JPH0818228A - Manufacture of multi-layer printed board - Google Patents

Manufacture of multi-layer printed board

Info

Publication number
JPH0818228A
JPH0818228A JP14466294A JP14466294A JPH0818228A JP H0818228 A JPH0818228 A JP H0818228A JP 14466294 A JP14466294 A JP 14466294A JP 14466294 A JP14466294 A JP 14466294A JP H0818228 A JPH0818228 A JP H0818228A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
copper foil
base material
layer
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14466294A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinobu Fukuoka
忍 福岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamamoto Seisakusho Inc
Original Assignee
Yamamoto Seisakusho Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamamoto Seisakusho Inc filed Critical Yamamoto Seisakusho Inc
Priority to JP14466294A priority Critical patent/JPH0818228A/en
Publication of JPH0818228A publication Critical patent/JPH0818228A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To provide a highly precise, light weight and downsized multi-layer printed board by a simple method corresponding to a high-density conductor pattern. CONSTITUTION:A double-sided board 3 is provided by forming a conductor pattern 5 and a land 6 by photo-etching a copper foil. On one side of a thick copper foil 7, only thermosetting resin 8 which does not have a glass cloth core 4 is applied to provide basic material 9. The basic material 9 is adhered on the double-sided board 3; a via hole 10 is etched on the copper foil layer using photoresist to expose the surface of the resin layer; and a via hole 11 is etched on the exposed resin layer by laser using the copper foil layer as a mask. Thus, the amount of the conductor wiring pattern is remarkably improved allowing other characteristics such as heat resistance and electric characteristic to be the same as those of multi-layer boards manufactured by other methods, and interconnection between layers is can freely be formed. Reduction of material allows weight reduction, and since the number of processes is reduced and manufacture is simplified, cost is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は多層プリント配線板の製
造方法に係り、特に、導体パターンの配線効率と収容能
力に優れた多層プリント配線板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, and more particularly to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board excellent in wiring efficiency and capacity of a conductor pattern.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の電子機器の小型化、高速化、多機
能化がめざましく、プリント配線板の機器に占める体積
が問題となってきており、機械的なバイアホール形成技
術よりさらに微細なバイアホールをレーザ工法によって
得る多層プリント配線板の製造方法が求められている。
(例えば、特公平4−3676号公報参照。) この種の多層プリント配線板の製造方法には、両面もし
くは片面、および多層板に機械的にバイアホール孔を開
けてメッキし、両面もしくは片面に導体パターンを形成
し、2枚もしくはそれ以上の枚数で積層する方法のIV
H(インタステシャル バイアホール)、SVH(サー
フェイス バイアホール)法がある。この方法は、現在
主流であるが、機械的にドリルで孔明けするために、微
小な孔明けが困難であるとともに、数回にわたりメッキ
されるために高密度パターンの形成が困難である欠点が
ある。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices are becoming smaller, faster, and more multifunctional, and the volume occupied by printed wiring boards in devices is becoming a problem. There is a demand for a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which holes are obtained by a laser method.
(See, for example, Japanese Patent Publication No. 4-3676.) In this method of manufacturing a multilayer printed wiring board, double-sided or single-sided, and mechanically forming via-hole holes in the multi-layered board and plating the both sides or single-sided IV of the method of forming a conductor pattern and stacking two or more sheets
H (interstitial via hole) and SVH (surface via hole) methods are available. This method, which is currently the mainstream, has the drawback that it is difficult to form minute holes because it is mechanically drilled, and it is difficult to form a high-density pattern because it is plated several times. is there.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これらの問題点を解決
するため、積層後ドリルにて最外層から下の1層もしく
は2ないし3層まで孔開けする方法もあるが、通常、積
層板の絶縁すべき層間にはガラスクロスがあり、最も細
径の直径0.15mmのドリルを用いても、ガラスクロ
スによりドリルが折れるという問題がある。また、フォ
トレジストを使用し、アディティブ法に類似した方法に
て積層し、高密度パターンを形成する方法もあるが、フ
ォトレジストにて、バイアホールを形成することと、レ
ジスト上にメッキし導体パターンを形成するため、レジ
スト厚と同一程度の直径60μから80μが限界であ
り、機械的、熱的応力の少ない真円もしくは円柱ではな
く、また、導体パターンの密着が悪く一般にはあまり使
用されていない。
In order to solve these problems, there is a method in which after laminating, a hole is drilled from the outermost layer to the lower layer or two or three layers after lamination, but usually the insulation of the laminated plate is used. There is a glass cloth between the layers that should be formed, and there is a problem that the glass cloth breaks the drill even if the smallest diameter drill of 0.15 mm is used. There is also a method of forming a high-density pattern by stacking the photoresist using a method similar to the additive method, but forming a via hole with the photoresist and plating the resist on the conductor pattern. Therefore, the diameter is 60 μm to 80 μm, which is about the same as the resist thickness, and it is not a perfect circle or a cylinder with less mechanical and thermal stress. Also, the conductor pattern is not adhered well and is not generally used. .

