JP2008504570A - フォトマスク注文を自動的に生成して処理するための総合フロントエンド方法及びシステム - Google Patents

Abstract

本発明は、フォトマスク注文を自動的に生成して処理するための総合フロントエンド方法及びシステムに関する。この方法及びシステムは、別個ではあるが関係した２つのソフトウェアコンポーネントを含む。本発明の第１のソフトウェアコンポーネントは、指定されたフォーマットでフォーマット注文を生成するのに使用される。本発明の第２のソフトウェアコンポーネントは、（第１のソフトウェアコンポーネントを使用して生成された）フォトマスク注文の少なくとも一部を処理して、実質的にそのまま書き込めるジョブデックファイル及び／又は実質的にそのまま書き込める検査ファイルにする。このフォーマット注文は、次に、フォトマスクを製造する遠隔のフォトマスク製造業者のシステムへ転送される。これらのソフトウェアコンポーネントは、コンピュータシステムに別個のプログラムとしてインストールすることもできるし、複数の機能を実行する単一のソフトウェアパッケージとして動作することもできる。

Description

［発明の分野］
本発明は、包括的には、フォトマスク注文を自動的に生成して処理するための総合フロントエンド方法及びシステムに関する。より詳細には、本発明は、指定されたフォーマットでフォトマスク注文を生成し、次に、そのフォトマスク注文を処理して、実質的にそのまま書き込める（ready-to-write）ジョブデックファイル及び実質的にそのまま書き込める検査ファイルにするソフトウェアベースのアプリケーションに関する。このフォトマスク注文は、次に、フォトマスクを製造するために遠隔のフォトマスク製造業者のシステムへ転送される。

［関連出願の相互参照］
本特許出願は、以下の同時係属中の特許出願の部分継続出願である。すなわち、（１）２００４年５月２４日に出願された「Automated Manufacturing Process And Method For Processing Photomasks」という名称の米国特許出願番号第１０／８５２，５３２号、及び、（２）２００４年１１月３日に出願された「User-Friendly Rule-Based System And Methods For Automatically Generating Photomask Orders」という名称の米国特許出願番号第１０／９８１，２０１号の部分継続出願である。上記（１）の米国特許出願番号第１０／８５２，５３２号は、２００２年３月１４日に出願された米国特許出願１０／０９９，５２２号（現在、米国特許第６，７６０，６４０号）の継続出願である。上記（２）の米国特許出願第１０／９８１，２０１号は、２００４年５月２５日に出願された米国特許出願番号第１０／８７７，００１号の部分継続出願である。この米国特許出願番号第１０／８７７，００１号は、２００２年７月３０日に出願された米国特許出願第１０／２０９，２５４号（現在、米国特許第６，８４２，８８１号）の部分継続出願である。これらの出願の内容は、参照によりその全体が本明細書に援用される。

［発明の背景］
フォトマスクは、電子回路の微細画像を含む高精度プレートである。フォトマスクは、通常、一方の側にクロムの層を有する非常に平坦な石英片又はガラス片から作製されている。クロムには、電子回路設計の一部がエッチングされている。マスク上のこの回路設計は、「ジオメトリ」とも呼ばれる。

半導体デバイスの生産に使用される通常のフォトマスクは、「ブランク」のフォトマスク又は「未現像(undeveloped)」のフォトマスクから形成される。図１に示すように、通常のブランクフォトマスク１０は、３つ又は４つの層から構成される。第１の層１１は、一般に基板と呼ばれる石英又は実質的に透明な他の材料の層である。次の層は、通常、Ｃｒ等の不透明材料の層１２である。この層は、多くの場合、ＣｒＯ等の反射防止材料の第３の層１３を含む。この反射防止層は、あらゆる所与のフォトマスクに含めてもよいし、含めなくてもよい。最上層は、通常、感光性レジスト材料の層１４である。位相シフトマスク、組み込み減衰型位相シフトマスク（「ＥＡＰＳＭ」）、及び交互位相配置型位相シフトマスク（「ＡＡＰＳＭ」）を含む他のタイプのフォトマスクが既知であり、使用されているがこれらに限定されるものではない。これらのタイプの位相シフトマスクは、不透明領域と、光の位相がたとえば約１８０°だけシフトされる半透明領域とを含む設計上の特徴によって特徴付けられる。このようなフォトマスクの例は、Photoronics社の米国特許第６，６８２，８６１号、米国特許公開第２００４−０１８５３４８Ａ１号、米国特許公開第２００５−００２６０５３号、及び米国特許公開第２００５−００５３８４７号に記載されている。これらの米国特許及び米国特許公開の内容は、参照により本明細書に援用される。

フォトマスクの製造プロセスは、多くのステップを伴い、多くの時間を要する可能性がある。この点に関して、フォトマスクを製造するために、フォトマスク１０上に作り出される不透明材料１２の所望のパターンは、通常、露光システム内にロードされる電子データファイルによって規定される。この露光システムは、通常、ブランクフォトマスクの全体にわたってラスタ形式又はベクトル形式で電子ビーム（Ｅビーム）又はレーザビームを走査する。ラスタ走査露光システムのこのような一例は、Collierの米国特許第３，９００，７３７号に記載されている。それぞれの独特の露光システムは、ブランクフォトマスクを露光する際に機器に命令するための、システム独自のデータ処理用のソフトウェア及びフォーマットを有する。Ｅビーム又はレーザビームが、ブランクフォトマスク１０の全体にわたって走査される時、露光システムは、Ｅビーム又はレーザビームを、電子データファイルによって規定されたフォトマスク上のアドレス指定可能ロケーションに向ける。Ｅビーム又はレーザビームに露光される感光性レジスト材料のエリアは可溶性になるのに対して、露光されていない部分は不溶性のまま維持される。

ブランクフォトマスク１０のフォトレジスト１４の、Ｅビーム又はレーザによって露光すべき場所及び露光すべきでない場所を決定するために、ジョブデック（jobdeck）の形で処理機器に適切な命令を提供する必要がある。ジョブデックを作成するために、所望のパターンの画像が、たとえば、長方形及び台形といったより小さな規格化された形状に分解（又はフラクチャリング）される。フラクチャリングプロセスは、非常に多くの時間を要する可能性がある。フラクチャリングされた後、たとえば、必要に応じてデータをサイジングし、必要に応じてデータを回転させ、基準マーク及び内部参照マークを追加すること等によって、画像をさらに修正することが必要な場合がある。通常、ジョブデックのフラクチャリング及び／又は作成を行うには、専用コンピュータシステムが使用される。その後、フォトマスクを露光するための必要な命令を処理ツールに提供するため、ジョブデックデータが処理ツールに転送されなければならない。

露光システムが、図２に示すように、感光性レジスト材料１４上に所望の画像を走査した後、可溶性の感光性レジスト材料は、当該技術分野において既知の手段によって除去され、露光されていない不溶性の感光性レジスト材料１４’は、不透明材料１３及び１２に付着したままである。このように、フォトマスク１０上に形成されるパターンは、残っている感光性レジスト材料１４’によって形成される。

このパターンは、次に、既知のエッチングプロセスを介して、残っているフォトレジスト材料１４’からフォトマスク１０へ転写され、残っているフォトレジスト１４’によって覆われていない領域の反射防止材料１３及び不透明材料１２が除去される。当該技術分野では多種多様なエッチングプロセスが既知である。これらの多種多様なエッチングプロセスには、ドライエッチング及びウェットエッチングが含まれる。したがって、多種多様な機器を使用して、このようなエッチングが行われる。エッチングが完了した後、図３に示すように、残っているフォトレジスト材料１４’は剥離又は除去され、フォトマスクが完成する。完成したフォトマスクでは、残っている反射防止材料１３’及び不透明材料１２’によってこれまで反射されたようなパターンが配置されている。パターンが配置されている領域は、可溶性材料が前のステップで除去された後に、残っているフォトレジスト１４’が留まっている領域である。

何らかの許容できない欠陥が特定のフォトマスクに存在するかどうかを判断するために、フォトマスクを検査することが必要である。欠陥は、ジオメトリに影響を与える何らかの不具合である。これには、望ましくないクロムエリア（クロムスポット、クロム拡張部分、ジオメトリ間のクロムブリッジング）又は不要なクリアエリア（ピンホール、クリア拡張部分、クリアの切断）が含まれる。欠陥は、フォトマスクから作製される回路を機能させなくする可能性がある。フォトマスクを注文したエンティティは、フォトマスクの欠陥仕様書に、フォトマスクのプロセスに影響を与える欠陥のサイズを示すであろう。そのサイズ以上のすべての欠陥を修復しなければならないか、又は、欠陥を修復できない場合には、マスクを不合格にして書き換えなければならない。

通常、KLA-Tencor又はApplied Materialsによって製造された検査システム等の自動化マスク検査システムを使用して、欠陥が検出される。このような自動化システムは、フォトマスクに照射ビームを向けて、フォトマスクを透過した光ビームの部分の強度及びフォトマスクから反射されて戻ってきた光ビームの部分の強度を検出する。検出された光強度は、次に、予測光強度と比較され、何らかの偏差があれば、欠陥として示される。一システムの詳細は、KLA-Tencorに譲渡された米国特許第５，５６３，７０２号に見ることができる。

検査に合格した後、完成したフォトマスクは洗浄されて、汚染物質が落とされる。次に、完成したフォトマスクに薄膜を塗布して、その重要なパターン領域を空気汚染から保護することができる。その後、徹底的な薄膜欠陥検査を行うことができる。場合によっては、薄膜を塗布する前又は塗布した後に、フォトマスクは切断される場合がある。

上述した製造ステップのそれぞれを実行する前に、半導体製造業者（たとえば、顧客）は、最初に、製造されるフォトマスクに関する種々のタイプのデータをフォトマスク製造業者に提供しなければならない。この点に関して、顧客は、通常、フォトマスクの製造及び処理に必要とされるさまざまなタイプの情報及びデータを含むフォトマスク注文を提供する。これらの情報及びデータには、たとえば、フォトマスクの設計に関するデータ、使用される材料に関するデータ、納期に関するデータ、支払い情報に関するデータ、並びに注文の処理及びフォトマスクの製造に必要とされる他の情報が含まれる。

フォトマスクの製造における長年にわたる問題は、フォトマスク注文を顧客から受け取った時からフォトマスクを製造するのに要する時間である。この点に関して、フォトマスク注文を処理して、フォトマスクを製造するのに要する全体の時間は、長期にわたる可能性があり、したがって、フォトマスクの全体の生産量は最大にならない。この問題の一部は、フォトマスクを注文する多くの顧客が、多くの場合、自身の注文をさまざまな異なるフォーマットで行い、これらのさまざまな異なるフォーマットが、多くの場合、フォトマスク製造業者のコンピュータシステム及び／又は製造機器に適合していないことに帰される。したがって、フォトマスク製造業者は、多くの場合、注文データを再フォーマットして、その注文データを、製造業者のコンピュータシステム及び／又は製造機器に適合する異なるフォーマットに調節し、変換し、且つ／又は、補完することが必要とされる。これは、かなりの時間を要する可能性があり、したがって、フォトマスクを製造するのに要する時間を遅らせる可能性がある。

これらの問題に対処しようとして、フォトマスク業界は、フォトマスク注文を行うべきさまざまな標準フォトマスク注文フォーマットを開発してきた。たとえば、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準規格は、フォトマスクの製造に使用される１つの標準フォーマットである。加えて、半導体製造業者数社は、標準フォーマットを採用するのではなく、フォトマスク注文を行うそれらの製造業者独自のフォトマスク注文フォーマットを開発している。これらの標準フォトマスク注文フォーマット及び独自のフォトマスク注文フォーマットは、フォトマスク注文が顧客から同一のフォーマットで受け取られるように作成され、それによって、フォトマスクを製造するのに要する全体の時間が削減されていた。

このような標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自のフォトマスク注文フォーマットは、フォトマスクを製造するのに要する時間を削減する際に役立つが、多くの半導体製造業者は、さまざまな理由から、このような標準フォーマット及び／又は独自フォーマットでフォトマスク注文を行いたがらなかった。たとえば、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準注文フォーマットは、かなり複雑であり、注文を行う顧客が、このような標準規格に関連する要件についての高度な実用的知識を有することを必要とする。多くの半導体製造業者はフォトマスクを製造しないので、このような製造業者は、このような標準フォーマットの複雑さを学ぶための資源も、時間も、能力も有しない場合がある。したがって、半導体製造業者は、多くの場合、体系的に編成されていない方法で、また、多くの場合は不完全な方法で、フォトマスク製造業者にフォトマスク注文データを提供する。その結果、フォトマスク製造業者は、このデータを解析して、このデータを使用できるフォーマット（たとえば、ＳＥＭＩ Ｐ−１０フォーマット）に編成することが必要とされる。加えて、不完全なフォトマスク注文データがフォトマスク製造業者に提供される場合、このような製造業者は、欠けている情報を顧客に要求することを必要とするであろう。その結果、多くの場合、完全且つ正確なフォトマスク注文を得る過程で、かなり多くの時間が浪費され、したがって、フォトマスクを製造するのに要する全体の時間は、大幅に遅れる可能性がある。それ以外に、自動化システムの使用を通じてこれらの問題への対処を試みるものもある。しかしながら、これらの従来のシステムは、いくつかの欠点を有する。

たとえば、以前、AlignRite社（Photronics社の前身組織）は、インターネットベースの配信システムの使用を通じて、電子データの配信を促進することを試みた。しかしながら、AlignRiteシステムは、顧客からフォトマスク製造業者のコンピュータシステムへのフォトマスクデータの高速配信が可能であり、且つ、リアルタイムでこのデータの正確度を確認することができたが、この従来のシステムは、単一の標準フォーマット及び／又は独自フォーマットによるフォトマスク注文データの自動化生成を提供するものではなかった。この点に関して、データが顧客から受信されると、そのデータに対する標準的な修正をオペレータが手動で入力しなければならなかった。手動による変更の入力が必要とされる度に、ヒューマンエラーのリスクが増加し、ジョブの全体の長さが延長されていた。

その後、他の業者は、製造データ及び支払いデータがインターネット上で自動的にダウンロードされてオンラインで自動的に検証されるシステムを開示した。１つのこのようなシステムは、２００２年１月１０日に公開されたDuPont Photomask社のＰＣＴ公開番号第０２／０３１４１号に記載されている。このシステムは、米国特許第６，６２２，２９５号の主題でもある。より詳細には、DuPontのＰＣＴ公開は、フォトマスク注文データが、顧客によってオンラインで入力され、処理のためにフォトマスク製造業者へ送信されるシステムを開示している。このシステムでは、顧客は、フォトマスク注文データを入力するように促される。このようなデータは、フォトマスク製造業者に送信される。フォトマスク製造業者は、次に、データの診断評価を実行する。いずれかのデータが不完全又は不正確である場合、システムは、顧客にメッセージを送信して、このようなエラーを顧客に通知する。その後、ユーザは、そのエラーを訂正しなければならない。データが製造業者によって確認された（且つ、必要に応じて訂正された）後、製造業者は、このデータを処理して、このデータを、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準フォーマット等の標準（又は独自の）フォーマットにする。

DuPontのＰＣＴ公開のシステムは、診断目的には役立つが、非常に扱いにくく、データが入力されている顧客に応じたフォトマスク注文を定型化する際に、ユーザに柔軟性をほとんど提供しない。DuPontシステムは、一般情報の入力に基づいて、顧客の情報のプロファイリングを提供しない。DuPontのシステムの別の不利な点は、顧客がシステムを使用する度に、顧客は、注文に関する特定の情報を再入力することが必要とされ、前の注文で入力した情報を使用できないということである。したがって、DuPontシステムを使用してフォトマスク注文を生成することは、多くの時間を要する。

従来技術では、フォトマスク注文が顧客から受信されて適切なフォーマットにされると、関連する製造機器がそのフォトマスクを書き込むことができ、且つ、検査できるようにするために、その注文を処理することが依然として必要であった。通常のフォトマスク生産プロセスでは、完成したフォトマスクを形成するのに必要なステップの多くは、手動で実行されるか、又は、別々の人によって実行される。その結果、これらのステップを実行するための従来の既知の方法及びシステムは、非効率的であり、多くの時間を要し、かなり多くのヒューマンエラーを被る。

