이드 수용체에 대한 시험관 내 친화도가 우수하였다 (IC50 ≤ 5×10-7M).
화학식 I의 화합물의 길항제 특성은 문헌 [M. Rinaldi-Carmona et al., J. Pharmacol. Exp. Ther., 1996, 278, 871-878] 및 문헌 [M. Bouaboula et al., J. Biol. Chem., 1997, 272, 22330-22339]에 기재된 아데닐레이트 사이클라제의 억제 모델에서 수득된 결과에 의해 입증되었다.
화학식 I의 화합물의 독성은 이의 약제로서의 용도에 적합하다.
따라서, 다른 양태에 따라 본 발명의 주제는 화학식 I의 화합물 또는 이의 제약상 허용되는 산과의 부가염, 또는 화학식 I의 화합물의 용매화물 또는 수화물을 포함하는, 인간 의학 또는 수의학용 의약이다.
본 발명에 따른 화합물은 CB1 카나비노이드 수용체에 관련된 질병의 치료 또는 예방에 있어서 인간 또는 동물에서 사용될 수 있다.
예를 들어, 비제한적 방식으로 화학식 I의 화합물은, 불안증, 우울증, 기분 장애, 불면증, 섬망 장애, 강박 장애, 일반적 정신병, 정신분열증, 과잉운동 아동 (MBD)의 주의력 및 과잉행동 장애 (AHD)를 비롯한 정신 장애를 치료하고, 또한 특히 알코올 의존 및 니코틴 의존을 비롯한 물질 남용 및/또는 물질 의존의 경우에서 향정신성 물질의 사용과 관련된 장애 치료를 위한 향정신성 의약으로서 특히 유용하다.
본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 편두통, 스트레스, 심신 원인의 질환, 공황 발작, 간질, 운동 장애, 특히 운동이상증 또는 파킨슨병, 진전 및 근긴장이상증을 치료하기 위한 의약으로서 사용될 수 있다.
또한 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 기억 장애, 인지 장애의 치료, 특히 노인성 치매 및 알츠하이머병의 치료, 및 주의력 또는 의식 장애의 치료에 의약으로서 사용될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 허혈, 두개골 외상의 치료 및 무도병, 헌팅턴 무도병 및 뚜렛 증후군을 비롯한 신경퇴행성 질환의 치료에 신경보호제로서 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 통증, 신경병증성 통증, 급성 말초신경병증성 통증, 염증 원인의 만성 통증의 치료에 의약으로서 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 식욕 장애, (당분, 탄수화물, 약물, 알코올 또는 임의의 식욕증진 물질에 대한) 욕구 장애 및/또는 섭식 행동 장애의 치료, 특히 비만증 또는 과식증의 치료 및 제II형 당뇨병 또는 인슐린 비의존형 당뇨병의 치료 및 이상지질혈증 및 대사 증후군의 치료를 위한 의약으로서 사용될 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 비만 및 비만과 관련된 위험, 특히 심혈관 위험의 치료에 유용하다. 또한, 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 위장 장애, 설사 장애, 궤양, 구토, 방광 및 요로 장애, 내분비선 원인의 장애, 심혈관 장애, 저혈압, 출혈성 쇼크, 패혈성 쇼크, 만성 간 경화, 지방간, 지방성간염, 만성 간성 뇌증, 천식, 레이노 증후군, 녹내장, 생식 장애, 염증 현상, 면역계 질환, 특히 자가면역 질환 및 신경염증 질환 예컨대 류머티스 관절염, 반응성 관절염, 탈수초화로 인한 질환, 다발성 경화증, 전염성 및 바이러스성 질환 예컨대 뇌염, 뇌졸증의 치료를 위한 의약으로서 사용될 수 있고, 또한 항암 화학요법, 길랑-바레 증후군의 치료 및 골다공증의 치료를 위한 의약으로서 사용될 수 있다.
본 발명에 따라, 화학식 I의 화합물은 정신 장애, 특히 정신분열증, 주의력 및 과잉운동 아동 (MBD)의 주의력 및 과잉행동 장애 (AHD)의 치료; 식욕 및 비만 장애의 치료; 기억 및 인지 결핍증의 치료; 알코올 의존 및 니코틴 의존의 치료, 즉 알코올의 중단 및 니코틴의 중단; 이상지혈증 및 대사 증후군의 치료에 가장 특히 유용하다.