【0004】本発明の目的は、多層プリント配線板の製
造方法において、導体パターンの高密度化に対応し、容
易な方法により高精度で軽量小型化を図ることのできる
多層プリント配線板の製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which is capable of accommodating a high density of a conductor pattern and which can achieve high precision, light weight and size reduction by an easy method. Is to provide.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、基板の両面もしくは片面に貼った銅箔をフ
ォトエッチングして、導体パターンおよびランドを形成
してなる両面板もしくは片面板の上に、銅箔および樹脂
からなる基材が積層されている多層プリント配線板の製
造方法において、前記基材には、圧延銅箔の片面に、ガ
ラスクロスを有さない熱硬化性樹脂のみを塗布したもの
を用いることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a double-sided plate or a single-sided plate having a conductor pattern and a land formed by photoetching a copper foil attached to both sides or one side of a substrate. On the above, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which a base material made of a copper foil and a resin is laminated, the base material is a thermosetting resin having no glass cloth on one side of the rolled copper foil. Is used.

【0006】また、多層プリント配線板の製造方法にお
いて、前記導体パターンおよびランドを形成した両面板
もしくは片面板に、厚延銅箔の片面に、熱硬化性樹脂の
みを塗布した基材を、ガラスクロスを介在させずに貼
り、前記圧延銅箔層にフォトレジストを用いてバイアホ
ール用の孔をエッチングして前記樹脂層の表面を露出さ
せ、前記圧延銅箔層をマスクとして露出した前記樹脂層
にレーザを使用してバイアホール用の孔をエッチングす
ることを特徴とする。
Further, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board, a double-sided plate or a single-sided plate on which the conductor pattern and lands are formed is coated with a base material obtained by applying only a thermosetting resin to one surface of a thick-rolled copper foil. Pasting without interposing a cloth, etching the holes for via holes using a photoresist in the rolled copper foil layer to expose the surface of the resin layer, and the resin layer exposed using the rolled copper foil layer as a mask A laser is used to etch the holes for the via holes.

【0007】また、多層プリント配線板の製造方法にお
いて、 銅箔を貼った基板を用意する工程と、
前記銅箔をフォトエッチングし、導体パターンおよび
ランドを形成する工程と、 厚延銅箔の片面に熱硬
化性樹脂のみが塗布されている基材を用意する工程と、
前記導体パターンおよびランドが形成された基板
の上に、前記基材の樹脂層側を貼る工程と、 前記
基材の銅箔層にフォトレジストを用いてバイアホール用
の孔をエッチングして前記樹脂層の表面を露出させる工
程と、 前記銅箔層をマスクとし、露出している前
記樹脂層にレーザを使用してバイアホール用の孔をエッ
チングする工程と、 前記樹脂層のバイアホール用
の孔以外の所で、前記基板上に形成されているランド中
央部にスルホール用の貫通孔を形成する工程と、
サブトラクティブ法による回路形成により、前記基材の
銅箔層に導体パターンとバイアホールを形成すると同時
にスルホールを形成する工程と、からなることを特徴と
する。
In the method of manufacturing a multilayer printed wiring board, a step of preparing a substrate on which a copper foil is stuck,
Photoetching the copper foil, forming a conductor pattern and a land, and a step of preparing a base material in which only a thermosetting resin is applied to one surface of the thick rolled copper foil,
A step of sticking the resin layer side of the base material on the substrate on which the conductor pattern and the land are formed, and etching the holes for via holes using a photoresist in the copper foil layer of the base material to form the resin A step of exposing the surface of the layer; a step of etching a hole for a via hole in the exposed resin layer by using a laser with the copper foil layer as a mask; and a hole for a via hole of the resin layer In a place other than the step of forming a through hole for a through hole in the central portion of the land formed on the substrate,
The method comprises forming a conductor pattern and a via hole in the copper foil layer of the base material by forming a circuit by the subtractive method, and at the same time forming a through hole.

【0008】また、前記導体パターンおよびランドが形
成された基板の上に、前記基材の樹脂層側を貼る工程
と、前記基材の銅箔層にフォトレジストを用いてバイア
ホール用の孔をエッチングして前記樹脂層の表面を露出
させる工程と、前記銅箔層をマスクとし、露出している
前記樹脂層にレーザを使用してバイアホール用の孔をエ
ッチングする工程とに代えて、前記基材の銅箔層および
樹脂層に、あらかじめドリルを用いてバイアホール用の
貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔を形成した基材
を、前記導体パターンおよびランドが形成された基板上
に貼る工程とを加えることができるし、また、これらの
工程を適宜所定回くり返して、多層のプリント配線板を
製造してもよい。
Further, a step of pasting the resin layer side of the base material on the substrate on which the conductor pattern and the land are formed, and a hole for a via hole are formed in the copper foil layer of the base material by using a photoresist. Instead of the step of etching to expose the surface of the resin layer, and using the copper foil layer as a mask, the step of etching holes for via holes using a laser in the exposed resin layer, In the copper foil layer and the resin layer of the base material, a step of previously forming a through hole for a via hole using a drill, and the base material having the through hole formed on the substrate on which the conductor pattern and the land are formed. A step of sticking can be added, and these steps may be appropriately repeated a predetermined number of times to manufacture a multilayer printed wiring board.

