KR20070017917A - 액체 토출 기록 헤드의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

향상된 작업 신뢰도를 갖는 액체 토출 기록 헤드를 개시한다. 필수 요소로서 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 포함하는 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질을 제공한다.

흐름 덕트, 잉크 제트 기록 헤드, 액체 토출 기록 헤드, 프린터, 옥세탄, 수지 조성물

Description

액체 토출 기록 헤드의 제조 방법 {Method for Producing Liquid Ejecting Recording Head}

도 1은 본 발명의 일 실시양태에 따른 잉크 제트 기록 헤드의 사시도.

도 2는 토출 에너지 발생 장치 및 잉크 공급 오리피스가 기재에 제공된 상태를 나타내는 단면도.

도 3은 수지 층이 기재 위에 형성된 상태를 나타내는 단면도.

도 4는 활성화 에너지 광선이 기재 위에 형성된 수지 층에 조사되는 상태를 나타내는 단면도.

도 5는 잉크 흐름 덕트 벽 구역이 기재 위에 형성된 상태를 나타내는 단면도.

도 6a 및 6b는 잉크 제트 기록 헤드를 나타내며, 도 6a는 토출 에너지 발생 장치에 기포가 생성된 상태를 개략적으로 나타내는 단면도, 도 6b는 노즐로부터 잉크가 토출되는 상태를 개략적으로 나타내는 단면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

1: 잉크 제트 기록 헤드 2: 기재

2a: 토출 에너지 발생 장치 3: 잉크 흐름 덕트

4: 흐름 덕트 형성 부재 4a: 흐름 덕트 형성 벽 구역

5: 노즐 시트 5a: 노즐

6: 박막 열 경화 접착 층 7: 잉크 공급 오리피스

8: 수지 층 9: 마스크

10: 활성화 에너지 광선 b: 기포

i: 잉크

본 출원은 일본 특허청에 2005년 8월 8일자로 출원된 일본 특허 출원 제 2005-229865호을 우선권 주장하며, 상기 특허 출원의 전문은 본 출원에 인용된다.

본 발명은 화학물질에 대한 높은 저항성과 낮은 응력을 보이고, 예를 들어 자외선 조사에 의해 높은 정밀도로 패턴 성형된 복수의 흐름 덕트를 포함하는 액체 토출 유형의 기록 헤드를 위한 흐름 덕트 형성 물질에 관한 것이다.

액체 토출 유형 기록 헤드 중에는, 예를 들어 액상으로서 잉크를 토출하는 잉크 제트 기록 시스템(액체 제트 기록 시스템)에 적용되는 잉크 제트 기록 헤드가 있다. 이러한 잉크 제트 기록 헤드는 여러 구성 장치, 즉, 잉크를 미분된 형태로 토출하는 복수의 토출 오리피스(orifice), 이들 토출 오리피스와 연통하는 복수의 흐름 덕트, 및 흐름 덕트의 일정 부분에 제공된 복수의 잉크 토출 압력 발생 장치를 포함한다. 이러한 잉크 제트 기록 헤드로 고품질의 화상을 생성하기 위해서는, 토출 오리피스로부터 방출되는 작은 잉크 비말(droplet)이 각각의 토출 오리피스로 부터 항상 동일한 부피와 토출 속도로 방출되는 것이 바람직하다.

이들 토출 조건을 실현하는 잉크 제트 기록 헤드 중에는, 예를 들면 특허 공보 1 (일본 특허 공보 (소)56-123869호), 특허 공보 2 (일본 특허 공보 (소)57-208255호), 및 특허 공보 3 (일본 특허 공보 (소)57-208256호)에 기술되어 있는 것들이 있다. 상기 특허 공보 1 내지 3에 개시되어 있는 잉크 제트 기록 헤드에서, 잉크 흐름 덕트와 오리피스 부분을 각각 포함하는 복수의 노즐이 복수의 잉크 토출압력 발생 장치를 수반하는 기재 위에, 예를 들어 감광성 수지 물질 또는 포토레지스트로 패턴화된다. 잉크 흐름 덕트와 오리피스 부분을 수반하는 성분 부분 상에 예를 들어 유리판에 의해 형성된 뚜껑이 결합되어 있다. 감광성 수지 물질 또는 포토레지스트의 예로는 디아조 수지, p-디아조퀴논, 비닐 단량체와 중합 개시제를 함유하는 광-중합된 광감성 중합체 (photopolymer), 예를 들어 폴리비닐 신나메이트 및 감광제를 사용한 이량체화된 광감성 중합체, 오르소퀴논 디아지드 및 페놀 노볼락 수지의 혼합물, 및 폴리비닐 알콜 및 디아조 수지의 혼합물이 포함된다. 다른 예로는 벤조페논 또는 글리시딜 칼콘과 4-글리시딜 에틸렌 옥사이드의 공중합에서 얻어진 폴리에테르 광감성 중합체, N-N-디메틸 메타크릴아미드-아크릴아미드 벤조페논 공중합체, 불포화 폴리에스테르계 감광성 수지, 불포화 우레탄계 감광성 수지, 및 광중합 개시제와 중합체를 이관능성 아크릴 단량체와 혼합해서 얻어진 감광성 조성물이 포함된다. 추가의 예로는 디클로메이트 포토레지스트, 비크롬계 수용성 포토레지스트, 및 폴리비닐 신나메이트계 포토레지스트가 포함된다.

토출에 대해 상기 조건을 만족하는 다른 잉크 제트 기록 헤드는 아래에 나타 내는 특허 공보 4 (일본 특허 공보 (소)61-154947호)에 개시된 제조 방법에 의해 얻어진 잉크 제트 기록 헤드로 예시될 수 있다. 상기 특허 공보 4에 개시된, 잉크 제트 기록 헤드의 제조 방법에서, 복수의 잉크 흐름 덕트 패턴은 기재 자리 위에 형성되고, 이들은 가용성 수지과 함께 잉크 흐름 덕트가 되고, 이와 같이 형성된 잉크 흐름 덕트 패턴은 에폭시 수지로 코팅된다. 이어서, 기재는 절단되고, 잉크 흐름 덕트 패턴을 형성하는 가용성 수지는 용해되어 제거되어 잉크 제트 기록 헤드가 산출된다.

