KR20070030921A

KR20070030921A - 포토마스크 주문을 자동으로 생성 및 처리하기 위한포괄적인 전단 방법 및 시스템

Info

Publication number: KR20070030921A
Application number: KR1020077001787A
Authority: KR
Inventors: 에드워드 제이. 수타일; 크리스토퍼 제이. 프로그레
Original assignee: 포트로닉스, 인크.
Priority date: 2004-06-25
Filing date: 2005-05-31
Publication date: 2007-03-16
Also published as: KR101151958B1; US20050278046A1; JP2008504570A; TW200615818A; US7356374B2; WO2006007258A3; WO2006007258A2

Abstract

본 발명은 포토마스크 주문을 자동으로 생성하고 처리하기 위한 포괄적인 전단 방법 및 시스템에 관한 것이다. 이 방법 및 시스템은 두개의 개별적이지만 관련된 소프트웨어 컴포넌트를 포함하고 있다. 본 발명의 제1 소프트웨어 컴포넌트는 포토마스크 주문을 특정 포맷으로 생성하는데 이용된다. 본 발명의 제2 소프트웨어 컴포넌트는 포토마스크 주문(제1 소프트웨어 컴포넌트에 의해 생성된 것)의 적어도 일부를 실질적 즉석-기입 가능 파일 및/또는 실질적 즉석-검사 가능 파일로 처리하며, 이 파일은 이후 포토마스크를 제조하기 위해 원격 포토마스크 제조업자의 시스템에 전송된다. 이들 소프트웨어 컴포넌트는 개별 프로그램으로서 컴퓨터 시스템에 설치될 수 있거나 아니면 다수의 펑션을 실행하는 단일 소프트웨어 패키지로서 동작한다.

포토마스크, 주문, 포맷, 소프트웨어, 룰-기반, 인터페이스

Description

포토마스크 주문을 자동으로 생성 및 처리하기 위한 포괄적인 전단 방법 및 시스템{COMPREHENSIVE FRONT END METHOD AND SYSTEM FOR AUTOMATICALLY GENERATING AND PROCESSING PHOTOMASK ORDERS}

관련 출원에 대한 상호 참조

이 특허 출원은 다음의 계류중인 특허 출원서의 일부계속출원이다: (1) 2002년 3월 24일자로 출원된 미합중국 특허 출원 번호 10/099,522(현재는 미합중국 특허 번호 6,760,640)의 계속출원으로서 2004년 5월 24일자로 출원된 발명의 명칭이 "포토마스크 처리를 위한 자동 제조 프로세스 및 방법"인 미합중국 특허 출원 번호 10/852,532; 및 (2) 2002년 7월 30일자로 출원된 미합중국 특허 출원 번호 10/209,254(현재는 미합중국 특허 번호 6,842,881)의 일부계속출원으로 2004년 5월 25일로 출원된 미합중국 특허 출원 번호 10/877,001의 일부계속출원으로 2004년 11월 3일자로 출원되었으며 발명의 명칭이 "포토마스크 주문을 자동으로 생성하기 위한 유저-친화형 룰-기반의 시스템 및 방법"인 미합중국 특허 출원 번호 10/981,201.

본 발명은 포토마스크 주문을 자동으로 생성 및 처리하기 위한 포괄적인 전단 방법 및 시스템(a comprehensive front-end method and system)에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 지정된 포맷으로 포토마스크 주문을 생성한 후에 이 포토마스크 주문을 포토마스크의 제조를 위해 원격 포토마스크 제조업자의 시스템에 전달되는 실질적 즉석-기입 가능 잡데크 파일(a substantially ready-to-write jobdeck file) 및 실질적 즉석-기입 가능 검사 파일(a substantially ready-to-write inspection file)로 처리하는 소프트웨어-기반의 어플리케이션에 관한 것이다.

포토마스크는 전자 회로의 마이크로스코픽 이미지를 포함하는 고정밀 플레이트이다. 포토마스크는 통상적으로 한면에 크롬층이 있는 매우 평평한 수정 또는 유리 조각으로 이루어진다. 전자 회로 디자인 부분의 크롬은 식각된다. 이 마스크 상의 이러한 회로 디자인은 또한 "기하도형적 배열"이라고도 불린다.

반도체 소자의 생산에 이용되는 통상적인 포토마스크는 "블랭크" 또는 "현상되지 않은" 포토마스크로 형성된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 통상적인 블랭크 포토마스크는(10)은 3 또는 4 층으로 구성된다. 제1 층(11)은 일반적으로 기판이라 불리는 수정층 또는 다른 거의 투명한 재료층이다. 다음 층은 통상 Cr과 같은 불투명 재료층(12)이며, 이는 종종 CrO와 같은 제3 반사방지 재료층(13)을 포함하고 있다. 이러한 반사방지층은 임의 주어진 포토마스크에 포함될 수 있거나 포함되지 않을 수도 있다. 상층은 통상 감광성 레지스트 재료층(14)이다. 위상 천이 마스크, 임베디드 감쇄형 위상 천이 마스크("EAPSM") 및 교차형 개구 위상 천이 마스크("AAPSM")를 포함하지만 이들에 한정되지 않는 다른 종류의 포토마스크도 알려져 있고 이용되고 있다. 이들 종류의 위상 천이 마스크는 불투명한 구역들과 부분적으로 투명한 구역들을 포함하며 이들 투명한 구역들을 통해서 광의 위상이, 예를 들어, 대략 180도 천이되는 디자인 특성을 특징으로 한다. 그러한 포토마스크의 예들은 포트로닉스 인크.의 미합중국 특허 번호 6,682,861, 미합중국 특허 공보 번호 2004-0185348 A1, 미합중국 특허 공보 번호 2005-0026053 및 미합중국 특허 공보 번호 2005-0053847에 설명되어 있으며, 이들의 내용은 여기에 참조로서 통합된다.

포토마스크를 제조하는 프로세스는 많은 단계를 포함하므로 시간이 많이 소모될 수 있다. 이에 관해서, 포토마스크를 제조하기 위해, 포토마스크(10) 상에 생성될 원하는 불투명 재료의 패턴(12)은 통상적으로 라스터 또는 벡터 방식으로 전자 빔(E-빔) 또는 레이저 빔을 블랭크 포토마스크를 가로질러 주사하는 노광 시스템에 로드된 전자 데이타 파일에 의해 정해진다. 그러한 라스터 주사 노광 시스템의 한 예는 Collier의 미합중국 특허 번호 3,900,737에 설명되어 있다. 각각의 고유한 노광 시스템은 블랭크 포토마스크를 노광하는데 있어서 장비에게 지시하기 위한 데이타를 처리하기 위한 그 자신의 소프트웨어 및 포맷을 갖고 있다. E-빔 또는 레이저 빔은 블랭크 포토마스트(10)를 가로질러 주사되므로, 노광 시스템은 E-빔 또는 레이저 빔을 전자 데이타 파일에 의해서 정해진 바와 같이 포토마스트 상의 어드레서블 위치들로 향하게 한다. E-빔 또는 레이저 빔에 의해 노광되는 감광성 레지스트 재료의 영역들은 용해되고 노광되지 않은 부분들은 용해되지 않고 그대로 유지된다.

E-빔 또는 레이저 빔이 블랭크 포토마스크(10) 상의 포토레지스트(14)를 노광해야하는 곳과 그렇지 않은 곳을 판정하기 위해서, 적절한 지시(instructions)가 잡데크(jobdeck) 형태로 처리 장비에 제공되어야할 필요가 있다. 잡데크를 생성하기 위해서 원하는 패턴의 이미지가 작은 표준화된 모양들, 예를 들어, 직사각형 및 사다리꼴로 해체(또는 프랙처링)된다. 프랙처링 프로세스(fracturing process)에는 시간 소모가 많을 수 있다. 프랙처링된 후에 이미지는, 예를 들어, 필요하다면 데이타를 사이징(sizing)하고, 필요하다면 데이타를 회전시키고, 기준 및 내부 조회 마크를 첨가하는 등에 의해서 더 수정되어야할 필요가 있을 수 있다. 통상적으로, 프랙처링를 실행하거나 잡데크를 생성하는데 전용 컴퓨터 시스템이 이용된다. 이후 잡데크 데이타는, 포토마스크를 노광하는데 필요한 지시가 처리 툴에 제공되도록 처리 툴들에 전달되어야만 한다.

노광 시스템이 원하는 이미지를 감광성 레지스트 재료(14)에 주사한 후에, 도 2에 도시된 바와 같이, 용해가능한 감광성 레지스트 재료는 이 기술분야에 알려져 있는 수단에 의해 제거되고, 노광되지 않은 즉 용해되지 않는 감광성 레지스트 재료(14')는 불투명 재료(13 및 12)에 부착된 상태를 유지한다. 그러므로, 포트마스크(10)에 형성되는 패턴은 잔류 감광성 레지스트 재료(14')에 의해 형성된다.

이 패턴은 잔류 포토레지스트(14')에 의해 덮여있지 않은 영역들에 있는 반사방지 재료(13) 및 불투명 재료(12)를 제거하는 공지된 식각 프로세스를 통해서 잔류 포토레지스트 재료(14')로부터 포트마스크(10)에 전사(轉寫)된다. 이 기술 분야에서는 건식 식각 및 습식 식각을 포함해서 아주 다양한 식각 프로세스가 있으므로 그러한 식각을 실행하는데 아주 다양한 설비가 이용된다. 식각이 완료된 후에, 잔류 포토레지스트 재료(14')는 벗겨지거나 제거되어 도 3에 도시된 바와 같이 포트마스크가 완성된다. 완성된 포토마스크에서, 잔류 반사방지 재료(13') 및 불투명 재료(12')에 의해 앞서 반영된 바와 같은 패턴은, 용해가능한 재료들이 이전 단계에서 제거된 후에 잔류 포토레지스트(14')가 남아있는 구역들에 위치한다.

특정 포토마스크에 임의 허용가능하지 않은 결함이 있는지 여부를 판정하기 위해, 포토마스크를 검사해야할 필요가 있다. 이는 바람직하지 않은 크롬 영역(크롬 스폿, 크롬 신장, 기하도형적 배열 간의 크롬 브릿지) 또는 원치 않는 클리어 영역(핀 홀, 클리어 신장, 클리어 파손)을 포함한다. 결함은 포토마스크로 이루어지는 회로가 기능하지 못하는 원인이된다. 포토마스크를 주문하는 엔티티는 그의 결함 명세에 프로세스에 영향을 주는 결함의 사이즈을 표기한다. 이 사이즈 및 이 보다 더 큰 사이즈의 모든 결함은 보수되어야만 하고, 이들이 보수될 수 없다면 마스크는 거절(reject)되거나 재기입 되어야만 한다.

통상적으로, KLA-Tencor 또는 Applied Materials가 제조한 것들과 같은 자동 마스크 검사 시스템이 결함을 검출하는데 이용된다. 그러한 자동 시스템은 조명 빔을 포토마스크로 보내서 포토마스크를 투과한 다음 반사된 광빔의 부분의 세기를 검출한다. 이후 검출된 광 세기는 예상 광 세기와 비교되고 임의 편차는 결함으로 표기된다. 한 시스템의 세부사항은 KLA-Tencor에 양도된 미합중국 특허 번호 5,563,702에서 볼 수 있다.

검사를 통과한 후에, 완성된 포토마스크의 오염이 세척된다. 다음에는, 포토마스크의 중요한 패턴 영역을 풍매(風媒)의 오염으로부터 보호하기 위해 펠리컬(pellicle)이 완성된 포토마스크에 적용될 수 있다. 다음에는 펠리컬 결함 검사 가 실행될 수 있다. 어떤 예에서는 펠리컬을 적용하기 전 또는 후에 포토마스크가 절단될 수 있다.

앞서 설명한 제조 단계들 각각을 실행하기 전에, 반도체 제조업자(예를 들어, 고객)는 먼저 제조될 포토마스크에 관한 다양한 종류의 데이타를 포토마스크 제조업자에게 제공해야만 한다. 이에 관련해서, 고객은 통상적으로, 예를 들어, 포토마스크의 디자인, 이용될 재료, 납품일자, 빌링 정보, 및 주문을 처리하고 포토마스크를 제조하는데 필요한 정보에 관한 데이타를 포함해서, 포토마스크를 제조하고 처리하는데 필요한 다양한 종류의 정보 및 데이타를 포함하고 있는 포토마스크 주문을 제공한다.

포토마스크를 제조하는데 있어서 오랜 지속적인 문제점은 고객으로부터 포토마스크 주문을 받은 때로부터 포토마스크를 제조하는데 소요되는 시간 량이다. 이에 관련해서, 포토마스크 주문을 처리하고 포토마스크를 제조하는데 소요되는 전체 시간이 길 수 있으므로, 포토마스크의 전체 산출고가 최대화되지 않는다. 이러한 문제의 일부는 포토마스크를 주문하는 많은 고객들이 종종 포토마스크 제조업자의 컴퓨터 시스템 및/또는 제조 설비와 호환되지 않는 다양한 서로 다른 포맷으로 그들의 주문을 내는 사실에 기인한다. 따라서, 포토마스크 제조업자는 종종 주문 데이타를 재포맷하고 이를 그의 컴퓨터 시스템 및/또는 제조 설비에 호환되는 다른 포맷으로 변환하거나 보충하는 것이 요구되며, 이는 상당히 많은 시간을 요구할 수 있으므로 포토마스크를 제조하는데 소요되는 시간이 지연된다.

이들 문제점들을 다루기 위한 시도로서, 포토마스크 산업계는 포토마스크를 주문하는데 이용되는 다양한 표준 포토마스크 주문 포맷을 개발해 왔다. 예를 들어, SEMI P-10 표준은 포토마스크 제조에 이용되는 하나의 표준 포맷이다. 부가적으로, 몇몇 반도체 제조업자는 표준 포맷을 채택하기 보다는 오히려 포토마스크 주문이 이루어지는 그들 자신의 전용 포토마스크 주문 포맷을 개발해 왔다. 이들 표준 및 전용 포토마스크 주문 포맷은, 포토마스크 주문이 고객들로부터 균일한 포맷으로 수신되어 포토마스크를 제조하는데 소요되는 전체 시간이 줄어들도록 생성되었다.

그러한 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷이 포토마스크를 제조하는데 소요되는 시간을 줄이는데 유용할지라도, 많은 반도체 제조업자들은 그러한 표준 및/또는 전용 포맷으로 그들의 포토마스크 주문을 하는 것을 다양한 이유로 꺼려왔다. 예를 들어, SEMI P-10 표준 주문 포맷은 아주 복잡해서 주문을 하는 고객이 그러한 표준에 관련된 필요조건에 대해 해박한 작업 지식을 갖고 있어야 한다는 것을 요구한다. 많은 반도체 제조업자들은 포토마스크를 제조하지 않기 때문에, 그러한 제조업자들은 그러한 복잡한 표준 포맷을 배우기 위한 자원(리소스), 시간 또는 능력을 갖고 있지 않을 수 있다. 그러므로, 반도체 제조업자들은 종종 체계적이지 않고 종종 불완전한 식으로 포토마스크 주문 데이타를 포토마스크 제조업자에게 제공한다. 그 결과, 포토마스크 제조업자는 이 데이타를 걸러서 유용한 포맷(예를 들어, SEMI P-10 포맷)으로 체계화시키는 것이 요구된다. 부가적으로, 불완전한 포토마스크 주문 데이타가 포토마스크 제조업자에게 제공되는 경우들에 있어서, 그러한 제조업자는 고객으로부터 빠진 정보를 요청하는 것이 요구될 것이다. 그 결과, 완전하고 정확한 포토마스크 주문을 얻는 프로세스에 상당한 량의 시간이 종종 소모된다. 그러므로, 포토마스크를 제조하는데 소요되는 전체 시간이 상당히 지연될 수 있다. 자동 시스템을 이용하여 이들 문제를 다루기 위한 다른 시도들이 있어 왔다. 그러나, 이전의 이들 시스템은 몇 몇의 단점을 갖고 있다.

예를 들어, 과거에, AlignRite Corporation(포토닉스, 인크.의 전신)은 인터넷 기반의 배송 시스템(an Internet based delivery system)을 이용하여 전자 데이타의 배송을 촉구하는 시도를 하였다. 그러나, 비록 AlignRite 시스템이 고객으로부터 포토마스크 제조업자의 컴퓨터 시스템으로 포토마스크 데이타의 급속 배송을 할 수 있고 이 데이타의 정확도를 실시간으로 확인할 수 있을지라도, 이러한 종래의 시스템은 단일 표준 및/또는 전용 포맷으로 포토마스크 주문 데이타의 자동 생성을 제공하지 못한다. 이에 관련해서, 고객으로부터 데이타가 일단 수신되면, 이 데이타에 대한 표준 수정도 또한 오퍼레이터가 수동으로 입력해야만 한다. 매뉴얼 변경이 입력될 때마다, 휴먼 에러의 리스크가 증가하고 잡의 전체 길이(범위)가 확대될 것이다.

이후로 인터넷 및 검증된 온-라인을 통해 제조 및 빌링 데이타가 자동으로 다운로드되는 다른 시스템들이 발표되었다. 그러한 한 시스템이 듀퐁 포토마스크 인크.의 2002년 1월 10일자 공개된 PCT 공개 번호 02/03141에 기술되어 있다. 이는 또한 미합중국 특허 번호 6,622,295의 주제이다. 특히, 듀퐁 PCT 공보는 포토마스크 주문 데이타가 고객으로부터 온라인으로 입력되어 처리를 위해 포토마스크 제조업자에게 전송되는 시스템을 기술하고 있다. 이 시스템에서, 고객은 포토마스 크 주문 데이타를 입력하도록 촉구(prompt:프롬프트)된다. 그러한 데이타는 포토마스크 제조업자에게 전송되고, 이 제조업자는 데이타의 진단 평가를 실행한다. 임의 데이타가 불완전하거나 정확하지 않으면, 이 시스템은 그러한 에러를 통보하는 메시지를 고객에게 전송한다. 이후, 유저는 이 에러를 교정해야만 한다. 제조업자가 데이타를 확인한 후(필요한 경우 교정한 후), 제조업자는 이 데이타를 처리하여 SEMI P-10 표준 포맷과 같은 표준(또는 전용) 포맷에 넣는다.