【0009】[0009]

【作用】上記構成によれば、従来の多層プリント配線板
が備えているガラスクロスを基板との間に介在させない
ため、バイアホール、スルホール等の形成が容易とな
り、材料減により、小型化、軽量化を図ることができ
る。また、従来の積層技術を使用し、例えば厚さ9μな
いしは5μといった薄手の銅箔が使用できるため、導体
パターンの密着、高密度化に対応でき、かつ、レーザ工
法により直径10μのバイアホールを形成することが可
能である。そのため、導体パターンの収容能力が十分に
あり、高密度で小型の多層プリント配線板を製造ること
ができる。
According to the above construction, since the glass cloth provided in the conventional multilayer printed wiring board is not interposed between the board and the substrate, it is easy to form via holes, through holes, etc., and the material is reduced, so that the size and weight are reduced. Can be realized. In addition, since the conventional lamination technology can be used, for example, a thin copper foil having a thickness of 9 μ to 5 μ can be used, it is possible to adhere to the conductor pattern and increase the density, and a via hole having a diameter of 10 μ is formed by the laser method. It is possible to Therefore, the capacity for accommodating the conductor pattern is sufficient, and a high-density and small-sized multilayer printed wiring board can be manufactured.

【0010】[0010]

【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照して説
明する。 (実施例1)図1は、本発明の第1の実施例の工程図で
あり、4層のプリント配線板の製造各工程における基板
の断面図である。本実施例は以下の工程からなる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is a process drawing of a first embodiment of the present invention, which is a sectional view of a substrate in each process of manufacturing a four-layer printed wiring board. This example includes the following steps.

【0011】まず、第1の工程として、図1の工程Aに
示すように、基板1の両面に銅箔2を貼った両面板3を
用意する。基材1には、両面の銅箔2の間を絶縁するた
めのガラスクロスコア4が設けられている。尚、本実施
例では両面板3を用いているが、代わりに片面のみに銅
箔を貼った片面板でも製造工程は以下と同様である。
First, as a first step, as shown in step A of FIG. 1, a double-sided plate 3 in which copper foils 2 are attached to both surfaces of a substrate 1 is prepared. The substrate 1 is provided with a glass cloth core 4 for insulating between the copper foils 2 on both sides. In addition, although the double-sided plate 3 is used in this embodiment, the manufacturing process is the same as that of the single-sided plate in which the copper foil is adhered only on one side instead.

【0012】次に、第2の工程として、図1の工程Bに
示すように、この両面板3の両面の銅箔2をフォトエッ
チングし、導体パターン5およびランド6を形成する。
Next, as a second step, as shown in step B of FIG. 1, the copper foils 2 on both sides of the double-sided plate 3 are photo-etched to form conductor patterns 5 and lands 6.

【0013】第3の工程として、図1の工程Cに示すよ
うに、厚延銅箔7の片面に熱硬化性のエポキシ樹脂8の
みを塗布した基材9を用意する。この基材9には絶縁材
のガラスクロスコアは設けられていない。本実施例で
は、エポキシ樹脂を用いているが、ポリイミド樹脂でも
同様に使用することができる。
As a third step, as shown in step C of FIG. 1, a base material 9 is prepared by coating only one side of a thick rolled copper foil 7 with a thermosetting epoxy resin 8. The base material 9 is not provided with an insulating glass cloth core. In this embodiment, an epoxy resin is used, but a polyimide resin can be used as well.

【0014】次に、第4の工程として、図1の工程Dに
示すように、導体パターン5およびランド6が形成され
た基板1の両面から、基材9の樹脂8の層側を貼る。本
実施例では、この樹脂8の層にはガラスクロスコアを介
在させない。
Next, as a fourth step, as shown in step D of FIG. 1, the resin 8 layer side of the base material 9 is attached from both surfaces of the substrate 1 on which the conductor patterns 5 and the lands 6 are formed. In this embodiment, no glass cloth core is interposed in this resin 8 layer.

【0015】次に、第5の工程として、図2の工程Eに
示すように、基材9の銅箔7の層にフォトレジストを用
いてバイアホール用の孔10をエッチングして樹脂8の
層の表面を露出させる。
Next, as a fifth step, as shown in step E of FIG. 2, the holes 10 for the via holes are etched by using a photoresist on the layer of the copper foil 7 of the base material 9 to remove the resin 8. Expose the surface of the layer.

【0016】第6の工程として、図2の工程Fに示すよ
うに、銅箔7の層をマスクとし、露出している樹脂8の
層にレーザを使用してバイアホール用の孔11をエッチ
ングし、導体パターン5を露出させる。このとき、必要
に応じて孔11を過マンガン酸等の薬品で洗滌する。
As a sixth step, as shown in step F of FIG. 2, the hole 11 for the via hole is etched using a layer of the copper foil 7 as a mask and using a laser on the exposed layer of the resin 8. Then, the conductor pattern 5 is exposed. At this time, the holes 11 are washed with a chemical such as permanganate, if necessary.

【0017】次に、第7の工程として、図3の工程Gに
示すように、孔11以外の所で、基板1上に形成されて
いるランド6の中央部にスルホール用の貫通孔12を形
成する。
Next, as a seventh step, as shown in step G of FIG. 3, a through hole 12 for a through hole is formed in the central portion of the land 6 formed on the substrate 1 except the hole 11. Form.