또한 상기 특허 공보 1 내지 4에 나타난 것과는 대조적으로, 잉크 토출 압력 발생 장치로서 복수의 전기 열 변환기가 토출 오리피스와 대면하여 탑재되며 전기 열 변환기 상에 형성되는 기포의 성장 방향이 실질적으로 잉크 제트 토출 방향과 동일한 잉크 제트 기록 헤드도 있다. 이런 유형의 잉크 제트 기록 헤드의 예는 아래 나타내는 특허 공보 5 (일본 특허 공보 (소)58-8658호) 및 특허 공보 6 (일본 특허 공보 (소)62-264957호)에 개시되어 있다. 상기 특허 공보 5에 개시된 잉크 제트 기록 헤드에서, 후에 오리피스 판이 되는 건조 필름은 다른 패턴화된 건조 필름과 함께 전기 열 변환기가 제공된 기재 상에 결합된다. 복수의 토출 오리피스는 건조 필름의 전기 열 변환기에 대면하는, 후에 오리피스 판이 되는 자리에 포토리소그라피 기술에 의해 형성된다. 상기 특허 공보 6에 개시된 잉크 제트 기록 헤드에서, 잉크 토출 압력 발생 장치를 수반하는 기재와 전기적 캐스팅에 의해 제조된 오리피스 판은 패턴화된 건조 필름을 통해 같이 결합된다.

게다가, 잉크 제트 기록 헤드에서, 토출 오리피스를 통해 동일한 부피와 동 일한 토출 속도로 잉크를 토출하는 것 뿐만 아니라, 정확하게 설정된 위치에서 미세한 잉크 비말을 토출하는 것이 필요하다. 잉크 제트 기록 헤드가 정확하게 설정된 위치에서 잉크를 토출하기 위해서는, 하기에 'OH' 간격으로 언급되는, 전기 열 변환기와 토출 오리피스 사이의 거리가 가능한 한 짧은 것이 바람직하다.

OH 간격이 높은 정밀도로 설정된 잉크 제트 기록 헤드를 제조하기 위한 예시적인 방법은 특허 공보 7 (일본 특허 공보 (평)6-286149호)에 개시되어 있다. 상기 특허 공보 7에는, 잉크 흐름 덕트 패턴 형성 단계, 코팅 수지 층 형성 단계, 및 가용성 수지 층 용해 단계를 포함하는 잉크 제트 기록 헤드의 제조 방법이 개시되어 있다. 잉크 흐름 덕트 패턴 형성 단계에서, 후에 잉크 흐름 덕트가 되는 잉크 흐름 덕트 패턴이 이미 잉크 토출 압력 발생 장치를 수반하는 기재 상의 가용성 수지에 의해 형성된다. 코팅 수지 층 형성 단계에서, 주변 온도에서 고체인 에폭시 수지를 함유하는 코팅 수지는 용매에 용해되고, 잉크 흐름 덕트 패턴을 형성하는 가용성 수지 층 상에 용매 코팅으로 적용되어 가용성 수지 층 상에 후에 잉크 흐름 덕트의 벽 구역이 되는 코팅 수지 층이 형성된다. 수지 층 용해 단계에서, 잉크 흐름 덕트 패턴을 형성하는 가용성 코팅 층이 용해된다. 상기 특허 공보 7에 기술된 잉크 제트 기록 헤드의 제조 방법에서는, 높은 종횡비를 형성하고 잉크에 대한 높은 저항성을 확보하는 관점에서 지환식 에폭시 수지의 양이온성 중합체가 코팅 수지로서 사용된다.

상기 특허 공보 1 내지 4에 개시된 잉크 제트 기록 헤드에서, 잉크 토출 압력 발생 장치가 될 잉크 흐름 덕트의 미리 설정된 부분에 제공된 복수의 히터 저항 기가 잉크 흐름 방향과 평행한 선을 따라 탑재된다. 잉크 토출 오리피스는 잉크 흐름 방향에 대해 직각으로 연장시키기 위해 잉크 흐름 덕트의 마지막 부분에 제공된다. 이러한 유형의 잉크 제트 기록 헤드에서, 잉크 토출 오리피스가 실질적으로 히터 저항기의 선에 대해 직각으로 배치되기 때문에, 잉크 토출 방향은 저항기 히터 위의 기포의 성장 방향과 수직하고, 즉, 기포의 성장 방향이 잉크의 방출 방향과 상이하다.

잉크 제트 기록 헤드에서, 잉크 흐름 덕트의 말단 끝에 배치된, 토출 오리피스의 일부분은 기재의 말단 끝에 의해서 형성되기 때문에 잉크 토출 압력 발생 장치와 토출 오리피스 사이의 거리는 기재를 절단하는 결과로서 고정된다. 따라서, 잉크 토출 압력 발생 장치와 토출 오리피스 사이의 거리를 조절할 때, 기재가 절단될 때의 정밀도가 중요하다. 기재를 절단하는 작업은 다이싱 소우(dicing saw)와 같은 기계적 장치를 사용한다. 그러나, 이러한 기계적 장치로는 목적하는 높은 정밀도를 실현하기가 어렵다.

상기 특허 공보 5 및 6에 개시된 잉크 제트 기록 헤드에서, 오리피스 판은 예를 들어 20 μm 또는 그 미만의 얇은 두께를 갖는다. 게다가 균일한 두께의 오리피스 판을 제작하는 것은 어렵다. 오리피스 판이 제조되었더라도, 오리피스 판의 취성 때문에 이미 잉크 토출 압력 발생 장치를 수반하는 기재에 오리피스 판을 접합시키는 것은 매우 어렵다.

한편, 잉크 제트 기록 헤드에서, 상기 특허 공보 7 및 8 (일본 특허 공보 (평)7-214783호)에 개시된 방법과 물질을 사용함으로써 하기 문제점을 새로이 직면 하게 된다.

지환식 에폭시 수지의 경화된 양이온성 중합체는 밑에 있는 기재에 대해 높은 결합력을 가진다. 그러나, 중합체는 높은 내부 응력을 가지고 그로 인해 밑에 있는 기재로부터 박리되기가 쉽다. 게다가 중합체는 응력이 집중되기 쉬운 모퉁이 부분에서 균열되기 쉬워(필름 분열), 잉크 제트 기록 헤드의 신뢰성을 심하게 손상시킨다. 추가로, 상기 특허 공보에 개시된 물질들 중에는, 패터닝 성능이 불충분하고, 그로는 잉크 제트 기록 헤드 구조물에 필요한 정교한 패터닝 성능이 달성될 수 없는 물질이 많다.