より詳細には、製造業者が顧客のフォトマスク注文を受け取ると、オペレータは、受け取った情報をソートして、その情報が提供した適切な処理局又は部署へ同じものを手動で転送することが必要とされる。たとえば、支払い情報は、支払い部署へ転送されなければならず、フラクチャリングを実行するのに必要なパターンデータは、フラクチャリングコンピュータへ提供される必要があり、残りのジョブデック情報は、適切な処理局へ転送されなければならない。情報が、製造業者のコンピュータが提供するものと異なるフォーマットで提供される場合、この事実も手動で識別される必要があり、その後、ファイルを適切なフォーマットに変換する必要がある。フォトマスク製造業者が、生産中のフォトマスクの進捗状況を追跡したい場合、各局と個別に連絡して、オペレータから状況を確認することが必要であった。半導体製造業者が、複数の異なるマシンによって使用される同じパターンを必要とする限り、オペレータは、フラクチャリングコンピュータを手動でプログラミングして、適切な修正を行うことが必要とされる。同様に、使用されているフォトマスク製造処理のために、一定の顧客の指定フォーマットを修正する必要がある限り、フラクチャリングコンピュータに対するデータ入力のこれらのタイプの修正も、従来、オペレータが手動で入力する必要があった。従来技術のシステムは、これらの変化を自動的に考慮し、且つ対処する方法を何ら提供しない。

フォトマスク生産業界における長年にわたる問題は、顧客の注文を受け取ってから、処理されたフォトマスクの形成及び納品までに要する時間をどのように削減するかということである。このプロセスを迅速に処理するためにこれまでに使用された、いくつかの方法は、ＳＥＭＩ Ｐ１０標準規格等の業界標準規格を作成することであった。このＳＥＭＩ Ｐ１０標準規格は、長年にわたって修正されて更新されてきた。これらの業界標準規格は、データをフォトマスク製造業者に電子的に提供すべき書式を規定している。このような標準規格は、役立つものではあるが、それ自体で単独で、フォトマスクの製造に必要な情報の処理の円滑な自動化を達成するものではなかった。

上述した製造ステップが完了した後、完成したフォトマスクは、半導体又は他の製品の製造に使用するために顧客へ送られる。詳細には、フォトマスクは、一般に、半導体業界で使用されて、半導体回路を画定する微小規模画像が、シリコン又はガリウム砒素の基板又はウェハへ転写される。画像をフォトマスクからシリコン基板又はシリコンウェハへ転写するためのプロセスは、一般に、リソグラフィ又はマイクロリソグラフィと呼ばれる。通常、図４に示すように、半導体製造プロセスは、堆積ステップ、フォトリソグラフィステップ、及びエッチングステップを含む。堆積中、電気的な絶縁材料又は（金属、ポリシリコン、又は酸化物のような）電気的な導電材料のいずれかの層が、シリコンウェハの表面に堆積される。この材料は、次に、感光性レジストでコーティングされる。フォトマスクは、次に、写真を作るのにネガ写真が使用されるのとほとんど同じ方法で使用される。フォトリソグラフィは、フォトマスク上の画像をウェハ上に投影することを伴う。フォトマスク上の画像が数回並んでウェハ上に投影される場合、これは、ステッピングとして知られており、このフォトマスクはレチクルと呼ばれる。

図５に示すように、半導体ウェハ２０上に画像２１を作成するために、フォトマスク１０は、半導体ウェハ２０と光学系２２との間に挿入される。半導体ウェハ２０は、感光性材料の層を含む。一般にステッパと呼ばれるエネルギー源２３によって生成されたエネルギーは、不透明材料が存在するフォトマスク１０のエリアを通過することを阻止される。ステッパ２３からのエネルギーは、不透明材料１２及び反射防止材料１３によって覆われていない石英基板１１の透明部分を通過する。光学系２２は、不透明材料１２及び１３のパターンの縮小画像２４を半導体ウェハ２０上に投影し、半導体ウェハ上の感光性材料に反応を引き起こす。感光性材料の溶解性は、エネルギーに晒されたエリアで変化する。ポジ型フォトリソグラフィプロセスの場合、露光された感光性材料は、可溶性になり、除去することができる。ネガ型フォトリソグラフィプロセスの場合、露光された感光性材料は、不溶性になり、露光されていない可溶性の感光性材料が除去される。

可溶性感光性材料が除去された後、不溶性感光性材料に形成された画像又はパターンは、一般にエッチングと呼ばれる、当該技術分野で既知のプロセスによって基板へ転写される。パターンが基板材料上に一旦エッチングされると、残りのレジストが除去されて、その結果、完成品となる。材料及びレジストの新たな層が、その後、ウェハ上に堆積され、次のフォトマスク上の画像がその上に投影される。再び、ウェハは、現像されてエッチングされる。このプロセスは、回路が完成するまで繰り返される。通常の半導体デバイスでは、多くの層が堆積される場合があるので、単一の半導体デバイスであっても、その製造には多くの異なるフォトマスクが必要な場合がある。実際に、２つ以上の機器が半導体製造業者により使用されて、半導体デバイスが製造される場合、各層ごとであっても、２つ以上のフォトマスクが必要とされ得る可能性がある。さらに、異なる生産ラインでフォトレジストを露光するのに、異なるタイプの機器が使用される場合もあるので、複数の同一のフォトマスクパターンであっても、半導体製造機器の相違を考慮するために、サイジング、向き、スケーリング、及び他の属性においてさらに変更することが必要とされる場合がある。同様の調整は、フォトマスク製造業者のリソグラフィ機器の相違を考慮することにも必要な場合がある。これらの相違は、フォトマスク製造処理で考慮する必要がある。

［発明の概要］
従来技術は興味深いが、従来技術の既知の方法及び装置は、本発明が克服しようとするいくつかの限界を提示している。

詳細には、フォトマスク注文を生成して処理するための総合フロントエンド方法及びシステムを提供することが、本発明の目的である。

フォトマスク注文を１つ又は複数の標準フォーマット及び／又は独自フォーマットで自動的に生成するためのルールベースのシステム及び方法を提供することが、本発明の別の目的であり、ルールは、現在既知であるか又は今後開発される任意の個数の異なる標準フォーマット及び／又は独自フォーマットを満たすように適合又は修正することができる。

フォトマスク注文を１つ又は複数の標準フォーマット及び／又は独自フォーマットで自動的に生成するためのルールベースのシステム及び方法を提供することが、本発明の別の目的であり、このシステム及び方法は、ユーザが、フォトマスク注文について、標準フォーマット及び／又は独自フォーマットに関連するルールセットに従うことを必要とする。

１つ又は複数の標準フォーマット及び／又は独自フォーマットでフォトマスク注文を自動的に生成するためのルールベースのシステム及び方法を提供することが本発明の別の目的であり、注文は、フォトマスクデータを含む既存のフォトマスク注文（複数可）及び／又はテンプレートを単一の新たな注文に融合することによって生成される。

フォトマスク注文及びデータの入力時間を削減するためのルールベースのフォトマスク注文システム及び方法を提供することが、本発明の別の目的である。

製造されているフォトマスクの全体の生産量を増加させるためのルールベースのフォトマスク注文システム及び方法を提供することが、本発明の別の目的である。

フォトマスク注文の手動による入力に関連する複写エラーを削減するためのルールベースのフォトマスク注文システム及び方法を提供することが、本発明の別の目的である。

フォトマスクの製造のためのフォトマスク注文データの送信及び処理における手動による介入を取り除くことが、本発明の別の目的である。

準備時間、及び、フォトマスク製造業者が、フロントエンドフォトマスク処理業者から必要な処理情報を受け取った時から、完成したフォトマスクをそのフロントエンドフォトマスク処理業者へ納品するまでに要する準備及びトータルの処理時間を削減することが、本発明の別の目的である。

フォトマスクデータが製造のために処理されて送信される正確度及び効率性を改善することが、本発明の別の目的である。

従来技術の欠点を解決することが、本発明の別の目的である。

他の目的は、上記説明から明らかになる。

次に、本発明の上記目的及び関連する目的は、フォトマスク注文の少なくとも一部を実質的にそのまま書き込めるフォーマット及び実質的にそのまま検査できるフォーマットで自動的に生成して処理するためのフロントエンド方法及びシステムの形で得られることが見出されている。

より詳細には、本発明は、実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理する方法に関する。本方法は以下の、電子回路設計データの特定の書式を使用して設計データを入力するステップと、設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、設計データをサイジングするステップであって、それによって、フォトマスクの実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部の処理の進行（process movement）を容易にする、設計データをサイジングするステップと、設計データの少なくとも一部を、特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）入力された設計データ、（ｉｉ）サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）フラクチャリングされたデータを検証したもの、の１つ又は複数から生成される２つ以上のデータセットを融合するステップと、データセットを調節するステップであって、それによって、マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、調節されたデータセットに対応する電子的信号を、特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップとを含む。

同様に、本発明は、位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理する方法を対象とする。本方法は、電子回路設計データの特定の書式を使用して設計データを入力するステップと、設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、光近接効果補正を適用するステップであって、それによって、フォトマスクの位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、光近接効果補正を適用するステップと、設計データの少なくとも一部を、特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）入力された設計データ、（ｉｉ）サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）フラクチャリングされたデータを検証したもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するステップと、データセットを調節するステップであって、それによって、マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、調節されたデータセットに対応する電子的信号を、特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップとを含む。

加えて、本発明は、実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムであって、命令を含むコンピュータ可読媒体を備える、自動化システムを対象とする。これらの命令は、以下のステップ、すなわち、電子回路設計データの特定の書式を使用して設計データを入力するステップと、設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、設計データをサイジングするステップであって、それによって、フォトマスクの実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、設計データをサイジングするステップと、設計データの少なくとも一部を、特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）入力された設計データ、（ｉｉ）サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）フラクチャリングされたデータを検証したもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するステップと、データセットを調節するステップであって、それによって、マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、調節されたデータセットに対応する電子信号を、特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップとを実行できるプロセッサで実行可能である。

さらに、本発明は、実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムを対象とする。本システムは、マスクデータを処理するためのメモリ、第１のソフトウェアコンポーネント、及び第２のソフトウェアコンポーネントを備える少なくとも１つのサーバであって、マスク設計に関するデータは、メモリに記憶され、第１のソフトウェアコンポーネントは、設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件データのユーザによる入力を管理する命令を備え、第２のソフトウェアコンポーネントは、マスクパターンデータ及び要件データを解析して、製造に適したフォーマットにするための命令を備え、なお、第２のソフトウェアコンポーネントは、以下のタスク、すなわち、（ｉ）設計データをサイジングするタスクであって、それによって、フォトマスクの実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、設計データをサイジングするタスクと、（ｉｉ）設計データの少なくとも一部を、特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするタスクと、（ｉｉｉ）フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するタスクと、（ｉｖ）以下のデータタイプ、すなわち、（ａ）入力された設計データ、（ｂ）サイジングされた設計データ、（ｃ）フラクチャリングされたデータ、及び（ｄ）フラクチャリングされたデータを検証したもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するタスクと、（ｖ）データセットを調節するタスクであって、それによって、マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するタスクと、を実行するための命令を備える、少なくとも１つのサーバと、調節されたデータセットに対応する電子的信号を、特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するための回路部とを備える。

さらに、本発明は、位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムであって、命令を含むコンピュータ可読媒体を備える、自動化システムを対象とする。これらの命令は、以下のステップ、すなわち、電子回路設計データの特定の書式を使用して設計データを入力するステップと、設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、光近接効果補正を適用するステップであって、それによって、フォトマスクの位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、光近接効果補正を適用するステップと、設計データの少なくとも一部を、特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）入力された設計データ、（ｉｉ）サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）フラクチャリングされたデータを検証したもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するステップと、データセットを調節するステップであって、それによって、マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、調節されたデータセットに対応する電子的信号を、特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップとを実行できるプロセッサで実行可能である。

本発明はまた、位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムを対象とする。本システムは、マスクデータを処理するためのメモリ、第１のソフトウェアコンポーネント、及び第２のソフトウェアコンポーネントを備える少なくとも１つのサーバであって、マスク設計に関するデータは、メモリに記憶され、第１のソフトウェアコンポーネントは、設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件データのユーザによる入力を管理する命令を備え、第２のソフトウェアコンポーネントは、マスクパターンデータ及び要件データを解析して、製造に適したフォーマットにするための命令を備え、なお、第２のソフトウェアコンポーネントは、以下のタスク、すなわち、（ｉ）光近接効果補正を適用するタスクであって、それによって、フォトマスクの位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、光近接効果補正を適用するタスクと、（ｉｉ）設計データの少なくとも一部を、特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするタスクと、（ｉｉｉ）フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するタスクと、（ｉｖ）以下のデータタイプ、すなわち、（ａ）入力された設計データ、（ｂ）サイジングされた設計データ、（ｃ）フラクチャリングされたデータ、及び（ｄ）フラクチャリングされたデータを検証したもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するタスクと、（ｖ）データセットを調節するタスクであって、それによって、マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するタスクと、を実行するための命令を備える、少なくとも１つのサーバと、調節されたデータセットに対応する電子的信号を、特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するための回路部とを備える。

本発明の例示ではあるが好ましい実施の形態の以下の詳細な説明を添付図面と共に取り入れる場合に、その詳細な説明を参照することによって、本発明の上記目的、機能、及び利点、並びに、関連する目的、機能、及び利点はより十分に理解される。

［好適な実施形態の詳細な説明］
本発明は、フォトマスク注文を自動的に生成して処理するための総合フロントエンド方法及びシステムに関する。この方法及びシステムは、別個ではあるが関連のある２つのソフトウェアコンポーネントを含む。本発明の第１のソフトウェアコンポーネントは、指定されたフォーマットでフォトマスク注文を生成するのに使用される。本発明の第２のソフトウェアコンポーネントは、フォトマスク注文の少なくとも一部を処理する（このフォトマスク注文は、第１のソフトウェアコンポーネントを使用して生成されたもの、又は、それ以外に実質的にそのまま書き込めるジョブデックファイル及び／若しくは実質的にそのまま書き込める検査ファイルを使用して生成されたものである）。このフォトマスク注文は、次に、フォトマスクを製造するために、遠隔のフォトマスク製造業者のシステムへ転送される。これらのソフトウェアコンポーネントは、コンピュータシステムに別個のプログラムとしてインストールすることもできるし、複数の機能を実行する単一のソフトウェアパッケージとして動作することもできる。本発明のシステム及び方法の一般的なプロセスフローを図６を参照して説明し、このシステム及び方法の詳細を図７〜図１２を参照して説明する。

図６を参照して、フォトマスク設計データ及び製造プロセス要件データは、フォトマスクの注文を所望しているエンティティ（たとえば、半導体設計者のコンピュータシステム）から得られる。例示の半導体設計者のコンピュータシステムは、フロントエンド処理業者のコンピュータネットワークの一部であってもよいし、そのコンピュータネットワークから分離されていてもよい。このコンピュータは、遠隔で接続されている場合、いくつか例を挙げると、ＦＴＰ接続、安全なインターネット接続（secured internet connection）、（後述するような）データサービスネットワーク、又は他の既知の若しくは今後開発される技法等のいずれかを通じて接続することができる。本発明のソフトウェアの第１のコンポーネントは、フォトマスク注文処理業者のコンピュータシステムにインストールされ、指定されたフォーマット（たとえば、ＳＥＭＩ Ｐ−１０）で製造プロセス要件データを入力して調節するのに使用される。好ましい実施の形態では、本発明のソフトウェアの第２のコンポーネントも、第１のソフトウェアコンポーネントと同じシステムにインストールされる。或いは、第２のソフトウェアコンポーネントは、別個のコンピュータシステムにインストールすることができる。このコンピュータシステムは、以下で解説するように、たとえば、ネットワーク接続、データサービスネットワークを通じて第１のコンピュータシステムとしての第１のコンポーネントと通信することができる。

