KR20070021631A - Multi-layer printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다층 인쇄 회로 기판 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 방법은, 내층 배선판의 단면 또는 양면 상부에 RCC의 가열, 가압 공정을 통해 도체층을 형성하고 적층체를 얻는 단계, 상기 적층체의 절연층 및 도체층에 홀을 드릴 가공하는 단계, 상기 드릴 가공되어 형성된 홀 내부의 가공면을 디스미어(desmear) 처리하는 단계, 상기 적층체의 도체층을 제거하여 절연층의 조도면을 노출시키는 단계, 상기 절연층의 조도면과 상기 홀 내부면에 무전해 도금층을 형성하는 단계, 상기 무전해 도금층 위에 포토레지스트를 사용하여 패턴을 형성하는 단계, 상기 패턴 위에 전해 도금에 의한 회로층을 형성하는 단계 및 상기 포토레지스트를 박리하고 노출된 무전해 도금층을 제거하는 단계를 포함하여, 전체 적층 두께를 감소시킴과 아울러 고밀도 미세 회로 패턴을 구현할 수 있는 빌드업 인쇄회로기판을 제조할 수 있는 이점이 있다.The present invention relates to a multilayer printed circuit board and a method of manufacturing the same. The method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention includes forming and laminating a conductor layer on a single-sided or double-sided upper surface of an inner wiring board by heating and pressing a RCC. Obtaining a sieve, drilling a hole in the insulating layer and the conductor layer of the laminate, desmearing a machining surface inside the drilled hole, removing the conductor layer of the laminate Exposing the rough surface of the insulating layer, forming an electroless plating layer on the rough surface of the insulating layer and the inner surface of the hole, forming a pattern using a photoresist on the electroless plating layer, and electrolytic plating on the pattern. Forming a circuit layer, and peeling the photoresist and removing the exposed electroless plating layer; In addition, a reduction Sikkim and has the advantage of producing a build-up printed circuit board for implementing high-density fine circuit pattern.
인쇄회로기판, 무전해도금, 조도유지, 애디티브 방식, 도체층 식각 Printed Circuit Board, Electroless Plating, Roughness Maintenance, Additive Method, Conductor Layer Etching
Description
도1은 종래의 적층 프레스법을 이용한 다층 인쇄 회로 기판의 제조 공정도이다.1 is a manufacturing process diagram of a multilayer printed circuit board using a conventional laminated press method.
도2는 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 방법의 공정 순서도이다.2 is a process flowchart of a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention.
도3은 본 발명에 따른 제조 공정에 따라 인쇄 회로 기판의 제조 공정도이다.3 is a manufacturing process diagram of a printed circuit board according to the manufacturing process according to the present invention.
도4는 본 발명에 따른 제조 공정에 따라 제조된 인쇄 회로 기판의 단면 모식도이다.4 is a schematic cross-sectional view of a printed circuit board manufactured according to a manufacturing process according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
11, 21 : 내층 배선판 12, 22 :. 도체층 11, 21: inner
13, 23 : 절연층 14, 24 : 포토레지스트 13, 23:
15 , 25: 홀 16, 26 : 홀 가공면 15, 25:
17, 27 : 무전해 도금층 18, 28 : 전해 도금층 17, 27:
29 : 수평 조도면 29: horizontal roughness plane
본 발명은 다층 인쇄 회로 기판 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 인쇄 회로 기판의 전체층 높이를 슬림화하고, 고밀도 미세 회로 패턴을 구현할 수 있는 다층 인쇄 회로 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a multilayer printed circuit board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a multilayer printed circuit board and a method of manufacturing the same, which can reduce the overall height of the printed circuit board and realize a high density fine circuit pattern.
최근 전자 통신 장치의 성능 개선과 소형화의 요구에 대응하여, 인쇄 회로 기판, 특히 복수 층의 배선 회로가 형성되어 회로 밀도가 높아진 다층 배선 기판 분야는 날로 발전을 거듭하고 있다. In recent years, in response to the demand for improving the performance and miniaturization of electronic communication devices, the field of multilayered wiring boards in which printed circuit boards, particularly multi-layered wiring circuits are formed and circuit density has increased, is constantly developing.