잉크 제트 기록 헤드에서, 특히 수지 층이 연장된 길이일 경우, 또는 잉크 흐름 덕트 벽 구역으로서 작용하는 코팅 수지 층의 두께가 보다 두꺼운 경우, 또는 잉크 흐름 덕트가 난해하거나 복잡한 구조를 나타낼 경우, 코팅 수지 층은 박리되거나 균열되는 경향이 있다. 게다가, 잉크 제트 기록 헤드에서, 인쇄 품질을 유지하기 위해선 기록 헤드에 고착된 과잉 잉크를 제거하기 위해 잉크가 토출되는 헤드의 표면을 세척하는 작업이 필요할 수 있다. 잉크 제트 기록 헤드를 세척할 때, 헤드 표면은 세척 부재로 닦인다. 그에 따라, 헤드 표면에 기계적 부하가 적용되고, 그 결과 코팅 수지 층이 기재로부터 박리되는 경향이 있다.

따라서, 예를 들어, 자외선 조사에 의해 정확하고 용이한 패턴 형성이 가능한 코팅 필름을 갖고, 응력이 낮은 액체 토출 기록 헤드를 위한 흐름 덕트 형성 물질을 제공하는 것이 바람직하다.

본 발명의 목적은 상기한 종래 기술의 문제점이 없는 액체 토출 기록 헤드를 위한 흐름 덕트 형성 물질을 제공하는데 있다.

본 발명의 일 실시양태에 따라, 필수 요소로서 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 포함하는, 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질을 제공한다.

옥세탄 수지 조성물이 액체 토출 기록 헤드의 흐름 덕트 형성 물질에 함유되는 본 발명에 따라, 옥세탄 화합물에 적합한 저응력 물질과 같은 특징에 의해 코팅된 수지 층은 코팅된 수지 층의 기재로부터의 박리와 균열이 방지되도록 응력이 감소될 수 있다. 이는 액체 토출 기록 헤드가 보다 우수한 내구성을 나타나게 해준다. 게다가 본 발명에 따라, 내화학성은 옥세탄 수지 조성의 코팅된 수지 층을 형성함으로써 얻어질 수 있다. 따라서, 본 발명에 따라, 제조 수율 및 제품 품질이 향상되고, 연장 기간 동안 또한 높은 신뢰성을 나타내는 액체 토출 기록 헤드를 얻을 수 있다.

도면을 참조하여 본 발명의 일 실시양태에 따른 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질을 설명한다. 상기 잉크 제트 기록 헤드의 흐름 덕트 형성 물질은 액체로서 잉크 토출하도록 개작된 잉크 제트 프린터에 제공된 잉크 제트 기록 헤드의 잉크 흐름 덕트를 구성하는 물질이다. 도 1을 참조하면, 잉크 제트 기록 헤드 (1)에는 토출 에너지 발생 장치 (2a)를 수반하는 기재 (2), 토출 에너지 발생 장치 (2a)의 주변에 잉크 (i)를 공급하는 잉크 흐름 덕트 (3)을 형성하는 흐름 덕트 형 성 부재 (4), 및 잉크 (i)를 토출하도록 개작된 노즐 (5a)를 수반하는 노즐 시트 (5)가 제공되어 있다. 노즐 시트 (5)는 접착 층 (6)과 함께 흐름 덕트 형성 부재 (4)의 표면과 기재 (2)를 수반하는 표면 반대편에 결합되어 있다. 잉크 제트 기록 헤드 (1)에서, 노즐 (5a)는 토출 에너지 발생 장치 (2a)를 대면하는 위치에 제공되고, 그 사이에 잉크 흐름 덕트 (3)이 제공된다.

기재 (2)는 반도체 제조 공정에 의해서 토출 에너지 발생 장치 (2a)로서 전기 열 변환기로 형성되는 이미 설정된 그의 표면 자리에 있는 예를 들면, 규소 기재이다. 또한 토출 에너지 발생 장치 (2a)를 제어하기 위한 제어 회로(도시하지 않음)가 기재 (2) 위에 형성되어 있다.

도 1을 참조하면, 잉크 흐름 덕트 (3)을 향한 흐름 덕트 형성 부재 (4)의 말단면은 덕트 벽 구역 (4a)가 되고, 기재 (2) 및 노즐 시트 (5)와 함께 잉크 흐름 덕트 (3)의 일부를 형성한다. 흐름 덕트 형성 부재 (4)는 필수 성분으로서 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 포함하는 흐름 덕트 형성 물질을 경화시킬 때 얻어진다.

흐름 덕트 형성 물질에서 옥세탄 수지 조성물을 형성하는 옥세탄 화합물은 하나의 탄소 원자를 추가한 에폭시의 옥시란 고리인 4원 고리를 가진다. 옥세탄 화합물은 에폭시 화합물보다 더욱 높은 양이온 경화 특성을 보인다. 상기 옥세탄 화합물의 경화된 양이온성 중합체는 경화된 에폭시 중합체의 분자량보다 큰 분자량을 가지고, 높은 강성도, 신율, 높은 신뢰성의 기계적 강도, 보다 높은 내수성 및 보다 높은 내화학성을 보일 수 있다. 상기 옥세탄 화합물의 경화된 양이온성 중합체의 특징는 단단하고 깨지기 쉬운 경화된 에폭시 중합체의 특징과는 매우 다르다. 한편, 옥세탄 화합물의 경화된 양이온성 중합체는 4원 옥세타닐기에서 기인하는 변이 유발 작용을 나타내지 않고, 안전성에서 광-경화성 에폭시 수지보다 우수하다.

두 종류의 옥세탄 화합물, 즉, 한 분자에 단일 옥세타닐기를 갖는 일관능성 옥세탄 화합물과 한 분자에 두개 이상의 옥세타닐기를 갖는 다관능성 옥세탄 화합물이 있다. 일관능성 옥세탄 화합물은 하기 화학식 1로 나타낸다.