本発明の第２のソフトウェアコンポーネントは、電子ファイルとしてシステムにすでに入力されているフォトマスク設計データを受信する。その後、第２のソフトウェアコンポーネントは、受信した設計データ及び要件データを処理する。この点に関して、第２のソフトウェアコンポーネントは、（ｉ）バイナリフォトマスク設計用の設計データをサイジングするか、又は、位相シフトマスク設計用の設計データに光近接効果補正を実行し、（ｉｉ）設計データをフラクチャリングし、（ｉｉｉ）フラクチャリングされたデータの完全性を検証し、（ｉｖ）設計データ要件データの処理中に作成されたデータセットを融合し、且つ、（ｖ）その融合されたデータセットを調節して、実質的にそのまま検査できるデータファイル及び／又は実質的にそのまま書き込めるデータファイルにする。これらのステップが完了するとすぐに、調節されたデータは、処理のために電子的信号（たとえば、電子メール）によってフォトマスク製造業者に送信される。一実施の形態では、これらのステップの完了前に、或る電子的信号（たとえば、電子メール）が製造業者へ送信される。この電子的信号は、フォトマスク注文が入力されていることを通知し、且つ、フォトマスクを作製するのに使用される製造設備及び関連する機器に関する情報を製造業者に要求するものである。製造業者は、次に、この情報を提供する電子的信号をフォトマスク処理業者のシステムへ送信する。この情報は、製造のためのデータを完成させる際に考慮される。好ましい実施の形態では、上記ステップは、図６に示す順序で実行されるが、本発明及び添付の特許請求の範囲は、ステップのこれらの順序に限定されるものではなく、順序は、特定の注文及び製造プロセスのニーズを満たすように修正できることが理解されるはずである。

本発明のソフトウェアコンポーネント及び関連する方法を説明する前に、まず、フォトマスク注文を作成して、その注文に従いフォトマスクを製造するのに必要とされる情報のタイプを説明することが必要である。より詳細には、本明細書で解説したように、フォトマスクは、通常、半導体及び他のデバイスを製造するのに必要とされる。この場合によくあることであるが、フォトマスクが製造される前に、フォトマスクを所望するエンティティは、まず、製造されるフォトマスクを設計しなければならない。そうするために、このエンティティは、フォトマスク製造業者に提供される一定のデータ及び仕様を作成する。より具体的には、このエンティティは、自身のコンピュータに、（１）パターンデータ、及び、（２）特定のジョブに関する他の特定の要件を生成する。これらは、多くの場合、ＳＥＭＩ Ｐ−１０書式等の業界標準フォーマットで提供されるが、他のカスタムフォーマットで提供される場合もある。

パターンデータは、通常、図面の形で生成され、通常、フォトマスク上に含まれるさまざまな形状及び線を示している。しかしながら、このパターンデータは、必ずしも一律の縮尺であるとは限らない。換言すれば、パターンデータは、そのパターンデータに対応する必要な仕様を必ずしも含んでいるとは限らない。この必要な仕様には、いくつか例を挙げると、パターンの限界寸法、パターンの異なる領域に使用される色の陰影、位置決め（registration）情報、マスクのパターンの実際の配置、露光情報、検査情報等の情報が含まれるが、これらに限定されるものではない。逆に、パターンデータは、フォトマスクにエッチングされるパターンの全体の形状しか示していない。パターンデータは、解析できるどの電子的フォーマットでも提供することができる。

したがって、パターンデータを提供することに加えて、フォトマスクを設計するエンティティは、処理ステップを実行するために、通常はＳＥＭＩ Ｐ−１０書式で必要な追加情報も製造業者に提供する。ＳＥＭＩ Ｐ−１０は、ソフトウェアシステム間でのフォトマスク注文データの伝送を容易にして、フォトマスク製造業者によるこのような注文の自動処理を可能にすることを目的としたデータ構造仕様である。ＳＥＭＩ Ｐ−１０書式は、長年にわたって改訂されてきており、たとえば、いくつか例を挙げると、顧客情報、限界寸法情報、階調情報、位置決め情報、支払い情報、別個に提供されているパターン情報のフォーマットコード、完成したフォトマスクの寸法及び倍率、フラクチャリングスケール、基板及び薄膜のタイプ等のような情報を含む。ＳＥＭＩ−Ｐ−１０−０３０１標準規格に加えて、その前身のものも、顧客からフォトマスク製造業者へのデータ転送に含めることができる情報のタイプを特定する例として、参照により本明細書に援用される。参照を簡単にするために、電子的に提供される非パターン情報は、本明細書ではフォトマスク注文と呼ぶ。しかしながら、本発明は、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準規格の現在のバージョンに限定されるものではなく、このような標準規格のあらゆる今後の変化に合致するように容易に修正できることに留意すべきである。さらに、本発明は、標準フォーマットにも限定されるものではなく、カスタムフォーマットにも適用することができる。このカスタムフォーマットも、参照を容易にするために、本明細書ではフォトマスク注文と呼ばれる。本発明によれば、第１のソフトウェアコンポーネント及び関連する方法は、特定のフォーマットで注文を生成するように、ユーザに注文入力プロセスを案内するのに使用される。

より詳細には、本発明によれば、指定されたフォーマットでフォトマスク注文を自動的に生成するためのコンピュータ化されたルールベースのシステム及び方法が提供される。このシステム及び方法では、フォトマスクの製造を所望するエンティティ（以下、「フロントエンドフォトマスク処理業者」と呼ぶ）は、フォトマスクを製造するのに必要とされる注文データが完全且つ正確であり、指定された注文フォーマットの要件を満たすように、そのデータの入力プロセスを案内される。フロントエンドフォトマスク処理業者の例には、いくつか例を挙げると、フォトマスク設計者、半導体製造業者、フォトマスク製造業者の顧客等が含まれるが、これらに限定されるものではない。

これらの機能を実行するために、システム及び方法は、以下の５つのサブコンポーネントの１つ又は複数の組み合わせを含む第１のソフトウェアコンポーネントを利用して、フォトマスク注文を所望のフォーマットで生成する。５つのサブコンポーネントとは、（１）データが入力されるテンプレート、（２）テンプレートに入力されたデータを、指定された標準フォーマット及び／又は独自フォーマットに変換するためのルール、（３）テンプレートを使用して、指定されたフォーマットでフォトマスク注文を作成するための方法、（４）指定された標準フォーマットと対比してフォトマスク注文を確認するための別個のルールセット、及び、（５）フォトマスクテンプレート又はフォトマスク注文に関連する１つ又は複数の一意の属性オブジェクトである仕様グレードであって、テンプレート又は注文が参照できる仕様グレードである。

特定のテンプレートを特定のルールに関連付けて、フロントエンドフォトマスク処理業者が、完全且つ正確なフォトマスク注文情報を確実に入力するようにするソフトウェアが、本発明のシステムで実行される。同様に、特定のフォトマスク注文を特定のルールに関連付けて、フロントエンド処理業者が完全且つ正確なフォトマスク注文情報を確実に入力するようにするソフトウェアも、本発明のシステムで実行される。仕様グレードは、参照データとして取り扱うことができ、テンプレート、注文、又は注文を作成するのに使用されるテンプレートに適用することができる。テンプレート及び注文に仕様グレードを参照データとして含ませることによって、少数の仕様グレードのみを単に改訂するだけで、多数のテンプレート及び／又は注文を容易に更新することができる。

このソフトウェアを説明する前に、まず、テンプレート、注文、及びルールの記憶及び編成を行う方法を説明することが必要である。より詳細には、システムは、少なくとも１つのプロセッサを含むサーバと、サーバに格納される外部データ記憶媒体とを含む。フォトマスク注文データの入力を容易にし、且つ、注文を生成するためのルール及びテンプレートは、外部記憶媒体に記憶される。外部データ記憶媒体は、さまざまな異なるタイプの記憶媒体とすることができる。これらのさまざまな異なるタイプの記憶媒体には、リレーショナルデータベース、オブジェクト指向クラス、ＸＭＬファイル、及び、現在知られているか又は今後開発される他の同様の記憶媒体が含まれるが、これらに限定されるものではない。システムの外部に記憶媒体を保持し、且つ、本発明のシステム及び方法と共に使用できる記憶媒体のタイプに柔軟性を提供することによって、さまざまな異なるユーザ及び自動化システムは、さまざまな異なるプラットフォームにわたってシステムを動的に動作させることができる。

好ましい実施の形態では、一組のテンプレート及び注文が、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットの要件に基づいて作成される。この点に関して、これらのテンプレート及び注文は、コンポーネント及びサブコンポーネントの階層として編成される。この階層では、それぞれのコンポーネント及びサブコンポーネントは、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットの要件によって定義される。たとえば、特定のフォトマスク注文フォーマットは、マスクデータコンポーネントが、一定のサブコンポーネントを含むことを必要とする場合がある。これらの一定のサブコンポーネントは、いくつか例を挙げると、タイトル、バーコード、及びパターンデータ等である。これらのサブコンポーネントのそれぞれは、さらに詳細なサブコンポーネント（「子コンポーネント」）を有することができる。たとえば、パターンデータコンポーネントは、マスクデータコンポーネントのサブコンポーネントであるが、それに関連する一組の子コンポーネントを有することができる。標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットの要件に応じて、これらの子コンポーネントも、同様に、追加されたサブコンポーネントを有することができ、これらの追加されたサブコンポーネントも、それらの自身のサブコンポーネントを有することができる。それ以降のサブコンポーネントも同様である。

コンポーネント及びそれらのコンポーネントに関連するサブコンポーネントのそれぞれは、一組の属性（たとえば、バイナリ、文字列、整数、実数、日付、ブール変数、リスト等）によって定義される。テンプレートは、フォトマスク注文を作成するのに使用されるので、あらゆる所与のテンプレートに関連するルール（以下でより詳細に解説）は、そのテンプレートから作成されるフォトマスク注文に関連するルールのサブセットである。本発明の下では、テンプレート、注文、コンポーネント、サブコンポーネント等は、それぞれ別個に記憶することができる。これによって、ユーザは、一定のコンポーネント又はサブコンポーネントをテンプレートから除外することが可能になり、仕様グレードとしてテンプレートにより参照される、これらの別個に記憶されたコンポーネント又はサブコンポーネントを有することが可能になる。所与のテンプレートから作成された新たな注文が、これらのコンポーネント又はサブコンポーネントの変更を必要とする場合、テンプレートに何ら変更を加える必要なく、別個に記憶された仕様グレードにしか変更を加える必要がない。

表１は、テンプレート及び注文のコンポーネント及びサブコンポーネントを標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットに従ってどのように編成できるかの一例を実例で示している。

表１において、第１（左端）列のエントリーは、第２列のエントリー（子）の親であり、第２列のエントリーは、第３列のエントリーの親である。以下、同様である。或いは、表１の任意の２つの隣接した列は、コンポーネント（左の列）及びサブコンポーネント（右の列）を定義することができる。表１に示すように、同じコンポーネントが、他のコンポーネントのサブコンポーネントとして現れる場合がある。たとえば、限界寸法データは、表１の列４及び列５においてパターンデータのサブコンポーネントとして現れている。各コンポーネント及びそれに関連するサブコンポーネントは、互いに別個に記憶することができ、且つ、注文又はテンプレートと別個に記憶することができるので、これらのいずれも、或る注文の或る部分から同じ注文の別の部分へコピーすることもできるし、異なる注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等へコピーすることもできる。コンポーネント及びサブコンポーネントのコピー及びペーストのこの柔軟性によって、ユーザは、同じ注文情報を再入力する必要なく、多くのフォトマスク注文を迅速に作成することが可能になる。

テンプレート及び注文は、グラフィカルユーザインターフェースを使用して手動で作成することができる。また、テンプレート及び注文は、他の外部媒体からの情報を使用して自動的に作成又は修正することもできる。これらの他の外部媒体には、フォーマットされていないテキストファイル、ＸＭＬファイル、又は或るタイプのデータ記憶デバイス若しくはデータ記憶メカニズムが含まれるが、これらに限定されるものではない。たとえば、フロントエンドフォトマスク処理業者のコンピュータは、このようなファイル、データベース、又は、新たなテンプレート若しくは注文を作成する際、若しくは、既存のテンプレート若しくは注文に欠けている情報を提供する際に役立つ他の電子的情報を含むことができる。データ処理メカニズムを使用して、これらの外部媒体からの必要な情報を、新たなテンプレート若しくは注文又は既存のテンプレート若しくは注文にインポートすることができる。たとえば、変換ソフトウェア又はマッピングソフトウェアを使用して、フロントエンドフォトマスク処理業者のファイル又はデータベースを、アプリケーションに必要とされるフォーマットに変換することができる。このようなソフトウェアの市販されているものの一例は、Ｄａｔａ Ｊｕｎｃｔｉｏｎである。このＤａｔａ Ｊｕｎｃｔｉｏｎは、数百のアプリケーション及び構造化されたデータフォーマットの間でデータを高速に統合して変換するためのビジュアル設計ツールである。一方、任意の適切な市販の変換ソフトウェア若しくはマッピングソフトウェア又は任意の適切な独自の変換ソフトウェア若しくはマッピングソフトウェアを使用して、このタスクを行うことができる。外部情報は、注文処理システムに対してローカルでテンプレート又は注文内へインポートすることもできるし、ワイドエリアネットワーク若しくはローカルエリアネットワーク又はインターネット等のような既存のネットワーク接続を介してインポートすることもできる。また、これらの外部情報は、他の既知の技法によっても受け取ることもできる。これらの他の既知の技法は、ＦＴＰプロトコル、電子メール、ＨＴＴＰ、独自プロトコル、又はそれらの情報を転送するのに利用可能となり得る他の任意の既知のプロトコル等である。ＧＵＩが使用される場合、ユーザは、ＧＵＩによって、具体的に列挙したデータを入力するように促される。図８は、フォトマスク注文生成システムが使用できる通常のＧＵＩである。この例では、図８に示すＧＵＩは、注文されるマスクに関する記述的情報を入力するようにユーザに促している。この例では、いくつか例を挙げると、マスク名、ステータス、製品タイプ等を含む情報が入力される。マスク名のようないくつかの場合には、情報は、直接タイプ入力される。それ以外の場合、製品タイプカテゴリーに関する場合等は、情報は、ドロップダウンメニューから選択することができる。

テンプレート及び注文は、他の外部媒体からの情報を使用して自動的に作成又は修正することもできる。これらの他の外部媒体には、フォーマットされていないテキストファイル、ＸＭＬファイル、又は或るタイプのデータ記憶デバイス若しくはデータ記憶メカニズムが含まれるが、これらに限定されるものではない。たとえば、フロントエンドフォトマスク処理業者のコンピュータは、新たなテンプレート若しくは注文を作成する際、又は、既存のテンプレート若しくは注文に欠けている情報を提供する際に役立つこのようなファイル、データベース、又は他の電子的情報を含むことができる。同様に、フォトマスク注文生成システムによる使用のために、事前に存在する注文、テンプレート、コンポーネント、又はサブコンポーネントを変換及び再フォーマットできるように、注文テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等を、たとえば、スキャナ又は他のファイル変換技法によって電子的にインポートすることができる。たとえば、変換ソフトウェア又はマッピングソフトウェアを使用して、フロントエンドフォトマスク処理業者のファイル又はデータベースを、アプリケーションに必要とされるフォーマットに変換することができる。このようなソフトウェアの市販されているものの一例は、Ｄａｔａ Ｊｕｎｃｔｉｏｎである。Ｄａｔａ Ｊｕｎｃｔｉｏｎは、数百のアプリケーション及び構造化されたデータフォーマットの間でデータを高速に統合して変換するためのビジュアル設計ツールである。一方、任意の適切な市販の変換ソフトウェア若しくはマッピングソフトウェア又は任意の適切な独自の変換ソフトウェア若しくはマッピングソフトウェアを使用して、このタスクを行うことができる。外部情報は、注文処理システムを通じてローカルでテンプレート又は注文内へインポートすることもできるし、ＦＴＰプロトコル、電子メール、ＨＴＴＰ、独自プロトコル、他の任意の既知のプロトコル等のさまざまなデータ転送技法により、ワイドエリアネットワーク若しくはローカルエリアネットワーク又はインターネット等の既存のネットワーク接続を介してインポートすることもできる。