진단 목적에는 유용할지라도, 듀퐁 PCT 공보의 시스템은 매우 번거로우며 데이타를 입력하는 고객에 따라서 포토마스크 주문을 형식화하는데 있어 유저에게 매우 작은 융통성을 제공한다. 듀퐁 시스템은 포괄적인 정보의 입력에 기반한 고객 정보의 프로파일을 제공하지 않는다. 듀퐁 시스템의 다른 단점은 고객이 이 시스템을 이용할 때마다 주문에 관한 특정 정보를 재입력해야만 하고 이전 주문시에 입력한 정보를 이용할 수 없다는 것이다. 그러므로, 포토마스크 주문을 생성하는데 듀퐁 시스템을 이용하면 시간 소모가 따른다.

종래의 기술에서는, 포토마스크 주문이 고객으로부터 수신되어 적절한 포맷에 입력되면, 포토마스크가 관련 제조 장비에 의해 엔터되어 관련 제조 장비에 의해 검사될 수 있도록 주문을 처리하는 것이 여전히 필요하다. 통상적인 포토마스크에 있어서, 완성된 포토마스크를 형성하는데 필요한 생산 프로세스, 많은 단계들은 수동으로 또는 개별적으로 실행된다. 그 결과, 이들 단계들을 실행하는 종래의 공지된 방법 및 시스템은 효과적이지 않으며 시간 소모적이며 많은 휴먼 에러에 노출된다.

특히, 일단 제조업자가 고객의 포토마스크 주문을 수신하면, 오퍼레이터는 수신된 정보를 통해서 분류하고 이를 정보가 제공되는 적절한 처리국 또는 부서에 포워드하는 것이 요구된다. 예를 들어, 빌링 정보는 빌링 부서에 포워드되어야 하고, 프랙처링를 실행하는데 필요한 패턴 데이타는 프랙처링 컴퓨터에 제공되어야 하고, 잔류 잡데크 정보는 적절한 처리국에 포워드되어야 한다. 또한, 정보가 제조업자 컴퓨터가 제공하는 것과 다른 포맷으로 제공되면, 이 사실을 수동으로 확인한 후, 이 파일을 적절한 포맷으로 변환해야만 한다. 포토마스크 제조업자가 생산시에 포토마스크의 진행 프로세스를 추적하기를 원하는 경우에, 개별적으로 각 국을 접촉해서 오퍼레이터로부터 이 상태를 확인하는 것이 필요하였다. 반도체 제조업자가 다수의 다양한 머신이 이용하는 동일한 패턴을 필요로하는 만큼, 오퍼페이터는 적절한 수정을 기하기 위하여 프랙처링 컴퓨터를 수동으로 프로그래밍하는 것이 요구된다. 유사하게, 특정한 고객의 지정 포맷은 이용되고 있는 포토마스크 제조 프로세스들 때문에 수정되어야 할 필요가 있는 만큼, 이전에는 프랙처링 컴퓨터에 입력된 이들 종류의 데이타 수정이 오퍼레이터에 의해 수동으로 입력되어야 했었다. 종래 기술의 시스템은 이들 변수를 자동으로 맡아서 처리하는 방식을 제공하지 못하고 있다.

포토마스크 생산 산업계에서 여러해에 걸친 과제는 고객 주문의 수령으로부터 처리된 포토마스크의 형성 및 배송까지 소요되는 시간을 어떻게 줄여야 하는 가이다. 이러한 프로세스를 촉진하기 위해 과거에 이용된 몇몇 방식들은, 수년간 걸처서 수정 및 갱신된 SEMI P10 표준과 같은 산업 표준을 창출해왔다. 이들 표준은 포토마스크 제조업자에게 데이타가 전자적으로 제공되야만 하는 형식을 취하고 있다. 그러한 표준들이 도움이 되기는 하지만, 이들은 그들 자체로는 포토마스크의 제조에 필요한 정보 처리의 솔기없는 자동을 성취하지 못했다.

앞서 설명한 제조 단계들이 완료된 후에, 완성된 포토마스크는 반도체 및 다른 상품 제조에 이용될 수 있게 고객에게 전달된다. 특히, 포토마스크는 일반적으로 반도체 산업계에서 실리콘 또는 갈륨 아세나이드 기판 또는 웨이퍼에 반도체 회로를 정의하는 마이크로-스케일 이미지를 전사하는데 이용된다. 이미지를 포토마스크로부터 실리콘 기판 또는 웨이퍼에 전사하기 위한 프로세스는 일반적으로 리소그래피 또는 마이크로리소그래피라고 칭하고 있다. 통상적으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 반도체 제조 프로세스는 증착, 포토리소그래피 및 식각 단계를 포함한다. 증착 동안, 전기적 절연 또는 전기적 도전 재료(금속, 폴리실리콘 또는 산화물과 같은)층이 실리콘 웨이퍼의 표면 상에 증착된다. 이 재료는 이후 감광성 레지스트로 코팅된다. 이후 포토마스크는 포토그래프를 만드는데 포토그래픽 네가티브가 이용되는 방식과 동일한 식으로 이용된다. 포토리소그래피는 포토마스크 상의 이미지를 웨이퍼에 투영하는 것을 포함한다. 포토마스크 상의 이미지가 웨이퍼에 사이드-바이-사이드(side by side)로 수회 투영되는데, 이는 스테핑이라 알려져 있으며 포토마스크는 레티클(reticle)이라 불린다.

도 5에 도시된 바와 같이, 반도체 웨이퍼(20)에 이미지(21)를 생성하기 위해서, 포토마스크(10)는 감광성 재료층을 포함하는 반도체 웨이퍼(20)와 광학 시스템(22) 사이에 배치된다. 일반적으로 스테퍼라 불리는 에너지원(23)에 의해 생성 된 에너지는 불투명 재료가 존재하는 포토마스크(10)의 영역들을 통과하지 못한다. 스테퍼(23)로부터의 에너지는 불투명 재료(12) 및 반사방지 재료(13)가 덮여있지 않는 수정 기판(11)의 투명 부분들을 통과한다. 광학 시스템(22)은 불투명 재료(12 및 13)로 이루어진 패턴의 스케일된 이미지(24)를 반도체 웨이퍼(20)에 투영하여 반도체 웨이퍼(20) 상의 감광성 재료에서 반응을 일으킨다. 감광성 재료의 용해도는 에너지에 노출된 영역들에서 바뀐다. 포지티브 포토리소그래픽 프로세스의 경우에, 노광된 감광성 재료는 용해되어 제거될 수 있다. 네가티브 포토리소그래픽 프로세스의 경우에는, 노광된 감광성 재료는 용해되고 않고, 노광되지 않은 용해가능 감광성 재료는 제거된다.

용해가능한 감광성 재료가 제거된 후에, 불용해 감광성 재료에 형성된 이미지 또는 패턴은 식각이라 불리는 이 기술 분야에 공지된 프로세스에 의해서 기판에 전사된다. 기판 재료 상의 패턴이 식각되면 잔류 레지스트를 제거한다. 그 결과 최종 프로덕트가 탄생한다. 재료 및 레지스트의 새로운 층이 이후 웨이퍼에 증착되고 나서, 다음 포토마스크 상의 이미지가 웨이퍼에 투영된다. 다시 웨이퍼는 현상되고 식각된다. 이 프로세스는 회로가 완성될 때까지 반복된다. 통상의 반도체 소자에 있어서 많은 층들이 증착될 수 있기 때문에, 단일 반도체 소자의 제조에도 많은 다양한 포토마스크가 필요하다. 실제로, 반도체 제조업자가 반도체 소자를 제조하는데 하나 이상의 장비를 이용하면, 각 층마다 하나 이상의 포토마스크가 필요할 수 있을 것이다. 또한, 서로 다른 생산 라인에서 포토레지스트를 노광하는 서로 다른 종류의 장비가 이용될 수 있기 때문에, 다수의 동일한 포토마스크 패턴 은 반도체 제조 장비의 차이 때문에 사이징, 오리엔테이션, 스케일링 및 다른 속성에 있어 부가적인 변동을 필요로 할 수 있다. 포토마스크 제조업자의 리소그래피 장비의 차이 때문에 유사한 조정이 필요할 수도 있다. 이들 차이는 포토마스크 제조 프로세스에서 고려되어야 한다.

발명의 개요

종래의 기술이 중요하지만 종래 기술의 공지된 방법 및 장치는 본 발명이 극복하고자 추구하는 몇 몇 한계를 나타내고 있다.

특히, 본 발명의 목적은 포토마스크 주문을 생성하고 처리하기 위한 포괄적인 전단 방법 및 시스템을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문을 하나 이상의 표준 및/또는 전용 포맷으로 자동으로 생성하기 위한 룰-기반의 시스템 및 방법을 제공하는 것이다. 여기서, 룰들은 공지되어 있지 않지만 이후 개발되는 임의 다수의 다른 표준 및/또는 전용 포맷에 부합되도록 개정 또는 수정될 수 있다.

본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문을 하나 이상의 표준 및/또는 전용 포맷으로 자동으로 생성하기 위한 것으로, 유저가 포토마스크 주문을 위해 표준 및/또는 전용 포맷에 관련된 한 세트의 룰을 따르도록 요구하는 룰-기반의 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문을 하나 이상의 표준 및/또는 전용 포맷으로 자동으로 생성하기 위한 것으로, 포토마스크 데이타를 포함하고 있는 기존의 주문(들) 및/또는 템플릿들을 단일의 새로운 주문에 합체함으로써 하나의 주 문이 생성되는 룰-기반의 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 포토마스크 주문 및 데이타 엔트리 횟수를 줄이기 위한 룰-기반의 포토마스크 주문 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 제조되는 포토마스크의 전체 출력을 증가시키기 위한 룰-기반의 포토마스크 주문 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은 포토마스크 주문의 수동 엔트리에 관련된 필사 에러를 줄이기 위한 룰-기반의 포토마스크 주문 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 포토마스크의 제조를 위한 포토마스크 주문 데이타의 전송 및 처리에 있어 수동 개재를 제거하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 포토마스크 제조업자가 전단 포토마스크 프로세서로부터 필요한 처리 정보를 수신한 때로부터 완료된 포토마스크를 전단 포토마스크 프로세서에게 전달하는데 걸리는 시간까지 소요되는 리드 시간 및 전체 처리 시간을 줄이는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 제조를 위해 포토마스크 데이타가 처리되어 전송되는 정확성 및 효율성을 향상시키는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 종래 기술의 단점을 해결하는 것이다.

다른 목적들은 이전의 설명으로부터 알 수 있을 것이다.

이제 본 발명의 상기 및 관련된 목적은 포토마스크 주문의 적어도 일부를 실질적 즉석-기입 가능 포맷 및 실질적 즉석-검사 가능 포맷으로 자동으로 생성하고 처리하는 전단 방법 및 시스템의 형태로 성취할 수 있다는 것을 알게되었다.

특히, 본 발명은 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 방법에 관한 것이다. 이 방법은 다음의 단계들을 포함하고 있다: 전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계; 디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내에 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개(process movement)를 용이하게 하기 위해 디자인 데이타를 사이징하는 단계; 적어도 디자인 데이타의 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝(조절)하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계.

유사하게, 본 발명은 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 방법에 관한 것이다. 이 방법은 전자 회로 디자인 데이 타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계; 디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하는 단계; 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계를 포함한다.

또한, 본 발명은 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하며, 지시들을 포함하고 있는 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이들 지시는 다음의 단계들을 수행할 수 있는 프로세서에 의해 실행된다: 전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계; 디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내의 실질적으로 투 명하고 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 디자인 데이타를 사이징하는 단계; 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계.

더구나, 본 발명은 실질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이 시스템은 마스크 데이타를 처리하기 위한 메모리, 제1 소프트웨어 컴포넌트 및 제2 소프트웨어 컴포넌트를 포함하는 적어도 하나의 서버를 포함하며, 여기서, 상기 마스크 디자인에 관한 상기 데이타는 상기 메모리에 저장되며, 제1 소프트웨어 컴포넌트는 디자인 데이타에 따라서 이루어지는 포토마스크 주문을 처리하기 위한 필요조건 데이타의 유저의 엔트리를 관리하는 지시를 포함하며, 제2 소프트웨어 컴포넌트는 마스크 패턴 데이타 및 필요조건 데이타를 제조에 적합한 포맷으로 파싱하기 위한 지시를 포함하며, 상기 제2 소프트웨어 컴포넌트는 다음의 타스크: (i) 포토마스크 내에 실 질적으로 투명하고 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 디자인 데이타를 사이징하고; (ii) 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하고; (iii) 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하고; (iv) 다음의 데이타 종류: (a) 엔터된 디자인 데이타; (b) 사이징된 디자인 데이타; (c) 프랙처링된 데이타; 및 (d) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하고; 그리고 (v) 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 것을 실행하기 위한 지시를 포함하며; 그리고 상기 시스템은 또한 컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하기 위한 회로를 포함한다.

또한, 본 발명은 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하며, 지시들을 포함하고 있는 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이들 지시는 다음의 단계들을 실행할 수 있는 프로세서로 실행된다: 전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터링하는 단계; 디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계; 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하는 단계; 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질 적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계; 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계; 다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계; 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및 컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계.

본 발명은 또한 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 자동 시스템에 관한 것이다. 이 시스템은 마스크 데이타를 처리하기 위한 메모리, 제1 소프트웨어 컴포넌트 및 제2 소프트웨어 컴포넌트를 포함하는 적어도 하나의 서버를 포함하며, 상기 마스크 디자인에 관한 상기 데이타는 상기 메모리에 저장되며, 제1 소프트웨어 컴포넌트는 디자인 데이타에 따라서 이루어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건 데이타의 유저 입력을 관리하는 지시를 포함하며, 제2 소프트웨어 컴포넌트는 마스크 패턴 데이타 및 필요조건 데이타를 제조에 적합한 포맷으로 파싱하기 위한 지시를 포함하며, 상기 제2 소프트웨어 컴포넌트는 다음의 타스크: (i) 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하고; (ii) 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실 질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하고; (iii) 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하고; (iv) 다음의 데이타 종류: (a) 엔터된 디자인 데이타; (b) 사이징된 디자인 데이타; (c) 프랙처링된 데이타; 및 (d) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하고; 그리고 (v) 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 것을 실행하기 위한 지시를 포함하며; 그리고 이 시스템은 또한 컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하기 위한 회로를 포함한다.

본 발명의 상기 및 관련 목적, 특징 및 장점들은 첨부 도면과 관련해서 본 발명의 예시적이지만 양호한 실시예에 대한 다음의 상세한 설명을 참조하면 보다 완전하게 이해될 것이다.

도 1은 종래 기술의 블랭크 또는 현상되지 않은 포토마스크를 도시하고 있다.

도 2는 부분적으로 처리된 후의 도 1의 포토마스크를 도시하고 있다.

도 3은 완전히 처리된 후의 도 1 및 도 2의 포토마스크를 도시하고 있다.

도 4는 반도체 웨이퍼를 가공 또는 처리하기 위해 처리된 포토마스크를 이용하는 방법을 보여주는 흐름도이다.

도 5는 웨이퍼 스테퍼를 이용하여 반도체를 만드는 프로세스를 도시하고 있다.

도 6은 본 발명에 따른 포토마스크 주문을 생성하여 처리하기 위한 전반적인 프로세스를 도시하고 있다.

도 7은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 주문 생성 시스템을 도시하고 있다.

도 8은 유저가 지정된 데이타를 입력하도록 안내하는데 본 발명에서 이용된 그래픽 유저 인터페이스의 한 예를 도시하고 있다.

도 9는 본 발명의 자동 제조의 구성을 보여주는 블록도이다.

도 10은 본 발명의 처리 서버에서 실행되는 데이타 어레이의 스크린 샷이다.

도 11은 본 발명의 처리 서버에서 실행되는 도 10의 데이타 어레이에 하이퍼링크된 서브-데이타 어레이의 스크린 샷이다.

도 12는 도 9에 도시된 본 발명의 대안적인 다-설비 구성을 보여주는 블록도이다.

본 발명은 포토마스크 주문을 자동으로 생성하고 처리하는 포괄적인 전단 방법 및 시스템에 관한 것이다. 이 방법 및 시스템은 두 개의 개별적이만 관련된 소프트웨어 컴포넌트를 포함하고 있다. 본 발명의 제1 소프트웨어 컴포넌트는 포토마스크 주문을 지정 포맷으로 생성하는데 이용된다. 본 발명의 제2 소프트웨어 컴포넌트는 포토마스크 주문의 적어도 일부를 처리한다(이 포토마스크 주문은 제1 소프트웨어 컴포넌트를 이용하거나 아니면 실질적 즉석-기입 가능 잡데크 파일 및/또는 실질적 즉석-기입 가능 검사 파일을 이용해서 생성되었고, 이 주문은 포토마스 크를 제조하기 위해 원격지의 포토마스크 제조업자의 시스템에 전달된다.) 이들 소프트웨어 컴포넌트는 컴퓨터 시스템에 개별적인 프로그램들로서 설치될 수 있지만 다기능을 실행하는 싱글 소프트웨어 패키지로서 동작한다. 본 발명의 시스템 및 방법의 전반적인 처리 흐름은 도 6을 참조로 설명되며 이 시스템 및 방법에 대한 자세한 사항은 도 7-12를 참조로 설명될 것이다.

도 6을 참조해 보면, 포토마스크 디자인 데이타 및 제조 프로세스 필요조건 데이타는 포토마스크를 주문하길 원하는 엔티티(예를 들어 반도체 디자이너의 컴퓨터 시스템)로 부터 얻은다. 전형적인 반도체 디자이너의 컴퓨터 시스템은 전단 프로세서의 컴퓨터 네크워크의 일부이거나 이 네트워크와는 별도일 수 있다. 이 시스템이 원격으로 연결되면, 몇 몇을 열거해보면, FTP 접속, 보안 인터넷 접속, 데이타 서비스 네트워크(이하 설명되는 바와 같음) 또는 다른 공지의 또는 미래 개발될 기술을 통해서 접속될 수 있다. 본 발명의 소프트웨어의 제1 컴포넌트는 포토마스크 주문 프로세서의 컴퓨터 시스템에 설치되어 제조 프로세스 필요조건 데이타를 지정된 포맷(예를 들어, SEMI P-10)으로 입력하고 조절하는데 이용된다. 양호한 실시예에서, 본 발명의 소프트웨어의 제2 컴포넌트도 또한 제1 소프트웨어 컴포넌트의 경우와 같이 동일한 시스템에 설치된다. 대안으로, 제2 소프트웨어 컴포넌트는, 예를 들어, 이하 설명되는 바와 같이 네트워크 접속, 데이타 서비스 네트워크를 통해서 제1 컴퓨터 시스템으로서의 제1 컴포넌트와 통신할 수 있는 별개의 컴퓨터 시스템에 설치될 수도 있다.