화학식 1에서, R₁은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기와 같은 C1 내지 C6 알킬기, C1 내지 C6 플루오로알킬기, 알릴기, 아릴기, 푸릴기, 또는 티에닐기를 나타낸다. R₂는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 또는 부틸기와 같은 C1 내지 C6 알킬기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 2-메틸-1-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 또는 3-부테닐기와 같은 C2 내지 C6 알케닐기, 페닐기, 벤질기, 플루오로벤질기, 메톡시벤질기 또는 페녹시에틸기와 같은 방향족 고리을 갖는 기, 에틸 카르보닐기, 프로필 카르보닐기 또는 부틸 카르보닐기와 같은 C2 내지 C6 알킬 카르보닐기, 에톡시 카르보닐기, 프로폭시 카르보닐기, 또는 부톡시 카르보닐기와 같은 C2 내지 C6 알콕시 카르보닐기, 또는 에틸 카르바모일기, 프로필 카르바모일기, 부틸 카르바모일기 또는 펜틸 카르바모일기와 같은 C2 내지 C6 N-알킬 카르바모일기를 나타낸다.

두개의 옥세타닐기를 갖는 이관능성 옥세탄 화합물은 하기 화학식 2 및 화학식 3으로 나타낸다.

화학식 2에서, R₁은 화학식 1에서와 동일한 의미를 가진다.

화학식 3에서, R₁은 화학식 1에서와 동일한 의미를 가진다. R₃는 하기 화학식 A 내지 E로 나타내어지는, C1 내지 C12의 직쇄형 또는 분지형 포화 탄화수소, C1 내지 C12의 직쇄형 또는 분지형 불포화 탄화수소, 방향족 탄화수소, 및 하기 화학식 F 및 G로 나타내지는 카르보닐기를 갖는 직쇄형 또는 환식 알킬렌 및 하기 화학식 H 및 I로 나타내지는 카르보닐기를 함유하는 방향족 탄화수소로 이루어진 군 으로부터 선택된 2가 기이다.

<화학식 A>

<화학식 B>

<화학식 C>

<화학식 D>

<화학식 E>

<화학식 F>

<화학식 G>

<화학식 H>

<화학식 I>

다른 이관능성 옥세탄 화합물로서 칼도(caldo) 유형 화합물과 나프탈렌 유형 화합물이 있다.

화학식 A 내지 E에서, R₄는 수소 원자, C1 내지 C12 알킬기, 아릴기, 또는 아랄킬기를 나타내고, R₅는 -O-, -S-, -CH₂-, -NH-, -SO₂-, -CH(CH₃)-, -C(CH₃)₂-, 또는 -C(CF₃)₂-를 나타내고, R₆는 수소 원자 또는 C1 내지 C6 알킬기를 나타낸다.

화학식 F에서, n은 1 이상의 정수를 나타낸다.

삼관능성 또는 보다 높은 관능성의 옥세탄 화합물은 하기 화학식 4로 나타내지는 페놀-노볼락 옥세탄 화합물, 하기 화학식 5로 나타내지는 크레졸-노볼락 옥세탄 화합물, 및 하기 화학식 6 및 7로 나타내지는 트리아진 골격을 갖는 옥세탄 화합물로 열거될 수 있다.

다른 삼관능성 또는 보다 높은 관능성의 옥세탄 화합물은 폴리(히드록실스티렌), 칼릭사렌, 실세스퀴옥산과 같은 히드록실기 함유 실리콘 수지가 있는 에테르화된 화합물, 및 옥세탄 고리를 포함하는 불포화 단량체와 알킬 (메트)아크릴레이트의 공중합체로 열거될 수 있다.

화학식 4 및 5에서, R₁은 화학식 1에서와 동일하고, n은 1 이상의 정수이다. 노볼락 옥세탄 화합물에서, 수평균 골격의 수는 n이 1 내지 8일 때, 3 내지 10이 바람직하다. 수평균 골격의 수가 10을 초과할 경우, 점도 값은 보다 높아지고, 가교의 밀도는 구조적 방해로 인해 증가되지 않는다.

화학식 6에서, R₁은 화학식 1에서와 동일한 의미를 가진다.

화학식 7에서, R₁은 화학식 1에서와 동일한 의미를 가진다. R₇은 하기 화학식 J, K, 및 L로 나타나는 C1 내지 C12 분지형 알킬렌기 또는 하기 화학식 M, N, 및 P로 나타나는 방향족 탄화수소이고, n은 화학식 7에 나와 있는 것처럼 R₇에 연결된 관능기의 수를 나타낸다.

<화학식 J>

<화학식 K>

<화학식 L>

<화학식 M>

<화학식 N>

<화학식 P>

화학식 P에서, R₈은 수소 원자, C1 내지 C6 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.

이들 옥세탄 화합물은 단독 또는 혼합물로서 사용된다. 보다 강한 내화학성 또는 보다 높은 내구성을 목적할 경우, 다관능성 옥세탄 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 목적한 점도가 다관능성 옥세탄 화합물의 사용으로 얻어지지 않을 경우, 이들을 일관능성 옥세탄 화합물로 희석할 수 있다.

옥세탄 화합물은 궁극적으로 높은 양이온 경화도를 보이는 경화된 화합물을 산출한다. 초기 반응 단계에서 경화 속도는 에폭시 화합물 또는 비닐 에테르 화합물의 적당한 양의 첨가로 증가될 수 있다. 이 경우 첨가량은 옥세탄 화합물에 대해 5 내지 95 중량％가 바람직하다.

흐름 덕트 형성 부재 (4)가 옥세탄 수지 조성물로 형성될 경우, 상기 옥세탄 화합물 이외에 양이온 중합 개시제는 옥세탄 수지 조성물에 함유된다. 자외선과 같은 활성화 에너지 광선이 패터닝을 위해서 흐름 덕트 형성 물질에 조사될 경우, 양이온 중합 개시제가 사용된다. 이들 양이온 광중합 개시제는 단독 또는 조합하여 사용될 수 있다.