【0018】次に、第8の工程として、サブトラクティ
ブ法による回路形成により、基材の銅箔層に導体パター
ンとバイアホールを形成すると同時にスルホールを形成
する。すなわち、図3の工程Hに示すように、無電解、
および電解で厚さ20μの銅メッキ13を行い、さら
に、図3の工程Iに示すように、ホトレジストを使用し
て導体パターン1を逆形成し、半田メッキを厚さ8μ〜
10μ行い、ホトレジストを剥離し、エッチングして導
体パターン14を形成する。
Next, as an eighth step, a circuit pattern is formed by a subtractive method to form a conductor pattern and a via hole in the copper foil layer of the base material and simultaneously form a through hole. That is, as shown in step H of FIG.
Then, copper plating 13 having a thickness of 20 μ is electrolytically formed. Further, as shown in step I of FIG. 3, the conductor pattern 1 is reversely formed using a photoresist and solder plating is performed to a thickness of 8 μ
After 10 μm, the photoresist is peeled off and the conductor pattern 14 is formed by etching.

【0019】本実施例によれば、ガラスクロスコアを省
略しているので、バイアホール用の孔の加工形成を高精
度にしかも容易に行うことができる。
According to the present embodiment, since the glass cloth core is omitted, the holes for via holes can be processed and formed with high precision and easily.

【0020】(実施例2)次に本発明の第2の実施例を
説明する。本実施例が第1の実施例と相違するところ
は、図2に示した工程E、工程Fに代えて、図4に示す
ように工程Jとして、基材9の銅箔層および樹脂層に、
あらかじめドリルを用いてバイアホール用の貫通孔15
(図2の孔11に相当)を形成し、これを基板1の両面
に貼って、図2の工程Fと同様のものにした点である。
なお、本実施例では、図3の工程Gに示した貫通孔12
に相当する孔は形成していないが、あらかじめドリルで
開けておいてもよい。本実施例においても、第1の実施
例と同様の効果がある。
(Embodiment 2) Next, a second embodiment of the present invention will be described. The difference of this embodiment from the first embodiment is that instead of steps E and F shown in FIG. 2, a copper foil layer and a resin layer of the base material 9 are formed as step J as shown in FIG. ,
Pre-drilled through hole 15 for via hole
(Corresponding to the hole 11 in FIG. 2) is formed, and this is attached to both surfaces of the substrate 1 to be the same as the step F in FIG.
In the present embodiment, the through hole 12 shown in step G of FIG.
Although the hole corresponding to is not formed, it may be drilled in advance. This embodiment also has the same effect as that of the first embodiment.

【0021】(実施例3)次に、本発明の第3の実施例
として、5層板以上の多層板を製造する方法を説明す
る。本実施例では、図2の工程Fの終了した段階で、4
層板の両面もしくは片面に、図1の工程Cに示す基材を
貼り、図2の工程E、Fをくり返すことにより、所定の
多層板を製造することができる。
(Embodiment 3) Next, as a third embodiment of the present invention, a method for producing a multi-layer board having five or more layers will be described. In this embodiment, at the stage where the process F of FIG.
A predetermined multilayer board can be manufactured by attaching the base material shown in step C of FIG. 1 to both sides or one side of the layer board and repeating steps E and F of FIG.

【0022】また、図4に示した第2の実施例で説明し
たように、あらかじめドリルを用いてバイアホール用の
貫通孔を形成した基材を、4層板の両面もしくは片面に
貼って多層板にすることもできる。
Further, as explained in the second embodiment shown in FIG. 4, a base material having through holes for via holes formed in advance by using a drill is attached to both sides or one side of a four-layer plate to form a multilayer structure. It can also be a plate.

【0023】なお、この場合、バイアホール用の孔以外
の所で、ドリルによるランド中央部のスルホール用の貫
通孔の形成は、最終工程で行ってもよいし、途中工程で
適宜行ってもよいことはもちろんである。
In this case, the formation of the through hole for the through hole at the center of the land by the drill at a place other than the hole for the via hole may be performed in the final step or may be appropriately performed in the intermediate step. Of course.

【0024】(実施例4)次に、本発明の第4の実施例
を説明する。本実施例は、図5に示すように、第1層〜
第6層の銅箔20を積層する6層板の製造方法の一実施
例である。第1層、および第6層になる銅箔20の片面
に熱硬化性エポキシ樹脂21が塗布されている2枚の基
材22と、第2層と第3層、および第4層と第5層を両
面に持つ2枚の両面板と、第3層と第4層との間のプリ
プレグとの計5枚を積層し、1枚となった6層板の両表
面の銅箔20にバイアホール用の孔をフォトレジストを
用いて、エポキシ樹脂が露出するようにエッチングす
る。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, as shown in FIG.
It is one Example of the manufacturing method of the 6-layer board which laminates the copper foil 20 of the 6th layer. Two base materials 22 in which a thermosetting epoxy resin 21 is applied to one surface of the copper foil 20 to be the first layer and the sixth layer, the second layer and the third layer, and the fourth layer and the fifth layer. Two double-sided plates having layers on both sides and a prepreg between the third layer and the fourth layer, a total of five layers, were laminated to form a via-layer on the copper foil 20 on both surfaces of the six-layered plate. The holes are etched using photoresist so that the epoxy resin is exposed.