グラフィカルユーザインターフェースを介して人により行われるすべてのオペレーションは、少なくとも部分的には、人との直接的な対話なしに自動化された方法で実行することもできる。本発明の下では、これは、プレーンテキスト命令セット又はコマンドラインに基づくスクリプト技法によって達成することができる。プレーンテキスト命令セットは、アプリケーションプログラミングインターフェースに翻訳されて一連のオペレーションをアプリケーションに実行するように命令することができる高級プログラミング言語である。たとえば、「replace device name 'Device A' with device name 'Device B'」（デバイス名「デバイスＡ」をデバイス名「デバイスＢ」に置き換える）を示すコマンドラインは、フロントエンドフォトマスク処理業者のネットワークのユーザがシステムへ送信することもできるし、本明細書で詳述するように自動的にシステムへ送信することもできる。システムは、このコマンドラインを受信すると、特定のテンプレート又は注文におけるデバイス名を新たなデバイス名に置き換える。もちろん、これは、命令セットをどのように使用できるかの単なる一例にすぎず、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。ＡＳＣＩＩファイル又はバイナリファイルを生成でき、且つ、オペレーティングシステムのコマンドを実行できる任意のプログラミング言語を使用して、この命令にアクセスするカスタムモジュールを、フロントエンドフォトマスク処理業者のシステムで使用するために、作成することができる。自動化された実施態様によって、許可されたユーザは、既存のネットワーク接続を介して任意の許可されたシステムにアクセスすることが可能になる。ファイアウォール、ログイン、パスワード等の通常のセキュリティ対策を使用して、データベース及びマスク注文システムの機密性及びデータセキュリティを保護することができる。

このように、注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等は、コマンドラインを介したスクリプト技法又は他の開発環境を使用することによって生成及び／又は修正することができる。好ましくは、スクリプト技法は、ユーザによって入力されたスクリプトの名前を引数とするコマンドラインプログラムを含む。このスクリプトは、注文、テンプレート、コンポーネント、及び／又はサブコンポーネント等を或る指定された方法で操作する多数のコマンドを含む。好ましくは、グラフィカルユーザインターフェースを介してユーザが利用可能な編集機能の一部又は全部も、スクリプトコマンドを介したスクリプト技法で利用可能にすることができる。

好ましい実施の形態では、いくつか例を挙げると、新たな注文の作成、既存の注文の編集、テンプレートからの注文の作成、注文、テンプレート、コンポーネント、又はサブコンポーネントへの新たなコンポーネント又はサブコンポーネントの追加、コンポーネント又はサブコンポーネントの修正、注文の保存、注文からのＳＥＭＩ Ｐ−１０ファイル又は他の互換性のあるフォーマット若しくは標準のファイルの作成等の編集機能にスクリプトコマンドを使用することができる。加えて、スクリプト技法は、データを照会することもでき、複数の注文及びテンプレートに対するバッチ編集を同時に行うこともできる。

スクリプト技法で使用されるスクリプトファイルは、１つ又は複数のスクリプトコマンドを含むプレーンテキストファイルの形とすることができる。スクリプトコマンドは、いくつか例を挙げると、変数宣言、割り当て、関数コール、ｉｆ文、ｆｏｒ文又はｆｏｒ ｅａｃｈ文、ｗｈｉｌｅ文、ｉｎｃｌｕｄｅ等の機能を含むことができる。変数宣言コマンドは、後に使用されるデータ値を格納するのに使用される変数をその使用前に宣言するのに使用される。変数宣言コマンドは、使用される変数のデータタイプの宣言を含むことができる。変数のデータタイプは、次のものの１つ、すなわち、文字列、数値、ブール変数、日付、リスト、ツリーアイテムの１つとすることができる。文字列は、０又は１つ以上の文字のシーケンスを表すことができる。数値は、任意の実際の数量の整数又は分数のいずれかを表すことができ、正の値、０、又は負の値のいずれかとすることができる。ブール変数は、真又は偽のいずれかを表すことができる。日付は、特定の日を表すことができ、また、その日の時刻も含むことができる。リストは、同じデータタイプの値のリストを表すことができる。ツリーアイテムは、フォトマスク注文システムのツリー階層からのオブジェクトを表すことができ、注文、フォトマスク、テンプレート、又はパターン等を表すことができる。

関数コールコマンドにより、システムライブラリの関数を呼び出すことができる。システムライブラリから呼び出すことができる関数には、注文、テンプレート、コンポーネント、及びサブコンポーネントの一般的管理のための関数、個々のツリーアイテムを取り扱うための関数、特定のツリーアイテムのフィールドを取り扱うための関数、日付の値を取り扱うための関数、値のリストを操作するための関数、及び他のあらゆる汎用関数又は専用関数が含まれ得る。

注文、テンプレート、コンポーネント、及びサブコンポーネントの一般的管理のための関数コールの例には、いくつか例を挙げると、注文の作成（新たな空の注文の作成）、テンプレートからの注文の作成（所与のテンプレートからの新たな注文の作成）、注文のオープン（既存の注文のオープン）、テンプレートの作成（新たなテンプレートの作成）、テンプレートのオープン（編集のための既存のテンプレートのオープン）、日付スケジュールの適用（所与の事前に存在する日付スケジュールの、指定された日付から開始する注文又はテンプレートへの適用）、保存（注文テンプレートに対する変更のデータベースへの保存）、ＳＥＭＩ Ｐ−１０ファイルの作成（所与の注文からの「ＳＥＭＩ Ｐ−１０」ファイルの作成）、ＳＥＭＩ Ｐ−１０ファイルの作成及び送信（所与の注文からのＳＥＭＩ Ｐ−１０ファイルの作成、及び、指定された転送方法、たとえばインターネット上のＦＴＰ、を介したそのファイルの指定されたロケーションへの送信）、注文の削除（指定された注文のデータベースからの削除）テンプレートの削除（指定されたテンプレートのデータベースからの削除）等が含まれ得るが、これらに限定されるものではない。

個々のツリーアイテムを取り扱うための関数コールの例には、いくつか例を挙げると、ツリーアイテムの作成（指定されたタイプの新たなブランクのツリーアイテムの作成）、ツリーアイテムのコピー（ツリーアイテムに関連する子ツリーアイテムを含めて、そのツリーアイテムの正確なコピーの作成）、１つのツリーアイテムの発見（一定の所与の基準を満たす別のツリーアイテムの下のいずれかの場所で所与のタイプのツリーアイテムの位置を突き止めること）、複数のツリーアイテムの発見（一定の所与の基準を満たすすべてのツリーアイテムの発見）、親の取得（所与のツリーアイテムの親ツリーアイテムの取得）、ツリーにおける置換（replace in tree）（特定のオブジェクトから開始する特定のタイプのツリーアイテム内のすべてのテキストフィールドにおける所与の１つのテキストの置換）等が含まれ得るが、これらに限定されるものではない。

ツリーアイテムのフィールドを取り扱うための関数コールの例には、いくつか例を挙げると、フィールドの取得（ツリーアイテムフィールドの値の取得）、フィールドの設定（ツリーアイテムフィールドの値の設定）、フィールドアイテムの追加（タイプリスト（type list）であるツリーアイテムフィールドへの新たな値の追加）、フィールドアイテムの削除（タイプリストのツリーアイテムフィールドからのアイテムの削除）等が含まれ得るが、これらに限定されるものではない。

日付の値を取り扱うための関数コールの例には、いくつか例を挙げると、日付の作成（指定された値を有する新たな日付の作成）、日付の追加（指定された期間の日付への追加）、日付の削減（日付からの指定された期間の削減）等が含まれ得るが、これらに限定されるものではない。

値のリストを操作するための関数コールの例には、いくつか例を挙げると、リストアイテムの追加（リストへの新たなアイテムの追加。ここで、新たなアイテムは、リストの他のアイテムと同じデータタイプである）、リストアイテムの削除（リストからのアイテムの削除）、リスト包含（list contains）（特定の値がリストに含まれるかどうかの判断）、リストサイズ（リストのアイテムの個数を求めること）等が含まれ得るが、これらに限定されるものではない。

汎用関数又は専用関数の例には、いくつか例を挙げると、ヌルであるか（値がヌル値であるか否かの判断）、表示（print）（メッセージのスクリーンへの表示）等が含まれ得るが、これらに限定されるものではない。ユーザが望ましいと認めることができるどんなタイプ又は形の機能も、システムライブラリに関数として潜在的に含めることができる。システムライブラリの関数コールのリストは、いつでもアップグレード又は改訂することができる。

割り当てコマンドは、新たな値を有する変数を割り当てるものである。ｉｆ文コマンドは、スクリプトが或る基準に基づいて決定を行うことを可能にするものである。ｆｏｒ文コマンド又はｆｏｒ ｅａｃｈ文コマンドは、或る指定されたリストにわたって繰り返しを可能にするものである。ｗｈｉｌｅコマンドは、一般的なループ構成体である。ｉｎｃｌｕｄｅコマンドは、別のスクリプトがそのポイントで実行されるべきであることを指定するものである。

潜在的には、コマンドラインは、任意の順序で出現することができる。しかしながら、コマンドは、通常、順に実行されるので、その順序は、一般に、論理に従う必要がある。コマンドラインは、システム設計者の好みに応じて、大文字と小文字を区別する場合もあるし、そうでない場合もある。

何が行われているのかについてユーザの母国語（たとえば、英語、ロシア語等）で説明することによりスクリプトファイルの可読性を改善するように、コメントラインをスクリプトファイルにテキストとして含めることができる。通常、コメントラインがスクリプトファイルに含まれている場合、その情報は、スクリプトファイルが実行される時、無視される。さらに、ユーザが空白スペース又はブランクキャリッジリターンを含めることを可能にするようにスクリプトファイルをフォーマットして、スクリプトファイルの実行に影響を与えることなくファイルの可読性を促進することができる。

開示するシステムの一実施の形態では、注文、テンプレート、コンポーネント、及び／又はサブコンポーネントは、全体又は一部が生成されるとすぐに、本発明のそのシステム又は本発明の異なるシステムの異なるユーザへ転送したり、それらのユーザによりアクセスしたりすることもできる。たとえば、フロントエンドフォトマスク処理業者の或るユーザは、そのフロントエンドフォトマスク処理業者又は異なるフロントエンドフォトマスク処理業者の異なるユーザへテンプレート又は注文を電子メール又はそれ以外で転送したりすることもでき、それによって、転送されたテンプレート又は注文を使用して、新たなテンプレート若しくは注文又は修正されたテンプレート若しくは注文を作成できるようにする。もちろん、このような転送は、ＦＴＰプロトコル等の他の転送方法によって行うこともできるし、ディスク又は他の記憶媒体等で運ぶこともできる。セキュリティ対策として、アクセスコード又は他のアクセス制限技法を、注文、テンプレート、コンポーネント、及び／又はサブコンポーネント等に適用して、許可されていないアクセス及び／又は修正を防止することができる。

フロントエンドフォトマスク処理業者は、フォトマスク注文を作成する時、注文を完成させるのに必要とされるすべての情報にアクセスできるとは限らない場合ある。すなわち、すべての情報を知っているとは限らない場合がある。従来、このような情報の欠如によって、注文完成プロセスは遅れ、このような情報を適切な情報源から手動で収集する必要があった。

本発明の一実施の形態の下では、このような情報は、他の情報源から少なくとも部分的に自動的に取り出される。他の情報源は、必要とされる情報を有し、且つ、フロントエンドフォトマスク処理業者の側でほとんど又は全く入力を必要としない。たとえば、第１のルールセットによって管理される、注文に入力する必要がある情報が、フロントエンドフォトマスク処理業者に利用可能でない場合、本発明のデータ処理メカニズムは、この必要な情報を検索する能力を提供するデータサービスにアクセスすることができる。このようなデータサービスの一例には、ＳｅｒｖｉｃｅＯｂｊｅｃｔｓが含まれる。このＳｅｒｖｉｃｅＯｂｊｅｃｔｓは、ユーザが、あたかもコンテンツが単一のロケーションに存在するかのように、インターネットサイト、データベース、イントラネット、並びに他の内部資源及び外部資源に同時アクセスすることを可能にし、且つ、他のプログラムによってアクセス可能なフォーマットで、情報の発送（shipping）等、情報をパッケージすることを可能にするものである。この例では、アプリケーションは、注文中のフォトマスクに利用可能とすることができる特定の発送選択肢を捜し出すデータ照会をデータサービスに送信する。データサービスは、次に、要求された情報をアプリケーションへ返信する。アプリケーションは、次に、このような情報を、そのアプリケーションを使用するフロントエンドフォトマスク処理業者に提供する。他のタイプのデータサービスも、ロジスティクス、在庫表、供給特性、機器稼働率、実行時間、ツールアップ時間（tool up time）、レベルローディング（level loading）、容量情報等の情報、又は、フロントエンドフォトマスク処理業者が特定のフォトマスク注文を準備するために所望する他のあらゆるこのような情報に適用することができる。データサービスを通じて又はそれ以外の方法でデータにアクセスするスクリプトコマンドを作成することもできる。

データサービスは、フロントエンドフォトマスク処理業者のコンピュータ又はネットワークにローカルに配置することもできるし、フロントエンドフォトマスク処理業者の注文処理システムから遠隔に配置することもできる。また、データサービスは、それ自体で、アプリケーションソフトウェア及びデータサービスの双方に既知のインターフェースを通じて、任意の個数又は任意のタイプのリモートコンピュータシステム（たとえば、ロジスティックベンダのコンピュータシステム、部品供給業者のコンピュータシステム、機器供給業者のコンピュータシステム、フォトマスク製造業者のコンピュータシステム等）からのデータにアクセスすることができ、任意の個数の受け付け可能なプロトコルを使用することができる。これらのプロトコルには、たとえば、ＳＯＡＰ、ＸＭＬ、ＸＭＬ−ＲＰＣ，ｅｂＸＭＬ、ＨＴＭＬ等が含まれる。データサービスは、フロントエンドフォトマスク処理業者に利用可能でない情報を求めて、（たとえば、照会により）これらのリモートシステムを検索することができ、利用可能である場合、このようなデータを取り出す。オプションとして、データサービスは、必要に応じて、データを検証するように構成することができる。データサービスの検索メカニズムは、ユーザのシステムにより提供される任意の個数の可能なパラメータ（たとえば、コスト、時間、フロントエンドフォトマスク処理業者名、マスクサイズ、使用されるステッパ機器（stepper equipment）等）に基づく、ユーザが所望する情報（たとえば、ロジスティクス、供給、処理時間等）に基づいて構成可能な場合がある。

グラフィカルユーザインターフェースを介して人により行われるすべてのオペレーションは、少なくとも部分的には、自動化された方法で実行することもできる。すなわち、人との対話なしに実行することができる。本発明は、プレーンテキスト命令セット又はコマンドラインを介してこの機能へのアクセスを提供することができる。プレーンテキスト命令セットは、アプリケーションプログラミングインターフェースに翻訳されて一連のオペレーションをアプリケーションに実行するように命令することができる高級プログラミング言語である。たとえば、「replace device name 'Device A' with device name 'Device B'」（デバイス名「デバイスＡ」をデバイス名「デバイスＢ」に置き換える）を示すコマンドラインは、フロントエンドフォトマスク処理業者のネットワークのユーザがシステムへ送信することもできるし、本明細書で上述したように自動的にシステムへ送信することもできる。システムは、このコマンドラインを受信すると、特定のテンプレート又は注文におけるデバイス名を新たなデバイス名に置き換える。もちろん、これは、命令セットをどのように使用できるかの単なる一例にすぎず、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。ＡＳＣＩＩファイル又はバイナリファイルを生成でき、且つ、オペレーティングシステムのコマンドを実行できる任意のプログラミング言語を使用して、この命令にアクセスするカスタムモジュールを、フロントエンドフォトマスク処理業者のシステムで使用するために作成することができる。自動化された実施態様によって、許可されたユーザは、既存のネットワーク接続を介して任意の許可されたシステムにアクセスすることが可能になる。ファイアウォール、ログイン、パスワード等の通常のセキュリティ対策を使用して、データベース及びマスク注文システムの機密性を保護することができる。