시판되는 양이온 광중합 개시제의 예로는 유니온 카바이드사(Union Carbide Corporation)에서 제조된 시라큐어(CYRACURE) UV1-6950 및 UVI-6970, 아사히 덴카 고교 K.K.(Asahi Denka Kogyo K.K.)에서 제조된 옵토머(Optomer)-SP-150, SP-151, SP-152, SP-170 및 SP-171, 니폰 소다사(NIPPON SODA Co., LTD.)에서 제조된 CI-2855, 데구사사(Degussa Inc.)에서 제조된 데가세레(Degacere) KI85B와 같은 트리아릴 술포늄 염, 불포화 또는 포화 아릴 디아조늄 염 및 디아릴 아이오도늄 염이 포함된다. 술폰산 유도체는 미도리 가가꾸사(Midori Kagaku Co., Ltd.)에서 제조된 PAI-101일 수 있다.

양이온 광중합 개시제의 비율은 옥세탄 화합물의 100 중량부를 기준으로 2 내지 40 중량부가 바람직하다. 양이온 광중합 개시제의 비율이 2 중량부보다 작을 경우, 활성화 에너지 광선의 조사로 생성된 산의 양이 단지 적어서, 패터닝 시에 어려움을 직면할 수 있다. 역으로 양이온 광중합 개시제의 비율이 40 중량부를 초과할 경우, 양이온 광중합 개시제 자체가 빛을 흡수하여 감광도를 낮추는 경향이 있다. 추가로 경화도를 개선하기를 원할 경우, 양이온 열 중합 개시제 또는 양이온 감광제를 조합하여 사용할 수 있다.

잉크 흐름 덕트 (3)을 구성하는 상기 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 위해, 상기 기술된 흐름 덕트 형성 물질을 사용함으로써, 필수 성분으로서 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 가진 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물에 의해서 높은 강성도 및 높은 신율과 함께 높은 기계적 강도가 달성될 수 있다. 따라서, 흐름 덕트 형성 부재 (4)의 균열 또는 기재 (2)로부터의 흐름 덕트 형성 부재 (4)의 박리와 같은 불편함을 방지하는 것이 가능하여, 그 결과 제조 수율 또는 품질이 개선된 잉크 제트 기록 헤드 (1)이 제조될 수 있다. 게다가 에폭시 수지 경화물은 에폭시 수지 경화물보다 더 낮은 응력을 갖게 되어, 흐름 덕트 형성 부재 (4)가 에폭시 수지의 경화물로 형성된 경우보다 더욱 효율적으로 흐름 덕트 형성 부재 (4)가 기재 (2)로부터 박리되는 것을 방지할 수 있게 된다. 추가적으로, 흐름 덕트 형성 부재 (4)는 옥세탄 수지 조성물을 함유함으로써 내수성 또는 내화학성이 더 높아질 수 있다.

옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제로 형성된 흐름 덕트 형성 물질에는 필요할 경우 상기한 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제로 구성된 옥세탄 수지 조성물에 더하여 다양한 임의의 첨가제가 첨가될 수 있다. 옥세탄 수지 조성물 및 기재 (2) 사이에 첨가물로 경도를 추가로 개선시키기 위한 첨가제는 커플링제가 바 람직하다. 이러한 커플링제로서, 알루미네이트계, 티타네이트계, 지르코네이트계 또는 실란계 커플링제가 선택적으로 사용될 수 있다. 이들 중 실란계 커플링제가 가장 바람직하다.

알루미네이트계 커플링제의 예로는 아세토알콕시 알루미늄 디이소프로필레이트, 알루미늄 디이소프로폭시 모노에틸 아세토아세테이트, 알루미늄 트리스에틸 아세토아세테이트 및 알루미늄 트리스아세틸 아세토네이트가 포함된다.

티타네이트계 커플링제의 예로는 이소프로필 트리스테아로일티타네이트, 이소프로필 트리스(디옥틸피로포스페이트)티타네이트, 이소프로필 트리(N-아미노에틸 아미노에틸)티타네이트, 테트라옥틸 비스(디트리데실포스페이트)티타네이트, 테트라(2-2-디알릴옥시메틸-1-부틸)비스(디트리데실)포스페이트 티타네이트, 비스(디옥틸 피로포스페이트)옥시아세테이트 티타네이트 및 비스(디옥틸 피로포스페이트)에틸렌 티타네이트가 포함된다.

지르코네이트계 커플링제의 예로는 지르코늄 테트라키스아세틸 아세토네이트, 지르코늄 디부톡시 비스아세틸 아세토네이트, 지르코늄 테트라키스에틸 아세토아세테이트, 지르코늄 트리부톡시 모노에틸 아세토아세테이트 및 지르코늄 트리부톡시 아세틸아세토네이트가 포함된다.

실란계 커플링제의 예로는 비닐 트리메톡시실란, 비닐 트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸 트리메톡시실란, 3-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필 트리메톡시실란, 3-메타크릴록시 프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시 프로필메틸 디메톡시실란, 3-클로로프로필 트리메톡시실란 및 3-이소시 아네이트 프로필 트리에톡시실란이 포함된다.

실란계 커플링제 중 아미노계 커플링제는 양이온 광중합 개시제로부터 유도된 산을 흡수하여 감광성을 낮추므로, 바람직하지 않다. 첨가제의 첨가량은 전체에서 흐름 덕트 형성 물질에 대해 0.1 중량％ 이상 1 중량％ 미만이다. 첨가량이 0.1 중량％ 미만일 경우, 단단한 결합에 대한 바람직한 효과가 단지 낮고, 반면 첨가량이 1 중량％ 이상일 경우, 현상 속도가 상당히 낮아져서, 현상 잔류물이 생성되는 경향이 있거나 해상도가 낮아질 수 있다.

옥세탄 수지 조성물이 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 위해 사용될 경우, 최적 커플링제, 즉, 실란계 커플링제가 사용된다면, 주로 무기 성분으로 구성된 기재 (2)와 유기 물질로 구성된 옥세탄 수지 조성물 사이 경계면의 결합력이 향상될 수 있다. 따라서, 첫번째 코팅 수지 층이 잉크 (i)에 노출되더라도, 흐름 덕트 형성 부재는 기재 (2)에 관해서 단단한 결합 상태를 유지할 수 있어, 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 작업 신뢰성이 향상되게 된다.