【0025】次に、レーザ工法により下の第2層および
第5層のランドまで、昇華させ、樹脂エッチング用の過
マンガン酸等の薬品にて、バイアホール用の孔の中をき
れいにする。次に、貫通用のスルホールを孔開けし、無
電解、電解の厚さ20μの銅メッキを行い、ホトレジス
トを使用し導体パターンを逆形成し、半田メッキを厚さ
8μないし10μ行い、ホトレジストを剥離し、エッチ
ングして導体パターンを形成して、図3の工程Iに示す
4層板と同様の6層板を製造した。
Next, the land of the second and fifth layers below is sublimated by a laser method, and the inside of the via hole is cleaned with a chemical such as permanganate for resin etching. Next, a through hole for penetration is opened, electroless and electrolytic copper plating with a thickness of 20μ is performed, a conductor pattern is reversely formed using photoresist, and solder plating is performed with a thickness of 8μ to 10μ, and the photoresist is peeled off. Then, a conductor pattern was formed by etching to manufacture a 6-layer board similar to the 4-layer board shown in step I of FIG.

【0026】本実施例においても、第1層、および第6
層になる銅箔20の片面に熱硬化性エポキシ樹脂21が
塗布されている2枚の基材22は、ガラスクロスコアの
ない新材料を用いたため、第1の実施例と同様に、高密
度で小型の多層配線板を製造することができた。
Also in this embodiment, the first layer and the sixth layer
Since the two base materials 22 in which the thermosetting epoxy resin 21 is applied to one surface of the layered copper foil 20 are made of a new material without a glass cloth core, a high density is obtained as in the first embodiment. It was possible to manufacture a small multilayer wiring board.

【0027】(実施例5)次に、本発明の第5の実施例
を説明する。本実施例は8層板の製造方法の一実施例
で、上記第4の実施例の6層板の両面に、さらに、図1
の工程Cに示した銅箔の片面に熱硬化性エポキシ樹脂の
みが塗布されている基材を積層し、1枚となった8層板
の両表面の銅箔にバイアホール用の孔をフォトレジスト
を用いて、エポキシ樹脂が露出するようにエッチングす
る。
(Fifth Embodiment) Next, a fifth embodiment of the present invention will be described. The present embodiment is an example of a method for manufacturing an 8-layer board, and the method is shown in FIG.
The base material coated only with the thermosetting epoxy resin is laminated on one surface of the copper foil shown in step C of 1., and the holes for via holes are formed in the copper foil on both surfaces of the single 8-layer board. Etching is performed using a resist so that the epoxy resin is exposed.

【0028】次に、上記第4の実施例で説明したよう
に、レーザ工法により下の層のランドまで、昇華させ、
樹脂エッチング用の薬品にてバイアホール用の孔の中を
きれいにする。次に貫通用のスルホールを孔開けし、無
電解、電解の銅メッキを行い、導体パターンを形成して
半田メッキを行い、エッチングにより導体パターンを形
成して、高密度小型基板を製造した。また、この方法を
くり返すことにより、いかなる配線の仕方も可能な高密
度小型多層板の製造が可能である。
Next, as described in the fourth embodiment, the land of the lower layer is sublimated by the laser method,
Clean the inside of the via hole with a chemical for resin etching. Next, through holes for penetration were formed, electroless and electrolytic copper plating was performed, a conductor pattern was formed and solder plating was performed, and a conductor pattern was formed by etching to manufacture a high-density small board. Further, by repeating this method, it is possible to manufacture a high-density small-sized multilayer board capable of any wiring method.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
耐熱性、電気特性等の諸特性が、他の製法で製造された
多層板となんら変わらずに、導体配線パターンの収容能
力が格段と向上し、層と層の配線が自由にできる。ま
た、材料を省略することにより、軽量化が図られ、作業
工程も減少し、製法も簡略化されるので、コストダウン
を図ることができる。そのため、高密度小型化されてい
る電子機器分野において、広く適応されかつ産業上極め
て有用である。
As described above, according to the present invention,
The various properties such as heat resistance and electrical properties are no different from those of the multilayer board manufactured by other manufacturing methods, and the accommodating capacity of the conductor wiring pattern is significantly improved, and the wiring between layers can be freely performed. Further, by omitting the material, the weight can be reduced, the number of working steps can be reduced, and the manufacturing method can be simplified, so that the cost can be reduced. Therefore, it is widely applied and extremely industrially useful in the field of high-density and miniaturized electronic devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の第1の実施例である4層プリ
ント配線板の製造工程を説明するための断面説明図で、
工程Aは銅貼り基板、工程Bは銅貼り基板をフォトエッ
チングして導体パターンを形成したところ、工程Cは銅
箔に樹脂のみを塗布した本発明における基材、工程Dは
基板に本発明における基材を貼ったところを示す図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional explanatory view for explaining a manufacturing process of a four-layer printed wiring board that is a first embodiment of the present invention,
Step A is a copper-clad substrate, step B is a copper-clad substrate is photo-etched to form a conductor pattern, step C is a base material of the present invention in which only a copper foil is coated with resin, and step D is a substrate of the present invention. It is a figure which shows the place which stuck the base material.