본 발명의 제2 소프트웨어 컴포넌트는 전자 파일로서 시스템에 이미 엔터된 포토마스크 디자인 데이타를 수신한다. 이후, 제2 소프트웨어 컴포넌트는 수신된 디자인 데이타 및 필요조건 데이타를 처리한다. 이에 관련해서, 제2 소프트웨어 컴포넌트는: (1) 이진 포토마스크 디자인을 위한 디자인 데이타를 사이징하거나 위상 천이 마스크 디자인을 위한 디자인 데이타에 대해 광근접보정을 실행하고; (2) 디자인 데이타를 프랙처링하고; (3) 프랙처링된 데이타의 무결성을 검증하고; (4) 디자인 데이타 필요조건 데이타의 처리 동안 생성된 데이타 세트를 합체(merge)하고; 및 (5) 합체된 데이타 세트를 실질적 즉석-검사 가능 및/또는 즉석-기입 가능 데이타 파일로 컨디션닝(conditioning)한다. 일단 이들 단계들이 완료되면, 컨디셔닝된 데이타는 전자 신호(예를 들어, 이메일)에 의해서 처리를 위한 포토마스크 제조업자에게 전송된다. 한 실시예에서, 이들 단계의 완료 전에, 포토마스크 주문이 엔터되고 있음을 알려주며 포토마스크를 제조하는데 이용되는 제조 설비 및 관련 장비에 관한 제조업자 정보를 요청하는 전자 신호(예를 들어, 이메일)가 제조업자에게 전송된다. 다음에는 제조업자가 이러한 정보를 제공하는 전자 신호를 포토마스크 프로세서의 시스템에게 전송한다. 이 정보는 제조를 위한 데이타를 최종 승인 한 것으로 간주될 것이다. 양호한 실시예에서, 상기 단계들이 도 6에 도시된 순서로 실행될지라도, 본 발명과 첨부된 특허청구범위는 이들 단계의 순서에 제한되지 않으며, 이들 순서는 특정 주문 및 제조 프로세스의 필요에 부합되게 수정될 수 있다.

본 발명의 소프트웨어 컴포넌트와 관련 방법을 설명하기 전에, 먼저 포토마스크 주문을 생성하고 이 주문에 따라서 포토마스크를 제조하는데 필요한 정보의 종류를 기술하는 것이 필요하다. 특히, 여기서 설명되는 바와 같이, 포토마스크는 통상 반도체 및 다른 소자를 제조하는데 요구된다. 흔히 있는 일이지만, 포토마스크를 제조하기 전에, 포토마스크를 원하는 엔티티는 먼저 제조될 포토마스크를 디자인해야만 한다. 그렇게 하기 위해, 이 엔티티는 포토마스크 제조업자에게 제공되는 어떤 정해진 데이타 및 명세서를 개발한다. 특히, 이 엔티티는 그의 컴퓨터로: (1) 패턴 데이타; 및 (2) 특정의 잡에 관한 다른 특정의 필요조건을 생성하며, 이들은 종종 SEMI P-10 형식과 같은 산업계 표준 포맷으로 제공되지만 다른 커스톰 포맷으로 제공될 수도 있다.

패턴 데이타는 통상적으로 도면 형태로 생성되며 통상적으로 포토마스크에 포함되는 다양한 모양 및 선들을 보여준다. 그러나 패턴 데이타는 반드시 스케일될 필요는 없다. 다른 말로, 패턴 데이타는, 몇 몇을 언급하자면, 패턴의 크리티컬 디멘젼, 패턴의 여러 구역에 이용되는 컬러의 색조, 레지스트레이션 정보, 마스크 패턴의 실제 배치, 노광 정보, 검사 정보를 포함하는(이들에 한정되는 것은 아님) 패턴 데이타에 대응하는 필요한 명세를 반드시 포함하는 것은 아니다. 오히려, 패턴 데이타는 단지 포토마스크 상의 식각되는 패턴의 전체 모양을 보여준다. 이 패턴 데이타는 파싱(parsing)될 수 있는 임의 전자 포맷으로 제공될 수 있다.

따라서, 패널 데이타를 제공하는 것 외에도, 포토마스크를 원하는 엔티티는 또한 처리 단계를 실행하기 위해서 부가의 필요한 정보를 통상적으로 SEMI P-10 형식으로 제조업자에게 제공한다. SEMI P-10은 포토마스크 제조업자가 포토마스크 주문의 자동 처리를 할 수 있도록 소프트웨어 시스템들 간의 포토마스크 주문 데이 타 전송이 용이하도록 하기 위한 데이타 구조 명세서이다. 수 년간 개정되어온 SEMI P-10 형식은, 몇 몇을 열거해 보면, 예를 들어, 고객 정보, 크리티컬 디멘젼 정보, 톤(tone) 정보, 레지스트레이션 정보, 빌링 정보, 개별적으로 제공되는 패턴 정보을 위한 포맷 코드, 완료된 포토마스크에 대한 디멘젼 및 스케일 팩터, 프랙처링 스케일, 기판 및 펠리컬 종류와 같은 정보를 포함한다. SEMI-P10-0301과 그의 전신들은 고객으로부터 포토마스크 제조업자로의 데이타 전송에 포함될 수 있는 정보의 종류를 확인하는 예로서 본 명세서에 참조로서 통합된다. 용이한 참조를 위해, 전자적으로 제공되는 패턴없는 정보는 여기서 포토마스크 주문이라 칭한다. 그러나, 본 발명이 SEMI P-10 표준의 현재 버젼에 제한되지 않으며 그러한 표준에서 미래의 변화에 부응하도록 용이하게 수정될 수 있다는 것은 주지해야 한다. 더구나, 본 발명은 표준 포맷에 제한되는 것이 아니며, 용이한 참조를 위해 포토마스크 주문이라 불리는 고객 포맷에도 적용될 수도 있다. 본 발명에 따르면, 제1 소프트웨어 컴포넌트와 관련 방법들은 특정의 포맷으로 주문을 생성하기 위해 유저에게 주문 엔트리 프로세스를 안내하는데 이용된다.

특히, 본 발명에 따르면, 포토마스크 주문을 지정된 포맷으로 자동으로 생성하는 컴퓨터화된 룰-기반의 시스템 및 방법이 제공되며, 여기서 포토마스크 제조를 원하는 엔티티(이후에는 "전단 포토마스크 프로세서"라 칭한다)는, 데이타가 완전하고 정확하며 지정된 주문 포맷의 필요조건에 부합되도록, 포토마스크를 제조하는데 요구되는 주문 데이타를 엔터하는 프로세스를 통해서 안내된다. 전단 포토마스크 프로세서의 예를은, 몇 몇을 열거하자면, 포토마스크 디자이너, 반도체 제조업 자, 포토마스크 제조업자의 고객(이들에 제한되지 않음)을 포함한다.

이들 펑션을 실행하기 위해, 시스템 및 방법은 먼저 포토마스크 주문을 원하는 포맷으로 생성하기 위해 다음의 다섯개의 서브-컴포넌트중 하나 이상의 조합을 포함하는 소프트웨어 컴포넌트를 이용한다: (1) 데이타가 엔터되는 템플릿; (2) 템플릿에 엔터된 데이타를 지정된 표준 및/또는 전용 포맷으로 변환하기 위한 룰; (3) 포토마스크 주문을 지정된 포맷으로 생성하기 위해 템플릿을 이용하는 방법; (4) 지정된 표준 포맷에 대비해서 포토마스크 주문을 확인하기 위한 별도의 룰 세트; 및 (5) 포토마스크 템플릿 또는 주문에 연관된 하나 이상의 유일한 속성 오브젝트이며 템플릿 또는 주문에 의해 참조될 수 있는 명세 그레이드(specification grades).

전단 포토마스크 프로세서가 완전하고 정확한 포토마스크 주문 정보를 엔터하는 것을 공고히 하기 위해 특정 템플릿을 특정 룰에 연관시키기 위한 스프트웨어가 본 발명의 시스템에서 구현된다. 마찬가지로, 전단 포토마스크 프로세서가 완전하고 정확한 포토마스크 주문 정보를 엔터하는 것을 공고히 하기 위해 특정 포토마스크 주문을 특정 룰에 연관시키기 위한 스프트웨어가 본 발명의 시스템에서 구현된다. 명세 그레이드는 참조 데이타로서 처리될 수 있으며 템플릿, 주문, 또는 주문을 생성하는데 이용되는 템플릿에 적용될 수도 있다. 템플릿 및 주문이 참조 데이타로서 명세 그레이드를 포함하게 함으로써, 단지 작은 수의 명세 그레이드만을 단순히 교정하여 다수의 템플릿 및/또는 주문들을 용이하게 갱신할 수 있다.

이러한 소프트웨어를 설명하기 전에, 먼저 템플릿, 주문 및 룰들이 저장되고 체계화되는 방식을 설명하는 것이 필요하다. 특히, 이 시스템은 적어도 하나의 프로세서를 포함하는 서버와 이 서버에 저장되는 외부 데이타 저장 매체를 포함한다. 포토마스크 주문의 엔트리를 용이하게 하고 주문을 생성하기 위한 룰 및 테플릿은 외부 저장 매체에 저장된다. 외부 데이타 저장 매체는 다음 것들에 제한 됨이 없이 관계 자료틀 데이타베이스, 오브젝트-지향 클래스, XML 파일 및 지금 공지되어 있으나 이후 개발될 수 있는 다른 유사한 저장 매체를 포함해서 다양한 종류의 저장 매체일 수 있다. 이 시스템 외부에 오브젝트 저장 매체를 유지하고 본 발명의 시스템 및 방법이 이용할 수 있는 저장 매체의 종류에 유연성을 제공함으로써, 다양한 유저 및 자동 시스템이 다양한 플랫폼에서 동적으로 이 시스템을 운영할 수 있다.

양호한 실시예에서, 한 세트의 템플릿 및 주문은 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷의 필요조건에 기반해서 생성된다. 이에 관련해서, 템플릿 및 주문들은 컴포넌트 및 서브컴포넌트의 계층으로 체계화되고, 여기서, 각 컴포넌트 및 서브컴포넌트는 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷의 필요조건에 의해 정의된다. 예를 들어, 특정의 포토마스크 주문 포맷은 마스크 데이타 컴포넌트가, 몇 몇을 열거하자면, 타이틀, 바코드 및 패턴 데이타와 같은 어떤 서브컴포넌트를 포함하는 것을 필요로 할 수 있다. 이들 서브컴포넌트의 각각은 세부 서브컴포넌트("자 컴포넌트(child component))를 더 가질 수도 있다. 예를 들어, 마스크 데이타 컴포넌트인 패턴 데이타 컴포넌트는 이에 관련된 한 세트의 자 컴포넌트를 가질 수 있다. 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷의 필요조건에 따 라서, 이들 자 컴포넌트는 부가의 서브컴포넌트를 가질 수 있으며, 이들은 또한 그 자신의 서브컴포넌트 등을 가질 수 있다.

컴포넌트들 및 이들에 관련된 서브컴포넌트 각각은 한 세트의 속성(예를 들어, 이진, 스트링, 정수, 실수, 데이트, 불린, 리스트 등)에 의해 정의된다. 템플릿들이 포토마스크 주문을 생성하는데 이용되기 때문에, 임의 소정의 템플릿에 관련된 룰들(이하 좀더 상세히 논의됨)은 템플릿으로부터 생성되는 포토마스크 주문에 관련된 서브세트의 룰들이다. 본 발명에 있어서, 템플릿, 주문, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등은 각각 개별적으로 저장될 수 있다. 이는 유저가 템플릿으로부터 특정의 컴포넌트 및 서브컴포넌트를 남겨두고 이들 개별적으로 저장된 컴포넌트 또는 서브컴포넌트가 명세 그레이드로서 템플릿에 의해 참조될 수 있게 해준다. 주어진 템플릿으로부터 생성된 새로운 주문이 이들의 컴포넌트 또는 서브컴포넌트에서 변경을 요하는 경우에, 템플릿에 대한 변경을 함이 없이 개별적으로 저장된 명세 그레이드에 대한 변경을 하는 것만이 필요하다.

표 1은 템플릿 및 주문의 컴포넌트 및 서브컴포넌트가 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷에 따라서 체계화되는 방법의 예를 설명하고 있다:

표 1

주문
	제공된 패턴 데이타
	패턴 그룹
		패턴 배치
	마스크 데이타
		타이틀
		바코드
		OPC 정의
		어레이 레지스트레이션
		측정 파일 레지스트레이션
		다이-투-데이타 검사
		다이-투-다이 검사
		표면 정의
		비쥬얼 검사
		패턴
			크리티컬 디멘젼
			다이-투-다이 검사
			다이-투-데이타검사
		필드
			패턴
				크리티컬 디멘젼
				다이-투-다이 검사
				다이-투-데이타 검사

표 1에서, 제1(최좌측) 열의 엔트리는 제2 열(자)에 있는 엔트리의 모(parent)이고, 제2 열에 있는 엔트리는 제3 열에 있는 엔트리의 모이다. 이하도 마찬가지이다. 대안적으로, 표 1에서 임의 인접한 두 열은 컴포넌트(죄측 열) 및 서브컴포넌트(우측 열)를 정의할 수 있다. 표 1에 설명한 바와 같이, 동일한 컴포넌트는 다른 컴포넌트에 대한 서브컴포넌트로서 나타날 수 있다. 예를 들어, 크리티컬 디멘젼 데이타는 표 1의 열 4 및 열 5에서 패턴 데이타에 대한 서브컴포넌트로서 나타난다. 그러한 각각의 컴포넌트 및 이에 관련된 서브컴포넌트는 서로 분리 저장될 수 있고 또한 주문 또는 템플릿과 분리해서 저장될 수 있기 때문에, 이 들 중 임의 것은 주문의 한 부분으로부터 동일한 주문 또는 다른 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등의 다른 부분까지 카피될 수 있다. 컴포넌트 및 서브컴포넌트를 카피해서 붙이는데 있어서의 이러한 유연성은 유저가 동일한 주문 정보를 재입력할 필요없이 많은 포토마스크 주문을 신속하게 생성할 수 있게 해준다.

템플릿과 주문들은 그리픽 유저 인터페이스를 이용하여 수동으로 생성될 수 있다. 템플릿 및 주문들은 또한 포맷되지 않은 텍스트 파일, XML 파일, 또는 어떤 종류의 데이타 저장 소자 또는 메카니즘(이들에 제한되는 것은 아님)을 포함하는 다른 외부의 매체로부터의 정보를 이용해서 자동으로 생성 또는 수정될 수 있다. 예를 들어, 전단 포토마스크 프로세서의 컴퓨터는 새로운 템플릿 또는 주문을 생성하거나 기존 템플릿 또는 주문에 빠진 정보를 제공하는데 유용한 파일, 데이타베이스 또는 다른 전자 정보를 포함할 수 있다. 데이타-처리 메카니즘은 필요한 정보를 이들 외부 매체로부터 새로운 또는 기존의 템플릿 또는 주문으로 가져오는데 이용될 수 있다. 예를 들어, 트랜스레이션 및 매핑 소프트웨어(translation and mapping software)는 전단 포토마스크 프로세서의 파일 또는 데이타베이스를 어플리케이션에 필요한 포맷으로 변환하는데 이용될 수 있다. 시중에서 구입할 수 있는 그러한 소프트웨어의 예는 수백개의 어플리케이션 및 구조화된 데이타 포맷들 간의 데이타를 신속하게 통합해서 변환하는 데이타 졍션, 비쥬얼 디자인 툴이다. 그러나, 임의 적절한 시판용 이거나 전용 트랜스레이션 또는 매핑 소프트웨어는 이러한 타스크를 성취하는데 이용될 수 있다. 외부 정보는 국부적으로 주문 처리 시스템을 통해서, 또는 광대역 네크워트 또는 로컬 영역 네트워크 또는 인터넷 등과 같은 기존의 네트워크 접속을 통해서 템플릿 또는 주문으로 옮겨질 수 있다. 이들은 또한 FTP 프로토콜, http, 전용 프로토콜, 또는 정보를 전송하는데 이용가능한 임의 다른 공지된 포로토콜과 같은 다른 공지된 기술에 의해서도 가능할 수 있다. GUI가 이용될 때, GUI는 유저가 열거된 데이타를 명확하게 입력하라고 유저에게 트롬프트한다. 도 8은 포토마스크 주문 생성 시스템에 의해 이용될 수 있는 적형적인 GUI이다. 이 예에서, 도 8에 도시된 GUI는 주문하고자 하는 마스크에 관한 기술적인 정보를 입력하라고 유저에게 프롬프트한다. 이 예에서, 몇개를 열거해 보면, 마스크 이름, 상황, 프로덕트 종류를 포함하는 정보가 엔터된다. 어떤 예에서는 마스크 이름과 같이 이 정보가 직접 타이프된다. 다른 예에서, 이 정보는 프로덕트 종류 카테고리가 있는 경우와 같이 드롭 다운 메뉴로부터 선택될 수 있다.

템플릿 및 주문들은 또한 포맷되지 않은 텍스트 파일, XML 파일, 또는 어떤 종류의 데이타 저장 소자 또는 매카니즘을 포함하지만 이들에 한정되지 않는 다른 외부의 매체로부터의 정보를 이용해서 자동으로 생성 또는 수정될 수 있다. 예를 들어, 전단 포토마스크 포로세서의 컴퓨터는 새로운 템플릿 또는 주문을 생성하고 기존의 템플릿 또는 주문에 빠진 데이타를 제공하는데 유용한 그러한 파일, 데이타베이스 또는 다른 전자 정보를 포함한다. 유사하게, 주문 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등은 선재(先在)하는 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트가 포토마스크 주문 생성 시스템에 의해 이용될 수 있게 변환 및 다시 포맷될 수 있도록, 예를 들어, 스캐너, 또는 다른 파일 변환 기술에 의해 전자적으로 옮겨질 수 있다. 예를들어, 트랜스레이션 또는 매핑 소프트웨어는 전단 포토마스크 프로세서의 파일 또는 데이타베이스를 어플리케이션에 필요한 포맷으로 변환하는데 이용될 수 있다. 시중에서 구입할 수 있는 그러한 소프트웨어의 예는 수백개의 어플리케이션 및 구조화된 데이타 포맷들 간에 데이타를 신속하게 통합해서 변환하는 데이타 졍션, 비쥬얼 디자인 툴이다. 그러나, 임의 적절한 시판중인 또는 전용 트랜스레이션 또는 매핑 소프트웨어도 이 타스크를 성취하는데 이용될 수 있다. 외부 정보는 FTP 프로토콜, 이메일, http, 전용 프로토콜, 또는 임의 다른 공지된 프로토콜과 같은 다양한 데이타 전달 기술에 의해서, 국부적으로 주문 처리 시스템을 통해서 또는 광대역 네트워크 또는 로컬 영역 네트워크 또는 인터넷 등을 통해서 템플릿 또는 주문으로 옮겨질 수 있다.