흐름 덕트 형성 부재 (4)를 형성하는데 사용된 옥세탄 수지 조성물은 용매에 용해된 상태일 수 있다. 용매에 용해된 옥세탄 수지 조성물을 사용함으로써, 기재 (2) 위에 필요한 필름 두께로 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 코팅 시 최적의 점도 및 코팅 특성을 얻을 수 있다.

사용된 용매는 사용된 옥세탄 화합물 또는 첨가제(들)를 용해시킬 수 있다는 것만으로 충분하다. 사용될 수 있는 용매의 예로는 메틸에틸케톤 또는 시클로헥사논과 같은 케톤, 톨루엔, 크실렌, 또는 테트라메틸벤젠과 같은 방향족 탄화수소, 및 셀로솔브, 메틸 셀로솔브, 부틸 셀로솔브, 카르비톨, 메틸 카르비톨, 부틸 카르비톨, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌 글리콜 디에틸에테르 또는 트리에틸렌 글리콜 모노에틸에테르와 같은 글리콜 에테르가 포함된다. 사용되는 용매의 다른 예로는 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 셀로솔브 아세테이트, 부틸 셀로솔브 아세테이트, 카르비톨 아세테이트, 부틸 카르비톨 아세테이트, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 또는 디프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 글리콜과 같은 아세테이트, 에탄올, 프로판올, 에틸렌 글리콜 또는 프로필렌 글리콜과 같은 알콜, 옥탄 또는 데칸과 같은 지방족 탄화수소, 석유 에테르, 석유 나프타, 수소화 석유 나프타 또는 솔벤트 나프타와 같은 석유계 용매, 및 리모넨과 같은 테르펜이 포함된다. 이들 용매 중 크실렌 또는 톨루엔과 같은 방향족 탄화수소가 옥세탄 수지 조성물에 대해 최적 용해도를 부여하기 위해 사용될 수 있다.

흐름 덕트 형성 부재 (4)가 상기 기술된 옥세탄 수지 조성물을 함유하는 흐름 덕트 형성 물질로 형성되는 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 제조 방법을 이제 기술한다.

먼저, 규소(Si) 기재는 도 2에 나와있는 것처럼 기재 (2)로서 제공된다. 상기 기재 (2)의 표면의 미리 설정된 영역 위에 토출 에너지 발생 장치 (2a)로서 전기 열 변환 장치를 형성한다. 기재 (2)에서, 잉크 (i)를 잉크 카트리지에서 잉크 흐름 덕트 (3)으로 공급하기 위한 잉크 공급 오리피스 (7)을 형성한다.

토출 에너지 발생 장치 (2a)를 수반하는 기재 (2)의 표면 위에, 도 3에 나타 낸 반도체 제조 공정으로 예를 들어 약 12 μm의 두께로 수지 층 (8)을 형성한다. 상기 수지 층 (8)은 필요 성분으로 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 가진 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 포함하는 흐름 덕트 형성 물질로 형성된다.

이어서, 도 4에 나타낸 바와 같이, 활성화 에너지 광선 (10)에의 광 노출을 수행하는 동안 활성화 에너지 광선 (10)이 잉크 흐름 덕트 형성 지역에 조사되지 않도록, 수지 층 (8)을 패턴화 마스크 (9)를 통해 자외선과 같은 활성화 에너지 광선 (10)으로 조사한다. 수지 층 (8)의 노출된 부분이 경화되고, 현상액에서 불용성이 되고, 반면에 미노출 부분은 현상액에서 가용성이 된다.

이어서, 수지 층 (8)의 미노출 부분은 도 5에 나타낸 바와 같이 수지 층 (8)의 미노출 부분의 제거를 위해 도시하지 않은 미리 설정된 현상액으로 현상된다. 수지 층 (8)의 잔류 부분은 잉크 흐름 덕트 (3)의 일부분을 형성하는 흐름 덕트 벽 구역 (4a)를 가진 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 형성한다.

이어서, 도 1에서 나타낸 바와 같이, 실질적으로 잉크 흐름 덕트 (3)과 함께 등기되는 노즐 (5a)를 포함하고 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 결합될 측면 위에 박막 열 경화 접착 층 (6)을 수반하는 노즐 시트 (5)는 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 결합된다. 노즐 시트 (5)는 노즐 (5a) 및 토출 에너지 발생 장치 (2a) 사이의 위치 관계로 조절될 때 압력과 열 조합의 도움으로 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 결합된다. 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 노즐 (5)를 결합시킴으로써 기재 (2), 흐름 덕트 형성 부재 (4) 및 노즐 시트 (5)에 의해 경계가 지어진 잉크 흐름 덕트 (3)이 형성된 잉 크 제트 기록 헤드 (1)이 얻어질 수 있다.

상기 잉크 제트 기록 헤드에서, 도 6a 및 도 6b에 나타낸 바와 같이, 토출 에너지 발생 장치 (2a)를 빠르게 가열하기 위해 펄스 전류가 토출 에너지 발생 장치 (2a)에 공급될 경우, 기포 (b)는 도 6a에 나타낸 바와 같이 토출 에너지 발생 장치 (2a)에 접촉한 잉크 (i)의 일부로서 생성된다. 잉크 제트 기록 헤드에서, 기포 (b)는 팽창되어 잉크 (i)를 가압하여 이와 같이 가압된 잉크 (i)는 도 6b에 나타낸 바와 같이 액체 비말로서 노즐 (5a)로부터 토출된다. 잉크 (i)가 액체 비말로서 토출된 후에 잉크 (i)는 잉크 공급 오리피스 (7)로부터 잉크 흐름 덕트 (3)으로 공급되어, 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 토출 전 상태로 복귀된다.

필수 성분으로 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 가진 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 흐름 덕트 형성 물질으로서 사용하는 잉크 제트 기록 헤드 (1)은 경화 시 단지 조금 수축하여, 높은 강성도 및 신율뿐만 아니라 높은 기계적 강도가 조성되어 높은 작업 신뢰성을 확보할 수 있다. 기계적 부하가 헤드 표면에 적용되도록 헤드가 세척될 때, 흐름 덕트 형성 부재 (4)가 기재 (2)로부터 박리되거나 균열이 생기는 위험이 없다. 게다가, 옥세탄 수지 조성물을 함유하는 흐름 덕트 형성 물질이 흐름 덕트 형성 부재 (4)로 사용되는 잉크 제트 기록 헤드 (1)은 내수성 및 내화학성을 갖게 된다. 더욱이, 옥세탄 수지 조성물로 형성된 흐름 덕트 형성 물질이 또한 첨가제를 함유하고 있기 때문에, 잉크 (i)가 접촉하더라도 부착 견고함이 기재 (2) 및 흐름 덕트 형성 부재 (4) 사이에서 유지되어 연장된 시간 동안 상기 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 작업 신 뢰성을 확보하게 된다.