図７は、本発明の自動化された機能のさまざまな可能性のある実施の形態の一例を示している。図７に示すように、フロントエンドフォトマスク処理業者１１０は、自身のコンピュータシステム又はネットワークに、本発明と一致した注文処理システム１００をインストールしている。このシステムのユーザは、上述した方法で、部分的な注文若しくはテンプレート又は完全な注文若しくはテンプレートを入力することができる。フロントエンドフォトマスク処理業者のネットワークに配置されたファイル１３０は、テンプレート又は注文を作成又は修正するのに使用される。注文を完成させるのに必要なあらゆる情報が、フロントエンドフォトマスク処理業者によって直接入力されない限り、このような情報は、他の処理システム１００が、フロントエンドフォトマスク処理業者のシステムで利用可能なファイル、データベース、又は他の電子的情報から；リモートでアクセス可能なフロントエンドフォトマスク処理業者の外部のシステムから；フロントエンドフォトマスク処理業者の１つ又は複数の供給業者又はベンダから直接的に；且つ／又は、データサービスシステムを通じて、自動的に取り出すことができる。フロントエンドフォトマスク処理業者は、注文を完成させるのに必要なすべての情報を直接入力することもできるし、注文を完成させるのに必要な情報の一部を直接入力して、残りをこれらの他の情報源から得ることもできるし、注文処理システムのグラフィカルユーザインターフェースにアクセスすることなく、外部プログラムを通じて、完成した注文を自動的に生成するプロセスを開始することもできる。図７に示す実施の形態では、注文を完成させるのに必要な情報は、データサービスシステム１２０から取り出される。データサービスシステム１２０は、データ供給業者Ａ及びＢ等の構成された資源に照会を行う。これらの資源は、たとえば、フロントエンドフォトマスク処理業者の供給業者又はベンダとすることができる。また、データサービスシステム１２０は、フロントエンドフォトマスク処理業者自体から情報を収集することもできる。図６に示すように、フォトマスクを作製するのに使用される製造機器に関する情報は、データサービスシステム１２０を介して製造業者から取得することができる。すべての必要な情報が一旦取り出されて、適切なテンプレートに入力されると、注文文書１４０が生成され、フォトマスク供給業者１５０へ送信される。

自動化された方法によるどのタスクの実行も、いずれかのルールセットに基づいて、あらゆるシステム障害又はプロセス無効の警報通知を含むことができる。通知は、エンドユーザが構成することができ、電子メール、メッセージング、ログファイル、又はデータベースエントリーの形とすることができる。一実施形態では、通知機能は、フォトマスクの注文に関与する人々の名前の配布リストへ送信されるメッセージを自動的に生成する。この配布リストは、任意の所定の基準によって確立することができる。メッセージが生成されるとすぐに、配布リスト上の各人は、フォトマスクの注文が生成されたことの通知を自動的に受けることができる。このような通知には、いくつか例を挙げると、電子メール、ポケットベル、インスタントメッセージング、携帯電話等が含まれ得る。この自動通知プロセスは、フロントエンドフォトマスク処理業者のネットワークのどの場所でもセットアップすることができるし、製造業者のネットワークであってもどの場所でもセットアップすることができ、フロントエンドフォトマスク処理業者が望む任意のステップによってトリガすることができる。この例は、本発明に対する限定として取り扱われるべきではなく、本発明と結合することができる通知システムのタイプの単なる例示にすぎない。

新たなフォトマスク注文又は修正されたフォトマスク注文の準備が通知されると、エラーが存在しない場合に、本発明は、その注文をフォトマスク製造業者へ自動的に転送することもできるし、フロントエンドフォトマスク処理業者のシステムのユーザからの許可を待つこともできる。エラーが特定された場合、フロントエンドフォトマスク処理業者は、注文を手動で編集して、このようなエラーを訂正することができ、通常の方法で注文の処理を続けることができる。或いは、データを自動的に調節して、エラーを訂正することもできる。

別の実施の形態では、設計情報を含む不完全なフォトマスク注文を或るフォーマットで生成することができる。この不完全なフォトマスク注文は、フォトマスク製造業者の処理システムへ転送されて、フォトマスク製造業者が、設計の有効性、実現可能性、及び／又は望ましさを検証することを可能にすることができる。たとえば、フロントエンドフォトマスク処理業者は、フラクチャリング命令を含む部分的なフォトマスク注文を転送することができる。この部分的なフォトマスク注文は、その後、フォトマスク製造業者へ送信されて、提案された設計の有効性、実現可能性、及び／又は望ましさについて解析を受けることができる。これは、上述したように自動的に行うこともできるし、手動で行うこともできる。自動化されている場合、提案された部分的なフォトマスク注文に関する情報が受信されると、システムは、さらに解析及び評価を行うために、フォトマスク供給業者にフラクチャリング命令を提出するのに必要な情報を生成することができる。情報が提出されると、フォトマスク製造業者は、次に、製造業者の視点又は他の視点からより実現可能であり得るか又は望ましくあり得る代替的な設計を提案することもできる。フォトマスク製造業者の解析の結果は、その後、フロントエンドフォトマスク処理業者のコンピュータシステムへ送信することができ、フロントエンドフォトマスク処理業者は、注文を推し進めるのか、それとも提案した注文を修正するのかについてさらに検討することができる。

好ましくは、テンプレート、注文、コンポーネント、サブコンポーネント等のそれぞれは、データベースに記憶されるが、他のロケーションに記憶することもできる。ユーザがデータベース又は他のロケーションに記憶された特定のテンプレート、注文、コンポーネント、又はサブコンポーネント等を検索できる検索エンジンを設けることができる。ユーザは、この検索エンジンを使用して、特定の注文フォーマットでフォトマスクを生成するのに必要とされる適切なテンプレート、コンポーネント、又はサブコンポーネント等を突き止めることができる。このようなテンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等が一旦突き止められると、フォトマスク注文に関するデータが、ユーザ（通常はフォトマスクの注文を行いたいフロントエンドフォトマスク処理業者）によって入力される。また、ユーザは、後述するように、データ入力を完了する目的若しくはデータ入力を容易にする目的、又は、フォトマスク注文の内容を修正する目的で、検索エンジンを使用して既存のフォトマスク注文を突き止めることもできる。

上述したように、フロントエンドフォトマスク処理業者は、特定のフォトマスク注文フォーマットの要件を十分に知らない場合があり、したがって、注文を完成させるために、このような標準規格によって要求される必要なすべての情報を入力するとは限らない場合がある。加えて、フロントエンドフォトマスク処理業者は、データ入力エラーを起こしがちであり、したがって、不正確な情報を提供する場合がある。したがって、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットによって必要とされる通りに、フロントエンドフォトマスク処理業者が完全且つ正確なデータをテンプレート及び注文に確実に入力するようにするための第１のルールセット及び第２のルールセットが確立され、システムに記憶される。

好ましい実施の形態では、第１のルールセットは、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットによって指定される通りに、ユーザが、完全なフォーマット注文を出力するのに必要なすべてのデータを確実に入力するように確立される。好ましくは、第１のルールセットは、選択されるフォトマスク注文フォーマットの要件に基づいて確立される。この点に関して、第１のルールセットは、指定されたフォトマスク注文フォーマットによって指示される通りに、テンプレート又は注文の各コンポーネント及び各サブコンポーネントにデータを入力し「なければならない」のか、入力することが「できる」のか、且つ／又は入力しては「ならない」のかを規定する。加えて、第１のルールセットは、フォトマスク注文を完成させるのに必要とされる（特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットで説明されている通りに）他のあらゆるコンポーネントにユーザが情報を入力することをそれらのルールが要求するように構成されるべきである。

したがって、たとえば、表１を参照して、特定の標準注文フォーマットは、「パターン」テンプレートに関して、すべてのＥＡＰＳＭ注文について：配置データ及び限界寸法データを提供しなければならない；ダイ対ダイ比較検査データを提供することができる；且つ、ダイ対データ比較を提供することができない、ということを要求することができる。したがって、（１）ユーザは配置データ及び限界寸法データを含め「なければならない」こと；（２）ユーザはダイ対ダイ比較検査データを含めることが「できる」こと；及び（３）ユーザはダイ対データ比較検査データを含めては「ならない」ことを要求するルールが確立されて、適切なテンプレート（並びにコンポーネント及びサブコンポーネント）に関連付けられる。したがって、この例では、ユーザが、本発明のシステム及び方法を使用して、ＥＡＰＳＭの注文を作成しようとしている場合、ルールは、（１）ユーザが配置データ及び限界寸法データを入力することを要求し；（２）ユーザが、ダイ対ダイ比較検査データを入力することを許可し（しかし、要求しない）；且つ（３）ユーザがダイ対データ比較検査を入力するのを妨げる。さらに、選択される注文フォーマットは、パターンデータに加えて、アレイ位置決め（Array Registration）データも、フォトマスク注文を完成させるために入力しなければならないことを要求することができる。したがって、第１のルールセットは、ユーザが、すべてのパターンデータの入力を一旦完了すると、「アレイ位置決め」テンプレートに案内されて、必要とされるすべてのデータ（及び、そのテンプレートの他のあらゆる対応するサブコンポーネント）を同様にそのテンプレートに入力することを促されるようにも構成される。同様に、標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットが、フォトマスク注文を完成させるために他のあらゆるテンプレートへのデータの入力を要求する場合、第１のルールセットは、ユーザがアレイ位置決めテンプレートにすべてのデータを入力した後に、このような他のテンプレートへユーザを案内し、このようなテンプレート（複数可）に必要とされるすべてのデータを入力するようにユーザを促す。ユーザは、必要とされるすべてのテンプレートにデータの一旦入力すると、（後述するような第２のルールセットに従ってデータを入力することを条件として）テンプレートの終了許可を受ける。

したがって、明らかであるように、本発明の第１のルールセットによって、ユーザは、フォトマスク注文を生成するために特定の標準フォーマット及び／又は独自フォーマットによって要求される通りに、必要な情報を適切なテンプレートに確実に入力するようになる。言い換えれば、ルールは、フォトマスク注文データを入力するプロセスを通してユーザを案内し、すべての必要な注文情報がテンプレートに確実に入力されるようにする。

加えて、システム及び方法は、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットによって指定される通りに、正確且つ適切なフォーマットでユーザがデータを確実に入力するようにする第２のルールセットも提供する。上述したように、テンプレートの各コンポーネント及び各サブコンポーネントは、一組の属性（たとえば、バイナリ、文字列、整数、実数、日付、ブール変数、リスト等）によって定義される。したがって、好ましい実施の形態では、特定のテンプレート又は注文に入力されるデータが、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットによって要求される通りに、特定の属性を有し「なければならない」のか、有することが「できる」のか、且つ／又は有しては「ならない」のかをユーザに指示する第２のルールセットが、各テンプレート及び各注文について確立される。

たとえば、表１を参照して、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットは、（１）配置テンプレートに入力されるデータは整数で「なければならない」こと；（２）タイトルテンプレートに入力されるデータは文字列をすることが「できる」こと；及び（３）限界寸法テンプレートに入力されるデータは文字列であっては「ならない」ことを要求することができる。したがって、（１）ユーザが配置テンプレートに整数を入力することを要求し；（２）ユーザがタイトルテンプレートに文字列を入力することを可能にし；且つ（３）ユーザが限界寸法テンプレートに文字列を入力することを妨げる、ルールが、配置テンプレートについて確立される。したがって、明らかであるように、本発明のルールによって、ユーザは、特定の標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットによって要求される通りに、適切なタイプの情報及びデータタイプを各テンプレートに確実に入力してフォトマスク注文を生成するようになる。換言すれば、第２のルールセットによって、ユーザは、一定のタイプのデータをテンプレートに入力することしか許可されず、したがって、フォトマスクの注文を行うプロセスで設計エラー及び／又はデータ入力エラーを有する可能性が削減される。

好ましい実施の形態では、本明細書で説明した第１のルールセット及び第２のルールセットは、別個に作成されて記憶される。上述したように、これらのルールは、（たとえば、データベース、オブジェクト指向クラス、ＸＭＬファイル等として）任意の異なる個数の動的フォーマットでシステムの内部又はシステムの外部のいずれかに記憶することができ、その結果、システムは、好み又はユーザ及び／若しくは自動化されたシステムに応じて、任意の個数のプラットフォームで実行するようにすることができる。一方、単一のルールセットが、ユーザ、（第１のルールセットに関して説明したような）完全なフォトマスク注文情報及び（第２のルールセットに関して説明したような）正確なフォトマスク注文情報の双方を保証することを条件として、このような単一のルールセットを作成して記憶できることに留意すべきである。さらに、第１のルールセット及び第２のルールセットは、同様の方法で単一のルールセットとして結合することもできる。

上述したように、本発明は、特定の第１のルールセット及び第２のルールセットを特定のテンプレートに関連付ける機能を含み、フォトマスク注文が、完全且つ正確な様式で確実に生成されるようにする。好ましい実施の形態では、この機能は、半導体製造業者等、フォトマスクの注文を行いたいエンティティのコンピュータにインストールされるソフトウェアベースのアプリケーションの形で提供される。従来技術と異なり、このソフトウェアは、所与のフォトマスク製造業者の製造プロセスに依存しない。逆に、本発明のソフトウェアは、スタンドアロンの安全なアプリケーション、ネットワーク分散アプリケーション、又はウェブベースの「シンクライアント」アプリケーションとして配備することができる。好ましくは、このソフトウェアは、クライアント・サーバシステムで利用され、グラフィカルユーザインターフェース（たとえば、クライアント）が、サーバのデータベースに接続して、そのデータベースからデータを取り出す。いかなる場合においても、本発明のソフトウェアを実行するフロントエンドフォトマスク処理業者は、注文を行うのに、フォトマスク製造業者のどの外部ローカルエリアネットワークにもアクセス及び／又はログインを行う必要はない。

本発明のソフトウェアが特定のルールを特定のテンプレートに関連付ける方法を次に説明する。詳細には、テンプレートは、データの階層的な集まりであるので、テンプレートの各要素は、関連するソフトウェアオブジェクトによって解釈される。好ましい実施の形態では、ルールは、ソフトウェアオブジェクト内に組み込まれ、テンプレートに入力されたデータの組み立てを担当する。これらのルールは、アルゴリズム等の制約条件又は命令であり、通常、ソフトウェアオブジェクトの１つ又は複数の属性に関係する。したがって、この仕組みによると、ルール及びテンプレートが互いに適切に関連付けられているので、完全且つ正確なフォトマスク注文を入力することが可能である。

加えて、ルール及びテンプレートを別個に更新する必要がある場合、システムは、好ましくは、その更新を可能にするように構成される。この点に関して、現在の標準フォトマスク注文フォーマットは、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準フォーマットとして知られている。しかしながら、技術的進歩が行われるにつれて、新たな標準フォーマットが、これらの進歩をカバーするために開発される場合があり、したがって、現在のＳＥＭＩ Ｐ−１０標準フォーマットに取って代わる場合があることが予想される。加えて、現在、海外のフォトマスク製造業者によって使用される他の多くの国際標準注文フォーマットが存在する。ＳＥＭＩ Ｐ−１０フォーマットと同様に、これらの国際フォーマットも、時間と共に変化し、取って代わられることが予想される。したがって、本発明のシステムは、これらの変化に対応するようにルール及びテンプレートを更新する能力を提供する。より詳細には、第１のルールセット及び第２のルールセットは、好ましくは、テンプレートのそれぞれとは別個のファイルとして記憶される。テンプレートも、それぞれ別個のファイルとして記憶される。ルール及びテンプレートを別個にしておくことによって、一方の対するどのような修正も、他方に何ら影響を与えない。この点に関して、ルール又はテンプレートが修正される場合、直接の特徴修正（proximate feature modification）によって何も示されない場所の対応する要素に対する、相関関係にあるコードの変更の必要はない。加えて、ルール及びテンプレートを別個に記憶することによって、（たとえば、組み込み要素又は内部ネスト要素に対する予期しない変更が、予期しない障害を引き起こす場合がある）システムの故障の発生の可能性を回避することができる。この点に関して、ルール及びテンプレートが別個に記憶されていない場合、独立した修正が不可能となる。既存のテンプレートは少なくとも数千は存在する可能性があるが、それらのテンプレートのそれぞれは、この場合、新たなルールを含むように個々に修正しなければならない。したがって、容易に分かるように、本発明のシステム及び方法は、どの１つの特定の標準フォーマットに限定されるものではなく、逆に、現在のあらゆる標準フォトマスク注文フォーマット又は新たに開発されるあらゆる標準フォトマスク注文フォーマットの要件に合致するように容易に適合することができる。同様に、フロントエンドフォトマスク処理業者は、新たに開発されたもの又は改良された技術に関連するどの変化にも対応するように、その独自の注文フォーマットを変更することができる。