더욱 구체적으로, 본 발명에 따른 화학식 I의 화합물은 식욕 장애, 대사 장애, 위장 장애, 염증 현상, 면역계의 질환, 정신 장애, 알코올 의존 및 니코틴 의존의 치료 및 예방에 유용하다.
한 양태에 따라, 본 발명은 상기 장애 및 질환을 치료하기 위한 화학식 I의 화합물, 이의 제약상 허용되는 염 및 이의 용매화물 또는 수화물의 용도에 관한 것이다.
다른 양태에 따라, 본 발명은 활성 성분으로서 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 제약 조성물에 관한 것이다. 이들 제약 조성물은 유효한 투여량의 1종 이상의 본 발명에 따른 화합물, 또는 상기 화합물의 제약상 허용되는 염, 용매화물 또는 수화물, 및 1종 이상의 제약상 허용되는 부형제를 함유한다.
상기 부형제는 제약 형태 및 원하는 투여 방식에 따라, 당업자에게 공지된 통상의 부형제로부터 선택된다.
경구, 설하, 피하, 근육내, 정맥내, 국소, 국부, 기관내, 비강내, 경피 또는 직장 투여를 위한 본 발명의 제약 조성물에서, 상기 화학식 I의 활성 성분, 또는 이의 가능한 염, 용매화물 또는 수화물은 표준 제약 부형제와의 혼합물로서 상기 장애 또는 질환의 예방 또는 치료를 위해 인간 및 동물에게 투여의 단위 형태로 투여될 수 있다.
투여의 적절한 단위 형태는 경구-경로 형태, 예컨대 정제, 연질 또는 경질 캡슐제, 분말제, 과립제 및 경구 용액제 또는 현탁액제, 설하, 구강, 기관내, 안구내 및 비강내 투여형, 흡입, 국소, 경피, 피하, 근육내 또는 정맥내 투여형, 직장 투여형 및 이식물을 포함한다. 국소 적용을 위해, 본 발명에 따른 화합물은 크림, 겔, 포마드 또는 로션으로 사용될 수 있다.
예를 들어, 정제 형태인 본 발명에 따른 화합물의 투여의 단위 형태는 하기 성분을 포함할 수 있다:
본 발명에 따른 화합물 : 50.0 ㎎
만니톨 : 223.75 ㎎
나트륨 크로스카르멜로오스 : 6.0 ㎎
옥수수 전분 : 15.0 ㎎
히드록시프로필메틸셀룰로오스 : 2.25 ㎎
마그네슘 스테아레이트 : 3.0 ㎎
경구 경로에 의한, 하루에 투여되는 활성 요소의 투여량은 1회 이상의 투여 흡입으로 0.01 내지 100 ㎎/㎏, 특히 0.02 내지 50 ㎎/㎏일 수 있다.
보다 높은 또는 보다 낮은 투여량이 필요한 특수 경우가 존재할 수 있으며, 이러한 투여량은 본 발명의 상황에서 벗어나지 않는다. 통상 관례에 따라, 각각의 환자에 대한 적절한 투여량은 투여의 방식 및 체중 및 환자의 반응에 따라 의사에 의해 결정된다.
또한 다른 양태에 따라, 본 발명은 유효한 투여량의 본 발명에 따른 화합물, 또는 이의 제약상 허용되는 염 또는 수화물 또는 용매화물을 환자에게 투여하는 것을 포함하는, 상기 병리상태의 치료 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따라, 화학식 I의 화합물은 하기 치료제 분류 중 하나로부터 선택되는 다른 활성 성분과 조합될 수 있다:
- 단독 또는 이뇨제와 조합된, 안지오텐신 II AT1 수용체 길항제;
- 단독 또는 이뇨제 또는 칼슘 길항제와 조합된, 전환 효소 억제제;
- 칼슘 길항제;
- 단독 또는 이뇨제 또는 칼슘 길항제와 조합된, 베타-차단제;
- 항고지질혈증제 또는 항고콜레스테롤혈증제;
- 항당뇨병제;
- 기타 항비만제.
따라서 또한, 본 발명의 주제는 화학식 I의 화합물 및 하기 치료제 분류 중 하나로부터 선택되는 다른 활성 성분을 함유하는 제약 조성물이다:
- 단독 또는 이뇨제 또는 칼슘 길항제와 조합된, 안지오텐신 II AT1 수용체 길항제;
- 단독 또는 이뇨제와 조합된, 전환 효소 억제제;
- 칼슘 길항제;
- 단독 또는 이뇨제 또는 칼슘 길항제와 조합된, 베타-차단제;
- 항고지질혈증제 또는 항고콜레스테롤혈증제;
- 항당뇨병제;
- 기타 항비만제.