게다가, 잉크 제트 기록 헤드 (1)에서, 흐름 덕트 형성 부재 (4)는 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 위한 옥세탄 수지 조성물의 흐름 덕트 형성 물질을 사용함으로써 연장되거나 두께가 증가될 수도 있다. 추가로, 복잡하고 난해한 구조의 잉크 흐름 덕트 (3)도 높은 정밀도로 쉽게 형성될 수 있다.

한편, 상기 잉크 제트 기록 헤드 (1)에서, 전기 열 변환기가 토출 에너지 발생 장치 (2a)로 사용된다. 이는 단지 예시하는 것이고, 예를 들어 피에조(piezo) 장치와 같은 전기 기계 변환 장치를 사용하는 전기 기계 변환 시스템이 또한 노즐로부터 잉크 (i)를 토출하는데 사용될 수 있다.

상기에서, 본 발명을 프린터에 적용하였다. 그러나 이것은 단순히 예시하는 것이고 본 발명은 팩스 또는 복사기와 같은 다른 매우 다양한 액체 토출 장치에 적용될 수 있다.

<실시예>

다음은 흐름 덕트 형성 물질의 물성 및 흐름 덕트 형성 부재의 사용으로 제조한 잉크 제트 기록 헤드의 잉크에 대한 저항성과 프린팅 성능의 평가 결과를 보여준다.

<옥세탄 수지 조성물의 물성 조사>

하기 실험을 실시하여 수지의 고유의 문제, 즉, 수지의 후 경화 내부 응력을 검토하였다. 내부 응력은 수지 층의 예비 경화 필름 두께 및 후 경화 필름 두께를 관찰하여 검토하였다. 두 필름 두께가 동일하다면, 수지 경화 시 수반되는 부피 변화에 의해 발생하는 내부 응력이 극도로 작다고 추측할 수 있다.

<실시예 1>

실시예 1에서, 하기 표 1에 나타낸, 옥세탄 수지 조성물을 함유하는 흐름 덕트 형성 물질을 6 인치 웨이퍼에 스핀 코팅하였다. 생성된 생성물을 90 ℃에서 5 분간 열판 위에서 예비 소부하였다. 이어서, 코팅을 20 μm의 필름 두께로 제작한 후, 거울 투영 광 노출 장치(캐논사의 MPA 600FA)를 이용해 1 J/cm²의 광에 노출하였다. 90 ℃에서 5 분간 열판 위에서 후 소부 후, 생성된 생성물을 200 ℃에서 1 시간 동안 경화시켜, 옥세탄 수지 조성물의 경화된 필름을 제조하였다.

페놀 노볼락 옥세탄 화합물 (기본구조의 평균 수 : 3)	100 중량부
양이온 광중합 개시제 (아사히 덴카 고교 K.K의 SP-170)	2 중량부
실란 커플링제 (2-(3,4-에폭시 시클로헥실)에틸 트리메톡시실란)	0.5 중량부
유기 용매 (석유 나프타: 이데미쯔 고산사(Idemitsu Kosan Co.,Ltd)의 IPSOL 150)	100 중량부

<비교 실시예 1>

비교 실시예 1에서, 지환식 에폭시 수지 조성물의 경화된 필름을 하기 표 2에 나타낸 지환식 에폭시 수지 조성물 함유 용액을 사용하여 실시예 1에서와 동일한 방식으로 얻었다.

지환식 에폭시 수지 (디셀 케미컬 인더스트리즈사(DICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.)의 EHPE-3150)	100 중량부
양이온 광중합 개시제 (아사히 덴카 고교 K.K의 SP-170)	2 중량부
실란 커플링제 (2-(3,4-에폭시 시클로헥실)에틸 트리메톡시실란)	0.5 중량부
유기 용매 (크실렌)	100 중량부

실시예 1 및 비교 실시예 1에서 얻은 경화된 필름의 두께를 200 ℃에서 한 시간 동안 열판 위에서 경화시킨 후 측정하였다. 측정 결과는 표 1에 나타낸 옥세탄 수지 조성물을 함유하는 경화된 필름의 경우 필름 두께가 감소되지 않는 반면, 표 2에 나타낸 지환식 에폭시 수지 조성물을 함유하는 경화된 필름의 경우 필름 두께가 감소하였다는 것을 나타내었다.

각각의 경화된 필름의 응력을 이어서 박막 필름 응력 측정 장치를 사용하여 측정하였다. 표 1에 나타낸 옥세탄 수지 조성물을 함유하는 경화된 필름에서 응력은 표 2에 나타낸 지환식 에폭시 수지 조성물을 함유하는 경화된 필름과 비교하였을 때 감지할 수 있을만큼 감소되었다는 것을 발견하였다.

<잉크 제트 기록 헤드의 잉크 저항성 및 프린팅 성능에 대한 평가>

<실시예 2>

실시예 2에서, 잉크 제트 기록 헤드 (1)는 하기 방식으로 제조하였다. 먼저, 토출 에너지 발생 장치 (2a)로서 전기 열 변환 장치가 형성된 설정된 자리 위에 규소 기재가 도 2에 나와있는 것처럼 제공되었다. 기재 (2)에서, 잉크 카트리지로부터 잉크 흐름 덕트 (3)으로 잉크 (i)를 공급하는 잉크 공급 오리피스 (7)을 형성하였다.

토출 에너지 발생 장치 (2a)를 수반하는 기재 (2)의 표면 위에, 도 3에 나타낸 바와 같이 반도체 제조 공정으로 수지 층 (8)을 예를 들어 약 12 μm의 두께로 형성하였다. 상기 수지 층 (8)은 필수 성분으로서 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 가진 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 포함하는 흐름 덕트 형성 물질로 형성되었다.