예를 들어, 배선층과 절연층이 교대로 적층(stack)되고, 비아홀이 상부 배선층과 하부 배선층 사이에 형성되어 상기 두 배선층 사이를 접속하는 "빌드업 법"(build-up method)으로 제조되는 다층 배선 기판이 있다. For example, a multilayer fabricated by a "build-up method" in which a wiring layer and an insulating layer are alternately stacked, and via holes are formed between an upper wiring layer and a lower wiring layer to connect the two wiring layers. There is a wiring board.
빌드업 법에서는, 일반적으로 가장 먼저 레이저로 비아홀을 형성하고, 다음에 무전해 도금에 의해서 전해 도금 시드층(seed layer)을 형성하고, 다음에 도금용 레지스트(resist)를 형성한다. In the build-up method, generally, via holes are first formed with a laser, an electrolytic plating seed layer is formed by electroless plating, and then a plating resist is formed.
이후에 전해 도금에 의해서 비아홀과 배선부를 금속으로 충전하는 단계가 진행된다.Subsequently, the via hole and the wiring part are filled with metal by electroplating.
또한, 비아홀이 형성되는 층의 레이아웃(layout)에 의해서 배선에 대한 비아홀의 상대 위치가 결정되므로, 비아홀은 필요에 따라 배선에 대해 다양한 위치에 형성될 수 있다. In addition, since the relative position of the via hole with respect to the wiring is determined by the layout of the layer in which the via hole is formed, the via hole may be formed at various positions with respect to the wiring as needed.
도1은 종래의 적층 프레스법을 이용한 다층 기판의 제조 과정을 도시하고 있다.1 shows a manufacturing process of a multilayer substrate using a conventional laminated press method.
도1을 참조하여, 종래의 적층 프레스법에 의해 RCC (resin coated copper)을 사용하여 다층 인쇄회로기판을 제조하는 과정을 살펴보면, 상기 내층 배선판(11)의 상부에 RCC를 가열 가압하여 적층체를 형성시킨 후, 내층(11) 위에 적층된 절연층(13)과 경계를 가지는 구리 도전층(12)을 도금하고(1b), 상기 구리 도전층(12) 위에 포토레지스트(1c)를 입히고 포토리소그라피법에 의해 패턴을 형성한다. Referring to FIG. 1, a process of manufacturing a multilayer printed circuit board using RCC (resin coated copper) by a conventional lamination press method will be described. The laminate may be formed by heating and pressing an RCC on an upper portion of the
그런 다음, 상기 포토레지스트(14)가 없는 부분에 CO2 , YAG 레이저로 드릴 가공을 하여 홀을 형성하고(1d), 상기 홀(15)이 형성된 가공면을 디스미어(desmear) 처리한다(1e).Then, a hole is formed by drilling with a CO 2 and YAG laser in a portion without the photoresist 14 (1d), and a desmear treatment is performed on the machined surface on which the
다음으로, 상기 디스미어 처리된 홀 가공면(16)에 무전해 동도금을 하고(1f), 상기 무전해 동도금층(17) 위에 전해 동 도금(18)을 한다(1g).Next, electroless copper plating is performed on the desmeared hole working surface 16 (1f), and
상기 전해 동도금면(18) 위에 포토레지스트(14)를 부착하고(1h), 포토리소그라피법에 의해 회로 패턴을 형성한 후, 상기 노출된 동 도금면(18)을 식각 처리하고(1i) 난후 포토레지스트(14)를 제거하면 최종 인쇄 회로 기판이 완성된다(1i)After attaching the
그러나, 상술한 적층 프레스법을 이용한 다층기판은 홀 가공 후 도금 공정이 들어가기 때문에 외층 도체는 동박에 동 도금이 올라가서 두께가 두꺼워짐에 따라 미세 패턴의 형성이 곤란해질 뿐만 아니라 동 도금면의 식각과정에서 에치백(etch-back) 현상이 발생하는 문제점이 있다.However, in the multilayer substrate using the above-mentioned lamination press method, since the plating process is performed after hole processing, the outer layer conductor becomes difficult to form fine patterns as the thickness of copper plated on copper foil becomes thick, and the etching process of copper plated surface. There is a problem that an etch-back phenomenon occurs.
이러한 문제점을 해결하기 위해서 적층된 다층기판의 홀 가공 후 동박 부분을 에칭으로 제거한 뒤 제거된 동박으로 인해 생성된 수지층의 조도를 이용하여 제차 동도금을 행하여 회로 패턴을 형성함으로써 고밀도 패턴에 적합한 파인 패턴을 형성하는 방법이 제안되었다.In order to solve this problem, after the hole processing of the laminated multilayer board, the copper foil part is removed by etching, and then, after the copper plating is performed using the roughness of the resin layer generated by the removed copper foil, a fine pattern suitable for a high density pattern is formed. A method of forming is proposed.