용어 "안지오텐신 II AT1 수용체 길항제"는 특히 칸데사르탄, 실렉시틸, 에프로사르탄, 이르베사르탄, 로사르탄 칼륨, 올메사르탄 메독소밀, 텔미사르탄 또는 발사르탄과 같은 화합물, 이뇨제 예컨대 히드로클로로티아지드와 조합될 수 있는 각각의 이들 화합물 자체를 의미한다.
용어 "전환 효소 억제제"는 특히 알라세프릴, 베나제프릴, 캅토프릴, 실라자프릴, 에날라프릴, 에날라프릴라트, 포시노프릴, 이미다프릴, 리시노프릴, 모엑시프릴, 페린도프릴, 퀴나프릴, 라미프릴, 스피라프릴, 테모카프릴, 트랜돌라프릴 또는 조페노프릴과 같은 화합물, 이뇨제 예컨대 히드클로로티아지드 또는 인다파미드와 조합되거나 칼슘 길항제 예컨대 암로디핀, 딜티아젬, 펠로디핀 또는 베라파밀과 조합될 수 있는 각각의 이들 화합물 자체를 의미한다.
용어 "칼슘 길항제"는 특히 암로디핀, 아라니디핀, 베니디핀, 베프리딜, 실니디핀, 딜티아젬, 에포니디핀 히드로클로라이드 에탄올, 파수딜, 펠로디핀, 이스라디핀, 라시디핀, 레르카니디핀 히드로클로라이드, 마니디핀, 미베프라딜 히드로클로라이드, 니카르디핀, 니페디핀, 닐바디핀, 니모디핀, 니솔디핀, 니트렌디핀, 테로딜린 또는 베라파밀과 같은 화합물을 의미한다.
용어 "베타-차단제"는 특히 아세부톨롤, 알프레놀롤, 아모술랄롤, 아로티놀롤, 아테놀롤, 베푸놀롤, 베탁솔롤, 베반톨롤, 비소프롤롤, 보핀돌롤, 부쿠몰롤, 부페톨롤, 부니트롤롤, 부토필올롤, 카라졸롤, 카르테올롤, 카르베딜롤, 클로라놀롤, 에파놀롤, 에스몰롤, 인데놀롤, 라베탈롤, 란디올롤, 레보부놀롤, 레보모프롤롤, 메핀돌롤, 메티프라놀롤, 메토프롤롤, 나돌롤, 네비볼롤, 니페날롤, 니프라딜롤, 옥스프레놀롤, 펜부톨롤, 핀돌롤, 프로파놀롤, 살메테롤, 소탈롤, 탈리놀롤, 테르타톨롤, 틸리솔롤, 티몰롤, 크사모테롤 또는 크시베놀롤과 같은 화합물을 의미한다.
용어 "항고지질혈증제 또는 항고콜레스테롤혈증제"는 특히 피브레이트 예컨대 알루피브레이트, 베클로브레이트, 베자피브레이트, 시프로피브레이트, 클리노피브레이트, 클로피브레이트, 에토피브레이트 또는 페노피브레이트; 스타틴 (HMG-CoA 환원효소 억제제) 예컨대 아토르바스타틴, 플루바스타틴 나트륨, 로바스타틴, 프라바스타틴, 로수바스타틴 또는 심바스타틴; 또는 아시피목스, 알루미늄 니코티네이트, 아자코스테롤, 콜레스티라민, 덱스트로티록신, 메글루톨, 니세리트롤, 니코클로네이트, 니코틴산, 베타-시토스테린 또는 티아데놀과 같은 화합물로부터 선택되는 화합물을 의미한다. 더 구체적으로, 본 발명의 주제는 화학식 I의 화합물과 아토르바스타틴 또는 파라바스타틴의 조합물, 바람직하게는 화학식 I의 화합물과 심바스타틴의 조합물을 함유하는 제약 조성물이다.
용어 "항당뇨병제"는 특히 하기 부류 중 하나에 속하는 화합물을 의미한다： 술포닐우레아, 비구아니딘, 알파-글루코시다제 억제제, 티아졸리딘디온, 메티글리니드 예컨대 아카르보스, 아세토헥사미드, 카르부타미드, 클로르프로파미드, 글리벤클라미드, 글리보르누리드, 글리클라지드, 글리메프리드, 글리피지드, 글리퀴돈, 글리속세피드, 글리부졸, 글리미딘, 메타헥사미드, 메트포르민, 미글리톨, 나테글리니드, 피오글리타존, 레파글리니드, 로시글리타존, 톨라자미드, 톨부타미드, 트로글리타존 또는 보글리보스.