이어서, 도 4에 나타낸 바와 같이, 활성화 에너지 광선 (10)으로 광 노출을 수행하는 동안 활성화 에너지 광선 (10)이 잉크 흐름 덕트 형성 자리에 노출되지 않도록, 수지 층 (8)을 패턴화 마스크 (9)를 통해서 자외선(UV광선)과 같은 활성화 에너지 광선 (10)으로 조사하였다. 수지 층 (8)의 노출된 부분이 경화되어, 현상액에 불용성으로 바뀌었고, 반면에 미노출 부분은 현상액에 가용성으로 변화하였다.

이어서, 수지 층 (8)의 미노출 부분을 도 5에 나타낸 바와 같이 수지 층 (8)의 미노출 부분을 제거하기 위해서 미리 설정된 현상액(도시하지 않음)으로 현상하였다. 수지 (8)의 잔류 부분은 잉크 흐름 덕트 (3)의 일부분을 형성하는 흐름 덕트 벽 구역 (4a)를 갖는 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 형성하였다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 실질적으로 잉크 흐름 덕트 (3)과 함께 등기된 노즐 (5a)를 포함하고 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 부착될 측면 위에 박막 열 경화 접착 층 (6)을 수반하는 노즐 시트 (5)를 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 부착하였다. 노즐 시트 (5)를 노즐 (5a) 및 토출 에너지 발생 장치 (2a) 사이의 위치 관계로 조정 시 압력 및 열 조합의 도움으로 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 부착하였다. 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 노즐 (5)를 결합시킴으로써, 기재 (2), 흐름 덕트 형성 부재 (4), 및 노즐 시트 (5)에 의해 경계지어진 잉크 흐름 덕트 (3)이 형성된 잉크 제트 기록 헤드 (1)이 제조되었다.

<비교 실시예 2>

비교 실시예 2에서, 잉크 제트 기록 헤드 (1)은 잉크 덕트를 형성하는 흐름 덕트 형성 부재 (4)의 물질으로서 표 2에 나타낸 지환식 에폭시 수지 조성물을 함유하는 흐름 덕트 형성 물질을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방식으로 제조하였다.

실시예 2과 비교 실시예 2의 잉크 제트 기록 헤드 (1)는 잉크 침지 실험의 방식으로 일주일 동안 60 ℃에서 흑색 잉크에 담가두었다. 흑색 잉크로서, 순수한 물, 에틸렌 글리콜, 및 흑색 염료로 구성된 잉크, 소니사(Sony Corporation)의 LPR-5000을 사용하였다.

잉크 침지 실험의 결과는, 흐름 덕트 형성 부재 (4)가 표 1에 나타낸 옥세탄 수지 조성물로 형성된 실시예 1의 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 경우, 기재 (2)로부터 흐름 덕트 형성 벽 구역 (4a)가 박리되는 것과 같은 변화는 관찰되지 않았음을 나타내었다. 반대로 흐름 덕트 형성 부재 (4)가 표 2에 나타낸 지환식 에폭시 수지 조성물로 형성된 비교 실시예 2의 잉크 제트 기록 헤드 (1)의 경우, 잉크 침지 후에 경화에 따른 응력으로 인해 부분적으로 박리되는 것이 관찰되었다.

프린터 성능 평가로서 인쇄 품질을 평가하기 위해 인쇄된 문자의 기품을 결정하기 위한 약 20,000회의 프린트 패턴을 인쇄 품질을 평가하고자 하는 실시예 2 및 비교 실시예 2의 잉크 제트 기록 헤드 (1)로 연속적으로 인쇄하였다. 실시예 2의 잉크 제트 기록 헤드 (1)로 인쇄 시, 흐름 덕트 형성 부재 (4)에 기여되는 것으로 생각되는 인쇄 품질의 감소가 관찰되지 않았다. 반대로 비교 실시예 2의 잉크 제트 기록 헤드 (1)로 인쇄 시, 흐름 덕트 형성 부재 (4)의 박리에 기여되는 것으로 생각되는 인쇄 품질 저하가 관찰되었다.

본 발명의 실시양태에 따라, 옥세탄 수지 조성물을 함유하는 흐름 덕트 형성 물질로부터 잉크 흐름 덕트 (3)을 구성하는 흐름 덕트 형성 부재 (4)를 형성함으로써 기재 (2)로부터의 박리와 내부 응력이 옥세탄 수지에 적합한 저응력 물질으로서 흐름 덕트 형성 물질의 특성에 기초하여 감소될 수 있는 고 내구성의 잉크 흐름 덕트 (3)이 제작될 수 있다는 것을 상기로부터 알 수 있다. 이로부터, 연장된 시간 동안 높은 작업 신뢰성을 나타내는 잉크 제트 기록 헤드가 상기 흐름 덕트 형성 물질로 형성된 흐름 덕트 형성 물질 (4)의 사용으로 제조될 수 있다는 것을 알 수 있다.

설계 조건, 다른 요인에 따라 다양한 변형, 조합, 하부 조합, 및 변경이 일어날 수 있으나, 이는 첨부된 특허청구범위 또는 그의 동등물의 범위 내임을 당업자는 이해하여야 한다.

본 발명에 따를 경우 화학물질에 대한 높은 저항성과 낮은 응력을 보이고, 예를 들어 자외선으로 패턴 형성한 높은 정밀도를 갖는 복수의 흐름 덕트를 포함하는 액체 토출 유형의 기록 헤드를 얻을 수 있다.

Claims (7)

1. 필수 성분으로서 한 분자에 하나 이상의 옥세타닐기를 갖는 옥세탄 화합물 및 양이온 광중합 개시제를 함유하는 옥세탄 수지 조성물을 포함하는 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.
2. 제 1항에 있어서, 상기 옥세탄 화합물이 한 분자에 하나의 방향족 고리를 함유하는 것인 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.
3. 제 2항에 있어서, 상기 옥세탄 화합물의 골격이 노볼락 유형인 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.
4. 제 3항에 있어서, 수평균 기본 구조의 수가 3 내지 10인 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.
5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 커플링제를 함유하는 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.
6. 제 5항에 있어서, 커플링제가 실란계 커플링제인 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.
7. 제 6항에 있어서, 커플링제의 함량이 0.1 중량％ 이상 1 중량％ 미만인 액체 토출 기록 헤드용 흐름 덕트 형성 물질.

Images