그러나, 상기 방법에서는 디스미어 처리 후 수지층의 조도가 낮아져서 수지와 동도금의 접착강도가 충분하지 못하는 문제점이 발생한다.However, in the above method, since the roughness of the resin layer is lowered after the desmear treatment, a problem arises in that the adhesive strength between the resin and copper plating is not sufficient.
본 발명은 상술한 바와 같은 종래의 적층 프레스법에 의한 다층 기판의 제조방법에 있어서의 문제점을 해결하고자 제안된 것으로, 홀 가공 후 회로가 형성될 부분의 동박을 박리하지 않고 디스미어 처리를 함으로써 회로 형성부의 조도를 유지하고 추후 동박을 박리한 후 도금 공정을 진행하여 절연층인 수지층과 도금층의 접착강도를 향상시키고 전체 적층 두께를 감소시켜서 미세 패턴을 형성시킬 수 있는 다층 인쇄 회로 기판 및 그 제조 방법을 제공함에 본 발명의 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the problems in the method of manufacturing a multilayer substrate by the conventional lamination press method as described above, and by performing a desmear process without peeling the copper foil of the portion where the circuit is to be formed after hole processing, Multilayer printed circuit board and its manufacture capable of forming a fine pattern by maintaining the roughness of the formed portion, and subsequently peeling the copper foil and then proceeding the plating process to improve the adhesive strength of the resin layer and the plating layer as the insulating layer and reduce the overall lamination thickness. It is an object of the present invention to provide a method.
상기와 같은 종래의 문제점을 해결하고 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 방법은, (a) 내층 배선판의 단면 또는 양면 상부에 RCC(resin coated copper)를 적층한 후, 가열가압하여 절연층 및 도체층으로 구성된 적층체를 얻는 단계, (b) 상기 적층체의 절연층 및 도체층에 홀을 드릴 가공하는 단계, (c) 상기 드릴 가공되어 형성된 홀 내부의 가공면을 디스미어(desmear) 처리하는 단계, (d) 상기 적층체의 도체층을 제거하여 절연층의 조도면을 노출시키는 단계, (e) 상기 절연층의 조도면과 상기 홀 내부면에 무전해 도금층을 형성하는 단계, (f) 상기 무전해 도금층 위에 포토레지스트를 사용하여 패턴을 형성하는 단계, (g) 상기 패턴 위에 전해 도금에 의한 회로층을 형성하는 단계 및 (h) 상기 포토레지스트를 박리하고 노출된 무전해 도금층을 제거하는 단계를 포함한다.Method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention for solving the conventional problems as described above and to achieve the above object, (a) after laminating a coated resin (RCC) on the upper surface of the single-sided or double-sided of the inner layer wiring board, Heating and pressing to obtain a laminate comprising an insulating layer and a conductor layer, (b) drilling a hole in the insulating layer and the conductor layer of the laminate, and (c) processing a surface inside the hole formed by the drilling process. Desmearing (d) removing the conductor layer of the laminate to expose the rough surface of the insulating layer, (e) forming an electroless plating layer on the rough surface of the insulating layer and the inner surface of the hole (F) forming a pattern using photoresist on the electroless plating layer, (g) forming a circuit layer by electroplating on the pattern, and (h) peeling the photoresist and exposing the electroless Removing the plating layer.
또한, 본 발명에 따른 또 다른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 방법은, (a) 내층 배선판의 단면 또는 양면 상부에 프리프레그(prepreg)와 금속박을 적층한 후, 함께 가열 가압하여 절연층 및 도체층으로 구성된 적층체를 얻는 단계, (b) 상기 적층체의 절연층 및 도체층에 홀을 드릴 가공하는 단계, (c) 상기 드릴 가공되어 형성된 홀 내부의 가공면을 디스미어(desmear) 처리하는 단계, (d) 상기 적층체의 도체층을 제거하여 절연층의 조도면을 노출시키는 단계, (e) 상기 절연층의 조도면과 상기 홀 내부면에 무전해 도금층을 형성하는 단계, (f) 상기 무전해 도금층 위에 포토레지스트를 사용하여 패턴을 형성하는 단계, (g) 상기 패턴 위에 전해 도금에 의한 회로층을 형성하는 단계 및 (h) 상기 포토레지스트를 박리하고 노출된 무전해 도금층을 제거하는 단계를 포함한다.In addition, in another method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention, (a) a prepreg and a metal foil are laminated on one or both sides of an inner layer wiring board, and then heated and pressed together to form an insulating layer and a conductor layer. (B) drilling a hole in the insulating layer and the conductor layer of the laminate, (c) desmearing a machining surface inside the drilled hole formed; (d) removing the conductor layer of the laminate to expose the rough surface of the insulating layer, (e) forming an electroless plating layer on the rough surface of the insulating layer and the inner surface of the hole, (f) the electroless plating layer Forming a pattern using a photoresist thereon; (g) forming a circuit layer by electroplating on the pattern; and (h) removing the photoresist and removing the exposed electroless plating layer. .