【図2】図2は、図1の後の製造工程を説明するための
断面説明図で、工程Eはバイアホール用の孔をエッチン
グして開けたところ、工程Fはレーザにより樹脂層に孔
を開けたところを示す図である。
FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view for explaining a manufacturing process after FIG. 1, in which a hole for a via hole is etched and opened in a step E, and a hole is formed in a resin layer by a laser in a step F. It is a figure which shows the place which opened.

【図3】図3は、図2の後の製造工程を説明するための
断面説明図で、工程Gは貫通スルホールをドリルで開け
たところ、工程Hは導通のためメッキを行ったところ、
工程Iは外層の導体パターンをエッチングしたところを
示す図である。
FIG. 3 is a cross-sectional explanatory view for explaining a manufacturing process after FIG. 2, in which a through hole is drilled in step G, and plating is performed in step H for conduction,
Step I is a diagram showing that the conductor pattern of the outer layer is etched.

【図4】図4は、本発明の第2の実施例の製造工程を説
明するための断面説明図で、工程Jは銅箔に樹脂のみを
塗布した本発明における基材にあらかじめドリルでバイ
アホール用の孔を開けたところを示す図である。
FIG. 4 is a cross-sectional explanatory view for explaining a manufacturing process of the second embodiment of the present invention, wherein step J is a via hole previously drilled on the base material of the present invention in which only the resin is applied to the copper foil. It is a figure which shows the place which opened the hole for holes.

【図5】図5は、本発明の第4の実施例である6層板の
製造方法の説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a 6-layer board that is the fourth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基材 2 銅箔 3 両面板 4 ガラスクロスコア 5 導体パターン 6 ランド 7 銅箔 8 エポキシ樹脂 9 基材 10 孔 11 孔 12 貫通孔 13 メッキ 14 導体パターン 15 貫通孔 20 銅箔 21 樹脂 22 基材 1 Base Material 2 Copper Foil 3 Double-Sided Plate 4 Glass Cross Core 5 Conductor Pattern 6 Land 7 Copper Foil 8 Epoxy Resin 9 Base Material 10 Hole 11 Hole 12 Through Hole 13 Plating 14 Conductor Pattern 15 Through Hole 20 Copper Foil 21 Resin 22 Base Material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/40 Z 7511−4E ─────────────────────────────────────────────────── ───Continued from the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H05K 3/40 Z 7511-4E