용어 "기타 항비만제"는 특히 암페프라몬, 벤플루오렉스, 벤즈페타민, 인다노렉스, 마진돌, 메페노렉스, 메탐페타민 또는 D-노르프수도페드린과 같은 화합물 또는 다른 CB1 카나비노이드 수용체 길항제를 의미한다.
가장 구체적으로, 본 발명의 주제는 화학식 I의 화합물과 안지오텐신 II AT1 수용체 길항제, 특히 이르베사르탄, 로사르탄 또는 발사르탄의 조합물을 함유하는 제약 조성물이다.
본 발명의 다른 양태에 따라, 화학식 I의 화합물 및 다른 조합된 활성 성분은 동시에, 개별적으로 또는 시간차를 두고 순차적으로 투여될 수 있다.
용어 "개별적으로 사용"은 별개의 제약 형태에 각각 포함된 본 발명에 따른 조성물의 2종의 화합물의 동시적 투여를 의미한다.
용어 "시간차를 두고 순차적으로 사용"은 하나의 제약 형태에 포함된 본 발명에 따른 조성물의 제1 화합물, 이어서 별개의 제약 형태에 포함된 본 발명에 따른 조성물의 제2 화합물의 연속적 투여를 의미한다.

Claims (17)

  1. 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 하기 화학식 I의 화합물.
    <화학식 I>
    Figure 112007029154417-PCT00031
    상기 식에서,
    - Z는 N(R1)XR2, N(R1)COOR'2 또는 OCON(R1)R'2기를 나타내고;
    - X는 -CO-, -SO2-, -CON(R10)- 또는 -CSN(R10)-기를 나타내고;
    - R1은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내고;
    - R2는
    ㆍ 비치환되거나 CF3기로 치환된 (C3-C10)알킬기,
    ㆍ 비치환되거나 (C1-C4)알킬, 히드록실, (C1-C4)알콕시, (C1-C4)알킬티오 또는 시아노기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 비방향족 (C3-C12) 카르보시클릭 라디칼,
    ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 히드록실, 트리플루오로메틸, (C1-C4)알콕시, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알킬티오, 시아노 또는 니트로기로부터 선택되는 하나 이상의 동일하거나 상이한 치환체로 치환된, 산소, 황 또는 질소를 함유하는 원자수 4 내지 8의 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼,
    ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자, (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 히드록실, (C1-C4)알콕시, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알킬티오, 시아노 또는 니트로기로 치환된 인돌릴기,
    ㆍ 테트라히드로-1- 또는 -2-나프틸; 1- 또는 2-나프틸,
    ㆍ 벤조티오페닐 또는 벤조푸릴,
    ㆍ 비치환되거나 할로겐 원자, (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 히드록실, (C1-C4)알콕시, 시아노, 니트로, (C1-C4)알카노일 또는 페닐기 및 S(O)nAlk 또는 NR13R14기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 페닐,
    ㆍ 벤조디옥실,
    ㆍ 페녹시메틸, 1-페녹시에틸 또는 1-메틸-1-페녹시에틸 (여기서, 페닐기는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환됨),
    ㆍ 페닐시클로프로필 (여기서, 페닐기는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환됨),
    ㆍ 하기 (i) 내지 (iv):
    (i) (C1-C4)알킬기,
    (ii) 비치환되거나 (C1-C4)알킬기로 1회 이상 치환된 비방향족 C3-C12 카르보시클릭 라디칼,
    (iii) 비치환되거나 할로겐 원자, (C1-C4)알킬, 히드록실, 트리플루오로메틸, (C1-C4)알콕시, 트리플루오로메톡시, (C1-C4)알카노일, 시아노, 니트로 또는 페닐기 및 S(O)nAlk 또는 NR13R14기로부터 선택되는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 치환체로 치환된 페닐, 및
    (iv) 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 치환체로 치환된, 산소, 황 또는 질소를 함유하는 원자수 4 내지 8의 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼
    로부터 선택되는 1개 또는 2개의 동일하거나 상이한 치환체로 치환된 (C1-C2)알킬렌을 나타내며,
    ㆍ 추가로, X가 -CON(R10)- 또는 -CSN(R10)-기를 나타내는 경우, R2는 (C1-C6)알카노일기 또는 벤조일 또는 벤질카르보닐기 (여기서, 언급된 기의 페닐기는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬 또는 트리플루오로메틸기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 치환됨)를 나타낼 수 있고;
    - R'2는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, 시아노, 니트로 또는 (C1-C4)알콕시기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 페닐을 나타내고;
    - R3은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬, 시아노, (C1-C4)알콕시메틸 또는 히드록시메틸기를 나타내고;