한편, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판에 따르면, 내층 배선판, 상기 내층 배선판의 단면 또는 양면 상부에 가열, 가압되어 형성되는 적층체, 상기 적층체의 절연층에 드릴 가공되고 그 내부면이 디스미어 처리되는 홀, 상기 도체층의 이면에 접착되어 상기 도체층이 박리될 때 상기 절연층 위에 노출 형성되는 조도면, 상기 조도면 위와 상기 홀 내부면에 형성되는 무전해 도금층 및 상기 무전해 도금층 위에 전해도금으로 형성되는 회로 패턴층을 포함한다.On the other hand, according to the multilayer printed circuit board according to the present invention, the inner layer wiring board, the laminate formed by heating and pressing on the upper surface or both surfaces of the inner layer wiring board, the drilled to the insulating layer of the laminate, the inner surface of the desmear A roughened surface exposed on the insulating layer when the conductor layer is peeled off by being bonded to the back surface of the conductor layer, an electroless plating layer formed on the roughened surface and the inner surface of the hole, and electrolytic plating on the electroless plating layer. And a circuit pattern layer formed.
이하, 본 발명에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 도면에 도시된 실시예에 대하여 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도2는 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 방법의 공정 순서도이다. 2 is a process flowchart of a method of manufacturing a multilayer printed circuit board according to the present invention.
도2를 참조하면, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 공정 순서는, 내층 배선판의 일면 또는 양면 상부에 형성된 절연층과 상기 절연층 위에 형성된 도체층에 홀을 드릴 가공하는 단계(S31), 상기 홀이 가공되어 형성된 홀 내부의 가공면을 디스미어처리하는 단계(S32), 상기 절연층 위에 형성된 도체층을 제거하여 조도면을 노출하는 단계(S33), 상기 도체층이 제거된 절연층과 홀 내부면에 무전해 도금에 의한 무전해 도금층을 형성하는 단계(S34), 상기 무전해 도금층 위에 포토레지스트(PR) 층을 코팅하는 단계(S35), 상기 포토레지스트층 위에 전해 도금층을 형성하는 단계(S36), 상기 포토레지스트층을 제거하고, 노출된 무전해도금층을 제거하는 단계(S37)를 포함한다.Referring to Figure 2, the manufacturing process sequence of the multilayer printed circuit board according to the present invention, the step of drilling a hole in the insulating layer formed on one side or both sides of the inner layer wiring board and the conductor layer formed on the insulating layer (S31), Desmearing the processed surface inside the hole formed by processing the hole (S32), removing the conductor layer formed on the insulating layer to expose the rough surface (S33), the insulating layer and the hole from which the conductor layer is removed Forming an electroless plating layer by electroless plating on an inner surface (S34), coating a photoresist (PR) layer on the electroless plating layer (S35), and forming an electrolytic plating layer on the photoresist layer ( S36), removing the photoresist layer, and removing the exposed electroplating layer (S37).
도3은 상기 도2에 도시된 본 발명에 따른 제조 방법에 따라 다층 인쇄 회로 기판의 제조 과정을 나타내는 상세 공정도이다.FIG. 3 is a detailed process diagram showing a manufacturing process of a multilayer printed circuit board according to the manufacturing method according to the present invention shown in FIG.
도3을 참조하여, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 과정을 상세히 살펴보면 다음과 같다.Referring to Figure 3, look at in detail the manufacturing process of the multilayer printed circuit board according to the present invention.