ルールを修正するために、ソフトウェアオブジェクトは、当該ソフトウェアオブジェクトに含まれるルールが、当該ソフトウェアオブジェクトの属性、当該ソフトウェアオブジェクトの子、又はその子に含まれる他のルールの１つ又は複数に影響を与えることができるように確立される。この点に関して、ルールは、一定の指定された属性のみがルールによって影響を受けるように確立される。このように、テンプレートのようなソフトウェアオブジェクトは、実際は階層的であるので、その親及び子の双方を知っている。したがって、子オブジェクトが修正される時はいつでも、その子オブジェクトは、その変更によって影響を受けるエリア、ルール、又は属性をその親に通知する。その結果、ルールの階層内におけるあらゆる場所で行われるあらゆる変更が、ファミリー全体にわたって伝えられる。したがって、ルールは、親のあらゆる子要素の追加又は削除を実行する能力を有する。このように、アプリケーション内において、各オブジェクトは、ソフトウェアのその後のリリースを通じて、個々に更新可能又はアップグレード可能である。加えて、オブジェクトの親は、各タイプの子要素について標準的な集まりを保持する。各タイプの子要素は、テンプレートが構築されている間に追加又は削除することができる。

テンプレートは、注文及びテンプレートの階層への新たな属性及び／又はサブコンポーネントの追加を必要とする標準フォトマスク注文フォーマット及び／又は独自フォトマスク注文フォーマットの修正に応じて修正することもできる。このような場合、影響を受けたコンポーネント及び／又はサブコンポーネントについて、新たな関係が定義され、新たなルールが、既存のルールの図式に動的に追加される。

次に、本発明のこれらの特徴を示すために以下の例を説明する。現在のＳＥＭＩ Ｐ−１０標準規格は、フォトマスク注文が、特に、Mask Order[]、Mask Set[]、Mask Definition[]、及びPattern Definition[]を含むことを必要とする。したがって、この要件によれば、次のテンプレートが確立される。すなわち、SemiOrderテンプレート、SemiMaskSetテンプレート、SemiMaskテンプレート、及びSemiPatternテンプレートが確立される。加えて、これらのテンプレートのそれぞれについて、第１のルールセット及び第２のルールセットが確立される。これらのルールセットは、テンプレートのそれぞれにデータを入力しなければならないのか、及び、このようなテンプレートに入力できるデータのタイプを規定する。一方、後の時点において、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準規格は、ＣＤコンポーネントを必要とする新たな標準規格によって取って代わられる場合がある。したがって、既存のテンプレート（たとえば、SemiPattern）は、たとえば、限界寸法（ＣＤ）コンポーネントを含むように修正を受けて、ＳＥＭＩ Ｐ１０標準規格の度量衡の態様の修正に合致することができる。加えて、新たなＳＥＭＩ標準規格の新しく追加されたあらゆる態様（たとえば、位置決め）に合致するように、新たなテンプレートを作成することもできる。同様に、すでに存在する第１のルールセット及び第２のルールセットは、現在のＳＥＭＩ Ｐ１０標準規格の修正されたＣＤコンポーネントの態様に関連する変化に対応するように適合することもできる。加えて、新たなＳＥＭＩ標準規格の新たな位置決め機能に合致するように、第１のルールセット及び第２のルールセットの新たなセットを作成することもできる。

多数のテンプレート、注文、コンポーネント、サブコンポーネント等に含まれる特定のデータエントリーを容易に更新するためのメカニズムとして仕様グレードを使用することもできる。詳細には、本発明の一実施の形態では、仕様グレードファイルは、多くの注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等における今後の更新に望ましいと考えられる特定のデータ又はオブジェクトを含むことができる。さまざまな注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等は、次に、特定のデータを記憶する代わりに、特定のデータの仕様グレードファイルへの参照をその内部に含む。この方法では、これらの参照される特定のデータ又はオブジェクトは、これらの特定のデータ又はオブジェクトを参照するすべての注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等を更新するのではなく、単に仕様グレードファイルを更新するだけで、多数の注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等における更新を行うことができる。

たとえば、仕様グレードは、所与の時点において特定のフォトマスクフロントエンドフォトマスク処理業者にとって許容可能とみなされる標準的な限界寸法（ＣＤ）線幅を含むことができる。フォトマスク技術は発展し続けているので、許容可能なＣＤ線幅はおそらく変化を被る。仕様グレードを使用することによって、特定のＣＤを指定するそれぞれの注文、テンプレート、コンポーネント、サブコンポーネント等を個々に更新する必要はなく、１つの仕様グレードファイルのみを更新することが可能になり、その後、その仕様グレードファイルを参照するすべてのファイルが、自動的にアップグレードされることになる。フォトマスク注文との関連で仕様グレードとして提供される適切な変数の他の例には、マスクがフロントエンドフォトマスク処理業者の仕様を確実に満たすためにフォトマスク製造業者が満たす必要があるマスク属性に関連する測定公差；マスクがフロントエンドフォトマスク処理業者の仕様を確実に満たすためにフォトマスク製造業者が満たす必要があるマスク属性に関連する許容可能欠陥率；フロントエンドフォトマスク処理業者に払われ、且つ、フロントエンドフォトマスク処理業者によって予測される品質レベルを満たさなければならないフォトマスクの製造に関連する材料（基板、薄膜）；価格情報及び支払い／発送情報を含む会計情報；連絡先及び電話番号、マシンのクラス、又はフォトマスクの生産に必要な内部要件若しくはフロントエンドフォトマスク処理業者の要件を満たすのに必要とされる特定のマシン等の、フロントエンドフォトマスク処理業者サービス情報；データトーン（data tone）、ビーム露光、Ｘ／Ｙ配置情報を含むが、これらに限定されないリソグラフィパターン配置情報；電子メールアドレス、ＦＴＰアドレス、プロトコル、ログインＩＤ及びパスワード、ディレクトリ構造を含むが、これらに限定されないデータ送信情報；並びに、いくつか例を挙げると、基板、薄膜、成形体（compact）、レジスト、及び「Ａｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ａｌｔａ ３５００」又は「ＫＬＡ Ｓｔａｒｌｉｇｈｔ」等の製造で使用される独自の機器を含むが、これらに限定されない、フォトマスクの製造に使用される原材料に関連するベンダ特有の情報、が含まれる。

上述したように、テンプレート又は注文は、コンポーネント、サブコンポーネント、データ等の１つ又は複数の関連するオブジェクトから構成される。たとえば、フォトマスクは、位置決め、タイトル、バーコード等の１つ又は複数の関連する属性オブジェクトを有することができる。仕様グレードを使用する本発明の一実施の形態では、テンプレート又は注文に関連付けることができる１つ又は複数の一意のデータ又はオブジェクトを作成することをエンドユーザに可能にするためのユーティリティを提供することができる。これらのオブジェクトは、関連付けられた注文及びテンプレートとは別個に記憶される。さらに、これらの別個に記憶されたオブジェクトは、それらの自身のルールセットを有することができる。テンプレート又は注文が作成されると、エンドユーザは、テンプレート又は注文を、ユーティリティで定義されたオブジェクトの一部又は全部に関連付ける許可を受けることができる。テンプレート、注文、又は記憶されたテンプレートから作成される注文が生成されると、そのテンプレート、注文、又は注文を作成するのに使用されたテンプレートに関連付けられているユーティリティに記憶されたすべてのオブジェクト情報は、参照データとみなすことができ、テンプレート、注文、又は注文を作成するのに使用されたテンプレートに適用することができる。参照オブジェクト情報は、アプリケーションのセキュリティモジュールにおいてエンドユーザに割り当てられた「役割及び担当」に基づいて更新することもできるし、削除することもできる。たとえば、経験の少ないエンドユーザがユーティリティに記憶された参照データを上書きすることを禁止することができる。他方、経験豊かなユーザは、参照データを修正する許可を受けることができる。

本発明の別の態様は、当該態様が、（１）データが含まれる、すでに存在するテンプレートから新たな注文にデータを融合すること、（２）データが含まれる、すでに存在する注文から新たな注文にデータを融合すること、（３）すでに存在するテンプレート及び注文から、新たな注文にデータを融合すること、又は、（４）すでに存在する注文、テンプレート、コンポーネント、及び／若しくはサブコンポーネントから新たな注文にデータを融合すること、によって新たなフォトマスク注文を生成する能力を提供することである。この点に関して、ユーザが、テンプレート内にデータを入力する時又は注文を作成する時はいつでも、このようなテンプレート及び／又は注文は、本発明のシステムに保存される。さらに、上記で解説したように、コンポーネント及びサブコンポーネントは、本発明のシステムにおいて、注文又はテンプレートとは別個に記憶することができる。その後、ユーザは、すでに存在するテンプレート、注文、コンポーネント、及び／又はサブコンポーネントにアクセスすることができ、そこに保存されたデータを使用して新たな注文を生成することができる。本発明のシステムのユーザに、すでに存在する注文、テンプレート、コンポーネント、及び／又はサブコンポーネントからのデータを融合する能力を提供することによって、フォトマスク注文データを入力するためのプロセスは、大幅に削減され、それによって、フォトマスク注文を製造するのに要する全体の時間が削減される。データを注文に融合するための４つの方法のそれぞれを以下に説明する。

一実施の形態では、既存のテンプレート（複数可）から新たな注文を作成するために、ユーザは、新たなブランクの注文を作成するように促される。次に、ユーザは、前のフォトマスク注文から作成されて保存されたテンプレート及び／又は注文を選択する選択肢を提供される。新たな注文から製造されるフォトマスクのタイプに応じて、ユーザは、リレーショナルデータベースに記憶された最適なテンプレート（複数可）を選択してロードする。選択されたテンプレートは、前に入力されたデータと共にユーザに表示される。テンプレート内のヌルでない各オブジェクト（たとえば、オブジェクトがデータを含む）について、ユーザは、前に入力されたデータを新たな注文内へ選択することもできるし、このデータを新たなデータで上書きすることもできる。加えて、テンプレート内の特定のオブジェクトがヌルである（たとえば、そのオブジェクトがすでに空である）限り、ユーザは、そのオブジェクト内に適切なデータを入力することができる。次に、この注文について確立されたルールが、上述したように機能して、データが正確且つ完全に入力されることを確実にする。その後、ソフトウェアは、この情報を処理し、この情報に基づいて新たな注文を生成する。

すでに存在する注文から新たな注文を作成するためのプロセスは、すでに存在するテンプレートから新たな注文を作成するプロセスと同様である。この実施の形態では、既存の注文（複数可）から新たな注文を作成するために、ユーザは、新たなブランクの注文を作成するように促される。次に、ユーザは、前のフォトマスク注文から作成されて保存されたテンプレート及び／又は注文を選択する選択肢を提供される。新たな注文から製造されるフォトマスクのタイプに応じて、ユーザは、リレーショナルデータベースに記憶された関連する注文（複数可）を選択してロードする。選択された注文は、前に入力されたデータと共にユーザに表示される。注文内のヌルでない各オブジェクトについて、ユーザは、前に入力されたデータを新たな注文内へ選択することもできるし、このデータを新たなデータで上書きすることもできる。加えて、注文内の特定のオブジェクトがヌルである限り、ユーザは、そのオブジェクト内に適切なデータを入力することができる。次に、この注文について確立されたルールが、上述したように機能して、データが正確且つ完全に入力されることを確実にする。その後、ソフトウェアは、この情報を処理し、この情報に基づいて新たな注文を生成する。

さらに別の実施の形態では、既存のテンプレート（複数可）及び注文（複数可）の双方から新たな注文を作成するために、ユーザは、新たなブランクの注文を作成するように促される。次に、ユーザは、前のフォトマスク注文から作成されて保存されたテンプレート及び／又は注文を選択する選択肢を提供される。新たな注文から製造されるフォトマスクのタイプに応じて、ユーザは、リレーショナルデータベースに記憶された関連するテンプレート（複数可）を選択してロードする。選択されたテンプレートは、前に入力されたデータと共にユーザに表示される。注文内のヌルでない各オブジェクトについて、ユーザは、前に入力されたデータを新たな注文内へ選択することもできるし、このデータを新たなデータで上書きすることもできる。加えて、テンプレート内の特定のオブジェクトがヌルである限り、ユーザは、そのオブジェクト内に適切なデータを入力することができる。次に、この注文について確立されたルールが、上述したように機能して、データが正確且つ完全に入力されることを確実にする。加えて、前に保存された注文を同じ注文に融合することもできる。この点に関して、ユーザは、リレーショナルデータベースに記憶された、前に行った注文（複数可）を選択してロードすることができる。選択された注文は、前に入力されたデータと共にユーザに表示される。注文内のヌルでない各オブジェクト（たとえば、オブジェクトがデータを含む）について、ユーザは、前に入力されたデータを新たな注文内へ選択することもできるし、このデータを新たなデータで上書きすることもできる。加えて、注文内の特定のオブジェクトがすでに空である限り、ユーザは、そのオブジェクト内に適切なデータを入力することができる。次に、この注文について確立されたルールが、上述したように機能して、データが正確且つ完全に入力されることを確実にする。適切なテンプレート及び注文のすべてが新たな注文に一旦融合されると、ソフトウェアは、この情報を処理し、この情報に基づいて新たな注文を生成する。

また、前の注文又はテンプレートの既存のコンポーネント及び／又はサブコンポーネントを新たなフォトマスク注文又はテンプレート内にインポートすることもできる。たとえば、支払い及び／又は発送先住所に関係した既存のコンポーネント及び／又はサブコンポーネントを注文又はテンプレートに適用することができる。加えて、アプリケーション内で定義された１つ又は複数の一意の仕様グレードを新たな注文又はテンプレートに融合することもできる。

フロントエンドフォトマスク処理業者が、一旦、本発明の第１の態様のソフトウェアを使用して注文データを入力し、フォトマスクパターンデータを生成すると、本発明の第２のソフトウェアアプリケーションは、この情報の少なくとも一部を自動的に処理して、そのまま書き込めるフォーマット及びそのまま検査できるフォーマットにする。一実施の形態では、この機能を実行するためのソフトウェアは、フロントエンドフォトマスク処理業者のコンピュータシステムにロードされる。その後、処理された情報は、製造のために、外部の遠隔の製造業者のコンピュータシステムへデータファイルで送信される。

より詳細には、一実施の形態では、フロントエンドフォトマスク処理業者のコンピュータシステムは、第１のソフトウェアコンポーネント及び第２のソフトウェアコンポーネントの双方がインストールされたサーバを含む。フロントエンドフォトマスク処理業者によって生成された注文データ、及び、フロントエンドフォトマスク処理業者によって生成されたパターンデータは、サーバへ転送される。好ましい実施の形態では、解析ソフトウェアが、フロントエンドフォトマスク処理業者のサーバ内に含まれており、事後ジョブプロセス（postjobprocess）を実行し、２つの基本事項を行う。第１に、この解析ソフトウェアは、サーバに転送されたばかりのファイルを検査し、それらのファイルを所定の作業データディレクトリへ適宜（そうするように構成されている場合に）コピーする。第２に、解析ソフトウェアは、監査証跡メールメッセージに対して行うあらゆる事項をログ記録する。解析ソフトウェアは、その後、この監査証跡メールメッセージを任意の個数の事前に構成されたメールアドレスへ送出する。これらのメールアドレスは、フロントエンドフォトマスク処理業者に応じて、又は、処理が行われる設備に応じて変化するようにプログラミングすることができる。このメールメッセージは、データ転送が行われたことのフロントエンドフォトマスク処理業者の受信確認応答及び内部通知の双方である。

好ましい実施の形態では、パターンデータは、解析ソフトウェアによって、ＦＴＰサーバに接続されたメモリプールへ送られ、後の処理のためにそのメモリプールに記憶される。或いは、パターンデータは、他のルートを通って転送することもできるし、ＦＴＰサーバに記憶することもできる。

同様に、好ましい実施の形態では、注文は、処理のために、解析ソフトウェアによってフロントエンドフォトマスク処理業者の別のコンピュータサーバ（「処理サーバ」）へ送られる。この処理サーバは、ＦＴＰサーバへ直接接続されているか、又は、ネットワーク接続によってリモートでＦＴＰサーバへ接続されている。或いは、ＦＴＰサーバ及び処理サーバは、同じコンピュータとすることもできる。処理サーバは、注文を処理するためのソフトウェア（「ＳＥＭＩソフトウェア」）を含む。このＳＥＭＩソフトウェアは、製造機器と共に使用するために処理及び／又はフォーマットされる注文からデータを自動的に抽出又は解析する。このような処理及び／又はフォーマットは、処理サーバと同じコンピュータサーバで行うこともできるし、フロントエンドフォトマスク処理業者のネットワークの他のコンピュータサーバで行うこともできる。