그래픽 유저 인터페이스를 통해서 개인에 의해 수행되는 모든 오퍼레이션은 적어도 부분적으로 직접적인 휴먼 대화없이 자동으로 실행될 수 있다. 본 발명에 있어서, 이는 플레인-텍스트 지시 세트 또는 명령 라인에 기반한 스크립팅 기술에 의해 성취될 수 있다. 플레인 텍스트 지시 세트는 일련의 오퍼레이션을 실행할 것을 어플리케이션에 지시하기 위해 어플리케이션 프로그래밍 인터페이스로 해석될 수 있는 하이 레벨 프로그래밍 언어이다. 예를 들어, "소자 이름 '소자 A'를 소자 이름 '소자 B'로 대체하세요"를 나타내는 명령 라인은 전단 포토마스크 프로세서의 네트워크에서 유저에 의해 시스템에 전송되거나 또는 이하 설명되는 바와 같이 자동으로 전송될 수 있다. 이 시스템은 이 명령 라인을 수신하면, 특정 템플릿 또는 주문 내의 소자 이름을 새로운 소자 이름으로 대체한다. 물론, 이는 지시 세트가 이용될 수 있는 방법에 대한 한 예일뿐이며 본 발명의 범위 내에 한정된다는 의미 가 아니다. 커스톰 모듈은 ASCII 또는 이진 파일을 생성할 수 있고 오퍼레이션 시스템 명령을 실행할 수 있는 임의 프로그래밍 언어를 이용하여 이 지시를 억세스하는 전단 포토마스크 프로세서의 시스템이 이용할 수 있게 생성될 수 있다. 자동 구현은 기존의 네트워크 접속을 통해서 임의 승인된 시스템에게 승인 받은 유저가 접근할 수 있게 해준다. 방화벽, 로그-인, 패스워드, 등과 같은 통상적인 보안 조치는 데이타베이스 및 마스크 주문 시스템의 비밀 및 데이타 보안을 보호하는데 이용될 수 있다.

이와 같이, 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등은 명령 라인 또는 어떤 다른 개발 환경을 통해서 스크립핑 기술을 이용하여 생성 및/또는 수정될 수 있다. 양호하게는, 스크립핑 기술은 어떤 지정된 방식으로 주문, 템플릿, 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트를 처리하기 위해 유저가 입력한 다수의 명령을 포함하는 스크립의 이름을 인수(argument)로서 취하는 명령-라인 프로그램을 포함한다. 양호하게는, 그래픽 유저 인터페이스를 통해서 유저가 이용할 수 있는 편집 펑션 중 몇몇 또는 모두를 스크립 명령을 통해서 스크립핑 기술에서 이용될 수 있게 만들 수 있다.

양호한 실시예에서, 스크립 명령은, 몇 몇을 열거해 보자면, 새로운 주문을 생성하고, 기존의 주문을 편집하고, 템플릿으로부터 주문을 생성하고, 새로운 컴포넌트 또는 서브 컴포넌트를 주문, 템플릿, 컴포넌트 또는 서브컴포넌트에 부가하고, 컴포넌트 또는 서브컴포넌트를 수정하고, 주문을 세이브하고, 주문으로부터 SEMI P-10 파일 또는 다른 비교가능한 포맷 또는 표준의 파일을 생성하는 것과 같 은 그러한 편집 펑션을 위해 이용될 수 있다. 또한, 스크립핑 기술은 데이타를 조회하고 동시에 다수의 주문 및 템플릿에 대한 묶음 편집(batch edits)을 할 수 있게 만들어 질 수 있다.

스크립핑 기술에 이용되는 스크립 파일은 하나 이상의 스크립 명령을 포함하는 플레인 텍스트 파일의 형식일 수 있다. 스크립 명령은, 몇 몇을 열거하자면, 변수 선언, 할당, 펑션 콜, if-문, for 또는 for each-문, while-문, 및 include와 같은 펑션을 포함한다. 변수 선언 명령은, 이용 전에, 나중의 이용을 위해 데이타 값을 저장하는데 이용되는 변수를 선언하는데 이용된다. 변수 선언 명령은 이용될 변수의 데이타 종류에 대한 선언을 포함한다. 변수의 데이타 종류는 다음 중 하나일 수 있다: 스트링, 넘버, 불린, 데이트, 리스트, 트리아이템. 스트링은 0 또는 그 이상의 문자의 시퀀스를 나타낼 수 있다. 넘버는 포지티브, 0, 또는 네가티브일 수 있는 임의 실제 사이즈의 전체 또는 부분 수를 나타낸다. 불린은 참 또는 거짓을 나타낼 수 있다. 데이트는 특정일(specific day)을 나타낼 수 있거나 특정 일의 시간을 포함할 수 있다. 리스트는 동일한 데이타 종류에 대한 값들의 리스트를 나타낼 수 있다. 트리아이템은 주문, 포토마스크, 템플릿 또는 패턴 등과 같은 포토마스크 주문 시스템의 트리 계층으로부터의 오브젝트를 나타낼 수 있다.

펑션 콜 명령으로, 시스템 라이브러리에서 펑션을 호출할 수 있다. 시스템 라이브러리로부터 호출될 수 있는 펑션들은 주문, 템플릿, 컴포넌트 및 서브컴포넌트의 일반적인 관리를 위한 펑션, 개별적인 트리아이템을 취급하기 위한 펑션, 특정의 트리아이템의 필드를 취급하기 위한 펑션, 데이타 값을 취급하기 위한 펑션, 값들의 리스트를 처리하기 위한 펑션, 및 임의 다른 일반적인 또는 특정 목적의 펑션을 포함할 수 있다.

주문, 템플릿, 컴포넌트 및 서브컴포넌트의 일반적인 관리를 위한 펑션 콜의 예는, 몇 몇을 열거해 보면, 주문 생성(새로운 빈(empty) 주문을 생성하는 것), 템플릿으로부터 주문 생성(주어진 템플릿으로부터 새로운 주문을 생성하는 것), 주문 열기(기존의 주문을 여는 것), 템플릿 생성(새로운 템플릿을 생성하는 것), 템플릿 열기(편집을 위해 기존의 템플릿을 여는 것), 데이트 스케쥴 적용(주어진 선재 데이트 스케쥴을 지정된 데이트로부터 시작해서 주문 또는 템플릿에 적용하는 것), 세이브(주문 템플릿에 대한 변경을 데이타베이스에 세이브하는 것), SEMI P-10 파일 생성(주어진 주문으로부터 "SEMI P-10" 파일을 생성하는 것), SEMI P-10 파일 생성 및 전송(주어진 주문으로부터 SEMI P-10 파일을 생성하고 이를 지정된 전송 방식, 예를 들어, 인터넷 상의 FTP를 통해서 지정된 로케이션에 전송하는 것), 주문 삭제(데이타베이스로부터 지정된 주문을 삭제하는 것), 템플릿 삭제(데이타베이스로부터 지정된 템플릿을 삭제하는 것)를 포함할 수 있으나 이들에 한정되는 것은 아니다.

개별적인 트라아이템을 취급하기 위한 펑션 콜의 예는, 몇 몇을 열거해 보면, 트리아이템 생성(지정된 종류의 새로운 블랭크 트라아이템을 생성하는 것), 트라아이템 카피(관련된 자 트리아이템을 포함해서 트라아이템의 정확한 카피를 생성하는 것), 트리아이템 찾기(특정의 주어진 표준을 만족하는 다른 트리아이템 아래의 장소에서 주어진 종류의 트리아이템을 찾기), 트리아이템들 찾기(특정의 주어진 기준을 만족하는 모든 트리아이템을 찾기), 모 얻기(주어진 트라아이템의 모 트리아이템을 얻는 것), 트리에서 대체(특정한 오브젝트로부터 시작해서 특정한 종류의 트라아이템 내의 모든 텍스트 필드에 있는 소정의 텍스트 부분을 대체하는 것)을 포함할 수 있으나 이들에 한정되는 것은 아니다.

트리아이템을 취급하기 위한 펑션 콜의 예는, 몇 몇을 열거해 보면, 필드 얻기(트리아이템 필드의 값을 얻는 것), 필드 설정(트리아이템 필드의 값을 설정하는 것), 필드 아이템 부가(새로운 값을 종류 리스트인 트리아이템 필드에 부가하는 것), 필드 아이템 제거(종류 리스트인 트리아이템 필드로부터 아이템을 제거하는 것)을 포함할 수 있으나 이들에 한정되는 것은 아니다.

데이타 값을 취급하는 펑션 콜의 예는, 몇 몇을 열거해 보면, 데이트 생성(지정된 값으로 새로운 데이트를 생성하는 것), 데이트 부가(지정된 기간을 데이트에 부가하는 것), 데이트 빼기(데이트로부터 지정된 기간을 빼는 것)을 포함할 수 있으나 이들에 한정되는 것은 아니다.

값들의 리스트를 조정하기 위한 펑션 콜의 예는, 몇 몇을 열거해 보면, 리스트 아이템 추가(새로운 아이템을 리스트에 추가하는 것, 여기서, 새로운 아이템은 리스트에 있는 다른 아이템들과 같은 데이타 종류이다), 리스트 아이템 제거(리스트로부터 아이템을 제거하는 것), 리스트 포함(특정한 값이 리스트에 포함되어 있는지 여부를 판정하는 것), 리스트 사이즈(리스트 내의 아이템 수를 판정하는 것)를 포함할 수 있으나 이들에 한정되지는 않는다.

전반적인 또는 특정 목적의 펑션의 예는, 몇 몇을 열거해 보면, 널(값이 0 값인지 여부를 판정하는 것), 프린트(스크린에 메시지를 프린트하는 것)을 포함할 수 있으나 이들에 한정되는 것은 아니다. 유저가 찾기를 원하는 어떤 종류 또는 형식의 펑션도 시스템 라이브러리에 펑션으로서 잠재적으로 포함될 수 있다. 시스템 라이브러리 내의 펑션 콜의 리스트는 어느 때라도 업그레이드 또는 개정될 수 있다.

할당 명령은 변수에 새로운 값을 할당한다. if-문 명령은 스크립이 어떤 기준(criteria)을 근거로 결정을 할 수 있게 해준다. for- 또는 for each-문 명령은 어떤 지정된 리스트에 대한 반복을 허용해준다. while 명령은 전반적인 루핑 구조이다. include 명령은 다른 스크립이 이 시점에서 실행되어야 한다는 것을 지정한다.

잠재적으로, 명령 라인들은 임의 순서로 나타날 수 있다. 그러나, 이 순서는 명령들이 통상적으로 시퀀스로 실행되기 때문에 논리를 따르는 것이 일반적으로 요구된다. 명령 라인은 시스템 디자이너의 기호에 따라서 민감한 경우일 수 있고 아닐 수도 있다.

명령 라인은 유저의 네이티브 언어(예를 들어, 영어, 러시안어 등)로 무엇이 행해지고 있는지를 설명함으로써 스크립 파일의 신뢰도를 향상시키기 위하여 스크립 파일 내에 텍스트로서 포함될 수 있다. 통상적으로, 명령 라인이 스크립 파일에 포함되어 있는 경우, 이 정보는 스크립 파일이 실행될 때 무시될 것이다. 더구나, 스크립 파일의 실행에 영향을 줌이 없이 파일의 신뢰도를 촉진하기 위해 유저가 화이트 공간 또는 블랭크 캐리지 리턴(white space or blank carriage returns) 을 포함시킬 수 있게 스크립 파일이 포맷될 수 있다.

일단 생성되면, 전체적으로 또는 부분적으로, 개시된 시스템의 한 실시예에서, 주문, 템플릿, 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트는 본 발명의 시스템의 다양한 유저 또는 본 발명의 다양한 시스템에게 전송되거나 또는 이들에 의해 억세스될 수 있다. 예를 들어, 전단 포토마스크 프로세서에 있는 한 유저는, 전송된 템플릿 또는 주문이 새로운 또는 수정된 템플릿 또는 주문을 만드는데 이용될 수 있도록 템플릿 또는 주문을 전단 포토마스크 프로세서 또는 다른 전단 포토마스크 프로세서에 있는 다른 유저에게 이메일 또는 다른 방식으로 전송할 수 있다. 물론 그러한 전송은 FTP 프로토콜과 같은 다른 전송 방법 또는 디스크 또는 다른 저장 매체 등의 전달에 의해 실행될 수 있다. 보안 조치로서, 승인되지 않은 억세스 및/또는 수정을 방지하기 위해 억세스 코드 또는 다른 억세스 제한 기술이 주문, 템플릿, 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트 등에 적용될 수 있다.

포토마스크 주문을 만들때, 전단 포토마스크 프로세서는 주문을 완료하는데 요구되는 모든 정보에 접근하지도 않고 이들 모든 정보에 대한 지식도 없을 것이다. 과거에는, 그러한 정보의 부족이 주문 완료 처리를 지연시켰으며 그러한 정보를 적절한 소스들로부터 수작업으로 모아야 했다.

본 발명의 한 실시예에서, 그러한 정보는 요구되는 정보를 갖고 있으며 전단 포토마스크 프로세서의 당사자측의 입력을 거의 요구하지 않거나 아예 요구하지 않는 다른 소스들로부터 적어도 부분적으로 자동으로 검색된다. 예를 들어, 제1 세트의 룰에 의해 관리되는 주문에 입력되는 것이 요구되는 정보가 전단 포토마스크 프로세서에서 이용가능하지 않다면, 본 발명의 데이타 처리 메카니즘은 이러한 요구된 정보를 탐색할 수 있는 능력을 제공하는 데이타-서비스를 억세스할 수 있다. 그러한 데이타-서비스의 예는 서비스오브젝트를 포함하며, 이 서비스오브젝트는 마치 콘텐츠가 단일 로케이션에 존재하는 것처럼 유저들이 인터넷 사이트, 데이타베이스, 인트라넷 및 다른 내부 및 외부 리소스에 동시에 억세스해서 발송 정보와 같은 정보를 다른 프로그램들이 억세스할 수 있는 형식으로 패키지할 수 있게 해준다. 이 예에서, 어플리케이션은 주문되는 포토마스크에 대해 이용가능한 특정의 선적 옵션을 찾는 데이타 조회를 데이타-서비스에게 전송한다. 이후 데이타-서비스는 요청된 정보를 이 어플리케이션에 전송하고, 이후 이 어플리케이션은 그러한 정보를 이 어플리케이션을 이용하는 전단 포토마스크 프로세서에게 제공한다. 다른 종류의 데이타-서비스는 또한 로지스틱스, 물품 명세서, 공급 특성, 장비 이용도, 실행시간, 툴 업 타임(tool up time), 레벨 로딩, 용량 정보와 같은 정보, 또는 전단 프토마스크 프로세서가 특정의 포토마스크 주문을 준비하기 위해서 원하는 임의 다른 정보에 적용될 수 있다. 스크립 명령은 또한 데이타 서비스 또는 다른 것을 통해서 데이타를 억세스할 수 있게 생성될 수 있다.

데이타-서비스는 전단 포토마스크 프로세서의 컴퓨터 또는 네트워크에 국부적으로 위치하거나 또는 전단 포토마스크 프로세서의 주문 처리 시스템으로부터 멀리 떨어져서 위치할 수 있으며, 이 데이타-서비스 그 자체는 어플리케이션 소프트웨어와 데이타-서비스에게 알려져 있는 인터페이스를 통해서 임의 번호 또는 종류의 원격 컴퓨터 시스템(예를 들어, 로지스틱 벤더의 컴퓨터 시스템, 파트 공급자의 컴퓨터 시스템, 장비 공급자의 컴퓨터 시스템, 포토마스크 제조업자의 컴퓨터 시스템 등)으로부터 데이타를 억세스 할 수 있으며, 예를 들어, SOAP, XML, XML-RPC, ebXML, HTML 등을 포함해서 임의 수의 조건에 맞는 프로토콜을 이용할 수 있다. 데이타-서비스는 전단 포토마스크 프로세서에게 이용가능하지 않은 정보를 위해 이들 원격 시스템을 탐색(예를 들어, 조회해서)할 수 있으며, 이용가능하다면 그러한 데이타를 검색할 수 있다. 선택적으로, 데이타-서비스는 원한다면 데이타를 검증하도록 구성될 수 있다. 데이타-서비스의 탐색 메카니즘은 유저의 시스템이 제공하는 임의 수의 가능한 파라메터(예를 들어, 코스트, 시간, 전단 포토마스크 프로세서 이름, 마스크 사이즈, 이용될 스테퍼 장비)를 바탕으로 유저의 원하는 정보(예를 들어, 공급, 처리 시간 등)에 근거해서 구성될 수 있다.

그래픽 유저 인터페이스를 통해서 개인이 실행하는 모든 오퍼레이션은 적어도 부분적으로 자동 방식으로 즉, 휴먼 대화없이 실행될 수 있다. 본 발명은 플레인-텍스트 지시 세트 또는 명령 라인을 통해서 이러한 펑션에 대한 억세스를 제공할 수 있다. 플레인 텍스트 지시 세트는 어플리케이션에게 일련의 오퍼레이션을 실행하도록 지시하기 위해 어플리케이션 프로그래밍 인터페이스로 해석될 수 있는 하이 레벨 프로그래밍 언어이다. 예를 들어, "소자 이름 '소자 A'를 소자 이름 '소자 B'로 대체"를 나타내는 명령 라인은 앞서 설명한 바와 같이 전단 포토마스크 프로세서의 네트워크에 있는 유저에 의해서 또는 자동으로 시스템에 전송될 수 있다. 시스템이 이 명령 라인을 수신한 때, 특정 템플릿 또는 주문에 있는 소자 이름을 새로운 소자 이름으로 대체할 것이다. 물론, 이는 단지 지시 세트가 이용되 는 방법에 대한 예이며 본 발명의 범위 내에 한정되는 것을 의미하지 않는다. 커스톰 모듈은, ASCII 또는 이진 파일을 만들 수 있고 오퍼레이팅 시스템 명령을 실행할 수 있는 임의 프로그래밍 언어를 이용하여 이 지시에 억세스할 수 있도록 전단 포토마스크 프로세서의 시스템이 이용할 수 있게 생성될 수 있다. 자동 구현은 승인 받은 유저가 기존의 네트워크 접속을 통해서 임의 승인된 시스템에 억세스 할 수 있게 해준다. 방화벽, 로그-인, 패스워드 등과 같은 통상적인 보안 조치는 데이타베이스 및 마스크 주문 시스템의 비밀을 보호하기 위해 이용될 수 있다.