이미 형성된 내층 배선판(21)(3a)의 단면 또는 양면 상부에 RCC(resin coated copper)를 가열, 가압하여 절연층과 외부 도체층을 형성하는 적층체를 얻게 된다.By heating and pressing RCC (resin coated copper) on the upper surface or the upper surface of both surfaces of the already formed inner wiring board 21 (3a), a laminate which forms an insulating layer and an outer conductor layer is obtained.
상기 내층 배선판(21) 위에는 수지 등에 의한 절연층(23)이 적층되고, 상기 절연층(23) 위에 도체층(22)이 형성된다(3b).An insulating
여기서, 상기 도체층(22)으로서 일반적으로 동박(copper film)이 사용된다.Here, generally, a copper film is used as the conductor layer 22.
한편, 상기 RCC 대신에 상기 내층 배선판(21)의 단면 또는 양면 상부에 프리프레그(prepreg)와 금속박을 적층한 후 상기 금속박과 프리프레그를 함께 가열, 가압하여 절연층과 도체층으로 구성된 적층체를 얻는 방법도 가능하다. Meanwhile, instead of the RCC, a prepreg and a metal foil are laminated on one or both upper surfaces of the inner
다음으로, 상기 도체층(22)과 절연층(23)을 함께 드릴링하여 홀을 형성시키는 과정이 진행된다(3c). Next, the process of drilling the conductor layer 22 and the
여기서, 상기 드릴링은 CO2 와 YAG레이저에 의하여 수행되고, 상기 내층 배선판(21)에 연결되는 홀(25)이 형성된다.Here, the drilling is performed by the CO 2 and YAG laser, the
다음으로, 상기 홀(25)의 가공된 내부면을 조도화시키기 위한 디스미어(desmear) 공정이 진행된다(3d). Next, a desmear process is performed to roughen the processed inner surface of the hole 25 (3d).
상기 디스미어(desmear) 공정은 상기 레이저 가공에 의한 홀(25)의 내면을 가공하여 적절한 거칠기(조도)를 가지는 조도면(26)을 형성하기 위한 것이다.The desmear process is to form an
다음 공정은 처음에 형성되었던 상기 도체층(22)을 식각하여 제거하는 단계이다(3e).The next process is to etch away the conductor layer 22 that was originally formed (3e).
상기 식각공정은 도체층(22)이 식각된 후에 상기 절연층(23) 위에 적절한 거칠기를 가지는 수평 조도면(29)이 여전히 유지되도록 하기 위한 것이다.The etching process is such that after the conductor layer 22 is etched, the
이것은, 상기 절연층(23)에 가압, 가열되어 적층되었던 도체층(22)의 이면에 원래부터 다소 거칠기를 가지는 프로파일이 상기 절연층(23)에 접착되면서 상기 절연층(23)의 상부 표면으로 전사되어 거칠기를 그대로 전달받게 되는 것이다.This is a profile having a somewhat rough original shape on the back surface of the conductor layer 22 that has been pressed and heated to the insulating
즉, 상기 도체층(22)은 맨 상부쪽 면은 비교적 매끄러운 가공면을 가지고 있 으나, 상기 절연체 층과 접착되는 이면은 다소 거친 상태의 조도를 가진 채 상기 절연체(23)층과 가열, 가압에 의한 프레스로 적층되어 결합된다는 사실에 기인하는 것이다.That is, the conductor layer 22 has a relatively smooth processing surface at the uppermost surface, but the back surface adhered to the insulator layer has a roughness of roughness and the heating and pressurization of the
그러므로, 홀 가공 후 회로가 형성될 부분의 도체층을 박리하지 않고 디스미어 처리를 수행하여 회로가 형성될 부분의 조도를 유지되고, 이후 도체층 박리 후 도금 공정을 진행하여 절연체층(23)과 도금층(27)의 접착 강도를 향상시킬 수 있게 된다.Therefore, after the hole processing, the desmear process is performed without peeling off the conductor layer of the portion where the circuit is to be formed, thereby maintaining the roughness of the portion where the circuit is to be formed. It is possible to improve the adhesive strength of the
또한, 이 단계에서 식각 공정을 수행함으로써 이후 미세 회로 패턴을 형성할 때 도체층의 추가적인 식각 공정 없이 도금층을 형성해 나갈 수 있게 된다.In addition, by performing an etching process in this step, when forming a fine circuit pattern it is possible to form a plating layer without additional etching process of the conductor layer.