別の実施の形態では、図１２に示すように、遠隔のフロントエンドフォトマスク処理業者の機器が、追加された処理サーバも備えることができる。これらの追加された処理サーバには、同じＳＥＭＩソフトウェア又は類似のＳＥＭＩソフトウェアがインストールされている。したがって、他の場所の多数の遠隔のフロントエンドフォトマスク処理業者の機器が、ネットワーク接続を介してＦＴＰサーバにインターフェースすることを可能にすることができる。その結果、本発明によれば、ＦＴＰサーバが受信した注文及びパターンデータを、処理のために、さまざまな遠隔のフロントエンドフォトマスク処理業者の機器へ送ることができる。

好ましい実施の形態では、このデータの処理の開始時に、ＳＥＭＩソフトウェアは、フォトマスクの製造に関与する人々に、フォトマスクの注文が入力されたことを自動的に通知する。この通知機能は、ＳＥＭＩ仕様が受信された時に自動的にトリガすることができる。より詳細には、この通知機能は、有効にされた時に、ＳＥＭＩ仕様に対応するフォトマスクの製造に関与する人々の名前の配布リストへ送信されるメッセージを自動的に生成することができる。この配布リストは、任意の所定の基準によって確立することができる。一実施の形態では、配布リストは、ＳＥＭＩソフトウェアがインストールされている処理サーバのロケーションによって確立される。したがって、たとえば、ＳＥＭＩソフトウェアが、シンガポールに位置する設備に配置された処理サーバにインストールされている場合、配布リストは、その設備に配置された人々のみの名前を含むことになる。反対の例として、ＳＥＭＩソフトウェアが、ドイツに位置する設備に配置された処理サーバにインストールされている場合、配布リストは、その設備に配置された人々のみの名前を含むことになる。メッセージが一旦生成されると、配布リストの各人は、フォトマスクの注文が受信されたことの通知を自動的に受けることができる。このような通知には、電子メール、ポケットベル、携帯電話等が含まれ得る。この自動通知プロセスは、フロントエンドフォトマスク処理業者のネットワークのどの場所でもセットアップすることができ、フロントエンドフォトマスク処理業者が望む任意の処理ステップによってトリガすることができる。この例は、本発明に対する限定として取り扱われるべきではなく、本発明と結合することができる通知システムのタイプの単なる例示にすぎない。

次に、ＳＥＭＩ仕様が処理される。この点に関して、ＳＥＭＩソフトウェアは、ＳＥＭＩ仕様からデータを自動的に抽出する機能、抽出されたデータを、実行される製造タスクに従って整理する機能、及び、整理されたデータを記憶するデータアレイを生成する機能を含むことができる。好ましい実施の形態では、図１０に示すように、このデータアレイは、フロントエンドフォトマスク処理業者を識別する情報（「Enterprise」（企業））、フロントエンドフォトマスク処理業者ウェハｆａｂを識別する情報（「FAB」）、実行される技術を識別する情報（「Technology」（技術））、ジョブ番号、フォトマスクのフロントエンドフォトマスク処理業者設計情報（「Device」（デバイス））、フォトマスクの製造に関するステータス報告（「Status」（ステータス））、並びに、注文の日付（「Order Rcvd」）及び／又は注文が受信された日付（「P-10 Received」）を含む。

一方、好ましいデータアレイは容易に修正を受けることができ、それにより、必要に応じて付加的な記述的カテゴリーを追加することもできるし、所望に応じて、より少ないカテゴリーを示すこともできることに留意すべきである。さらに、データアレイは、上記で列挙したフォトマスク情報カテゴリーのいずれかにリンクされる、より詳細なサブデータアレイも含むことができる。

たとえば、特定のジョブ番号にサブデータアレイをハイパーリンクすることができる。このサブデータアレイは、フォトマスクの製造で実行される各ステップを記録した、時刻スタンプ及び日付スタンプを有する情報を含むことができる。

加えて、サブデータアレイをDeviceカテゴリーにハイパーリンクすることもできる。好ましい実施の形態では、このサブデータアレイはデータを含み、このデータは、注文から抽出され、フォトマスクの製造の際に実行することが必要な場合があるさまざまな製造タスクと関係して使用するために整理されたものである。これらの製造タスクには、たとえば、ジョブデック処理（「Jobdeck」）、電子的限界寸法プロッティング（「E-CD Plots」）、ＳＥＭＩ仕様調節（「SEMI」）、バーコード化（「Bar Code」）、位置決め精度（registration measure）ファイル作成（「REG MF2」）、データサイジング（「Data S/R」）、２重チェック（「Double Chk」）が含まれるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。図示していないが、このサブデータアレイは、たとえば、フラクチャリング、オングリッドチェック（on-grid checking）、光近接効果補正、フラグ付け等の他の製造タスクも含むことができる。

図９を参照して、ＳＥＭＩ処理ソフトウェアは、実行されるこれらの製造タスクに従って、抽出されたデータを整理して処理する。加えて、このサブデータアレイは、他の情報も含むことができる。これらの他の情報には、フォトマスク上に形成されるパターンのコード名（「Layer」）、製造業者の在庫管理番号（「Plate No」）、フロントエンドフォトマスク処理業者の好みに従って各フォトマスクを処理すべき注文（「Pri」）、フォトマスクの製造プロセスに関するステータス報告（「Layer Status」）、及び、データがＳＥＭＩ処理ソフトウェアによって受信された日付（「Data Rcd」）が含まれるが、これらに限定されるものではない。

次に、このサブデータアレイにデータを編成する方法を説明する。ジョブデック処理は、命令がリソグラフィツール（たとえば、Ｅビーム及びレーザビーム）及び検査機器（たとえば、ＫＬＡ又はＯｒｂｏｔ）へ転送されて、リソグラフィツール及び検査機器により処理される方法を指す。リソグラフィジョブデック処理の場合、フォトマスクのブランクにパターンを書き込むのに必要な一定の命令は、注文から抽出され、図１０に示すサブデータアレイのJobdeckに記憶される。これらの抽出されたジョブデック命令は、次に、リソグラフィツールと共に使用されるＳＥＭＩソフトウェアによって処理される。これらの命令は、さまざまなパターンが配置されるフォトマスク上のロケーションに加えて、特定のツールによって実行される他の機能も示す。これらの他の機能には、露光の制御、パターンのスケーリング、及びトーンが含まれるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。或いは、抽出されたジョブ命令を、特定のフロントエンドフォトマスク処理業者、その部署、又は内部製造サイト等に関する他の情報を考慮するように修正して、リソグラフィツール又は他の処理機器に適切な命令を生成することもできる。たとえば、このようなフロントエンドフォトマスク処理業者が提供する命令が、リソグラフィツールがパターンを逆にすることを要求するということを考慮するために、ジョブデック命令は、フロントエンドフォトマスク処理業者の特定の製造センター用に定期的に修正を受けることが必要な場合がある。これは、パターンデータのフラクチャリング時にパターンを逆にすることと比較して多くの時間を要するプロセスとなる場合がある。

検査ジョブデック処理に関して、関連する仕様は、注文から抽出され、検査機器による使用のために整理される。これらの命令も、ジョブデックに記憶される。検査機器用に抽出された仕様は、検査機器が、処理されたフォトマスクに欠陥及び汚れ（すなわち、清浄性）がないかを検査（たとえば、ダイ対データ比較）できるように整列されてフォーマットされるべきである。

ＳＥＭＩ調節は、フロントエンドフォトマスク処理業者によって提供された注文が、自動的に修正されて、追加された詳細を含み、再フォーマット若しくはそれ以外の整理を受け、且つ／又は、無関係の詳細を削除するようにするプロセスを指す。この点に関して、ＳＥＭＩ処理ソフトウェアは、さまざまな情報を注文に追加できる機能を含む。たとえば、好ましい納品住所等のフロントエンドフォトマスク処理業者のビジネス要件は、図１１に示すように、自動的に注文に追加でき、且つ、ＳＥＭＩに記憶することができる。同様に、製造情報も、注文に追加でき、且つ、サブデータアレイに記憶することができる。この点に関して、ＳＥＭＩソフトウェアは、一定のデータ（たとえば、限界寸法、バイアス情報、薄膜タイプ）をさまざまな状況に基づいて（たとえば、製造業者の機器の特性又は特定のフロントエンドフォトマスク処理業者の要件に基づく修正）調整するようにプログラミングされる。これらのさまざまな状況は、フロントエンドフォトマスク処理業者によって考慮されていなかったものであるが、製造プロセス又はフロントエンドフォトマスク処理業者の注文において起こる場合がある。

加えて、ＳＥＭＩソフトウェアは、フラクチャリングエンジンがパターンデータをフラクチャリングするための命令を自動的に生成する。フラクチャリングは、リソグラフィツールが理解できる形状及びセグメントにパターンデータを分割（すなわち、フラクチャリング）する既知のプロセスである。好ましい実施の形態では、フラクチャリング命令は、「シンク（cinc）」ファイルの形で生成される。一実施の形態では、コンピュータ支援複写ソフトウェア（computer aided transcription software）（「ＣＡＴＳ」）が使用されて、パターンデータがフラクチャリングされ、そのパターンデータが観察される。ＣＡＴＳは、製造プロセスの前にデータを観察する目的でジョブデック方式（たとえば、マスクレイアウト）をシミュレーションする市販のソフトウェアである。しかしながら、フラクチャリング命令は、他のフォーマットの他のソフトウェアを使用しても同様に生成できることに留意すべきである。フラクチャリング命令は、処理サーバ又はスタンドアロンの別個のディスクメモリプールに記憶することができる。フラクチャリングエンジンサーバは、処理サーバ又はディスクメモリプールとインターフェースして、フラクチャリング命令を読み出し、パターンデータをフラクチャリングする。

パターンデータが、一旦フラクチャリングされると、フラクチャリングされたデータの完全性が検証されるべきである。検証プロセスは、フォトマスク処理で使用される既知の技法又は今後開発される技法のいずれかを含む。

さらに、バーコード化は、バーコードをフォトマスクに適用するプロセスを指す。より具体的には、一定のフロントエンドフォトマスク処理業者は、在庫管理の目的で、自身のフォトマスクにバーコードを含めたい場合がある。したがって、フロントエンドフォトマスク処理業者が、このようなバーコードについて注文に情報を含めていた場合、ＳＥＭＩ処理ソフトウェアは、このデータを抽出し、それをフォーマットし、リソグラフィツールによって使用可能な形でパターンデータを作成する。リソグラフィツールは、リソジョブデック命令によってバーコードパターンデータに誘導され、そのデータを使用してフォトマスクにバーコードを書き込む。

位置決め精度ファイルを作成するプロセスは、検査ツールがフォトマスクを位置合わせするのに使用する座標を含むファイルを作成する方法を指す。これらの座標は、画像を半導体に露光するのに共に使用することができる。位置決め情報も、フォトマスクを半導体ウェハ又は他のフォトマスク層と位置合わせするために半導体製造プロセスで使用することができる。ＳＥＭＩソフトウェアは、位置決め精度ファイルの作成に適切なデータを注文から抽出し、位置決め検査プロセスを実行する機器用にこのようなデータをフォーマットする。この点に関して、位置決めファイルは、さまざまなフォーマットとすることができる。これらのさまざまなフォーマットには、．ＭＦ２ファイル、．ＭＦ３ファイル、限界寸法ファイル等が含まれるが、これらに限定されるものではない。データのサイジング及び反転（reversing）のプロセスは、パターン化されたデータのサイズ及びトーンを修正して、製造プロセスにおけるフォトマスクの処理を容易にする方法を指す。ＳＥＭＩソフトウェアは、適切な命令を注文から抽出し、データサイジング操作のためのフラクチャリング命令を作成する。これらの命令は、通常、シンクファイルに記憶される。このプロセスの動作のステータスは、図９のデータＳ／Ｒにおいて追跡される。

バイナリフォトマスク設計の場合、ＳＥＭＩソフトウェアは、フォトマスクの製造中における基板の運動を考慮に入れるために、データバイアスをパターンデータに自動的に適用して、或る程度の許容範囲を可能にする。したがって、フォトマスクが設計仕様に従って製造されるように、フォトマスクの実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部のあらゆる運動が考慮される。データバイアスの適用を考慮する要因には、生産管理のフラグ付け（production control flagging）、フォトマスクを製造する設備（たとえば、フォトマスク製造設備、フロントエンドフォトマスク処理業者の設備）、及び、フォトマスクの製造に影響を与える場合があるそれらの設備の状態（たとえば、サイジング、シフト、特別なコメント、パターン名更新、ジョブデック構築、及びＳＥＭＩファイル又はＭＥＳファイルへのパターン名のアップロード）が含まれるが、これらに限定されるものではない。

位相シフトフォトマスク（「ＰＳＭ」）設計の場合、ＳＥＭＩソフトウェアは、光近接効果補正（「ＯＰＣ」）をパターンデータに自動的に適用して、限界寸法、並びに、ＰＳＭ（たとえば、ａａＰＳＭ、ＥＡＰＳＭ）及び同様のサブ解像度構造に通常現れる解像度の変化（resolution various）を補正する。この点に関して、本発明のソフトウェアは、製造中に導入される系統歪みを考慮するために、マスク設計のマスクレイアウトジオメトリを修正するＯＰＣを適用する。

加えて、生産管理フラグ付けのプロセスは、特定のフロントエンドフォトマスク処理業者の注文を処理する適切な製造設備を決定する機能を指す。たとえば、フォトマスク製造業者が、ドイツ及びシンガポールに製造設備を含む場合、ＳＥＭＩソフトウェアは、フロントエンドフォトマスク処理業者の注文を解析し、そのフォトマスクをドイツで製造するのか、若しくはシンガポールで製造するのか、又はそれらの或る組み合わせで製造するのかを決定する。生産管理フラグ付け機能は、任意のさまざまな基準に基づいてこの決定を行うように設定することができる。これらのさまざまな基準には、各製造サイトで使用されるリソグラフィツール、フロントエンドフォトマスク処理業者の好み、及び各設備におけるワークロードが含まれるが、これらに限定されるものではない。

２重チェック機能は、フロントエンドフォトマスク処理業者によって提供される仕様でサイジングされたパターンデータの正確度について比較するプロセスを指す。ＳＥＭＩソフトウェアは、注文からデータを抽出し、この２重チェック機能を実行する機器によって読み出されるようにそのデータを整理する。

オングリッドチェックは、ジョブデックのパターンデータの配置を、リソグラフィツールの内部配置「グリッド」と比較するプロセスを指す。有限個の配置座標点が、リソツールの内部グリッドの点の間に位置する場合に、パターンはオフグリッドとみなされる。

本発明の別の特徴は、エラー及び他の出来事（すなわち、プログラミングが開始又は終了したこと）を認識して、本明細書で解説した配布リストのメンバーへ報告するようにプログラミングされた自動化メッセージング機能である。この機能は、ＦＴＰサーバ及び処理サーバに関して上述したように使用することができる。

加えて、電子的限界寸法プロット（「E-CD Plots」）は、処理されているフォトマスク上のパターンデータの電子写真が、品質管理の目的で内部参照マークによりマーキングされるプロセスを指す。ここで該当するように、ＳＥＭＩ処理ソフトウェアは、E-CDプロットを行うのに必要な命令を注文から抽出し、通常は、プロットファイルの作成で使用するフラクチャリングエンジンのシンクファイル（cinq file）を作成し、それらの命令をディスクメモリプールに記憶する。

注文を提供するフォーマットに応じて、製造タスクの一部又は全部の実行が必要な場合もあるし、必要でない場合もある。したがって、データアレイに列挙された製造タスクのいずれも、任意に無効にすることができる。これらの処理機能のそれぞれについてデータを整理する方法は、フロントエンドフォトマスク処理業者によって提供される仕様に応じて変化する。それにもかかわらず、データは、機能のそれぞれを実行できるように整理されるべきである。

また、このシステムは、自動化された対話型監視システムも含む。この監視システムは、あらゆる製造タスクのステータスのプロンプト識別情報（prompt identification）及び通知に加えて、このようなタスクを実行する際に遭遇するエラーも提供する。図９及び図１０を参照して、好ましい実施の形態では、この対話型監視システムは、安全な認証を介してアクセスできるイントラネット上のウェブサイトの形で提供される。安全な認証には、パスワードが含まれるが、これに限定されるものではない。或いは、このウェブサイトは、認証によるかよらないかのいずれかで、ワールドワイドウェブ及び／又は他の任意のウェブ上でもアクセスすることができる。このウェブサイトに一旦入ると、専門家は、各製造タスクのステータスを観察することができる。何らかのエラーが発生した場合、専門家は、その特定の製造タスクを停止し、エラーを訂正して、プロセスを再開することができる。