도 7은 본 발명의 자동 특징에 대한 다양한 잠재적인 실시예들의 예를 보여주고 있다. 도 7에 도시된 바와 같이, 전단 포토마스크 프로세서(110)는 그의 컴퓨터 또는 네트워크에 본 발명에 따른 주문 처리 시스템(100)을 설치하였다. 이 시스템의 유저는 앞서 설명한 방식으로 부분적이거나 완전한 주문 또는 템플릿을 입력할 수 있다. 전단 포토마스크 프로세서의 네트워크에 위치한 파일(130)은 템플릿 또는 주문을 생성하거나 주문하는데 이용된다. 주문을 완성하는데 필요한 임의 정보가 전단 포토마스크 프로세서에 의해 직접 입력되지 않은 만큼, 그러한 정보는 주문 처리 시스템(100)에 의해서 전단 포토마스크 프로세서 시스템에서 이용가능한 파일, 데이타베이스, 또는 다른 전자 정보로부터; 원격으로 엑세스 가능한 전단 포토마스크 프로세서 외부의 시스템으로부터; 전단 포토마스크 프로세서의 하나 이상의 공급자 또는 벤더들로부터 직접; 및/또는 데이타-서비스 시스템을 통해서 자동으로 검색될 수 있다. 전단 포토마스크 프로세서는 주문을 완성하는데 필요한 모든 정보나 이들 다른 소스로부터 나오는 나머지로 주문을 완성하는데 필요 한 다소의 정보를 직접 입력할 수 있고, 또는 외부 프로그램을 통해서 주문 처리 시스템의 그래픽 유저 인터페이스를 억세스함이 없이 완전한 주문을 자동으로 생성하는 프로세스를 시작할 수 있다. 도 7에 도시된 실시예에서, 주문을 완성하는데 필요한 정보는 데이타-서비스 시스템(120)으로부터 검색된다. 데이타-서비스 시스템(120)은, 예를 들어, 전단 포토마스크 프로세서의 공급자 또는 벤더일 수 있는 데이타 공급자 A 및 B와 같은 구축된 리소스를 조회한다. 데이타-서비스 시스템(120)은 또한 전단 포토마스크 프로세서 그 자체로부터 정보를 수집할 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 포토마스크를 제조하는데 이용되는 제조 장비에 관한 정보는 데이타-서비스 시스템(120)을 통해서 제조업자로부터 얻을 수 있다. 필요한 모든 정보가 검색되어 적절한 템플릿에 엔터되면, 주문 서류(140)가 생성되어 포토마스크 공급자(150)에게 전송된다.

자동 방식에서 임의 타스크의 실행은 룰의 세트에 근거해서 임의 시스템 고장 또는 프로세스 무효에 대한 경고 통지를 포함할 수 있다. 통지는 엔드 유저가 구성할 수 있고 이메일, 메시징, 로그 파일 또는 데이타베이스 엔트리의 형식일 수 있다. 한 예에서, 통지 특성은 포토마스크를 주문하는데 관련되는 사람들의 이름에 대한 분포 리스트에 전송되는 메시지를 자동으로 생성한다. 이 분포 리스트는 임의 예정된 기준에 의해 수립될 수 있다. 이 메시지가 생성되면, 분포 리스트에 있는 사람 각각에게 포토마스크를 위한 주문이 생성되었음이 자동으로 통지될 수 있다. 그러한 통지는, 몇 몇을 열거해 보자면, 이메일, 비퍼, 인스턴트 메시징, 휴대 전화를 포함할 수 있다. 이러한 자동 통지 프로세스는 전단 포토마스크 프로 세서의 네트워크 또는 심지어 제조업자의 네트워크 어느곳에도 설치될 수 있으며, 전단 포토마스크 프로세서가 원하는 임의 단계에 의해서 트리거될 수 있다. 이 예는 본 발명에 대한 제한으로서 간주되어서는 아니되며 본 발명에 통합될 수 있는 통지 시스템의 종류에 대한 한 예일 뿐이다.

새로운 또는 수정된 포토마스크 주문의 준비에 대한 통지시에, 본 발명은 에러가 없다면 포토마스크 제조업자에게 주문을 자동으로 전달하거나 또는 전단 포토마스크 프로세서 시스템의 유저로부터의 승인을 대기할 수 있다. 에러가 확인되면, 전단 포토마스크 프로세서는 그러한 에러를 교정하기 위해 주문을 수동으로 편집하고 나서 정상적인 방식으로 주문 처리를 계속한다. 대안으로, 에러를 자동으로 교정하기 위한 데이타는 필요조건일 수 있다.

다른 실시예에서, 미완성의 포토마스크 주문은, 디자인 정보를 포함해서 포토마스크 제조업자가 디자인의 유효성, 실행가능성 및/또는 적합성을 검증할 수 있도록 포토마스크 제조업자의 처리 시스템에 전송될 수 있는 형식으로 생성될 수 있다. 예를 들어, 전단 포토마스크 프로세서는 이후 전송될 수 있는 프랙처링 지시를 포함하는 부분적인 포토마스크 주문을 포토마스크 제조업자에게 전달해서 제안된 디자인의 유효성, 실행가능성 및/또는 적합성이 분석될 수 있게 할 수 있다. 이는 앞서 설명한 바와 같이 자동으로 또는 수동으로 실행될 수 있다. 자동인 경우, 제안된 부분적인 포토마스크 주문에 관한 정보의 수신시에, 시스템은 부가적인 분석 및 평가를 위해 포토마스크 공급자에게 프랙처링 지시들을 제출하는데 필요한 정보를 생성할 수 있다. 이 정보의 제출시, 포토마스크 제조업자는 포토마스크 제 조업자의 관점에서 또는 다른 관점에서 좀 더 실행가능하거나 바람직한 대안 디자인을 제안할 수 있다. 포토마스크 제조업자의 분석 결과는 이후 주문을 그대로 제출할 것인지 제안된 주문을 수정해야 할 것이지에 대해서 전단 포토마스크 프로세서가 더 고려해 볼 수 있도록 전단 포토마스크 프로세서 컴퓨터 시스템에 전송될 수 있다.

바람직하게는, 템플릿, 주문, 컴포넌트, 및 서브구성요소 등의 각각은 데이타베이스에 저장될 수 있거나 또는 다른 로케이션에 저장될 수 있다. 유저가 데이타베이스 또는 다른 로케이션에 저장된 특정의 템플릿, 주문, 컴포넌트 또는 서브컴포넌트를 탐색할 수 있게 탐색 엔진이 제공될 수 있다. 유저는 탐색 엔진을 이용하여 포토마스크를 특정의 주문 형식으로 생성하는데 필요한 적절한 템플릿, 컴포넌트, 또는 서브컴포넌트를 찾을 수 있다. 그러한 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등이 발견되면, 포토마스크 주문에 관한 데이타는 유저(통상은, 포토마스크를 주문하기를 원하는 전단 포토마스크 프로세서)에 의해 엔터된다. 유저는 또한 탐색 엔진을 이용하여 이하 설명되는 바와 같이 데이타 엔트리를 완성하거나 손쉽게완성하기 위한 목적 또는 그들의 내용을 수정할 목적으로 기존의 포토마스크 주문을 찾을 수 있다.

앞서 언급한 바와 같이, 전단 포토마스크 프로세서는 특정의 포토마스크 주문 형식의 필요조건에 대한 지식이 충분하지 않을 수 있으므로, 주문을 완성하기 위해 그러한 표준이 요구하는 모든 필요한 정보를 엔터하지 못할 수 있다. 또한, 전단 포토마스크 프로세서는 데이타 엔트리 에러를 유발하는 경향이 있으므로, 부 정확한 정보를 제공할 수 있다. 따라서, 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷이 요구하는 바와 같이 전단 포토마스크 프로세서가 완전하고 정확한 데이타를 템플릿 및 주문에 확실하게 엔터할 수 있도록 제1 및 제2 세트의 룰이 설정되어 시스템에 저장되어 있다.

양호한 실시예에서, 제1 세트의 룰은 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷에 의해 지정된 바와 같이 완전한 포토마스크 주문을 출력하는데 필요한 모든 데이타를 유저가 입력할 수 있도록 설정되어 있다. 양호하게는, 제1 세트의 룰은 선택된 포토마스크 주문 포맷을 기반으로 설정된다. 이에 관련해서, 제1 세트의 룰은 지정된 포토마스크 주문 포맷이 지시하는 바와 같이, 템플릿 또는 주문의 각 컴포넌트 및 서브컴포넌트에 데이타 "must"가 입력되야 하는지, "can"이 입력되야 하는지 및/또는 "must not"이 입력되야 하는지 여부를 지시한다. 또한, 제1 세트의 룰은 그들이 유저가 포토마스크 주문을 완성하는데 요구되는(특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 형식에서 설명한 바와 같은) 임의 다른 컴포넌트에 정보를 엔터할 것을 요구하도록 구성되어야만 한다.

이와같이, 예를 들어, 표 1을 참조해 보면, 특정의 표준 주문 포맷은, "패턴" 템플릿에 관해서, 모든 EAPSM 주문의 경우에는: 배치 데이타 및 크리티컬 디멘젼 데이타는 제공되어야만 하고; 다이-투-다이 검사 데이타(die to die inspection data)는 제공될 수 있으며; 그리고 다이-투-데이타 검사 데이타(die to data inspection data)는 제공될 수 없다는 것을 요구할 수 있다. 따라서, (1) 유저 "must"는 배치 데이타 및 크리티컬 디멘젼 데이타를 포함하며; (2) 유저 "can"는 다이-투-다이 검사 데이타를 포함하며; (3) 유저 "must not"는 다이-투-데이타 검사 데이타를 포함하는 것을 요구하는 룰이 제정되어 적절한 템플릿(및 컴포넌트 및 서브-컴포넌트)에 관련지어진다. 따라서, 이 예에서, 유저가 본 발명의 시스템 및 방법을 이용하여 EAPSM에 대한 주문을 생성하고자 할 때, 룰은 (1) 유저에게 배치 및 크리티컬 디멘젼 데이타를 입력하도록 요구하며; (2) 유저가 다이-투-다이 검사 데이타를 입력하는 것을 허가(그러나 요구하는 것은 아님)하며; (3) 유저가 다이-투-데이타 검사 데이타를 엔터하지 못하게 할 것이다. 또한, 선택된 주문 포맷은, 패턴 데이타 이외에도, 포토마스크 주문을 완성하기 위해 어레이 레지스트레이션 데이타가 엔터되어야만 한다는 것을 요구할 수 있다. 따라서, 제1 세트의 룰은 또한, 유저가 모든 패턴 데이타를 엔터링하는 것을 완료하면, 유저가 "어레이 레지스트레이션" 템플릿으로 안내되어 모든 요구되는 데이타를 이 템플릿(및 이 템플릿의 임의 다른 대응하는 서브컴포넌트)에 엔터하도록 프롬프트(prompt)되게 구성된다. 유사하게, 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷이 포토마스크 주문을 완성하기 위해 임의 다른 템플릿에 데이타의 엔트리를 요구하는 경우, 제1 세트의 룰은 유저가 어레이 레지스트레이션 템플릿에 모든 데이타를 엔터한 후 유저를 그러한 다른 템플릿으로 안내하여 유저가 모든 요구되는 데이타를 그러한 템플릿(들)에 엔터하도록 프롬프트한다. 유저가 요구되는 모든 템플릿에 데이타를 엔터하면, 유저는 템플릿을 종료(이하 설명되는 바와 같은 제2 세트의 룰에 따라 데이타를 엔터링하는 조건으로)하는 것이 허가될 것이다.

이와 같이, 명백하게, 본 발명의 제1 세트의 룰은, 포토마스크 주문을 생성 하기 위해 특정의 표준 및/또는 전용 포맷이 요구하는 바와 같은 적절한 템플릿에 필요한 정보를 유저가 확실히 엔터하도록 해준다. 다른 방식으로, 이들 룰은 모든 필요한 주문 정보가 템플릿에 확실히 엔터되도록 하기 위해 포토마스크 주문 데이타를 엔터링하는 프로세스를 통해서 유저를 안내한다.

또한, 이 시스템 및 방법은 또한 유저가 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷이 지정한 바와 같이 데이타를 정확하고 적절한 포맷에 확실히 입력하게 해주는 제2 세트의 룰을 제공한다. 앞서 언급한 바와 같이, 템플릿의 각 컴포넌트 및 서브컴포넌트는 한 세트의 속성(예를 들어, 이진, 스트링, 정수, 실수, 데이트, 불린, 리스트 등)에 의해 정의된다. 그러므로, 양호한 실시예에서, 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷이 요구하는 바와 같이, 특정의 템플릿 또는 주문에 엔터된 데이타 "must", "can" 및/또는 "must not"이 특정의 속성을 갖고 있는지 여부를 가리키는 제2 세트의 룰이 각각의 템플릿 및 주문에 설정된다.

예를 들어, 표 1을 참조해 보면, 특정의 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷은 (1) 배치 템플릿에 엔터된 데이타 "must"가 정수이어야하고; (2) 타이틀 템플릿에 엔터된 데이타 "can"은 스트링이어야하고; (3) 크리티컬 디멘젼 템플릿에 엔터된 데이타 "must not"은 스트링이어야 한다는 것을 요구할 수 있다. 따라서, (1) 유저에게 배치 템플릿에 정수를 엔터하라고 요구하고; (2)유저가 타이틀 템플릿에 스트링을 엔터하는 것을 허용하고; (3) 유저가 크리티컬 디멘젼에 스트링을 엔터하지 못하게 하는 룰이 배치 템플릿에 설정된다. 이와 같이, 명백하게 본 발명의 룰은 유저가 포토마스크 주문을 생성하기 위해 특정의 표준 및/또는 전용 포 토마스크 주문 포맷이 요구하는 바와 같이 각 템플릿에 적절한 종류의 정보 및 데이타 종류를 확실하게 엔터할 수 있게 해준다. 다른 말로, 제2 세트의 룰은 단지 유저가 특정 종류의 데이타만을 템플릿에 엔터할 수 있게 허용해 주므로, 포토마스크 주문을 하는 프로세스에서 디자인 에러 및/또는 데이타 입력 에러가 생기는 가능성을 줄여준다.

양호한 실시예에서, 여기서 설명한 제1 및 제2 세트의 룰은 개별적으로 생성되어 저장된다. 앞서 언급한 바와 같이, 룰은, 시스템이 기호 또는 유저 및/또는 자동 시스템에 따라서, 임의 수의 플랫폼으로 실행되게 적응될 수 있도록 임의 다른 수의 동적 포맷(예를 들어, 데이타베이스, 오브젝트-지향 클래스, XML 파일 등과 같은)으로 시스템 내에 저장되거나 또는 시스템 외부에 저장될 수 있다. 그러나, 단일 세트의 룰만으로 유저가 완전한 포토마스크 주문 정보(제1 세트의 룰을 참조로 설명된 것과 같은) 및 정확한 포토마스크 주문 정보(제2 세트의 룰을 참조로 설명된 것과 같은)를 확실히 엔터할 수 있다면 단일 세트의 룰을 생성해서 저장할 수 있다는 것은 주지하자. 더구나, 제1 및 제2 세트의 룰은 유사한 방식으로 단일 세트의 룰로 결합될 수 있다.

앞서 언급한 바와 같이, 본 발명은 포토마스크 주문이 완전하고 정확한 방식으로 생성될 수 있도록 특정의 제1 및 제2 세트의 룰을 연관시키는 펑션을 포함할 수 있다. 양호한 실시예에서, 이러한 펑션은 반도체 제조업자와 같은 포토마스크 주문을 하는 엔티티의 컴퓨터에 설치된 소프트웨어-기반의 어플리케이션의 형식으로 제공된다. 종래의 기술과는 다르게, 이 소프트웨어는 소정의 포토마스크 제조 업자의 제조 프로세스에 의존하지 않는다. 오히려, 본 발명의 소프트웨어는 안전한 독립형의 어플리케이션, 네트워크 분산형 어플리케이션, 또는 웹-기반의 "신-클라이언트" 어플리케이션으로서 배치될 수 있다. 양호하게는, 이 소프트웨어는 클라이언트-서버 시스템에 이용된다. 이 시스템에서 그래픽 유저 인터페이스(예를 들어, 클라이언트)는 서버의 데이타베이스에 접속해서 이 데이타베이스로부터 데이타를 검색한다. 모든 경우에, 본 발명의 소프트웨어를 실행하는 전단 포토마스크 프로세서는 주문을 하기 위해 포토마스크 제조업자의 임의 외부의 로컬 영역 네트워크를 억세스 및/또는 로그인하는 것이 요구되지 않는다.

이제 본 발명의 소프트웨어가 특정의 룰을 특정의 템플릿에 연관시키는 방식을 설명하기로 한다. 특히, 템플릿은 데이타의 계층적 모음이기 때문에, 템플릿의 각 요소는 관련된 소프트웨어 오브젝트에 의해 해석된다. 양호한 실시예에서, 룰들은 소프트웨어 오브젝트 내에 삽입되어 템플릿에 엔터된 데이타의 어셈블리를 맡는다. 이들 룰은 알고리즘과 같은 구속(constraints)이거나 지시(instructions)이고, 통상적으로 소프트웨어 오브젝트의 하나 이상의 속성에 관련되어 있다. 따라서, 이러한 배열에서는, 룰과 템플릿이 서로 적절하게 연관될 때 완전하고 정확한 포토마스트 주문을 엔터하는 것이 가능하다.