다음에, 상기 수평 조도면(29)이 유지되어 있는 회로 형성부와 상기 홀(25) 내면에 무전해 도금을 수행하여 비교적 얇은 도금층(27)을 형성한다(3f).Next, electroless plating is performed on the circuit forming portion where the
상기 무전해 도금층(27)은 그 위에 형성될 미세 회로 패턴층을 올리기 위하여 수지 절연층에 미리 접착 강도를 확보하여 주기 위한 것이다.The
일반적으로, 형성되는 회로 전극과 기판과의 접착성은 밀접한 관계를 가지고, 기판과 회로 전극 사이에는 무전해 도금층(27)이 형성된다. In general, the adhesion between the circuit electrode to be formed and the substrate has a close relationship, and an
여기서, 상기 무전해 도금층(27)은 표면 도포된 촉매를 활성점으로 하여 형성되기 때문에, 궁극적으로는 기판과의 접착성은 없다. Here, since the
그러므로, 기판 표면의 조도가 큰 경우에는, 그 사이의 접착은 앵커 효과에 의해 양호하게 유지 되지만, 기판 표면에 조도가 없다면 그 접착성은 낮아지는 경향을 보인다.Therefore, when the roughness of the substrate surface is large, the adhesion therebetween is well maintained by the anchor effect, but when the roughness is not present on the substrate surface, the adhesion tends to be low.
따라서, 애디티브 프로세스(additive process)에서는 기판이 되는 고분자 재료의 표면의 조도를 형성시키는 공정이 필요하며, 본 발명의 경우 도체층(22)인 동박의 조도를 이용한다.Therefore, in an additive process, a process of forming the roughness of the surface of the polymer material serving as the substrate is required. In the present invention, the roughness of the copper foil serving as the conductor layer 22 is used.
높은 접착강도를 얻기 위해서는 표면조도를 크게 하여야 하므로, 금속박의 표면조도가 큰 것을 사용하는 것이 유효하지만, 표면조도 값이 3내지 5㎛정도일 경우, 형성되는 회로의 라인/스페이스의 값이 30/30㎛ 이상의 경우에는 문제가 되지 않지만, 30/30㎛이하, 즉 25/25㎛이하 선폭 회로 형성에는 표면의 요철 영향을 받아 양호한 회로 형성이 어려워져서 중대한 문제가 된다. In order to obtain high adhesive strength, the surface roughness must be increased. Therefore, it is effective to use a large surface roughness of metal foil. However, when the surface roughness value is about 3 to 5 µm, the line / space value of the circuit formed is 30/30. In the case of 탆 or more, this is not a problem. However, the formation of the line width circuit of 30/30 탆 or less, that is, 25/25 탆 or less is a serious problem because it is difficult to form a good circuit due to the surface irregularities.
그러므로, 형성되는 회로폭의 0.1배 정도 이하의 표면조도를 도체층(22)인 금속박이 갖는 것이 가장 양호한 회로 형상을 얻을 수 있다.Therefore, the most favorable circuit shape can be obtained that the metal foil, which is the conductor layer 22, has a surface roughness of about 0.1 times or less of the formed circuit width.
이때, 전해 도금층(28)의 시드층이 되는 상기 무전해 도금층(27)은, 일반적으로 0.1-5㎛이내로 하는 것이 적당하다.At this time, the
한편, 추후 상기 무전해 도금층(28)을 에칭 제거할 때 에칭시간을 길게 하면 무전해 도금층(27)은 양호하게 제거되고 높은 절연 신뢰성을 얻을 수 있기는 하지만, 전해 도금층(28)의 회로 패턴의 폭, 두께가 감소하여 정밀한 회로 패턴 형성 및 재현성에 문제가 생긴다. On the other hand, if the etching time is increased when the
반면, 에칭시간을 짧게 하면 양호한 회로 패턴을 얻을 수 있기는 하지만, 상기 무전해 도금층(27)이 부분적으로 잔류하여 높은 절연 신뢰성을 얻을 수 없는 단점이 있다. On the other hand, although a good circuit pattern can be obtained by shortening the etching time, there is a disadvantage in that the
결국 에칭시간에 부합되는 두께의 상기 무전해 도금층(27) 형성이 중요시 된 다.As a result, it is important to form the
즉, 최종 회로 형성단계에서 상기 무전해 도금층(27)은 퀵 에칭(quick etching)에 의해 제거가 되므로, 단시간 내에 수행하기에 적당한 두께로 형성되어야 한다. That is, in the final circuit forming step, the
만약 너무 두껍다면 퀵 에칭(quick etching)에 의해 제거가 되지 않는 부분이 생길 수 있으며, 너무 얇게 올라간다면 퀵 에칭(quick etching)시 잔존해야 할 부분까지 에칭액이 침투가 될 가능성이 있다.If the thickness is too thick, there may be a portion that cannot be removed by quick etching, and if the thickness rises too thin, the etching liquid may penetrate to the portion to be left during quick etching.
