KR20070017035A - 전기 광학 장치의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (7)
- 기판 상에, 복수의 데이터선, 복수의 주사선, 상기 복수의 데이터선과 상기 복수의 주사선의 교차에 대응하여 각각의 화소마다 형성된 복수의 구동 소자, 및 상기 구동 소자마다 대응하여 각각 설치된 복수의 화소 전극을 구비하는 전기 광학 장치의 제조 방법으로서,에칭 정지층을 형성하는 공정,상기 에칭 정지층의 상방에 상기 복수의 주사선과, 상기 복수의 주사선을 서로 단락하는 공통 배선을 형성하는 공정,상기 복수의 데이터선과 상기 복수의 화소 전극을, 상기 복수의 주사선과 상기 복수의 구동 소자에 대해 층간 절연하는 제 1 층간 절연막을 형성하는 공정,상기 제 1 층간 절연막에, 상기 복수의 데이터선과 상기 복수의 화소 전극을, 각각 상기 복수의 구동 소자에 전기적으로 접속하기 위한 컨택트홀을 형성하는 공정,상기 복수의 데이터선을 형성하는 공정, 및상기 제 1 층간 절연막에 에칭에 의해 절단용 구멍을 형성함으로써 상기 공통 배선을 절단하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 에칭 정지층을 형성하는 공정은, 상기 복수의 구동 소자를 구성하는 반도체막을 형성하는 공정과 동시에 실시되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 에칭 정지층을 형성하는 공정은, 평면에서 보았을 때 상기 에칭 정지층을 상기 절단용 구멍을 포함하도록 상기 절단용 구멍보다 넓게 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 공통 배선을 형성하는 공정 및 상기 복수의 주사선을 형성하는 공정은, 상기 복수의 구동 소자를 구성하는 게이트 전극을 형성하는 공정과 동시에 실시되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 에칭 정지층을 형성하는 공정은, 상기 복수의 구동 소자를 구성하는 반도체막을 형성하는 공정 또는 상기 복수의 구동 소자를 구성하는 게이트 전극을 형성하는 공정과 동시에 실시되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 에칭 정지층을 형성하는 공정은, 평면에서 보았을 때 상기 에칭 정지층을 상기 절단용 구멍을 포함하도록 상기 절단용 구멍보다 넓게 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
- 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,상기 공통 배선을 형성하는 공정 및 상기 복수의 주사선을 형성하는 공정은, 상기 복수의 구동 소자를 구성하는 게이트 전극을 형성하는 공정 후에 실시되고, 또한 상기 공통 배선을 형성하는 공정과 상기 복수의 주사선을 형성하는 공정은 동시에 실시되는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
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