    - R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 상호 독립적으로 수소 또는 할로겐 원자, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 시아노 또는 니트로기 또는 S(O)nAlk기를 나타내고;
    - R10은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나; 또는
    - R2와 R10은 이들이 부착된 질소 원자와 함께 비치환되거나 (C1-C4)알킬기; (C1-C4)알카노일기; NR11R12 또는 CONR11R12기; 비치환되거나 할로겐 원자 또는 (C1-C4)알킬, (C1-C4)알콕시 또는 트리플루오로메틸기로 1회 이상 치환된 페닐기로 1회 이상 치환된, 산소, 황 및 질소 원자로부터 선택되는 제2 헤테로원자를 함유할 수 있 는 원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
    - R11 및 R12는 상호 독립적으로 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나, 또는 R11과 R12는 이들이 부착된 질소 원자와 함께 원자수 4 내지 8의 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
    - n은 0, 1 또는 2를 나타내고;
    - R13 및 R14는 상호 독립적으로 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내거나, 또는 R13과 R14는 이들이 부착된 질소 원자와 함께 원자수 4 내지 8의 포화 또는 불포화 헤테로시클릭 라디칼을 구성하고;
    - Alk는 (C1-C4)알킬기를 나타내되;
    단, R4와 R7이 동시에 4-메톡시기를 나타내는 경우, 치환체 R1, R3, R5, R6, R8 및 R9 중 하나는 수소가 아니다.
  2. 제1항에 있어서, Z는 N(R1)XR2기를 나타내고, X는 -CO-기를 나타내고, 치환체 R1 내지 R9는 제1항에 정의된 바와 같은 것인 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  3. 제1항에 있어서, Z는 N(R1)XR2기를 나타내고, X는 -SO2-기를 나타내고, 치환 체 R1 내지 R9는 제1항에 정의된 바와 같은 것인 염기 또는 부가염 형태 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  4. 제1항에 있어서, Z는 N(R1)XR2기를 나타내고, X는 -CON(R10)-기를 나타내고, 치환체 R1 내지 R10은 제1항에 정의된 바와 같은 것인 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  5. 제1항에 있어서, Z는 N(R1)XR2기를 나타내고, X는 -CSNR10기를 나타내고, 치환체 R1 내지 R10은 제1항에 정의된 바와 같은 것인 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  6. 제1항에 있어서, Z는 N(R1)COOR'2기를 나타내고, 치환체 R1 내지 R9는 제1항에 정의된 바와 같은 것인 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  7. 제1항에 있어서, Z는 OCO(R1)R'2기를 나타내고, 치환체 R1 내지 R9는 제1항에 정의된 바와 같은 것인 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  8. 제1항에 있어서,
    - Z는 N(R1)XR2기를 나타내고 X는 화학식 I에 대해 정의된 값 중 하나를 갖고,
    - R1은 수소 원자를 나타내고/나타내거나,
    - R2는 1-프로필부틸 또는 비치환되거나 (C1-C4)알킬기로 치환된 2-인돌릴을 나타내거나, 또는 R2는 비치환되거나 할로겐 원자 및 (C1-C4)알킬, 트리플루오로메틸, (C1-C4)알콕시, 시아노 또는 페닐기로부터 선택되는 동일하거나 상이한 치환체로 1회 이상 치환된 페닐을 나타내고/나타내거나,
    - R3은 메틸 또는 메톡시메틸기를 나타내고/나타내거나,
    - R4는 염소 또는 브롬 원자 또는 메톡시기를 나타내고/나타내거나,
    - R7 및 R8은 각각 염소 원자를 나타내고/나타내거나,
    - R5, R6 및 R9는 수소를 나타내는 것인
    염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  9. 제1항에 있어서,
    - Z는 NHCOR2기를 나타내고,
    - R2는 1-프로필부틸기, 비치환되거나 비치환되거나 할로겐 원자 또는 메톡시기로 치환된 (C1-C4)알킬기, 페닐기로 치환된 인돌릴기를 나타내고,
    - R3은 메틸 또는 메톡시메틸기를 나타내고,
    - R4는 염소 또는 브롬 원자 또는 메톡시기를 나타내고,
    - R7 및 R8은 각각 염소 원자를 나타내고,
    - R5, R6 및 R9는 수소를 나타내는 것인
    염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  10. 제1항에 있어서,
    - Z는 NHSO2R2기를 나타내고,
    - R2는 비치환되거나 할로겐 원자 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 페닐기를 나타내고,
    - R3은 메틸 또는 메톡시메틸기를 나타내고,
    - R4는 염소 또는 브롬 원자 또는 메톡시기를 나타내고,
    - R7 및 R8은 각각 염소 원자를 나타내고,
    - R5, R6 및 R9는 수소를 나타내는 것인
    염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화학식 I의 화합물.