그 다음 공정으로서, 상기 무전해 도금층(27) 위에 원하는 회로 패턴을 형성하기 위하여 리소그래피 공정으로서 포토레지스트(24)를 코팅하고 외층 패턴을 형성하기 위한 개구부를 형성하는 과정을 거쳐서 미세 회로 패턴을 형성한다(3g).Next, in order to form a desired circuit pattern on the
여기서, 상기 포토레지스트는 드라이 필름(dry film) 등을 사용할 수 있다.Here, the photoresist may be a dry film or the like.
다음에, 상기 포토레지스트층(24)의 개구부에 상기 미세 회로 패턴를 형성하기 위한 도체층(28)을 전해 도금으로 하여 형성한다(3h). Next, the
그 결과, 상기 전해 도금층(28)은 상기 홀(25)에 의하여 상기 내층 배선판(21)과 연결되는 새로운 회로층을 형성하게 된다.As a result, the
여기서, 상기 전해 도금층(28)의 두께는 약 1㎛∼100㎛으로 하는 것이 바람직하다.Herein, the thickness of the
마지막으로, 상기 사용되었던 불필요한 포토레지스트층(24)을 제거하고 노출된 상기 무전해 도금층(27)을 제거하는 단계를 거쳐서 회로 패턴을 완성한다(3i).Finally, the circuit pattern is completed by removing the
도4는 본 발명에 따른 제조 공정에 따라 제조된 인쇄 회로 기판의 단면 모식 도로서 종래 적층 프레스법에 의한 단면 모식도와 비교한 것이다.4 is a cross-sectional schematic diagram of a printed circuit board manufactured according to a manufacturing process according to the present invention, compared with a cross-sectional schematic diagram by a conventional lamination press method.
좌측의 종래 적층 프로세스에 의한 빌드업 기판의 경우 패턴 전사(4a) 후 식각 공정(4b)을 거치면, 포토레지스트(14)를 제거한 후의 동도금층(12)이 과도하게 식각되는 에치백(etch-back) 현상이 발생한다(4c).In the case of the build-up substrate by the conventional lamination process on the left side, an etch-back in which the
그러나, 본 발명에 따른 애디티브 프로세스에 의한 경우 무전해 동도금층(27)에 포토레지스트(24)를 코팅하여(4a'), 전해 동도금층(28)을 형성하고(4b'), 상기 포토레지스트(24)를 제거(4c')하는 과정을 거치게 되어 에치백 현상이 문제되는 식각 공정을 수행하지 않으므로 더욱 미세한 회로 패턴을 가진 고밀도 빌드업 기판을 얻을 수 있게 된다.However, by the additive process according to the present invention, the
이상에서 살펴본 바와 같이 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판의 제조 방법에 따르면, 작업 공정을 단순화시킬 뿐만 아니라 조도면의 조도 유지에 따른 절연층과 도금층의 접착강도를 향상시키고 전체 적층 두께를 감소시켜서 미세 패턴을 형성할 수 있으므로 고밀도 빌드업 인쇄회로기판을 제조할 수 있는 방법을 제공한다. As described above, according to the manufacturing method of the multilayer printed circuit board according to the present invention, not only the work process is simplified but also the fine pattern by improving the adhesive strength of the insulating layer and the plating layer according to the roughness of the roughness surface and reducing the overall lamination thickness. Since it can be formed to provide a method for manufacturing a high-density build-up printed circuit board.
또한, 본 발명에 따른 다층 인쇄 회로 기판은 홀 충진성이 우수할 뿐만 아니라 회로 패턴을 형성하는 도금층이 에치백되는 현상을 방지하여 더욱 고밀도의 미세 패턴을 형성할 수 있는 장점이 있다.In addition, the multilayer printed circuit board according to the present invention has an advantage of not only excellent hole filling property but also preventing the plating layer forming the circuit pattern from being etched back to form a finer pattern of higher density.
이상에서 본 발명은 기재된 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the specific embodiments described, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims. .
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