加えて、製造実行システム（「ＭＥＳ」）をクライアントコンピュータにインストールすることができる。このクライアントコンピュータも、処理サーバがインターフェースすることができる。ＭＥＳシステムは、当該技術分野では既知であり、製造プロセスの追跡、支払い情報の生成、及び本明細書で解説したさまざまな製造タスクの結果のダウンロードを行う能力をシステムユーザに提供する。

また、本発明は、標準プロトコル又はカスタムプロトコルを実行する任意のＭＥＳシステムとインターフェースして、調節されたデータをこのＭＥＳシステムへ自動的に渡すのに使用することもできる。この標準プロトコル又はカスタムプロトコルには、ＸＭＬ、ＳＯＡＰ、ｅｂＸｍｌ、ロゼッタネット、及び他の同様のプロトコルが含まれるが、これらに限定されるものではない。

図９には示されていないが、プロセス決定等の他のタスクを含めることもできる。このプロセス決定は、自動化されたツール選択プロセスである。詳細には、プロセス決定では、フォトマスクの製造に利用される特定のユニット又はタイプの処理機器（たとえば、特定のリソグラフィツール又は検査ツール）が指定される。この情報は、フロントエンドフォトマスク処理業者が指定することもできるし、特定のタスクを実行するように選ばれたサイトの結果として指定することもできる。

好ましい実施の形態では、関連するデータファイルが、本発明の第２のソフトウェアコンポーネントの関連する機能によって一旦生成されると、これらのデータファイルは、単一のファイルに融合される。所望に応じて、これらのファイルは、別個のファイルとして保持することもできるし、複数のファイルの組として融合することもできる。データファイルは、実質的にそのまま書き込めるフォーマット及び／又はそのまま検査できるフォーマットにある注文データ及びパターンデータの少なくとも一部を含むべきである。換言すれば、データファイルは、製造業者から受信される時、適切な製造機器に入力されて、フロントエンドフォトマスク処理業者の仕様に従いフォトマスクを実質的に書き込んで検査できるフォーマットにあるべきである。もちろん、データファイルが、その機器に適切なフォーマットであることを確実にするために、製造業者によって使用されている機器のタイプに関するいくつかの知識を有することが必要な場合がある。したがって、適切且つ必要な場合に、フロントエンドフォトマスク処理業者は、製造機器（たとえば、リソグラフィツール、検査機器等）の要件を製造業者から得て、その情報をデータファイル内に組み込むべきである。一実施の形態では、これは、フロントエンドフォトマスク処理業者が電子的信号（たとえば、電子メール）を製造業者に送信して、フロントエンドフォトマスク処理業者が注文を入力しており、フォトマスクを作製するのに使用される製造設備及び関係する機器に関する情報を必要とすることを通知することによって行うことができる。製造業者は、次に、電子的信号をフロントエンドフォトマスク処理業者へ送信し、この情報を提供する。これらの信号は、フォトマスク注文の入力の完了前に送信されるべきである。一実施の形態では、これらのステップは、本発明のデータサービスネットワーク及び方法を使用して実行される。

データファイルが一旦編集されると、フロントエンドフォトマスク処理業者は、製造のために、ネットワーク接続を介してこのファイルを外部の遠隔の製造業者のシステムへ送信する。一実施の形態では、フロントエンドフォトマスク処理業者は、ファイル転送プロトコル（「ＦＴＰ」）を使用して、ＴＣＰ／ＩＰベースのネットワーク（たとえば、インターネット）を介してこの情報を製造業者へ電子的に転送する。また、本発明は、電子メールの添付ファイルの解析又は他の媒体からのファイルのダウンロード等の他のプロトコルを使用することもできる。製造業者のシステムがファイルを一旦受信すると、製造業者は、提供された命令及び仕様に従ってフォトマスクを製造する。場合によっては、製造業者は、一旦受信したこのファイルの或る調節を追加して行うことが必要な場合がある。その後、フォトマスクは、本明細書で解説した既知の技法を介して半導体を作製するのに使用することができる。

今や本発明の好ましい実施の形態を詳細に図示して説明してきたので、これらの好ましい実施の形態に対するさまざまな修正及び改良は、当業者には直ちに明らかになる。たとえば、好ましい実施の形態では、第１のソフトウェアコンポーネント及び第２のソフトウェアコンポーネントがフロントエンドフォトマスク処理業者によって使用されて、フォトマスク注文が入力され、その注文の少なくとも一部が処理されて実質的にそのまま書き込めるファイル及び／又は実質的にそのまま検査できるファイルにされる。これは、次に、遠隔の製造設備へ送信される。一方、本発明は、第１のソフトウェアコンポーネントが、フロントエンドフォトマスク処理業者によって使用されるように修正されることができることが理解されるべきである。フロントエンドフォトマスク処理業者は、フォトマスク注文をフォトマスク処理業者へ送信し、フォトマスク処理業者は、次に、本発明の第２のソフトウェアコンポーネントを使用して、その注文を処理する。したがって、本発明の精神及び範囲は、広く解釈されるべきであり、上記明細書ではなく添付の特許請求の範囲のみによって限定されるべきである。

従来技術のブランクのフォトマスク又は未現像のフォトマスクを表す図である。 部分的に処理された後の図１のフォトマスクを表す図である。 完全に処理された後の図１及び図２のフォトマスクを表す図である。 処理されたフォトマスクを使用して半導体ウェハを作製又は処理する方法を示すフローチャートである。 ウェハステッパを使用して半導体を作製するプロセスを示す図である。 本発明による、フォトマスク注文を生成して処理するための一般的なプロセスフローである。 本発明の一例示の実施の形態によるフォトマスク注文生成システムを示す図である。 この発明と共に使用されて、指定されたデータを入力するようにユーザを案内するグラフィカルユーザインターフェースの一例を示す図である。 本発明の自動化製造システムの構成を示すブロック図である。 本発明の処理サーバで実行されるデータアレイのスクリーンショットを示す図である。 本発明の処理サーバで実行される図１０のデータアレイにハイパーリンクされたサブデータアレイのスクリーンショットを示す図である。 図９に示す本発明の代替的なマルチ設備構成を示すブロック図である。

Claims (24)

1. 実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理する方法であって、
   前記電子回路設計データの特定の書式を使用して前記設計データを入力するステップと、
   前記設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、
   前記設計データをサイジングするステップであって、それによって、前記フォトマスクの前記実質的に透明な特徴部及び前記実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、設計データをサイジングするステップと、
   前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、
   前記フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、
   以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）前記入力された設計データ、（ｉｉ）前記サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）前記フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）該フラクチャリングされたデータについて前記検証をしたもの、の１つ又は複数から生成される２つ以上のデータセットを融合するステップと、
   前記データセットを調節するステップであって、それによって、前記マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、
   前記調節されたデータセットに対応する電子的信号を、前記特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップと
   を含む、マスクデータを処理する方法。
2. 前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま検査できるフォーマットにフラクチャリングするステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
3. 前記フォトマスク製造処理は、検査ジョブデックを含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
4. 前記フォトマスク製造処理は、リソグラフィジョブデックを含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
5. 前記サイジングするステップは、生産管理フラグを付けるステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
6. 前記サイジングするステップは、製造設備を決定するステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
7. 前記サイジングするステップは、製造設備に基づいてバイアスを決定するステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
8. 前記サイジングするステップは、フォトマスク製造設備を決定するステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
9. 前記サイジングするステップは、フォトマスク及び顧客の設備に基づいてデータを調節するステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
10. 前記調節するステップは、以下のステップ、すなわち、（ｉ）前記データをサイジングするステップ、（ｉｉ）前記データをシフトするステップ、（ｉｉｉ）前記データに関する特別なコメントを設けるステップ、（ｉｖ）パターンの名前を更新するステップ、（ｖ）パターン名をＳＥＭＩファイルにアップロードするジョブデックを構築するステップ、及び（ｖｉ）パターン名をＭＥＳファイルにアップロードするステップ、の１つ又は複数を含む、請求項９に記載のマスクデータを処理する方法。
11. 少なくとも１つのジョブデックを処理するステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
12. 電子的限界寸法をプロットするステップ、
    ＳＥＭＩ仕様を調節するステップ、
    製造される前記フォトマスクを識別するバーコードを生成するステップ、
    位置決め精度ファイルを作成するステップ、前記データを２重チェックするステップ、及び
    前記フォトマスクが製造される製造設備の識別情報で前記データにフラグを付けるステップ、
    から成る群から選択されるステップをさらに含む、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
13. 前記フラグを付けるステップは、以下の基準、すなわち、前記製造サイトで使用されるリソグラフィツールのタイプ、フロントエンドフォトマスク処理業者の好み、及び各設備のワークロードの１つ又は複数に基づいている、請求項１８に記載のマスクデータを処理する方法。
14. 前記要件は、フォトマスク業界フォーマットにある、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
15. 前記業界フォーマットは、ＳＥＭＩ Ｐ−１０標準規格である、請求項２０に記載のマスクデータを処理する方法。
16. 前記要件は、独自フォーマットにある、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
17. 前記独自フォーマットは、フロントエンドフォトマスク処理業者の設計システムに基づいている、請求項２２に記載のマスクデータを処理する方法。
18. 前記独自フォーマットは、フォトマスク処理業者の処理システムに基づいている、請求項２２に記載のマスクデータを処理する方法。
19. 前記要件を入力するステップは、
    （１）データが入力されるテンプレート、
    （２）該テンプレートに入力された該データを指定されたフォーマットに変換するためのルール、
    （３）テンプレートを使用して、フォトマスク注文を指定されたフォーマットで作成するための命令、
    （４）フォトマスク注文を前記指定されたフォーマットと対比して確認するために個別のルールセット、及び
    （５）フォトマスクテンプレート又はフォトマスク注文に関連する少なくとも１つの一意の属性オブジェクト、
    から成る群から選択される少なくとも１つのサブコンポーネントを備える第１のソフトウェアコンポーネントによって管理される、請求項１に記載のマスクデータを処理する方法。
20. 位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理する方法であって、
    前記電子回路設計データの特定の書式を使用して前記設計データを入力するステップと、
    前記設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、
    光近接効果補正を適用するステップであって、それによって、前記フォトマスクの前記位相シフト特徴部及び前記実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、光近接効果補正を適用するステップと、
    前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、
    前記フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、
    以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）前記入力された設計データ、（ｉｉ）前記サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）前記フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）該フラクチャリングされたデータについて前記検証をしたもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するステップと、
    前記データセットを調節するステップであって、それによって、前記マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、
    前記調節されたデータセットに対応する電子的信号を、前記特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップと
    を含む、マスクデータを処理する方法。
21. 実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムであって、命令を含むコンピュータ可読媒体を備え、該命令は、以下のステップ、すなわち、
    前記電子回路設計データの特定の書式を使用して前記設計データを入力するステップと、
    前記設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、
    前記設計データをサイジングするステップであって、それによって、前記フォトマスクの前記実質的に透明な特徴部及び前記実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、設計データをサイジングするステップと、
    前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、
    前記フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、
    以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）前記入力された設計データ、（ｉｉ）前記サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）前記フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）該フラクチャリングされたデータについて前記検証をしたもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するステップと、
    前記データセットを調節するステップであって、それによって、前記マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するステップと、
    前記調節されたデータセットに対応する電子的信号を、前記特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップと
    を実行できるプロセッサで実行可能である、マスクデータを処理するための自動化システム。
22. 実質的に透明な特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムであって、
    マスクデータを処理するためのメモリ、第１のソフトウェアコンポーネント、及び第２のソフトウェアコンポーネントを備える少なくとも１つのサーバであって、
    前記マスク設計に関する前記データは、前記メモリに記憶され、
    前記第１のソフトウェアコンポーネントは、前記設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件データのユーザによる入力を管理する命令を備え、
    前記第２のソフトウェアコンポーネントは、マスクパターンデータ及び前記要件データを解析して、製造に適したフォーマットにするための命令を備え、なお、前記第２のソフトウェアコンポーネントは、以下のタスク、すなわち、（ｉ）前記設計データをサイジングするタスクであって、それによって、前記フォトマスクの前記実質的に透明な特徴部及び前記実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、設計データをサイジングするタスクと、（ｉｉ）前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするタスクと、（ｉｉｉ）前記フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するタスクと、（ｉｖ）以下のデータタイプ、すなわち、（ａ）前記入力された設計データ、（ｂ）前記サイジングされた設計データ、（ｃ）前記フラクチャリングされたデータ、及び（ｄ）該フラクチャリングされたデータについて前記検証をしたもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するタスクと、（ｖ）前記データセットを調節するタスクであって、それによって、前記マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するタスクと、を実行するための命令を備える、少なくとも１つのサーバと、
    前記調節されたデータセットに対応する電子的信号を、前記特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するための回路部と
    を備える、マスクデータを処理するための自動化システム。
23. 位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムであって、命令を含むコンピュータ可読媒体を備え、該命令は、以下のステップ、すなわち、
    前記電子回路設計データの特定の書式を使用して前記設計データを入力するステップと、
    前記設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件を入力するステップと、
    光近接効果補正を適用するステップであって、それによって、前記フォトマスクの前記位相シフト特徴部及び前記実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、前記光近接効果補正を適用するステップと、
    前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするステップと、
    前記フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するステップと、
    以下のデータタイプ、すなわち、（ｉ）前記入力された設計データ、（ｉｉ）前記サイジングされた設計データ、（ｉｉｉ）前記フラクチャリングされたデータ、及び（ｉｖ）該フラクチャリングされたデータについて前記検証をしたもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するステップと、
    前記データセットを調節するステップであって、それによって、前記マスク製造処理と適合するようにする、前記データセットを調節するステップと、
    前記調節されたデータセットに対応する電子的信号を、前記特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するステップと
    を実行できるプロセッサで実行可能である、マスクデータを処理するための自動化システム。
24. 位相シフト特徴部及び実質的に不透明な特徴部を有するフォトマスクの製造に使用される電子回路設計データファイルの書式の設計データを、特定のフォトマスク製造処理に適したデータフォーマットに変換することによりマスクデータを処理するための自動化システムであって、
    マスクデータを処理するためのメモリ、第１のソフトウェアコンポーネント、及び第２のソフトウェアコンポーネントを備える少なくとも１つのサーバであって、
    前記マスク設計に関する前記データは、前記メモリに記憶され、
    前記第１のソフトウェアコンポーネントは、前記設計データに従って作製されるフォトマスクの注文を処理するための要件データのユーザによる入力を管理する命令を備え、
    前記第２のソフトウェアコンポーネントは、マスクパターンデータ及び前記要件データを解析して、製造に適したフォーマットにするための命令を備え、なお、前記第２のソフトウェアコンポーネントは、以下のタスク、すなわち、（ｉ）光近接効果補正を適用するタスクであって、それによって、前記フォトマスクの前記位相シフト特徴部及び前記実質的に不透明な特徴部の処理の進行を容易にする、光近接効果補正を適用するタスクと、（ｉｉ）前記設計データの少なくとも一部を、前記特定のフォトマスク製造処理に適合する、実質的にそのまま書き込めるフォーマットにフラクチャリングするタスクと、（ｉｉｉ）該フラクチャリングされた設計データの完全性を検証するタスクと、（ｉｖ）以下のデータタイプ、すなわち、（ａ）前記入力された設計データ、（ｂ）前記サイジングされた設計データ、（ｃ）前記フラクチャリングされたデータ、及び（ｄ）該フラクチャリングされたデータをについて前記検証をしたもの、の１つ又は複数からの２つ以上のデータセットを融合するタスクと、（ｖ）前記データセットを調節するタスクであって、それによって、前記マスク製造処理と適合するようにする、データセットを調節するタスクと、を実行するための命令を備える、少なくとも１つのサーバと、
    前記調節されたデータセットに対応する電子的信号を、前記特定のフォトマスク製造処理に関連する遠隔の製造システムへ送信するための回路部と
    を備える、マスクデータを処理するための自動化システム。

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