또한, 이 시스템은 양호하게는 필요가 있을 때마다 룰과 템플릿이 개별적으로 갱신될 수 있게 구성된다. 이에 관련해서, 현재의 표준 포토마스크 주문 포맷은 SEMI P-10 표준 포맷으로 알려져 있다. 그러나, 기술적인 진보가 이루어짐에 따라서 이들 기술적인 진보를 반영하는 새로운 표준 포맷이 개발되어 현재의 SEMI P-10 표준 포맷을 대체할 수 있다는 것은 예측할 수 있다. 또한, 현재 해외의 포토마스크 제조업자들이 이용하는 많은 다른 국제적인 표준 주문 포맷이 있다. SEMI P-10 표준 포맷에서와 같이, 이들 국제적인 포맷도 시간이 흘러감에 따라서 변경되거나 대체될 수 있다는 것은 예측할 수 있다. 그러므로, 본 발명의 시스템은 이들 변화에 부응하도록 룰 및 템플릿을 갱신할 수 있는 능력을 제공한다. 특히, 제1 및 제2 세트의 룰은 양호하게는 템플릿 각각과 격리된 파일로서 저장되며, 이들 템플릿도 각각 개별 파일로서 저장된다. 룰 및 템플릿을 분리하여 유지함으로써, 하나에 대한 수정이 다른 것에 영향을 주지 않는다. 이에 관련해서, 룰 및 템플릿이 수정될 때, 근사 특징 수정(proximate feature modification)에 의해 표시되지 않은 해당하는 요소에 대한 상관 코드 변경(a correlative code change)은 필요가 없을 것이다. 또한, 룰 및 템플릿을 분리해서 저장함으로써, 시스템 고장의 발생 가능성(예를 들어, 임베디드되었거나 내부에 상주하는 요소에 대한 예기치 않은 변경이 예기치 않은 고장의 원인이되는 경우)을 피할 수 있다. 이에 관련해서, 룰 및 템플릿이 분리되어서 저장되지 않은 경우는, 독립적인 수정이 불가능하다. 새로운 룰을 포함시키려면 적어도 수 천개일 수 있는 기존의 템플릿들 각각이 개별적으로 수정되어야만 할 것이다. 이와 같이, 쉽게 이해할 수 있듯이, 본 발명의 시스템 및 방법은 임의 하나의 특정 표준 포맷에 한정되지 않으며 오히려 임의 현재의 또는 새로 개발되는 표준 포토마스크 주문 포맷에 순응하게 용이하게 적응될 수 있다. 유사하게, 전단 포토마스크 프로세서는 그의 전용 주문 포맷을 새로운 개발 또는 향상된 기술이 연관된 어떤 변경에도 부합되게 변경할 수 있다.

이들 룰을 수정하기 위해서, 소프트웨어 오브젝트는 그 내부에 포함된 룰들이 하나 이상의 그들의 속성, 그들의 자(children) 또는 그 내에 포함된 다른 룰에 영향을 주도록 설정된다. 이에 관련해서, 룰들은 지정된 특정의 속성들만이 룰들에 의해 영향받도록 설정된다. 이와 같이, 템플릿과 같은 소프트웨어 오브젝트는 사실상 계층적이기 때문에, 이들은 그들의 모 및 자를 알고 있다. 따라서, 자 오브젝트가 수정될 때마다, 그의 모에게 이 변경에 의해서 영향받는 영역, 룰, 또는 속성이 통지된다. 그 결과, 룰들의 계층 내의 임의 곳에서 이루어진 어떤 변경도 전체 패밀리를 통해서 전파된다. 따라서, 룰들은 모의 어떤 자 요소의 부가 또는 제거를 강제할 수 있는 능력을 갖고 있다. 이와 같이, 어플리케이션 내에서, 각 오브젝트는 차후 소프트웨어의 배포를 통해서 개별적으로 갱신될 수 있거나 업그레이드될 수 있다. 또한, 오브젝트 모는 템플릿이 구축되는 동안 부가되거나 제거될 수 있는 각 종류의 자 요소에 대한 표준 모음(standard collection)을 유지한다.

템플릿들은 또한, 새로운 속성 및/또는 서브컴포넌트를 주문 및 템플릿의 계층에 부가하는 것을 필요로하는 표준 및/또는 전용 포토마스크 주문 포맷의 수정에 응답해서 수정될 수 있다. 그러한 예에서, 영향받은 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트에 대한 새로운 관계들이 정의되며, 새로운 룰들이 기존의 룰 격(schema)에 동적으로 부가된다.

본 발명의 이들 특징을 설명하기 위해 다음의 예가 이제 설명된다. 현재의 SEMI P-10 표준은, 포토마스크 주문이 다른 것들 중에서: Mask Order[], Mask Set[], Mask Definition[], 및 Pattern Definition[]을 포함하는 것을 요구한다. 이와 같이, 이러한 필요조건에 따르면, 다음의 템플릿이 설정될 것이다: SemiOrder Template, SemiMaskSet Template, SemiMask Tamplate 및 SemiPattern Template. 또한, 각각의 템플릿 및 그러한 템플릿에 엔터될 수 있는 데이타의 종류에 데이타가 입력되어야만 하는지 여부를 지시하는 이들 템플릿 각각에 대한 제1 및 제2 세트의 룰이 설정된다. 그러나, 나중 어느 시점에서, SEMI P-10 표준은 CD 컴포넌트를 필요로하는 새로운 표준으로 대체될 수 있다. 이와 같이, 기존의 템플릿(예를 들어, SemiPattern)은, 예를 들어, SEMI P-10 표준의 도량형의 애스펙트의 수정에 순응하게 크리티컬 디멘젼(CD) 컴포넌트를 포함하도록 수정될 수 있다. 또한, 새로운 템플릿이, 새로운 SEMI 표준의 새로 부가된 임의 애스펙트(예를 들어, 레지스트레이션)에 순응하게 생성될 수 있다. 유사하게, 기존의 제1 및 제2 세트의 룰은 현재의 SEMI P-10 표준의 수정된 CD 컴포넌트 애스펙트에 관련된 변경에 부합되게 적응될 수 있다. 또한, 새로운 제1 및 제2 세트의 룰이 새로운 SEMI 표준의 새로운 레지스트레이션 특징에 순응하게 생성될 수 있다.

명세 그레이드는 다수의 템플릿, 주문, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등에 포함된 특정 데이타 엔트리를 용이하게 갱신하기 위한 메카니즘으로 이용될 수 있다. 특히, 본 발명의 한 실시예에서, 명세 그레이드 파일은 많은 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등에 있어서 미래의 갱신를 위해 바람직한 것으로 간주되는 특정의 데이타 또는 오브젝트를 포함할 수 있다. 이때, 다양한 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등은 특정 데이타를 저장하는 대신에 특정 데이타에 대한 명세 그레이드 파일에 대한 참조(reference)를 내부에 포함시킬 것이다. 이러한 방식으 로, 이들 참조된 특정 데이타 또는 오브젝트는, 이들 특정 데이타 또는 오브젝트를 참조하는 모든 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등을 갱신하기보다는 오히려 단지 명세 그레이드 파일을 갱신함으로써 다수의 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등에서 갱신될 수 있다.

예를 들어, 명세 그레이드는 주어진 시간에 특정의 포토마스크 전단 포토마스크 프로세서가 받아들일 수 있는 것으로 간주되는 표준 크리티컬 디멘젼(CD) 라인을 포함할 수 있다. 포토마스크 기술이 계속 개발됨에 따라서 수용가능한 CD 라인 폭도 변화를 받을 것이다. 특정의 CD를 지정하는 주문, 템플릿, 컴포넌트, 서브컴포넌트 등을 개별적으로 갱신하기 보다는 오히려, 명세 그레이드를 이용하면 단지 하나의 명세 그레이드 파일을 갱신할 수 있고, 이때 명세 그레이드 파일을 참조하는 모든 파일은 자동으로 갱신될 것이다. 포토마스크 주문에 관련해서 명세 그레이드로서 제공하는 적절한 변수의 다른 예는, 몇 몇을 열거해 보면: 마스크가 전단 포토마스크 프로세서 명세서에 부합하도록 하기 위해 포토마스크 제조업자가 맞추어야 하는 마스크 속성에 관련된 측정 허용한계; 마스크가 전단 포토마스크 프로세서 명세서에 부합하도록 하기 위해 포토마스크 제조업자가 맞추어야 하는 마스크 속성에 관련된 측정 허용한계 수용가능한 결함율; 전단 포토마스크 프로세서가 지불하고 예상하는 품질 레벨에 부응해야만 하는 포토마스크의 제조에 관련된 재료(기판, 펠리컬); 가격 및 빌링/배송 정보를 포함하는 어카운팅 정보; 포토마스크의 생산에 필요한 내부의 또는 전단 포토마스크 프로세서 필요조건에 맞추는데 필요한 연락 이름 및 전화번호, 머신의 클래스 또는 특정 머신과 같은 전단 포토마스 크 프로세서 서비스 정보; 데이타 톤(data tone), 빔 노광, X/Y 배치 정보를 포함하지만 이들에 제한되지 않는 리소그래피 패턴 배치 정보; 이메일 어드레스, FTP 어드레스, 프로토콜, 로그인 ID 및 패스워드, 디렉토리 구조를 포함하지만 이들에 한정되지 않는 데이타 전송 정보; 및 "Applied Materials Alta 3500" 또는 "KLA Starlight"와 같은 제조에 이용되는 기판, 펠리컬, 컴팩트, 레지스트 및 고유 장비를 포함해서 포토마스크 제조에 이용되는 원재료에 관련된 벤더 명세 정보를 포함한다.

앞서 설명한 바와 같이, 템플릿 또는 주문은 컴포넌트, 서브컴포넌트 등과 같은 하나 이상의 연관된 오브젝트들로 구성된다. 예를 들어, 포토마스크는 레지스트레이션, 타이틀, 바코드 등과 같은 하나 이상의 연관된 속성 오브젝트를 가질 수 있다. 명세 그레이드를 이용하는 본 발명의 한 실시예에서, 엔드 유저가 템플릿 또는 주문에 관련될 수 있는 하나 이상의 유일한 데이타 또는 오브젝트를 생성할 수 있도록 유틸리티가 제공될 수 있다. 이들 오브젝트는 관련된 주문 및 템플릿과는 분리해서 저장될 것이다. 더욱이, 이들 분리 저장된 오브젝트들은 그들 자신의 룰 세트를 가질 수 있다. 템플릿 또는 주문이 생성될 때, 엔드 유저는 템플릿 또는 주문을 유틸리티에 정의된 오브젝트들의 몇몇 또는 모두와 연관지을 수 있게 된다. 템플릿, 주문, 또는 저장된 템플릿으로 생성된 주문의 산출시에, 템플릿, 주문, 또는 주문을 생성하는데 이용된 템플릿에 연관된 유틸리티에 저장된 모든 오브젝트 정보는 참조 데이타로서 간주되어 템플릿, 주문, 또는 주문을 생성하는데 이용되는 템플릿에 적용될 수 있다. 참조 오브젝트 정보는 어플리케이션의 보안 모듈에서 엔드 유저에게 할당된 "역할 및 책임"에 근거해서 갱신되거나 또는 제거될 수 있다. 예를 들어, 경험없는 엔드 유저는 유틸리티에 저장된 참조 데이타를 겹처쓰는 것이 금지될 수 있다. 한편, 경험있는 유저는 참조 데이타를 수정하는 것이 허용될 수 있다.

본 발명의 다른 양태는 (1) 내부에 데이타를 갖고 있는 기존의 템플릿으로부터 데이타를 새로운 주문에 합체하고; (2) 내부에 데이타를 갖고 있는 기존의 주문으로부터 데이타를 새로운 주문에 합체하고; (3) 기존의 템플릿 및 주문으로부터 데이타를 새로운 주문에 합체하고; 또는 (4) 기존의 주문, 템플릿, 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트로부터 데이타를 새로운 주문에 합체함으로써 새로운 포토마스크 주문을 산출할 수 있는 능력을 제공한다. 이에 관련해서, 유저가 데이타를 템플릿에 입력하거나 또는 주문을 생성할 때마다, 그러한 템플릿 및/또는 주문은 본 발명의 시스템에 세이브된다. 또한, 앞서 설명한 바와 같이, 컴포넌트 및 서브컴포넌트는 본 발명의 시스템에 주문 또는 템플릿과는 분리해서 저장될 수 있다. 이후에, 유저는 기존의 템플릿, 주문, 컴포넌트, 및/또는 서브컴포넌트를 억세스하여 그곳에 저장된 데이타를 이용해 새로운 주문을 산출할 수 있다. 본 발명의 유저에게 기존의 주문, 템플릿, 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트로부터의 데이타를 합체할 수 있는 능력을 부여함으로써, 포토마스크 주문 데이타를 입력하는 프로세스가 상당히 감소됨으로, 포토마스크 주문을 제조하는데 소요되는 전체 시간이 줄여든다. 데이타를 주문에 합체하는 4 개의 방법을 이하 설명한다.

한 실시예에서, 기존의 템플릿(들)로부터 새로운 주문을 생성하기 위해, 유 저는 새로운, 블랭크 주문을 생성하도록 프롬프트된다. 다음에, 유저에게는 생성되어 세이브된 템플릿 및/또는 주문을 이전의 포토마스크 주문으로부터 선택하는 옵션이 제공된다. 새로운 주문으로부터 제조되는 포토마스크의 종류에 따라서, 유저는 템플릿 데이타베이스에 저장된 가장 관련성이 있는 템플릿(들)을 선택하여 로드(load)한다. 선택된 템플릿은 이전에 입력된 데이타로 유저에게 표시된다. 템플릿 내의 공백이 없는 오브젝트(예를 들어, 오브젝트는 데이타를 포함하고 있음)들 각각에 대해서, 유저는 새로운 주문에 먼저 엔터된 데이타를 선택하거나 또는 이 데이타를 새로운 데이타로 겹처쓰기할 수 있다. 또한, 템플릿내의 특정의 오브젝트가 공백(예를 들어, 이미 비어있음)이라면, 유저는 이 오브젝트에 적절한 데이타를 입력할 수 있다. 다음에, 이러한 주문을 위해 설정된 룰들은 앞서 설명한 바와 같이 데이타가 정확하고 완전하게 입력되도록 동작한다. 이후, 소프트웨어는 이 정보를 처리하고 이 정보를 바탕으로 새로운 주문을 산출한다.

기존의 주문으로부터 새로운 주문을 생성하기 위한 프로세스는 기존의 템플릿으로부터 새로운 주문을 생성하는 프로세스와 유사하다. 이러한 실시예에서, 기존 주문(들)로부터 새로운 주문을 생성하기 위해, 유저는 새로운, 블랭크 주문을 생성하도록 프롬프트된다. 다음에 유저에게는 생성되어 세이브된 템플릿 및/또는 주문을 이전의 포토마스크 주문으로부터 선택하는 옵션이 제공된다. 새로운 주문으로부터 제조되는 포토마스크의 종류에 따라서, 유저는 관련 데이타베이스에 저장된 관련 주문(들)을 선택해서 로드한다. 선택된 주문은 이전에 입력된 데이타로 유저에게 표시된다. 주문 내의 공백 없는 오브젝트 각각에 대해서, 유저는 이전에 새로운 주문에 입력된 데이타를 선택하거나 또는 이 데이타를 새로운 데이타로 겹처쓰기할 수 있다. 또한, 주문 내의 특정 오브젝트가 공백이면, 유저는 이 오브젝트에 적절한 데이타를 입력할 수 있다. 다음에, 이 주문을 위해 설정된 룰들은 앞서 설명한 바와 같이 데이타가 정확하고 완전하게 입력될 수 있도록 동작한다. 이후, 소프트웨어는 이 정보를 처리하고 이 정보를 바탕으로 새로운 주문을 산출한다.

다른 실시예에서, 기존의 템플릿(들) 및 주문(들)로부터 새로운 주문을 생성하기 위해, 유저는 새로운, 블랭크 주문을 생성하도록 프롬프트된다. 다음에 유저에게는 생성되어 세이브된 템플릿 및/또는 주문을 이전의 포토마스크 주문으로부터 선택하는 옵션이 제공된다. 새로운 주문으로부터 제조되는 포토마스크의 종류에 따라서, 유저는 관련 데이타베이스에 저장된 관련 템플릿(들)을 선택해서 로드한다. 선택된 템플릿은 이전에 입력된 데이타로 유저에게 표시된다. 템플릿 내의 공백 없는 오브젝트 각각에 대해서, 유저는 이전에 새로운 주문에 입력된 데이타를 선택하거나 또는 이 데이타를 새로운 데이타로 겹처쓰기할 수 있다. 또한, 템플릿 내의 특정 오브젝트가 공백이면, 유저는 이 오브젝트에 적절한 데이타를 입력할 수 있다. 다음에, 이 주문을 위해 설정된 룰들은 앞서 설명한 바와 같이 데이타가 정확하고 완전하게 입력될 수 있도록 동작한다. 또한, 이전에 세이브된 주문들도 또한 동일한 순서로 합체될 수 있다. 이에 관련해서, 유저는 관련 데이타베이스에 저장된 앞서 이루어진 주문을 선택해서 로드할 수 있다. 선택된 주문은 앞서 입력한 데이타로 유저에게 표시된다. 이 주문내의 공백 없는 오브젝트(예를 들어, 데 이타를 포함하고 있는 오브젝트) 각각에 대해서, 유저는 이전에 새로운 주문에 입력된 데이타를 선택하거나 또는 이 데이타를 새로운 데이타로 겹처쓰기할 수 있다. 또한, 주문 내의 특정 오브젝트가 이미 비어있으면, 유저는 이 오브젝트에 적절한 데이타를 입력할 수 있다. 다음에, 이 주문을 위해 설정된 룰들은 앞서 설명한 바와 같이 데이타가 정확하고 완전하게 입력될 수 있도록 동작한다. 적절한 템플릿 및 주문 모두가 일단 새로운 주문에 합체되면, 소프트웨어는 이 정보를 처리하고 이 정보를 바탕으로 새로운 주문을 산출한다.

또한, 이전의 주문 또는 템플릿의 기존 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트는 새로운 포토마스크 주문 또는 템플릿 내로 옮겨질 수 있다. 예를 들어, 빌링 및/또는 배송 어드레스에 관련된 기존의 컴포넌트 및/또는 서브컴포넌트는 주문 또는 템플릿에 적용될 수 있다. 또한, 어플리케이션에 정의된 하나 이상의 유일한 명세 그레이드는 새로운 주문 또는 템플릿에 합체될 수 있다.