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の両面もしくは片面に貼った銅箔を
フォトエッチングして、導体パターンおよびランドを形
成してなる両面板もしくは片面板の上に、銅箔および樹
脂からなる基材が積層されている多層プリント配線板の
製造方法において、 前記基材には、圧延銅箔の片面に、ガラスクロスを有さ
ない熱硬化性樹脂のみを塗布したものを用いることを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。
1. A base material made of a copper foil and a resin is laminated on a double-sided plate or a single-sided plate having a conductor pattern and lands formed by photo-etching a copper foil attached to both sides or one side of a substrate. In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board, the base material is a rolled copper foil coated on one side with a thermosetting resin having no glass cloth. Manufacturing method.
【請求項2】 基板の両面もしくは片面に貼った銅箔を
フォトエッチングして、導体パターンおよびランドを形
成してなる両面板もしくは片面板の上に、銅箔および樹
脂からなる基材が積層されている多層プリント配線板の
製造方法において、 前記導体パターンおよびランドを形成した両面板もしく
は片面板に、厚延銅箔の片面に、熱硬化性樹脂のみを塗
布した基材を、ガラスクロスを介在させずに貼り、前記
圧延銅箔層にフォトレジストを用いてバイアホール用の
孔をエッチングして前記樹脂層の表面を露出させ、前記
圧延銅箔層をマスクとして露出した前記樹脂層にレーザ
を使用してバイアホール用の孔をエッチングすることを
特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
2. A base material made of a copper foil and a resin is laminated on a double-sided plate or a single-sided plate having a conductor pattern and lands formed by photo-etching a copper foil attached to both sides or one side of a substrate. In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board, a double-sided plate or a single-sided plate on which the conductor pattern and lands are formed, one side of a thick-rolled copper foil, a base material coated only with a thermosetting resin, and a glass cloth interposed Without applying, to expose the surface of the resin layer by etching holes for via holes using a photoresist in the rolled copper foil layer, a laser to the resin layer exposed using the rolled copper foil layer as a mask A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises using the holes for etching via holes.
【請求項3】 多層プリント配線板の製造方法におい
て、 銅箔を貼った基板を用意する工程と、 前記銅箔をフォトエッチングし、導体パターンおよ
びランドを形成する工程と、 厚延銅箔の片面に熱硬化性樹脂のみが塗布されてい
る基材を用意する工程と、 前記導体パターンおよびランドが形成された基板の
上に、前記基材の樹脂層側を貼る工程と、 前記基材の銅箔層にフォトレジストを用いてバイア
ホール用の孔をエッチングして前記樹脂層の表面を露出
させる工程と、 前記銅箔層をマスクとし、露出している前記樹脂層
にレーザを使用してバイアホール用の孔をエッチングす
る工程と、 前記樹脂層のバイアホール用の孔以外の所で、前記
基板上に形成されているランド中央部にスルホール用の
貫通孔を形成する工程と、 サブトラクティブ法による回路形成により、前記基
材の銅箔層に導体パターンとバイアホールを形成すると
同時にスルホールを形成する工程と、からなることを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。
3. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, the step of preparing a substrate on which a copper foil is stuck, the step of photo-etching the copper foil to form a conductor pattern and a land, and one side of a thick copper foil. A step of preparing a base material to which only the thermosetting resin is applied, a step of pasting the resin layer side of the base material on the substrate on which the conductor pattern and the land are formed, and copper of the base material Etching holes for via holes using a photoresist in the foil layer to expose the surface of the resin layer; and using the copper foil layer as a mask, the exposed resin layer is exposed to vias using a laser. A step of etching a hole for a hole; a step of forming a through hole for a through hole at a central portion of a land formed on the substrate at a position other than the hole for a via hole of the resin layer; The circuit formed by law, method for manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein when forming the conductive pattern and via holes in the copper foil layer of the substrate and forming at the same time through holes, in that it consists of.
【請求項4】 多層プリント配線板の製造方法におい
て、 銅箔を貼った基板を用意する工程と、 前記銅箔をフォトエッチングし、導体パターンおよ
びランドを形成する工程と、 厚延銅箔の片面に熱硬化性樹脂のみが塗布されてい
る基材を用意する工程と、 前記基材の銅箔層および樹脂層に、あらかじめドリ
ルを用いてバイアホール用の貫通孔を形成する工程と、 前記貫通孔を形成した基材を、前記導体パターンお
よびランドが形成された基板上に貼る工程と、 前記樹脂層のバイアホール用の孔以外の所で、前記
基板上に形成されているランド中央部にスルホール用の
貫通孔を形成する工程と、 サブトラクティブ法による回路形成により、前記基
材の銅箔層に導体パターンとバイアホールを形成すると
同時にスルホールを形成する工程と、からなることを特
徴とする多層プリント配線板の製造方法。
4. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, the step of preparing a substrate with a copper foil attached thereto, the step of photo-etching the copper foil to form a conductor pattern and a land, and one side of a thick rolled copper foil. A step of preparing a base material coated only with a thermosetting resin, a step of previously forming a through hole for a via hole using a drill in the copper foil layer and the resin layer of the base material, A step of pasting the base material in which the holes are formed on the substrate on which the conductor pattern and the lands are formed, and at a place other than the holes for the via holes of the resin layer, in the central portion of the land formed on the substrate. A step of forming a through hole for a through hole, and a step of forming a through hole at the same time as forming a conductor pattern and a via hole in the copper foil layer of the base material by forming a circuit by a subtractive method, Method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that Ranaru.
【請求項5】 請求項3または4に記載の多層プリント
配線板の製造方法において、 前記樹脂層のバイアホール用の孔以外の所で、前記基板
上に形成されているランド中央部にスルホール用の貫通
孔を形成する工程の前に、前記導体パターンおよびラン
ドが形成された基板の上に、前記基材の樹脂層側を貼
り、前記基材の銅箔層にフォトレジストを用いてバイア
ホール用の孔をエッチングして前記樹脂層の表面を露出
させ、前記銅箔層をマスクとし、露出している前記樹脂
層にレーザを使用してバイアホール用の孔をエッチング
する工程と、あるいは前記基材の銅箔層および樹脂層
に、あらかじめドリルを用いてバイアホール用の貫通孔
を形成し、前記貫通孔を形成した基材を、前記導体パタ
ーンおよびランドが形成された基板上に貼る工程とのう
ちいずれかまたは両方の工程を所定回行うことを特徴と
する多層プリント配線板の製造方法。
5. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, wherein a through hole is provided at a central portion of a land formed on the substrate, other than a hole for the via hole of the resin layer. Before the step of forming the through-hole, the resin layer side of the base material is pasted on the substrate on which the conductor pattern and the land are formed, and a via hole is formed on the copper foil layer of the base material using a photoresist. Etching the holes for exposing the surface of the resin layer, using the copper foil layer as a mask, and etching the holes for via holes using a laser in the exposed resin layer, or A step of previously forming a through hole for a via hole in a copper foil layer and a resin layer of a base material by using a drill, and pasting the base material having the through hole formed on the substrate on which the conductor pattern and the land are formed. Method for manufacturing a multilayer printed wiring board and performing predetermined times either or both steps of.
【請求項6】 請求項5に記載の多層プリント配線板の
製造方法において、 前記ランド中央部にスルホール用の貫通孔を形成する工
程の前に所定回行う前記工程中に、前記樹脂層のバイア
ホール用の孔以外の所で、前記基板上に形成されている
ランド中央部に、ドリルによりスルホール用の貫通孔を
形成する工程を有することを特徴とする多層プリント配
線板の製造方法。
6. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein a via of the resin layer is provided a predetermined number of times before the step of forming a through hole for a through hole in the central portion of the land. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising the step of forming a through hole for a through hole with a drill in a central portion of a land formed on the substrate at a place other than the hole for the hole.
【請求項7】 請求項5に記載の多層プリント配線板の
製造方法において、 前記工程のうち最終工程でのみ、前記樹脂層のバイアホ
ール用の孔以外の所で、前記基板上に形成されているラ
ンド中央部に、ドリルによりスルホール用の貫通孔を形
成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方
法。
7. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein the resin layer is formed on the substrate only in a final step of the steps other than the holes for the via holes of the resin layer. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that a through hole for a through hole is formed by a drill in the central portion of the land.
【請求項8】 請求項3ないし7のうちいずれかに記載
の多層プリント配線板の製造方法において、 前記基板は銅箔を両面もしくは片面に貼った両面板もし
くは片面板であり、前記銅箔を貼った面に前記基材を積
層することを特徴とする多層プリント配線板の製造方
法。
8. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 3, wherein the substrate is a double-sided plate or a single-sided plate in which copper foil is attached on both sides or one side, and the copper foil is A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising laminating the base material on a surface on which the material is pasted.
【請求項9】 請求項1ないし8のうちいずれかに記載
の多層プリント配線板の製造方法において、 前記基材の樹脂層は、エポキシまたはポリイミド類から
なることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
9. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the resin layer of the base material is made of epoxy or polyimide. Production method.
JP14466294A 1994-06-27 1994-06-27 Manufacture of multi-layer printed board Pending JPH0818228A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14466294A JPH0818228A (en) 1994-06-27 1994-06-27 Manufacture of multi-layer printed board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14466294A JPH0818228A (en) 1994-06-27 1994-06-27 Manufacture of multi-layer printed board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0818228A true JPH0818228A (en) 1996-01-19