  11. 제1항에 있어서,
    Ｎ-{[-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일]메틸}-1Ｈ-인돌-2-카르복스아미드,
    Ｎ-{[-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일]메틸}-4-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    Ｎ-{[-6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-메틸피리딘-3-일]메틸}-Ｎ'-[4-(트리플루오로메틸)페닐]우레아,
    Ｎ-{[5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일]메틸}-2-프로필펜탄아미드,
    Ｎ-{[5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)-6-(4-메톡시페닐)피리딘-3-일]메틸}-1Ｈ-인돌-2-카르복스아미드,
    Ｎ-{[6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)피리딘-3-일]메틸}-4-(트리플루오로메톡시)벤즈아미드,
    Ｎ-{[6-(4-클로로페닐)-5-(2,4-디클로로페닐)-2-(메톡시메틸)피리딘-3-일]메틸}-2-프로필펜탄아미드
    로부터 선택되는 염기 또는 부가염 형태, 및 수화물 또는 용매화물 형태의 화합물.
  12. 하기 화학식 II의 화합물을
    - X가 -CO-기를 나타내는 화학식 IA의 화합물을 제조하는 경우, 화학식 R2CO2H (III) (여기서, R2는 제1항에 정의된 바와 같음)의 산, 또는 상기 산의 활성화된 유도체로 처리하거나, 또는
    - X가 -SO2-기를 나타내는 화학식 IB의 화합물을 제조하는 경우, 화학식 R2SO2Hal (IV) (여기서, R2는 제1항에 정의된 바와 같고 Hal은 할로겐 원자를 나타냄)의 술포닐 할라이드로 처리하는 것
    을 특징으로 하는 제1항 내지 제6항 및 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물의 제조 방법.
    <화학식 II>
    Figure 112007029154417-PCT00032
    (상기 식에서, 치환체 R1 및 R3 내지 R9는 제1항에 정의된 바와 같음)
  13. 하기 화학식 IX의 화합물을 화학식 R'2-N=C=O의 화합물로 처리하는 것을 특징으로 하는 제1항 및 제7항에 따른 화학식 I의 화합물의 제조 방법.
    <화학식 IX>
    Figure 112007029154417-PCT00033
  14. 하기 화학식 II의 화합물.
    <화학식 II>
    Figure 112007029154417-PCT00034
    상기 식에서,
    - R1은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬기를 나타내고,
    - R3은 수소 원자 또는 (C1-C4)알킬, 시아노, (C1-C4)알콕시메틸렌 또는 히드록시메틸기를 나타내고,
    - R4, R5, R6, R7, R8 및 R9는 상호 독립적으로 수소 또는 할로겐 원자, (C1-C6)알킬, (C1-C6)알콕시, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시, 시아노 또는 니트 로기 또는 S(O)nAlk기를 나타내되,
    단, R4와 R7이 동시에 4-메톡시기를 나타내는 경우, 치환체 R1, R3, R5, R6, R8 및 R9 중 하나는 수소가 아니다.
  15. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물, 또는 상기 화합물과 제약상 허용되는 산과의 부가염, 또는 화학식 I의 화합물의 수화물 또는 용매화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 약제.
  16. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물, 또는 상기 화합물의 제약상 허용되는 염, 수화물 또는 용매화물, 및 1종 이상의 제약상 허용되는 부형제를 포함하는 것을 특징으로 하는 제약 조성물.
  17. 식욕 장애, 대사 장애, 위장 장애, 염증 현상, 면역계 질환, 정신 장애, 알코올 의존 및 니코틴 의존의 치료 및 예방용 약제의 제조를 위한, 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 화학식 I의 화합물의 용도.
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