전단 포토마스크 프로세서가 본 발명의 제1 양태의 소프트웨어를 이용해서 주문 데이타를 엔터하여 포토마스크 패턴 데이타를 산출하면, 본 발명의 제2 소프트웨어 어플리케이션은 적어도 이정보의 일부를 즉석-기록 가능 포맷(a ready-to-write format) 및 즉석-검사 가능 포맷(a ready-to-inspect format)으로 자동으로 처리한다. 한 실시예에서, 이러한 펑션을 실행하는 소프트웨어는 전단 포토마스크 프로세서의 컴퓨터 시스템에 로드된다. 이후, 처리된 정보는 제조를 위해 외부의 원격 제조업자의 컴퓨터 시스템에 데이타 파일로 전송된다.

특히, 한 실시예에서, 전단 포토마스크 프로세서의 컴퓨터 시스템은 제1 및 제2 소프트웨어 컴포넌트가 설치되어 있는 서버를 포함하고 있다. 전단 포토마스크 프로세서가 산출한 주문 데이타 및 전단 포토마스크 프로세서가 산출한 패턴 데이타는 서버에 전달된다. 양호한 실시예에서, 파싱(parsing) 소프트웨어는 포스트잡프로세스(postjobprocess)를 실행하고 두개의 기본적인 일을 하도록 전단 포토마스크 프로세서의 서버에 포함되어 있다. 먼저, 파싱 소프트웨어는 서버에 방금 전달된 파일들을 검사하고, 적절하다면(그리고 그렇게 하도록 구성되어 있다면), 이들을 예정된 작업 영역 디렉토리에 카피한다. 두번째로, 파싱 소프트웨어는 그것이 하는 일 모두를 오디트 트레일 메일 메시지(an audit trail mail message)에 기록한다. 이후 이 메시지는 임의 수의 미리구성된 메일 어드레스로 전송된다. 이들 메일 어드레스는 프로세스가 실행되는 전단 포토마스크 프로세서 또는 설비에 따라서 변경될 수 있게 프로그램될 수 있다. 이 메일 메시지는 데이타 전달을 실행한 전단 포토마스크 프로세서 승인 및 내부의 통지이다.

양호한 실시예에서, 패턴 데이타는 분석 소프트웨어에 의해서 FTP서버에 접속되어 나중의 처리를 위해 그곳에 저장된 메모리 풀(Memory Pool)에 발송된다. 대안으로, 패턴 데이타는 다른 회로를 통해서 전달될 수 있거나 또는 FTP 서버에 저장될 수 있다.

유사하게, 양호한 실시예에서, 주문은 파싱 소프트웨어에 의해서 처리용 전단 포토마스크 프로세서 내의 다른 컴퓨터 서버("처리 서버")에 발송되며, 이 처리 서버는 FTP 서버에 직접 연결되거나 또는 네트워크 접속에 의해 원격으로 접속될 수 있다. 대안으로, FTP서버 및 처리 서버는 동일한 컴퓨터일 수 있다. 처리 서 버는 제조 장비가 이용할 수 있게 처리되거나 포맷팅되는 주문으로부터 데이타를 자동으로 추출하거나 파싱하는 주문 처리용 소프트웨어("SEMI 소프트웨어")를 포함하고 있다. 그러한 처리 및/또는 포맷팅은 처리 서버와 동일한 컴퓨터 서버 또는 전단 포토마스크 프로세서의 네트워크 상의 다른 컴퓨터 서버에서 실행된다.

다른 실시예에서, 도 12에 도시된 바와 같이, 원격 전단 포토마스크 프로세서 설비는 동일하거나 유사한 SEMI 소프트웨어가 설치되어 있는 부가의 처리 서버를 갖출 수도 있다. 그러므로, 다른 지역에 있는 다수의 원격 전단 포토마스크 프로세서 설비가 네트워크 접속을 통해서 FTP 서버에 인터페이스하는 것이 가능하다. 그 결과, FTP 서버가 수신한 주문 및 패턴 데이타는 본 발명에 따라서 처리를 위해 다양한 원격 전단 포토마스크 프로세서 설비에 발송(route)될 수 있다.

양호한 실시예에서, 이 데이타를 처리하기 시작할 때, SEMI 소프트웨어는 포토마스크 주문이 엔터되었음을 포토마스크의 제조에 관련되는 사람들에게 자동으로 통지한다. 이 통지 특징은 SEMI 명세서가 수신된 때 자동으로 트리거될 수 있다. 특히, 활성화될 때, 통지 특징은 SEMI 명세서에 대응하는 포토마스크의 제조에 관련되는 사람들의 이름에 대한 분포 리스트에 전송될 메시지를 자동으로 생성할 수 있다. 이 분포 리스트는 임의 예정된 기준에 의해 설정될 수 있다. 한 실시예에서, 분포 리스트는 SEMI 소프트웨어가 설치되어 있는 처리 서버의 로케이션에 의해 설정된다. 이와 같이, 예를 들어, SEMI 소프트웨어가 싱가포르에 소재하는 설비 내에 위치한 처리 서버에 설치되어 있는 경우, 분포 리스트는 이 설비 내에 위치한 사람들만의 이름을 포함할 것이다. 다른 예로서, SEMI 소프트웨어가 독일에 소재 하는 설비 내에 위치한 처리 서버에 설치되어 있다면, 분포 리스트는 이 설비 내에 위치한 사람들만의 이름을 포함할 것이다. 일단 메시지가 생성되면, 분포 리스트에 있는 각 사람은 포토마스크 주문이 수신되었음을 자동으로 통보 받을 수 있다. 그러한 통지는 이메일, 비퍼, 휴대전화 등을 포함할 수 있다. 이러한 자동 통지 프로세스는 전단 포토마스크 프로세서의 네트워크내의 어느 곳에도 설치될 수 있으며 전단 포토마스크 프로세서가 원하는 임의 처리 단계에 의해서 트리거될 수 있다. 이 예는 본 발명을 제한하는 것으로 간주되는 것이 아니며 단지 본 발명에 합체될 수 있는 종류의 통지 시스템의 예일 뿐이다.

다음에는, SEMI 명세서가 처리된다. 이에 관련해서, SEMI 소프트웨어는 SEMI 명세서로부터 데이타를 자동으로 추출하고, 실행될 제조 타스크에 따라서 추출된 데이타를 배열하고, 배열된 데이타가 저장될 데이타 어레이를 생성하는 특징을 포함할 수 있다. 양호한 실시예에서, 도 10에 도시된 바와 같이, 데이타 어레이는 전단 포토마스크 프로세서를 확인하는 정보("Enterprise"), 전단 포토마스크 프로세서 웨이퍼 팹("FAB"), 구현되는 기술("Technology"), 포토마스크에 대한 잡 번호, 전단 포토마스크 프로세서 디자인 정보("Device"), 포토마스크의 제조에 관한 상황 보고서("Status"), 및 주문 일자("Order Rcvd") 및/또는 주문 수신("P-10 Received")를 포함하고 있다.

그러나, 양호한 데이타 어레이는 필요할 때는 부가의 설명 카테고리를 부가하거나 원하는 경우 카테고리를 보여주지 않게 용이하게 수정될 수 있다는 것은 주지해야 한다. 더구나, 데이타 어레이는 또한 앞서 열거된 포토마스크 정보 카테고 리 중 임의 것에 연동되는 좀 더 상세한 서브-데이타 어레이를 포함할 수도 있다.

예를 들어, 서브-데이타 어레이는 특정의 잡 번호에 하이퍼링크될 수 있다. 이러한 서브-데이타 어레이는 포토마스크의 제조시에 실행된 각 단계를 기록하는 시간 및 날자가 소인된 정보를 포함할 수 있다.

또한, 서브-데이타 어레이는 디바이스 카테고리에 하이퍼링크될 수 있다. 양호한 실시예에서, 이 서브-데이타 어레이는 주문으로부터 추출되어 포토마스크 제조시에 실행될 필요가 있을 수 있는 다양한 제조 타스크에 연관해서 이용되도록 배열된 데이타를 포함할 수 있다. 이들 제조 타스크는, 예를 들어, 이하 열거되는 것을 포함하지만 이들에 제한되는 것은 아니다: 잡데크 처리("Jobdeck"), 전자 크리티컬 디멘젼 플로팅("E-CD Plots"), SEMI 명세 컨디션닝("SEMI"), 바 코드("Bar Code"), SEMI 명세서 생성("REG MF2"), 데이타 사이징("Data S/R"), 더블 체킹("Double Chk"). 도시되어 있지는 않을 지라도, 이러한 서브-데이타 어레이는 또한, 예를 들어, 프랙처링, 온-그리드 체킹, 광근접보정 및 플래깅(flagging)을 포함할 수 있다.

도 9를 참조해 보면, SEMI 처리 소프트웨어는 실행될 이들 제조 타스크에 따라서 추출된 데이타를 배열하여 처리한다. 또한, 이러한 서브-데이타 어레이는 이하 열거되는 것을 포함하지만 이들에 제한되는 않는 다른 정보를 포함할 수 있다: 포토마스크에 형성될 패턴에 대한 코드 이름("Layer"), 제조업자의 재고 목록 제어 번호("Plate No"), 각 포토마스크가 전단 포토마스크 프로세서의 기호에 따라서 처리되야만 하는 순서("Pri"), 포토마스크의 제조 처리에 관한 상황 보고서("Layer Status"), 및 데이타가 SEMI 처리 소프트웨어에 의해 수신된 날자("Data Rcv").

데이타가 서브-데이타 어레이에서 체계화되는 방식을 이제 설명하기로 한다. 잡데크 처리는 지시를 리소그래피 툴(예를 들어, E-빔 및 레이저 빔) 및 검사 장비(예를 들어, KLA 또는 Orbot)에 전달하여 이들에 의해 처리되게 하는 방법을 나타낸다. 리소그래피 잡데크 처리의 경우에, 패턴을 포토마스크에 기입하는데 필요한 특정 지시는 주문으로부터 추출되어 도 10에 도시된 서브-데이타 어레이의 잡데크에 저장된다. 이들 추출된 잡데크 지시는 이후 리소그래피 툴이 이용할 수 있게 SEMI 소프트웨어에 의해 처리된다. 이들 지시는 노광 제어, 패턴 스케일링 및 톤을 포함하지만 이들에 제한되지 않는 특정의 툴에 의해 실행되는 다른 펑션들은 물론이고 다양한 패턴이 배치되는 포토마스크상의 위치를 가리킨다. 대안으로, 추출된 잡 지시는 리소그래피 또는 다른 처리 장비에 대한 적절한 지시를 생성하기 위해, 특정의 전단 포토마스크 프로세서, 그의 디비젼 또는 내부의 제조 사이트 등에 관한 다른 정보를 고려해서 수정될 수 있다. 예를 들어, 그러한 전단 포토마스크 프로세서에 의해 제공된 지시에 의해 패턴이 리소그래피 툴에 의해서 리버스되어야 한다는 사실을 전단 포토마스크 프로세서의 특정 제조 센터가 고려할 수 있도록 잡데크 지시는 수시로 수정될 필요가 있을 수 있다. 리소그래피 툴로 패턴을 리버스하는 것은 패턴 데이타를 프랙처링할 때 패턴을 리버스하는 것에 비해서 시간 소모적인 처리일 수 있다.

검사 잡데크 처리에 관해서, 관련 명세서는 주문으로부터 추출되어 검사 장비가 이용할 수 있게 배열된다. 이들 지시는 또한 잡데크에도 저장된다. 검사 장 비에 대한 추출된 명세는 이 검사 장비가 처리된 포토마스크에 결함(예를 들어, 다이-투-데이타 비교) 및 오염(즉, 청결도)이 있는지 검사할 수 있도록 배열되어 포맷되어야 한다.

SEMI 컨디셔닝은 전단 포토마스크 프로세서가 제공한 주문이 부가적인 세부사항을 포함하도록 자동으로 수정되어 재포맷되거나 다른 식으로 배열되게하고 에러있는 세부 사항은 제거하는 프로세스를 나타낸다. 이에 관련해서, SEMI 처리 소프트웨어는 다양한 정보를 주문에 부가할 수 있는 펑션을 포함하고 있다. 예를 들어, 우선 배송 어드레스와 같은 전단 포토마스크 프로세서의 비지니스 필요조건은 주문에 자동으로 부가되어 도 11에 도시된 바와 같이 SEMI에 저장될 수 있다. 마찬가지로, 제조 정보도 또한 주문에 부가되어 서브-데이타 어레이에 저장될 수 있다. 이에 관련해서, SEMI 소프트웨어는 전단 포토마스크 프로세서에 의해서 또는 전단 포토마스크 프로세서의 주문에서 고려되지 못한 제조 프로세스에서 발생할 수 있는 다양한 상황(예를 들어, 제조업자의 장비 또는 특정의 전단 포토마스크 프로세서 필요조건의 특수성에 기반한 수정들)에 근거해서 특정 데이타(예를 들어, 크리티컬 디멘젼, 바이어싱 정보, 펠리컬 종류)를 조정하도록 프로그램되어 있다.

또한, SEMI 소프트웨어는 프랙처 엔진이 패턴 데이타를 프랙처하라는 지시를 자동으로 생성한다. 프랙처링은 잘 알려진 프로세스이고, 이 프로세스에 의해서 리소그래피 툴이 이해할 수 있는 모양 및 세그먼트로 패턴 데이타가 분할된다. 양호한 실시예에서, 프랙처링 지시는 "cinc" 파일 형식으로 생성된다. 한 실시예에서, 컴퓨터 보조 필사 소프트웨어(computer adided transcription software, "CATS")는 패턴 데이타를 프랙처하여 이를 보여주는데 이용된다. CATS는 제조 처리 전에 데이타를 보여줄 목적으로 잡데크 스킴(예를 들어, 마스크 레이아웃)을 시뮬레이트하는 소프트웨어로서 시중에서 구입할 수 있다. 그러나, 물론 프랙처링 지시는 다른 소프트웨어를 이용하여 다른 포맷으로 생성될 수 있다는 것은 주목할 필요가 있다. 프랙처링 지시는 처리 서버 또는 독립형인 개별 디스크 메모리 풀(Disk Memory Pool)에 저장될 수 있다. 프랙처 엔진 서버는 처리 서버 또는 디스크 메모리 풀과 인터페이스하여 프랙처 지시를 판독하고 패턴 데이타를 프랙처링한다.

패턴 데이타가 프랙처링되면, 프랙처링된 데이타의 무결성(integrity)은 검증되어야만 한다. 검증 프로세스는 포토마스크 처리에 이용되는 공지되었거나 미래에 개발될 기술을 포함한다.

또한, 바 코딩은 포토마스크에 바 코드를 적용하는 프로세스를 나타낸다. 특히, 특정의 전단 포토마스크 프로세서는 재고 물품 추적 목적을 위해 그의 포토마스크에 바 코드를 포함시키길 원할 수 있다. 이와 같이, 전단 포토마스크 프로세서가 그러한 바 코드를 위한 정보를 주문에 포함시킨 경우, SEMI 처리 소프트웨어는 이 데이타를 추출해서 이를 포맷하고 리소그래피 툴이 이용할 수 있는 형식으로 패턴 데이타를 생성한다. 리소그래피 툴은 리소 잡데크 지시(Litho Jobdeck Instructions)에 의해 바 코드 패턴 데이타를 이용하여 포토마스크에 바 코드를 기입하도록 정해져 있다.

레지스트레이션 측정 파일을 생성하는 프로세스는 검사 툴이 포토마스크를 얼라인(align)하는데 이용하는 좌표를 포함하는 파일을 생성하는 방법을 나타낸다. 이들 좌표는 이미지를 준-도전체에 노출시키는데 함께 이용될 수 있다. 레지스트레이션 정보는 또한 포토마스크를 반도체 웨이퍼 또는 다른 포토마스크 층에 얼라인하기 위한 반도체 제조 프로세스에 이용될 수 있다. SEMI 소프트웨어는 레지스트레이션 측정 파일의 생성을 위한 적절한 데이타를 주문으로부터 추출하고 그러한 데이타를 레지스트레이션 검사 프로세스를 실행하는 장비용으로 포맷한다. 이에 관련해서, 레지스트레이션 파일은 MF2 파일, MF3 파일, 크리티컬 디멘젼 파일 등을 포함하지만 이들에 제한되지 않는 다양한 형식일 수 있다. 데이타 사이징 및 리버스 프로세스는 제조 프로세스에서 포토마스크의 처리를 손쉽게 하기 위해 패턴 데이타의 사이징 및 톤을 수정하는 방법을 나타낸다. SEMI 소프트웨어는 주문으로부터 적절한 지시를 추출하고 데이타 사이징 오퍼레이션을 위한 프랙처 지시를 생성한다. 이들 지시는 통상은 cinc 파일에 저장된다. 이러한 프로세스의 성능에 대한 상황은 도 9의 데이타 S/R로 추적된다.

이진 포토마스크 디자인의 경우에, SEMI 소프트웨어는 포토마스크의 제조 동안 기판에 대한 포토마스크의 전개(movement)를 설명하기 위한 위도(a degree of latitude)를 제시하기 위해 패턴 데이타에 데이타 바이어스(data bias)를 자동으로 적용한다. 그러므로, 포토마스크의 거의 투명하고 거의 불투명한 특징들(features)의 임의 전개는 포토마스크가 디자인 명세서에 따라서 아직도 제조되고 있다는 것을 말해준다. 데이타 바이어스를 적용하는데 고려해야 할 팩터는 생산 제어 플래깅, 포토마스크가 제조되는 곳인 설비(예를 들어, 포토마스크 제조 설 비, 전단 포토마스크 프로세서의 설비) 및 이들 설비에서 포토마스크의 제조에 영향을 줄 수 있는 조건(예를 들어, 사이징, 시프팅, 특별한 코멘트, 패턴 이름 갱신, 잡데크 구축 및 패턴 이름을 세미 파일 또는 MES 파일에 업로딩)을 포함하지만 이들에 제한되지는 않는다.

위상 천이 포토마스크("PSM") 디자인의 경우에, SEMI 소프트웨어는 PSMs(예를 들어, aaPSMs, EAPSMs) 및 유사한 서브-해상도 구조에서 나타나는 크리티컬 디멘젼 및 해상도를 다양하게 보정하기 위해 광근접보정("OPC")을 패턴 데이타에 자동으로 적용한다. 이에 관련해서, 본 발명의 소프트웨어는 제조 동안에 나타난 계통적 왜곡의 원인이라고 생각되는 마스크 디자인의 마스크 레이아웃 기하도형적 배열을 수정하는 OPC를 적용한다.