Family

ID=15367313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14466294A Pending JPH0818228A (en) 1994-06-27 1994-06-27 Manufacture of multi-layer printed board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0818228A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6103134A (en) * 1998-12-31 2000-08-15 Motorola, Inc. Circuit board features with reduced parasitic capacitance and method therefor
WO2001045478A1 (en) * 1999-12-14 2001-06-21 Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Multilayered printed wiring board and production method therefor
WO2014192494A1 (en) * 2013-05-29 2014-12-04 タツタ電線株式会社 Electromagnetic wave shielding film, printed wire board using same, and rolled copper foil
KR101864220B1 (en) * 2017-11-23 2018-06-04 두두테크 주식회사 Manufacturing method of printed circuit board for drone

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6103134A (en) * 1998-12-31 2000-08-15 Motorola, Inc. Circuit board features with reduced parasitic capacitance and method therefor
WO2001045478A1 (en) * 1999-12-14 2001-06-21 Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Multilayered printed wiring board and production method therefor
US6630630B1 (en) * 1999-12-14 2003-10-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Multilayer printed wiring board and its manufacturing method
WO2014192494A1 (en) * 2013-05-29 2014-12-04 タツタ電線株式会社 Electromagnetic wave shielding film, printed wire board using same, and rolled copper foil
JPWO2014192494A1 (en) * 2013-05-29 2017-02-23 タツタ電線株式会社 Electromagnetic wave shielding film, printed wiring board using the same, and rolled copper foil
US10757849B2 (en) 2013-05-29 2020-08-25 Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. Electromagnetic wave shield film, printed wiring board using same, and rolled copper foil
US11317548B2 (en) 2013-05-29 2022-04-26 Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. Electromagnetic wave shield film, printed wiring board using same, and rolled copper foil
US11497152B2 (en) 2013-05-29 2022-11-08 Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. Electromagnetic wave shield film, printed wiring board using same, and rolled copper foil
KR101864220B1 (en) * 2017-11-23 2018-06-04 두두테크 주식회사 Manufacturing method of printed circuit board for drone

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100346400B1 (en) Multi-layer pcb and the manufacturing method the same
KR100701353B1 (en) Multi-layer printed circuit board and manufacturing method thereof
JP2007184568A (en) Circuit board manufacturing method
KR100704920B1 (en) Pcb and it's manufacturing method used bump board
JP4813204B2 (en) Multilayer circuit board manufacturing method
JP2003124637A (en) Multilayer wiring board
JPH08153971A (en) Multilayered printed wiring board and its manufacture
JPS59175796A (en) Method of producing multilayer printed circuit board
JPH0818228A (en) Manufacture of multi-layer printed board
JP2003243824A (en) Flexible substrate for forming wiring, flexible wiring board, and method of manufacturing flexible wiring board
KR100658972B1 (en) Pcb and method of manufacturing thereof
JP2001257476A (en) Multilayer wiring board and manufacturing method thereof
JP3179572B2 (en) Multilayer printed wiring board and method of manufacturing the same
JPH07221460A (en) Manufacture of multilater printed wiring board
JP3223854B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3235490B2 (en) Manufacturing method of multilayer printed wiring board
JP3288290B2 (en) Multilayer printed wiring board
JPH05121860A (en) Printed wiring board and its manufacture
JPH01140698A (en) Manufacture of multi-layered printed circuit board
JPH08288656A (en) Manufacture of multilayered printed wiring board
JP4736251B2 (en) Film carrier and manufacturing method thereof
JP3817291B2 (en) Printed wiring board
JP2621293B2 (en) Printed circuit board manufacturing method
JP2001332855A (en) Method for manufacturing multi-layered wiring board
JPH05251868A (en) Multilayer printed wiring board with blind via holes