부가적으로, 생산 제어 플래깅의 프로세스는 특정의 전단 포토마스크 프로세서 주문을 처리하는 적절한 제조 설비를 결정하는 특징(feature)을 나타낸다. 예를 들어, 포토마스크 제조업자가 독일과 싱가포르에 제조 설비를 갖고 있는 경우에, SEMI 소프트웨어는 전단 포토마스크 프로세서의 주문을 분석하여 포토마스크를 독일에서 또는 싱가포르에서, 아니면 이들 양 지역에서 제조할 것인지 여부를 결정한다. 생산 제어 플래깅 특징들은 각 제조 사이트에서 이용되는 리소그래피 툴, 전단 포토마스크 프로세서의 기호, 및 각 설비에 있는 작업 부하를 포함하지만 이들에 제한되지 않는 임의 다양한 기준에 근거해서 이러한 판정을 하도록 설정될 수 있다.

더블 체킹 특징은 전단 포토마스크 프로세서가 제공한 명세서에 치수가 정해 져있는 패턴 데이타의 정확도를 비교하는 프로세스를 나타낸다. SEMI 소프트웨어는 주문으로부터 데이타를 추출하여 이를 더블 체킹 특징을 실행하는 장비가 읽을 수 있게 배열한다.

온-그리드 체크는 잡데크 내의 패턴 데이타의 배치를 리소그래피 툴의 내부 배치 "그리드"에 비교하는 프로세스를 나타낸다. 유한 배치 좌표점이 리소 툴 내부 그리드의 점들 사이에 속한다면 패턴은 그리드를 벗어낫 것으로 간주된다.

본 발명의 다른 특징은 에러 및 사건(즉, 프로세스가 시작되었거나 종료된 것)을 인식해서 여기서 논의된 분포 리스트의 멤버들에게 보고하도록 프로그램되어 있는 자동 메시징 특징이다. 이 특징은 FTP 서버 및 처리 서버에 관해서 앞서 설명된 바와 같이 이용될 수 있다.

부가적으로, 전자적 크리티컬 디멘젼 플로트("E-CD Plots")는 처리된 포토마스크 상의 패턴 데이타의 전자적인 그림을 품질 제어 목적을 위해 내부의 기준 마크로 표시하는 프로세스를 나타낸다. 여기에 관련된 것으로서, SEMI 처리 소프트웨어는 E-CD 플로팅을 위해 필요한 지시를 주문으로부터 추출하여 통상적으로 프랙처 엔진이 플로트 파일을 생성하는데 이용할 수 있게 cinq 파일을 생성하여 이들을 디스크 메모리 풀에 저장한다.

주문이 제공되는 포맷에 따라서, 제조 타스크들 중 몇몇 또는 모두는 실행될 필요가 있을 수도 있고 그렇지 않을 수도 있다. 이와 같이, 데이타 어레이에 리스트되어 있는 제조 타스크들 중 임의 것은 선택적으로 불능될 수 있다. 이들 처리 펑션들 각각을 위해 데이타가 배열되는 방식은 전단 포토마스크 프로세서가 제공한 멩세서에 따라 다를 것이다. 그럼에도 불구하고, 데이타는 펑션들 각각이 실행될 수 있게 배열되어야만 한다.

이 시스템은 또한 임의 제조 타스크들의 상황 뿐만아니라 그러한 타스크들을 실행하는데 직면한 에러에 대한 신속한 확인 및 통지를 제공하는 자동 대화식 모니터링 시스템을 포함한다. 도 9 및 10을 참조해 보면, 양호한 실시예에서, 이러한 대화식 모니터링 시스템은 패스워드를 포함하지만 이에 한정되는 것이 아닌 보안 인증을 통해서 억세스될 수 있는 인트라넷 상의 웹 사이트 형식으로 제공된다. 대안으로, 이 웹 사이트는 또한 인증 또는 인증 없이 월드 와이드 웹, 및/또는 임의 다른 웹으로 억세스될 수 있다. 이 웹 사이트을 엔터해서, 기술자는 각 제조 타스크의 상황을 볼 수 있다. 임의 에러가 발생하면, 기술자는 특정의 제조 타스크를 정지하고, 에러를 보정한 후 이 프로세스를 다시 시작할 수 있다.

또한, 제조 실행 시스템("MES")은 처리 서버에 의해 인터페이스될 수 있는 클라이언트 컴퓨터에 설치될 수 있다. MES 시스템은 이 기술 분야에 잘 알려져 있으며, 제조 프로세스를 추적하고, 빌링 정보를 생성하고, 여기서 논의된 다양한 제조 타스크의 결과를 다운로딩할 수 있는 능력을 시스템 유저에게 제공한다.

본 발명은 또한 XML, SOAP, ebXml, Rosetta Net, 및 프로토콜과 같은 다른 것을 포함하지만 이에 제한되지 않는 표준 또는 커스톰 프로토콜을 구현하는 임의 MES 시스템에 인터페이스하여 컨디셔닝된 데이타(conditioned data)를 MES 시스템에 자동으로 전송하는데 이용될 수 있다.

도 9에 도시되어 있지 않을지라도, 자동 툴 선택 프로세스인 프로세스 판정 과 같은 다른 타스크가 포함될 수 있다. 특히, 프로세스 판정에서, 포토마스크의 제조에 이용되는 특정의 유닛 또는 처리 장비의 종류(예를 들어, 특수한 리소 또는 검사 툴)가 지정된다. 이 정보는 전단 포토마스크 프로세서에 의해 지정되거나 또는 특정의 타스크를 실행하기 위해 선택된 사이트의 결과로서 지정될 수 있다.

본 발명의 제2 소프트웨어 컴포넌트의 관련 특징들에 의해서 관련 데이타 파일이 생성되면, 이들 데이타 파일이 단일 파일로 합체된다. 원한다면, 이들 파일은 개별 파일로 유지되거나 다수 세트의 파일로 합체될 수 있다. 데이타 파일은 주문 데이타 및 패턴 데이타의 적어도 일부를 실질적인 즉석-기입 가능 포맷 및/또는 즉석-검사 가능 포맷으로 포함해야 한다. 다른 말로, 데이타 파일은 제조업자가 수신한 때 전단 포토마스크 프로세서의 명세서에 따라서 포토마스크를 실질적으로 기입 및 검사할 수 있게 적절한 제조 장비에 입력될 수 있는 포맷이어야만 한다. 물론, 데이타 파일이 제조 장비용의 적절한 포맷이 될 수 있게 제조업자가 이용하는 장비의 종류에 관한 지식을 갖고 있어야 할 필요가 있을 수 있다. 그러므로, 적절하고 필요하다면, 전단 포토마스크 프로세서는 제조업자로부터 제조 장비(예를 들어, 리소그래피 툴, 검사 장비 등) 필요조건을 얻어서 이 정보를 데이타 파일에 합체해야 한다. 한 실시예에서, 이는, 전단 포토마스크 프로세서가 주문을 엔터하고 있으며 포토마스크를 만드는데 필요한 제조 설비 및 관련 장비에 속하는 정보를 필요로한다는 것을 알려주는 전자 신호(예를 들어, 이메일)를 제조업자에게 보냄으로써 성취될 수 있다. 제조업자는 이후 전자 신호를 전단 포토마스크 제조업자에게 전송하여 이 정보를 제공한다. 이들 신호는 포토마스크 주문의 입력 완 료 전에 전송되어야만 한다. 한 실시예에서, 이들 단계는 본 발명의 데이타 서비스 네트워크 및 방법을 이용하여 실행된다.

데이타 파일이 컴파일되면, 전단 포토마스크 프로세서는 제조를 위해 이 파일을 네트워크 접속을 통해서 외부의 원격 제조업자의 시스템에 전송한다. 한 실시예에서, 전단 포토마스크 프로세서는 이 정보를 파일 전송 프로토콜("FTP")을 이용하는 TCP/IP 기반의 네트워크(예를 들어, 인터넷)를 통해서 제조업자에게 전자적으로 전송한다. 본 발명은 또한 이메일의 첨부물을 파싱하거나 이 파일을 다른 매체로부터 다운로드하는 것과 같은 다른 프로토콜을 이용할 수 있다. 제조업자의 시스템이 이 파일을 수신하면, 제조업자는 이 파일에 제공된 지시 및 명세서에 따라서 포토마스크를 제조한다. 어떤 예에서는, 제조업자가 일단 수신된 이 파일에 대한 어떤 부가적인 컨디셔닝을 실행하는 것이 필요할 수 있다. 이후, 포토마스크는 여기서 논의된 알려진 기술을 통해서 반도체를 제조하는데 이용될 수 있다.

본 발명의 양호한 실시예들이 상세히 설명되었고 도시되었으므로, 이 기술 분야에서 숙련된 사람들에게는 본 발명에 대한 다양한 수정 및 개량도 아주 용이할 것이다. 예를 들어, 양호한 실시예에서, 제1 및 제2 소프트웨어 컴포넌트는 전단 포토마스크 프로세서가 주문을 엔터해서 이 주문의 적어도 일부를 실질적 즉석-기입 가능 파일 및/또는 실질적 즉석-검사 가능 파일로 처리하여 원격 제조업자 설비에 전송하는데 이용된다. 그러나, 제1 소프트웨어 컴포넌트가 전단 포토마스크 프로세서에 의해 이용될 있도록 본 발명이 수정될 수 있다는 것은 이해하여야 한다. 이 경우, 전단 포토마스크 프로세서가 포토마스크 주문을 포토마스크 프로세서에게 보내고 이 포토마스크 프로세서는 이 주문을 본 발명의 제2 소프트웨어 컴포넌트를 이용하여 처리할 수 있다. 따라서, 본 발명의 정신 및 범위는 앞서의 명세서에 의한 것이 아니라 특허청구범위에 의해서 광의로 해석되고 한정되어야만 한다.

Claims

실질적으로 투명한 특징 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 방법에 있어서,

전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계;

디자인 데이타에 따라서 만들어진 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계;

포토마스크 내에 실질적으로 투명한 특징 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개(process movement)를 용이하게 하기 위해 디자인 데이타를 사이징(sizing)하는 단계;

적어도 디자인 데이타의 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링(fracturing)하는 단계;

프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계;

다음의 데이타 종류: (i)엔터된 디자인 데이타; (ii)사이징된 디자인 데이타; (iii)프랙처링된 데이타; 및 (iv)프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계;

상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔 닝(conditioning)하는 단계; 및

컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계를 포함하는 마스크 데이타 처리 방법.
제1항에 있어서, 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-검사 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 포토마스크 제조 처리는 검사 잡데크(jobdeck)를 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 포토마스크 제조 처리는 리소그래피 잡데크를 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 사이징 단계는 생산 제어 플래깅의 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 사이징 단계는 제조 설비를 결정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 사이징 단계는 제조 설비에 근거해서 바이어싱을 결정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 사이징 단계는 포토마스크 제조 설비를 결정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 사이징 단계는 포토마스크 및 고객의 설비에 근거해서 데이타를 컨디셔닝하는 단계를 더 포함하는 방법.
제9항에 있어서, 상기 컨디셔닝 단계는 다음의 단계: (i) 데이타를 사이징하는 단계; (ii) 데이타를 시프트하는 단계; (iii) 데이타에 관한 특정의 코멘트를 제공하는 단계; (iv) 패턴의 이름을 갱신하는 단계; (v) 잡데크를 구축하고, 패턴 이름을 SEMI 파일에 업로딩하는 단계; 및 (vi) 패턴 이름을 MES 파일에 업로딩하는 단계 중에서 하나 이상을 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 적어도 하나의 잡데크를 처리하는 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 전자적 크리티컬 디멘젼을 플로팅하는 단계; SEMI 명세서를 컨디셔닝하는 단계; 제조될 포토마스크를 식별하는 바 코드를 생성하는 단계; 레지스트레이션 측정 파일을 생성하는 단계; 상기 데이타를 더블 체킹하는 단계; 및 상기 포토마스크가 제조되는 제조 설비의 식별로 상기 데이타를 플래깅하는 단계로 이루어진 군으로부터 선택된 단계들을 더 포함하는 방법.
제12항에 있어서, 상기 플래깅하는 단계는 다음의 기준: 제조 사이트에서 이용되는 리소그래피 툴의 종류; 전단 포토마스크 프로세서의 기호; 및 각 설비의 작업 부하 중에서 하나 이상에 근거해서 이루어지는 방법.
제1항에 있어서, 상기 필요조건은 포토마스크 산업계 포맷인 방법.
제14항에 있어서, 상기 산업계 포맷은 SEMI P-10 표준인 방법.
제1항에 있어서, 상기 필요조건은 전용 포맷인 방법.
제16항에 있어서, 상기 전용 포맷은 전단 포토마스크 프로세서의 디자인 시스템에 근거한 것인 방법.
제16항에 있어서, 상기 전용 포맷은 포토마스크 제조업자의 처리 시스템에 근거한 것인 방법.
제1항에 있어서, 상기 필요조건을 입력하는 단계는 (1) 데이타가 엔터되는 템플릿; (2) 템플릿에 엔터된 데이타를 지정된 포맷으로 변환하기 위한 룰; (3) 포토마스크 주문을 지정된 포맷으로 생성하기 위해 템플릿을 이용하는 지시; (4) 지정된 포맷에 대비해서 포토마스크 주문을 확인하기 위한 독립된 세트의 룰; 및 (5) 포토마스크 템플릿 또는 주문에 관련된 적어도 하나의 유일한 속성 오브젝트로 이루어지는 군으로부터 선택된 적어도 하나의 서브컴포넌트를 포함하는 제1 소프트웨어 컴포넌트에 의해 관리되는 방법.
위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 방법에 있어서,

전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계;

디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계;

포토마스크 내의 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하는 단계;

디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실 질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계;

프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계;

다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계;

상기 마스크 제조 처리에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및

컨디션닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계를 포함하는 마스크 데이타 처리 방법.
실질적으로 투명한 특징 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하고, 지시(instructions)를 구비하는 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 자동 시스템에 있어서,

상기 지시는,

전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계;

디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필 요조건을 입력하는 단계;

포토마스크 내의 실질적으로 투명한 특징 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 디자인 데이타를 사이징하는 단계;

디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계;

프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계;

다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계;

상기 마스크 제조 처리에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및

컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계

를 수행할 수 있는 프로세서 상에서 실행가능한 마스크 데이타 자동 처리 시스템.
실질적으로 투명한 특징 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 자동 시스템에서,

마스크 데이타를 처리하기 위한 메모리, 제1 소프트웨어 컴포넌트 및 제2 소프트웨어 컴포넌트를 포함하는 적어도 하나의 서버, 여기서

상기 마스크 디자인에 관한 상기 데이타는 상기 메모리에 저장되며,

제1 소프트웨어 컴포넌트는 디자인 데이타에 따라서 이루어지는 포토마스크 주문을 처리하기 위한 필요조건 데이타의 유저의 엔트리를 관리하는 지시를 포함하며,

제2 소프트웨어 컴포넌트는 마스크 패턴 데이타 및 필요조건 데이타를 제조에 적합한 포맷으로 파싱하기 위한 지시를 포함하며, 상기 제2 소프트웨어 컴포넌트는 다음의 타스크: (i) 포토마스크 내에 실질적으로 투명한 특징 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 디자인 데이타를 사이징하고; (ii) 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하고; (iii) 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하고; (iv) 다음의 데이타 종류: (a) 엔터된 디자인 데이타; (b) 사이징된 디자인 데이타; (c) 프랙처링된 데이타; 및 (d) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하고; 그리고 (v) 상기 마스크 제조 처리에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 것을 실행하기 위한 지시를 포함하며; 및

컨디션닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하기 위한 회로를 포함하는 마스크 데이타 자동 처리 시스템.
위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하고, 지시를 구비하는 컴퓨터 판독가능 매체를 포함하는 자동 시스템에 있어서,

상기 지시는,

전자 회로 디자인 데이타의 특정한 형식을 이용해서 디자인 데이타를 엔터하는 단계;

디자인 데이타에 따라서 만들어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건을 입력하는 단계;

포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하는 단계;

디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하는 단계;

프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하는 단계;

다음의 데이타 종류: (i) 엔터된 디자인 데이타; (ii) 사이징된 디자인 데이타; (iii) 프랙처링된 데이타; 및 (iv) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하는 단계;

상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 단계; 및

컨디셔닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하는 단계

를 수행할 수 있는 프로세서 상에서 실행가능한 마스크 데이타 자동 처리 시스템.
위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징을 갖고 있는 포토마스크를 제조하는데 이용하기 위한 전자 회로 디자인 데이타 파일 형식의 디자인 데이타를 특정의 포토마스크 제조 처리에 적합한 데이타 포맷으로 변환해서 마스크 데이타를 처리하는 자동 시스템에서,

마스크 데이타를 처리하기 위한 메모리, 제1 소프트웨어 컴포넌트 및 제2 소프트웨어 컴포넌트를 포함하는 적어도 하나의 서버, 여기서

상기 마스크 디자인에 관한 상기 데이타는 상기 메모리에 저장되며,

제1 소프트웨어 컴포넌트는 디자인 데이타에 따라서 이루어지는 포토마스크의 주문을 처리하기 위한 필요조건 데이타의 유저의 엔트리를 관리하는 지시를 포함하며,

제2 소프트웨어 컴포넌트는 마스크 패턴 데이타 및 필요조건 데이타를 제조에 적합한 포맷으로 파싱하기 위한 지시를 포함하며, 상기 제2 소프트웨어 컴포넌트는 다음의 타스크: (i) 포토마스크 내에 위상 천이 및 실질적으로 불투명한 특징들의 프로세스 전개를 용이하게 하기 위해 광근접보정을 적용하고; (ii) 디자인 데이타의 적어도 일부를 특정의 포토마스크 제조 처리에 호환되는 실질적 즉석-기입 가능 포맷으로 프랙처링하고; (iii) 프랙처링된 디자인 데이타의 무결성을 검증하고; (iv) 다음의 데이타 종류: (a) 엔터된 디자인 데이타; (b) 사이징된 디자인 데이타; (c) 프랙처링된 데이타; 및 (d) 프랙처링된 데이타의 검증 중에서 하나 이상으로 생성된 두개 이상의 데이타 세트를 합체하고; 그리고 (v) 상기 마스크 제조 프로세스에 호환되게 상기 데이타 세트를 컨디셔닝하는 것을 실행하기 위한 지시를 포함하며; 및

컨디션닝된 데이타 세트에 대응하는 전자 신호를 특정의 포토마스크 제조 처리에 관련된 원격 제조 시스템에 전송하기 위한 회로를 포함하는 마스크 데이타 자동 처리 시스템.